JPH04321640A - アルデヒド類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、医・農薬等の合成中間
体として有用なアルデヒド類の製造方法に関するもので
あり、詳細には抗発癌プロモーター作用（Ｃａｎｃｅｒ
　Ｓｕｒｖｅｙｓ，２，５４０（１９８３）；代謝，Ｖ
ｏｌ．２５臨時増刊号　癌　’８８，３（１９８８））
及び抗腫瘍作用（特公昭６３−２０２１３号公報）を有
する、医学上重要なザルコフィトールＡの製造用中間体
として有用なアルデヒド類の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする問題点】化合
物（ＩＩ）から化合物（Ｉ）の製造法は、有機合成化学
においてよく行なわれる化学変換であるが、従来、まず
化合物（ＩＩ）を酢酸水銀の存在下、エチルビニルエー
テル等のアルキルビニルエーテル類と反応させ化合物（
ＩＩ）のビニルエーテル体とした後、これを加熱するこ
とにより化合物（Ｉ）とする下記のいわゆるＣｌａｉｓ
ｅｎ転位反応が最もよく知られており、新生する化合物
（Ｉ）中の二重結合の立体化学に関してはＥ体が主に得
られることが特徴とされている。

【化６】 しかし、この方法は通常、直前に精製した毒性のある水
銀化合物を多量（０．５−２当量）使用する必要がある
という重大な欠点がある上、収率は概して高くなく、さ
らに化合物（Ｉ）中の新生する二重結合の立体化学はＥ
体が優先的とは言え高々９０％程度である（Ｊ．Ａｍｅ
ｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９５，５５３（１９７３）．
参照）。この方法の大量の水銀化合物を使用するという
欠点を克服するため、下記の３−アリルオキシアクリル
酸を経る改良法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４８，５４
０６（１９８３）．参照）も提案されているが、化合物
（ＩＩ）の様な比較的混み合った２級アリルアルコール
には、やや激しい反応条件を必要とし、収率も低いとい
った問題を残していた。

【化７】 さらに、最近、水銀塩を用いないＣｌａｉｓｅｎ転位法
として、下記のアリールビニルスルホキシドを用いる２
−アリルオキシエチルアリールスルホキシドを中間体と
する方法が発表されている（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　
Ｌｅｔｔｅｒｓ，３１，４０４１（１９９０）．参照）
。

【化８】 しかし、この手法は化合物（ＩＩ）中に、たとえば水酸
基等の官能基を有している場合用いることができない上
、新生する二重結合の立体選択性はオリジナルのＣｌａ
ｉｓｅｎ転位法と同程度しか期待できない。この他に、
水銀塩を用いず、新生する二重結合のＥ選択性の優れた
方法としてオルトエステルＣｌａｉｓｅｎ転位があるが
（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９８，２８６８
（１９７６）．参照）、この反応の生成物はカルボン酸
エステルであり化合物（Ｉ）が目的物である場合、還元
の工程が必要となるため分子内にエステル基をアルデヒ
ド基へ変換する際の還元反応に対して反応性の官能基を
有する化合物にはこの方法は用いることができず、一般
性に乏しい。

【化９】

【０００３】

【問題点を解決するための手段】本発明者らは、有機合
成化学において重要な反応である化合物（ＩＩ）から化
合物（Ｉ）への変換を前記した既存の方法の有する欠点
なく行なえる手法の開発を目的として鋭意検討を重ねた
結果、本発明の方法が １）水銀化合物を使用しない ２）新生する二重結合の非常に高い立体選択性（＞９９
％） ３）高い一貫収率 ４）１ポットでの反応が可能 を特徴とする化合物（ＩＩ）から化合物（Ｉ）を得る優
れた方法であることを見い出し本発明に到達した。

【０００４】即ち、本発明の要旨は 一般式（ＩＩ）

【化１０】 ［式中、Ｒ１はそれぞれが官能基を有していてもよいア
ルキル基、アルケニル基又はアリール基を表わす］で表
わされる化合物と 一般式（ＩＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ’）

【化１１】 ［式中、Ｒ２はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表わす］で表
わされる化合物を、酸触媒の存在下で加熱して反応させ
、得られた 一般式（ＩＶ）

【化１２】 ［式中、Ｒ１は一般式（ＩＩ）におけると同様の意味を
表わす］で表わされる化合物を還元し、生成する一般式
（Ｖ）

【化１３】 ［式中、Ｒ１は一般式（ＩＩ）におけるのと同様の意味
を表わす］で表わされる化合物の１，２−ジオールを酸
化的に開裂する一連の反応に付すことを特徴とする一般
式（Ｉ）

【化１４】 ［式中、Ｒ１は一般式（ＩＩ）におけるのと同様の意味
を表わす］で表わされるアルデヒド類の製造方法に存す
る。

【０００５】以下、本発明につき詳細に説明する。前記
一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＶ）および（Ｖ）におけ
るＲ１は、シアノ基；塩素原子、臭素原子などのハロゲ
ン原子；メトキシメトキシ基、１−エトキシエトキシ基
などの炭素数２〜６の１−アルコキシアルキルオキシ基
；ベンジル基；テトラヒドロピラニルオキシ基；アセト
キシ基、ベンゾイルオキシ基などの炭素数２〜７のアシ
ルオキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基などの炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基；ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブ
チルジフェニルシリルオキシ基などの炭素数１〜４のア
ルキル基もしくはフェニル基で置換されていてもよいシ
リルオキシ基；炭素数１〜４のアルキルチオ基；炭素数
１〜４のアルキル基で置換されていてもよいアリールチ
オ基；炭素数１〜４のアルキルスルホニル基；炭素数１
〜４のアルキル基で置換されていてもよいアリールスル
ホニル基；水酸基；カルボキシル基から選ばれる官能基
を有していてもよい飽和あるいは不飽和イソプレイドも
含まれる直鎖あるいは分枝状の炭素数１〜２０のアルキ
ル基あるいはアルケニル基、又は上記官能基から選ばれ
る官能基で置換されていてもよいフェニル基等のアリー
ル基を表わす。一般式（ＩＩＩ）におけるＲ２はメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのＣ１〜Ｃ４の
低級アルキル基を表わす。以下、化合物（Ｉ）〜（Ｖ）
の具体例を示す。 （１）化合物（ＩＩ）の具体例

【化１５】 （２）化合物（ＩＩＩ）の具体例

【化１６】 （３）化合物（ＩＩＩ’）の具体例

【化１７】 （４）化合物（ＩＶ）の具体例

【化１８】 （５）化合物（Ｖ）の具体例

【化１９】 （６）化合物（Ｉ）の具体例

【化２０】 なお上記式中、Ｐｈはフェニル基、ＴＨＰはテトラヒド
ロピラニル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｒ
はプロピル基、Ｂｕはブチル基をそれぞれ表わす。

【０００６】本発明において用いられる化合物（ＩＩ）
は、市販品が入手できない場合、たとえば下記の方法（
１）、（２）などにより製造できる。

【化２１】 （式中、Ｒ１は前記定義に同じであり、ＭはＬｉ、Ｍｇ
等の金属または臭素原子等のハロゲン原子を表わす。）
また、化合物（ＩＩＩ）は、たとえば、プロパギルアル
コール誘導体

【化２２】 とアルコールＲ２ＯＨ（Ｒ２は前記定義に同じ）とから
文献（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，６２，６５３（
１９６２）．参照）既知の方法により、又はＲ２ＯＨ中
、α−ハロケトン

【化２３】 （Ｙはハロゲン原子を表わす）にアルコキサイドＲ２Ｏ
−を作用させる既存の方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，６２，２５９０（１９４０）．参照）により製造
できる。化合物（ＩＩＩ’）は、化合物（ＩＩＩ）に触
媒量の酸の存在下蒸留を行なうことにより得られる。

【０００７】上記化合物（ＩＩ）と、好ましくは０．１
〜５０当量、更に好ましくは０．５〜１０当量の上記一
般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物（以下、化合物（Ｉ
ＩＩ）と記す）を好ましくは、０．００１〜５当量、更
に好ましくは０．０１〜０．５当量の酸触媒の存在下、
トルエン、キシレン等適当な沸点の溶媒中あるいは無溶
媒で、好ましくは８０〜２５０℃、更に好ましくは１１
０〜１６０℃、好ましくは５分〜５０時間、更に好まし
くは３０分〜５時間、生成するアルコール（Ｒ２ＯＨを
留去しながら反応させることにより、上記一般式（ＩＶ
）で表わされる化合物（以下、化合物（ＩＶ）と記す）
を製造できる。酸触媒としては、硫酸、リン酸等の鉱酸
、シュウ酸、プロピオン酸、ｏ−クロロ安息香酸等のカ
ルボン酸類あるいは２，４−ジニトロフェノール、ピク
リン酸等のフェノール類のいずれも用いられる。上記の
方法で製造した化合物（ＩＶ）から、メタノール、エタ
ノール等のアルコール系溶媒中などで、好ましくは０．
１〜５０当量、更に好ましくは０．５〜１０当量の水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム等の還元剤
を好ましくは−７０〜１００℃、更に好ましくは−２０
〜５０℃で好ましくは５分〜２０時間、更に好ましくは
１０分〜２時間作用させるなど、ケトン基のみを還元す
る方法により、前記一般式（Ｖ）で表わされる化合物（
以下、化合物（Ｖ）と記す）を製造できる。上記の方法
で製造した化合物（Ｖ）から、メタノール、エタノール
等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル系溶媒あるいはこれらの含水溶媒中、０
．１〜１０当量、好ましくは０．５〜２当量のメタ過ヨ
ウ素酸ナトリウム、メタ過ヨウ素酸カリウム等の過ヨウ
素酸類を−５０〜１００℃、好ましくは０℃〜５０℃で
、５分〜５日間作用させるなどの方法により、化合物（
Ｉ）を製造できる。

【０００８】以上の一連の反応は、単一容器中で連続的
に行なうことが可能である。すなわち、化合物（ＩＩ）
と化合物（ＩＩＩ）又は（ＩＩＩ’）との反応が終了し
た後、過剰の化合物（ＩＩＩ）又は（ＩＩＩ’）を減圧
留去し、残渣をメタノール等のアルコール系溶媒に溶解
し、第二工程の還元反応を行なう。反応終了後、反応溶
液に適量の水を加え、続いて過ヨウ素酸類を徐々に添加
しα−ジオール部の酸化開裂反応を行ない目的の化合物
（Ｉ）を製造できる。試薬類の量関係、反応温度、時間
等の反応条件は、前記した各工程の反応条件と同様であ
る。本発明の方法により得られる化合物（Ｉ）は、キャ
ピラリーＧＣ分析により、新生する３置換二重結合はほ
ぼ純粋にＥ体のみ（＞９９％）であることが確認できる
。

【０００９】この様にして製造される化合物（Ｉ）は前
述した様に医薬品、農薬の製造における重要な合成中間
体となり得る。たとえば、化合物（Ｉ）を利用すること
により前述したザルコフィトールＡも、先に本発明者ら
が提案した合成ルート（特開平３−４８６３３号公報）
の持つ問題点を解決できる合成ルートで製造できる。ま
ず、セスキテルペノイドを出発原料とし、ホルミル体、
化合物（Ｆ）を鍵中間体とする特開平３−４８６３３号
公報記載のザルコフィトールＡの合成ルートを以下に示
す。

【化２４】 上記式中、Ｒ３はＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基、Ｒ４は
トリメチルシリル基、１−エトキシエチル基又は水素原
子、Ｘは塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子を表わす
。上記したザルコフィトールＡの製造ルートによって、
ザルコフィトールＡを工業的に製造しようとする場合、
１）出発原料となるセスキテルペノイドが高価である、
２）収率、選択性共に高くない末端位メチル基の酸化工
程を避けて通れない、といった大きな問題があった。

【００１０】本発明の方法によれば、大量、安価に入手
可能なモノテルペノイドを原料として、末端位メチル基
の酸化工程を経ず化合物（Ｉ）−３を中間体とする下記
の合成ルートにより前記化合物（Ｆ）を合成でき、特開
平３−４８６３３号公報記載の方法より、工業的に有利
にザルコフィトールＡを製造できる。

【化２５】 すなわち、ゲラニアール（化合物（Ｋ））を、０．１〜
１０当量の２−（ジメチルホスホノ）−イソバレロニト
リル、２−（ジエチルホスホノ）−イソバレロニトリル
などのＷｉｔｔｉｇ−Ｈｏｒｎｅｒ試薬にテトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、トルエ
ン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒あるいはジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性
極性溶媒中、−１００℃〜１００℃で、塩基としてＷｉ
ｔｔｉｇ−Ｈｏｒｎｅｒ試薬に対して１当量以下の水素
化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、ｎ−
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドなどの
有機金属、ナトリウムメトキシド、ｔ−ブトキシカリウ
ムなどの金属アルコキシドを作用させることにより発生
したアニオンで−１００〜１００℃の温度下、処理する
方法などにより化合物（Ｌ）を製造できる。化合物（Ｌ
）から塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒
、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒あるいは
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系
溶媒中、０．１〜１０当量の過酢酸、メタクロロ過安息
香酸などの有機過酸を、−５０〜１００℃で作用させる
方法、含水テトラヒドロフラン、ジオキサン等を溶媒と
して０．１〜１０当量のＮ−ブロモコハク酸イミド、Ｎ
−クロロコハク酸イミド、Ｎ−ブロモアセトアミド等の
Ｎ−ハロカルボン酸アミド類を−２０〜１００℃で５分
〜５時間作用させた後、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等の塩基と反応する方法、あるいはアセトニトリル、ベ
ンゾニトリル等の有機ニトリル系溶媒中、過酸化水素を
作用させる方法などによりエポキシ化することにより、
化合物（Ｍ）を製造することができる。化合物（ＩＩ）
−３は、前述した製造法（１）に従い、化合物（Ｍ）か
ら、トルエン、キシレン、リグロイン等の炭化水素系溶
媒中、０〜１５０℃で０．１〜１０当量のアルミニウム
トリイソプロポキシドなどのアルミニウムアルコキシド
を作用させる方法、あるいはジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等の溶媒中、−１００〜１００℃で、０．
１〜１０当量のリチウムジエチルアミド、リチウムジイ
ソプロピルアミド等の金属アミド類を作用させる方法な
どにより製造することができる。化合物（ＩＩ）−３か
ら本発明の方法に従い、化合物（Ｉ）−３を製造できる
。そして、化合物（Ｎ）は、化合物（Ｉ）からたとえば
０．１〜５当量のカルボメトキシエチリデントリフェニ
ルホスホラン（Ｒ５＝Ｍｅの例）、カルボエトキシエチ
リデントリフェニルホスホラン（Ｒ５＝Ｅｔの例）等の
ホスホラン化合物を、クロロホルム、ジクロロメタン等
のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル系溶媒、あるいはメタノール、エタノ
ール等のアルコール系溶媒中などで、−５０〜１００℃
にて５分〜５０時間反応させるか、あるいは２−（ジエ
チルホスホノ）−プロピオン酸エチル（Ｒ５＝Ｅｔの例
）などの２−（ジアルキルホスホノ）−プロピオン酸エ
ステル類より、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム
、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムメトキシ
ド等の塩基処理により調製したアニオンをジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン
性極性溶媒あるいはメタノール、エタノール、ｔ−ブチ
ルアルコール等のアルコール系溶媒中などで−１００〜
１００℃にて５分〜１０時間反応させる方法などにより
製造できる。化合物（Ｎ）を、たとえばジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒中、０．１
〜１０当量の水素化アルミニウムリチウム等の金属水素
錯化合物を−７０〜１００℃で作用させるか、あるいは
ベンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ペンタン等の
炭化水素系溶媒中、０．１〜１０当量の水素化ジブチル
アルミニウム等の金属水素化物を、−７０〜１００℃で
５分〜５時間作用させるなどの方法に付し、化合物（Ｏ
）を製造でき、これからアリルアルコールをアリル転位
することなくハロゲン化する方法、例えば当量〜１０当
量の四ハロゲン化炭素を当量〜１０当量のトリフェニル
ホスフィンの存在下、アセトニトリル等の不活性溶媒中
、あるいはクロル化の場合は四塩化炭素を溶媒兼用で用
い、室温から１００℃の温度で１〜８時間反応させる方
法、あるいはジメチルホルムアミド等の極性非プロトン
性溶媒中、当量から１０当量のメタンスルホニルクロリ
ドとハロゲン化金属塩、Ｓ−コリジンを−４０℃から室
温で、１〜１０時間作用させる方法等により特願平１−
１８１７１０記載のザルコフィトールＡ合成ルートにお
ける鍵中間体である、前記の化合物（Ｆ）を製造するこ
とができる。化合物（Ｆ）から、特開平３−４８６３３
号公報記載の方法に従ってザルコフィトールＡを製造で
きる。

【００１１】すなわち、前記ルート中の化合物（Ｇ）で
示される化合物の内、Ｒ４がトリメチルシリル基である
化合物は、たとえば、前記の方法で製造した化合物（Ｆ
）より塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチルなどの
溶媒中又は無溶媒で、当量から１０当量のトリメチルシ
リルニトリルを触媒量のシアン化金属−１８−クラウン
−６−エーテル錯体の存在下で、−２０℃〜５０℃にて
、３０分〜５時間作用させて製造することができ、この
化合物をテトラヒドロフラン、メタノール等の溶媒に溶
解後、０．１〜３規定の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を０
℃〜室温で、５分〜５時間作用させる方法、又はテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中、−２０℃〜室温
で、触媒量から１０当量のフッ化テトラブチルアンモニ
ウム等のテトラアルキルアンモニウム類を作用させる方
法などによってＲ４が水素原子である化合物、シアノヒ
ドリン体を製造することができる。Ｒ４が１−エトキシ
エチル基で表わされる化合物は、前記シアノヒドリン体
より、エチルエーテル、酢酸エチル等の溶媒中、当量〜
１０当量のエチルビニルエーテルを触媒量の塩酸、硫酸
などの鉱酸、パラトルエンスルホン酸などの有機強酸あ
るいはパラトルエンスルホン酸のピリジニウム塩などの
強酸の塩の存在下、−２０℃〜室温で、３０分〜５時間
作用させるなどの方法により製造することができる。

【００１２】上記ルート中の化合物（Ｇ）の内、Ｒ４が
トリメチルシリル基あるいは１−エトキシエチル基で表
わされる化合物より、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素系溶媒又はｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の
飽和炭化水素系溶媒中、当量から１０当量のリチウムジ
イソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル
）アミド、水素化ナトリウムなどの塩基を、−７０℃〜
１００℃で、５分〜１０時間作用させる方法などにより
、化合物（Ｈ）の内、Ｒ４がトリメチルシリル基又は１
−エトキシエチル基である化合物を製造することができ
、さらにテトラヒドロフラン、メタノールなどの溶媒中
、０．１〜３規定の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を０℃〜
室温で、５分〜５時間作用させる方法、又はテトラヒド
ロフラン、ジオキサン等の溶媒中、−２０℃〜室温で、
触媒量から１０当量のフッ化テトラブチルアンモニウム
等のテトラアルキルアンモニウム類を作用させる方法な
どによって、化合物（Ｈ）の内、Ｒ４が水素原子である
化合物を製造することができる。

【００１３】化合物（Ｈ）においてＲ４が水素原子で表
わされる化合物より、そのエチルエーテル、酢酸エチル
等の有機溶媒の溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液と０℃
〜室温で、５分〜５時間作用させるなどの操作によって
、あるいは、化合物（Ｈ）においてＲ４がトリメチルシ
リル基で表わされる化合物より、含水テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の溶媒中、触媒量から１０当量のフッ
化テトラブチルアンモニウム等のフッ化アルキルアンモ
ニウム類を作用させる方法などの方法により直接、ケト
ン体、化合物（Ｊ）に変換することができ、これよりエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒
、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒又はｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の飽和炭化水素系溶媒中−
７０℃〜５０℃で、不斉修飾した水素化ジブチルアルミ
ニウム等の金属水素化物、水素化アルミニウムリチウム
等の金属錯化合物を当量〜１０当量、５分〜５時間作用
させる方法などにより光学活性ザルコフィトールＡを製
造することができる。

【００１４】以上記してきた様に、本発明により、医薬
品、農薬等の有用な化合物製造のための重要合成中間体
となり得るアルデヒド類の種々の問題点を持つ既存の製
造法に代る工業上極めて有利な製造法を提供できる。以
下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本
発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例により限
定を受けるものではない。

【００１５】合成例１

【化２６】 化合物（ＩＩ）−２（１４０ｍｇ，０．９５ｍｍｏｌ）
と化合物（ＩＩＩ）−１（５６３ｍｇ、３．８ｍｍｏｌ
）の混合物に２，４−ジニトロフェノール（２．８ｍｇ
，０．０１９ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、１
３０℃の油浴上、４時間、生成するメタノールを留去し
ながら加熱した。冷却し、過剰の試薬を減圧留去後、残
渣をＳｉＯ２カラムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル９：１）にて精製し、目的とするα
−ケトール体、化合物（ＩＶ）−２（１９２ｍｇ，８７
％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４８０，３０５０，３０
２０，２９８０，２９３０，１７１０，１６５０，１６
００，１４９５，１４４５，１３６０，１１６０，１０
７５，１０２５，９６５，９１５，８４５． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ；１．４
１（ｓ，６Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）２ＯＨ），１．８７（ｄ
，Ｊ＝１．０Ｈｚ，３Ｈ，＝ＣＣＨ３），２．５０（ｂ
ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），
２．７８（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２Ｃ＝Ｏ
），３．７８（ｂｓ，１Ｈ，−ＯＨ），６．２９（ｂｓ
，１Ｈ，＝ＣＨ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ，−Ｐｈ
）．

【００１６】合成例２

【化２７】 化合物（ＩＩ）−３（４７０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）と
化合物（ＩＩＩ）−１（４当量）を合成例１と同様に反
応した。粗生成物をＳｉＯ２カラムクロマトグラフィー
（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチル６：１）にて精製し
、目的とする化合物（ＩＶ）−３（６０９ｍｇ，９５％
）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３５２０，２９９０，２９
５０，２８９０，２２２０，１７１５，１６４０，１４
７０，１４５０，１３７０，１１６５，１０７５，１０
２５，９６５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δ
ｐｐｍ；１．１４（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ
（ＣＨ３）２），１．３５（ｓ，６Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）
２ＯＨ），１．６１（ｓ，３Ｈ，＝ＣＣＨ３），１．８
０（ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，＝ＣＣＨ３），２．１（ｍ，
４Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝），２．２６（ｂｔ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），２．５０
（ｈｅｐ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２
），２．６３（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２Ｃ
＝Ｏ），５．０９（ｂｍ，１Ｈ，＝ＣＨＣＨ２−），６
．２４（ｄｄ，Ｊ＝０．８，１１．５Ｈｚ，１Ｈ，＝Ｃ
Ｈ−ＣＨ＝），６．７９（ｄｄ，Ｊ＝０．７，１１．５
Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨ−ＣＨ＝）．

【００１７】合成例３

【化２８】 化合物（ＩＩ）−７（２４０ｍｇ，０．９１ｍｍｏｌ）
と化合物（ＩＩＩ）−１（５４０ｍｇ，３．６ｍｍｏｌ
）を２，４−ジニトロフェノール（２．４ｍｇ）の存在
下、合成例１と同様に反応し、ＳｉＯ２カラムクロマト
グラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチル８：１）
にて精製、目的とする化合物（ＩＶ）−７（２１３ｍｇ
，６８％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４８０，２９４０，２８
６０，１７１０，１４４５，１３８０，１３５０，１２
８５，１２６０，１２００，１１８５，１１５０，１１
３５，１１２０，１０７５，１０２５，９８５，９０５
，８６５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐ
ｍ；１．３５（ｓ，６Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）２ＯＨ），１
．４−１．７（ｍ，８Ｈ，−ＯＣＨ２（ＣＨ２）３−，
＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−），１６０と１．６１（各々ｂｓ
，合わせて３Ｈ，＝ＣＣＨ３），１．９−２．２（ｍ，
２Ｈ，＝ＣＨＣＨ２−），２．２７（ｂｔ，Ｊ＝７．５
Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），２．６２（ｔ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），３．４−４
．０（ｍ，５Ｈ，−ＯＣＨ２（ＣＨ２）３−と−ＣＨＣ
Ｈ２Ｃｌ），４．６２と４．７２（各々ｂｔ，各々Ｊ＝
３Ｈｚ，各々０．５Ｈ，−ＯＣＨＯ−），５．１−５．
２（ｍ，１Ｈ，＝ＣＨ−）．

【００１８】合成例４

【化２９】 化合物（ＩＩ）−４（２２８ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）と
化合物（ＩＩＩ）−１（４７５ｍｇ，３．２ｍｍｏｌ）
を２，４−ジニトロフェノール（２．１ｍｇ）の存在下
、合成例１と同様に反応後、ＳｉＯ２カラムクロマトグ
ラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチル１０：１）
にて精製、目的とする化合物（ＩＶ）−４（２８２ｍｇ
，９５％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３５００，２９５０，２９
３０，２８６０，１７１０，１６６５，１４７０，１４
６５，１４４５，１３８０，１３６０，１２５５，１１
８５，１１６０，１１１０，１０６５，１００５，９６
５，８３５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐ
ｐｍ；０．４４（ｓ，６Ｈ，−Ｓｉ（ＣＨ３）２），０
．８８（ｓ，９Ｈ，−ＳｉＣ（ＣＨ３）３），１．３５
（ｓ，６Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）２ＯＨ），１．５９（ｓ，
６Ｈ，＝ＣＣＨ３×２），１．９−２．１（ｍ，４Ｈ，
＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝），２．２６（ｂｔ，Ｊ＝７．５
Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），２．６１（ｔ，
２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ）
，４．１６（ｂｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ，＝ＣＣＨ２
Ｏ−），５．１１（ｂｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ，＝Ｃ
ＨＣＨ２ＣＨ２−），５．２７（ｂｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ
，１Ｈ，＝ＣＨＣＨ２Ｏ−）．

【００１９】合成例５

【化３０】 化合物（ＩＩ）−８（３１６ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）と
化合物（ＩＩＩ）−１（７１０ｍｇ，４．８ｍｍｏｌ）
の混合物にリン酸（２．５ｍｇ）を加え、１４０℃の油
浴上、生成するメタノールを留去しながら５時間加熱反
応した。冷却後、過剰の試薬を減圧留去し、ＳｉＯ２カ
ラムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル１０：１）にて精製、目的とする化合物（ＩＶ）−
８（３７５ｍｇ，９０％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４８０，３０７５，３０
４０，２９８０，２９４０，２８６０，１７１０，１６
７０，１６１０，１５３５，１５００，１４５５，１３
６０，１３４５，１２８５，１２００，１１６０，１０
７０，１０３０，９６５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０
ＭＨｚ）δｐｐｍ；１．３６（ｓ，６Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３
）２ＯＨ），１．６２，１．６４（各々ｂｓ，各々３Ｈ
，＝ＣＣＨ３），２．０−２．２（ｍ，４Ｈ，＝ＣＣＨ
２ＣＨ２Ｃ＝），２．２８（ｂｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２
Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），２．６３（ｔ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），３．８１（ｂ
ｓ，１Ｈ，ＯＨ），４．０２（ｂｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，
２Ｈ，＝ＣＨＣＨ２Ｏ−），４．５０（ｓ，２Ｈ，−Ｏ
ＣＨ２Ｐｈ），５．１３（ｂｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ
，＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−），５．３９（ｂｔ，Ｊ＝６．
８Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨＣＨ２Ｏ−），７．２−７．４（
ｍ，５Ｈ，Ｐｈ）．

【００２０】合成例６

【化３１】 化合物（ＩＶ）−２（１６９ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ）
のメタノール（３ｍｌ）溶液に氷冷下、かきまぜながら
水素化ホウ素ナトリウム（１４ｍｇ，０．３７ｍｍｏｌ
）を加えた。同温度で１時間かきまぜを続けた後、メタ
ノールを減圧留去し、ジエチルエーテル、水を加え、有
機層の水洗、乾燥、濃縮で得た残渣をＳｉＯ２カラムク
ロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチル３
：１）にて精製し、目的とする化合物（Ｖ）−２（１６
９ｍｇ，９９％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４３０，３０８０，３０
６０，３０３０，２９８０，２９３０，２８８０，１６
５０，１６００，１５７５，１４９５，１４４５，１３
８５，１２９０，１２２５，１１６０，１０８０，１０
３０，９６５，９３５，９１５． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ；１．１
０，１．１４（各々ｓ，各々３Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）ＯＨ
），１．４−１．７（ｍ，２Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２−）
，１．７９（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，３Ｈ，＝ＣＣＨ３）
，２．１−２．５（ｍ，２Ｈ，＝ＣＣＨ２−），３．３
４（ｂｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ，−ＣＨ（ＯＨ）−），６
．２５（ｂｓ，１Ｈ，＝ＣＨ−），７．１−７．３（ｍ
，５Ｈ，−Ｐｈ）．

【００２１】合成例７

【化３２】 化合物（ＩＶ）−３（９３．３ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ
）より合成例６と同様に反応を行ない得た粗生成物をＳ
ｉＯ２カラムクロマトグラフィー（展開液３：１→２：
１）にて精製し目的とする化合物（Ｖ）−３（８１．７
ｍｇ，８７％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４５０，２９７０，２９
３０，２８７０，２２１０，１６３５，１４５０，１３
８５，１２９０，１２２０，１１６０，１０７５，１０
１５，９１５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δ
ｐｐｍ；１．１２，１．１６（各々ｓ，各々３Ｈ，−Ｃ
（ＣＨ３）２ＯＨ），１．１３（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，
６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．３−１．７（ｍ，２
Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯＨ−），１．５９（ｄ，Ｊ
＝０．６Ｈｚ，３Ｈ，＝ＣＣＨ３），１．８０（ｄ，Ｊ
＝１．１Ｈｚ，３Ｈ，＝ＣＣＨ３），２．０−２．３（
ｍ，６Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯＨ，＝ＣＣＨ２ＣＨ
２Ｃ＝），２．４９（ｈｅｐ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ，
−ＣＨ（ＣＨ３）２），３．３０（ｂｄ，Ｊ＝１０．３
Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＨＯＨ），５．１３（ｂｍ，１Ｈ，＝
ＣＨＣＨ２−），６．２３（ｄｄ，Ｊ＝０．７，１１．
５Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨ−ＣＨ＝），６．７９（ｄｄ，Ｊ
＝０．６，１１．５Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨ−ＣＨ＝）．

【
００２２】合成例８

【化３３】 化合物（ＩＶ）−４（２４２ｍｇ，０．６６ｍｍｏｌ）
より合成例６と同様に反応を行ない得た粗生成物をＳｉ
Ｏ２カラムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル３：１）にて精製し目的の化合物（Ｖ）−４
（２３７ｍｇ，９７％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４５０，２９６０，２９
４０，２８６０，１６６５，１５０５，１４６５，１４
５０，１３８５，１３６０，１２５５，１１６０，１１
１０，１０７０，１００５，８３０． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ；０．５
１（ｓ，６Ｈ，−Ｓｉ（ＣＨ３）２），０．８８（ｓ，
９Ｈ，−ＳｉＣ（ＣＨ３）３），１．１３，１．１７（
各々ｓ，各々３Ｈ，＝Ｃ（ＣＨ３）），１．２−１．５
（ｍ，２Ｈ，−Ｃ（ＯＨ）ＣＨ２ＣＨ２−），１．９−
２．３（ｍ，６Ｈ，−ＣＨ２Ｃ＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝）
，３．３１（ｂｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＨ（Ｏ
Ｈ）），４．１７（ｂｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ，＝Ｃ
ＣＨ２Ｏ−），５．１６（ｂｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ
，＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−），５．２８（ｂｔ，Ｊ＝６．
３Ｈｚ，＝ＣＨＣＨ２Ｏ−）．

【００２３】合成例９

【化３４】 化合物（ＩＶ）−７（２０１ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）
より合成例６と同様に反応を行ない得た粗生成物をＳｉ
Ｏ２カラムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル２：１）にて精製し目的の化合物（Ｖ）−７
（１９６ｍｇ，９７％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４４０，２９５０，２８
７０，１６６０，１４６５，１４４５，１３８５，１３
５５，１３２５，１２６０，１２００，１１５５，１１
３５，１１２０，１０８０，１０２５，９９０，９３５
，９２５，９００，８７０．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５
０ＭＨｚ）δｐｐｍ；１．１３，１．１７（各々ｓ，各
々３Ｈ，−Ｃ（ＣＨ３）ＯＨ），１．２−１．９（ｍ，
１０Ｈ，−ＯＣＨ２（ＣＨ２）３−，−ＣＨ（ＯＨ）Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−，＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−），１．６０（ｂ
ｓ，３Ｈ，＝ＣＣＨ３），２．０−２．３（ｍ，４Ｈ，
−ＣＨ２Ｃ＝ＣＣＨ２−），３．３２（ｂｄ，Ｊ＝１０
．３Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＨ（ＯＨ）−），３．４−４．０
（ｍ，５Ｈ，−ＯＣＨ２（ＣＨ２）３−と−ＣＨＣＨ２
Ｃｌ），４．６４と４．７５（各々ｍ，各々０．５Ｈ，
−ＯＣＨＯ−），５．１９（ｍ，１Ｈ，＝ＣＨ−）．

【００２４】合成例１０

【化３５】 化合物（ＩＶ）−８（１５１ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）
より合成例６と同様の反応を行ない得た粗生成物をＳｉ
Ｏ２カラムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル４：１→３：１）にて精製し目的の化合物（
Ｖ）−８（１３１ｍｇ，８６％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３３４０，３０３０，２９
８０，２９２０，２８６０，１６６５，１４９５，１４
５０，１３８０，１２００，１１５５，１０６５，１０
２５，９３０．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δ
ｐｐｍ；１．１１，１．１５（各々ｓ，各々３Ｈ，−Ｃ
（ＣＨ３）２ＯＨ），１．３−１．６（ｍ，２Ｈ，−Ｃ
（ＯＨ）ＣＨ２ＣＨ２−），１．５６，１．６２（各々
ｓ，各々３Ｈ，＝Ｃ（ＣＨ３）−），２．０−２．３（
ｍ，６Ｈ，−ＣＨ２Ｃ＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝），３．３
１（ｂｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，−ＣＨ（ＯＨ））
，４．００（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ，＝ＣＨＣＨ２
Ｏ−），４，４９（ｓ，２Ｈ，−ＯＣＨ２Ｐｈ），５．
１６（ｂｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨＣＨ２ＣＨ
２−），５．３７（ｂｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ，＝Ｃ
ＨＣＨ２Ｏ−），７．２−７．４（ｍ，５Ｈ，Ｐｈ）．

【００２５】実施例１

【化３６】 化合物（Ｖ）−２（１２５ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）を
メタノール／水（３ｍｌ／１ｍｌ）の混合溶媒に溶かし
、これに氷水浴上、かきまぜながらメタ過ヨウ素酸ナト
リウム（１２５ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）を少量づつ加
えた後、冷却浴をはずし、さらに３時間かきまぜた。メ
タノールを減圧留去し、全体をジエチルエーテル、水に
溶解し、有機層を水洗、乾燥、濃縮して得た残渣をＳｉ
Ｏ２カラムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル２０：１）にて精製し、目的とする化合物（
Ｉ）−２（８３．２ｍｇ、９０％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３０６０，３０２５，２９
４０，２９２０，２８５０，２８２０，２７２０，１７
２５，１６５０，１６４５，１６００，１５７０，１４
９０，１４４０，１４１０，１３８５，１２６０，１２
２０，１１８０，１１６５，１１２０，１０９５，１０
２５，９１５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δ
ｐｐｍ；１．８８（ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，３Ｈ，＝ＣＣ
Ｈ３），２．５３（ｂｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ，＝Ｃ
ＣＨ２−），２．６９（ｄｔ，Ｊ＝７．４，１．８Ｈｚ
，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨＯ），６．３１（ｓ，１Ｈ，＝Ｃ
Ｈ−），７．２−７．４（ｍ，５Ｈ，−Ｐｈ），９．８
４（ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＨＯ）．

【００２６】実施例２

【化３７】 化合物（Ｖ）−３（５０３ｍｇ，１．５８ｍｍｏｌ）か
ら実施例１と同様に反応し得た粗生成物をＳｉＯ２カラ
ムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル１０：１）にて精製し、目的とする化合物（Ｉ）−３
（３４８ｍｇ，８５％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；２９７０，２９３０，２７
２０，２２００，１７２５，１６３０，１４４０，１３
８５，１０２０．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）
δｐｐｍ；１．１４（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ，−Ｃ
Ｈ（ＣＨ３）２），１．６０（ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ，３
Ｈ，＝ＣＣＨ３），１．７９（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，３
Ｈ，＝ＣＣＨ３），２．１４（ｍ，４Ｈ，＝ＣＣＨ２Ｃ
Ｈ２Ｃ＝），２．３０（ｂｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ，
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯ），２．４−２．６（ｍ，３Ｈ，
−ＣＨ２ＣＨＯ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），６．２３（ｄ
，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨ−ＣＨ＝），６．７
９（ｄｄ，Ｊ＝０．８，１０．２Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨ−
ＣＨ＝），９．７２（ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ，−Ｃ
ＨＯ）．

【００２７】実施例３

【化３８】 化合物（Ｖ）−４（２０３ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）か
ら実施例１と同様に反応し得た粗生成物をＳｉＯ２カラ
ムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル１０：１）にて精製し、化合物（Ｉ）−４（１１６ｍ
ｇ，６８％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；２９５０，２９３０，２８
６０，２７１０，１７２５，１６６５，１４７５，１４
６５，１４４５，１４１０，１３８５，１３６０，１２
５５，１１９０，１１１０，１０６５，１００５，９４
０，８３５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐ
ｐｍ；０．０４（ｓ，６Ｈ，−Ｓｉ（ＣＨ３）２），０
．８７（ｓ，９Ｈ，−ＳｉＣ（ＣＨ３）３），１．５９
（ｓ，６Ｈ，＝ＣＣＨ３×２），１．９−２．２（ｍ，
４Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝），２．２８（ｂｔ，Ｊ＝
７．４Ｈｚ，２Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯ），２．５
１（ｂｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈ），４．１６（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ，＝ＣＣＨ
２Ｏ−），５．１１，５．２６（各々ｂｔ，Ｊ＝６．０
Ｈｚ，＝ＣＨ−×２），９．７２（ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ
，１Ｈ，−ＣＨＯ）．

【００２８】実施例４

【化３９】 化合物（Ｖ）−７（１８３ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）か
ら実施例１と同様に反応し得た粗生成物をＳｉＯ２カラ
ムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル９：１）にて精製し、目的とする化合物（Ｉ）−７（
１３８ｍｇ，９１％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；２９５０，２８５０，２７
１０，１７２５，１４４０，１３８５，１３５０，１３
４０，１２５０，１２００，１１８０，１１５０，１１
３０，１１２０，１０７５，１０２５，９９０，９００
，８７０，８１０．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ
）δｐｐｍ；１．４−１．９（ｍ，８Ｈ，−ＯＣＨ２（
ＣＨ２）３−，＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−），１．５９と１
．６０（各々ｓ，合わせて３Ｈ，＝ＣＣＨ３），２．０
−２．２（ｍ，２Ｈ，＝ＣＨＣＨ２−），２．２９（ｔ
，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），
２．４９（ｄｔ，Ｊ＝７．４，１．８Ｈｚ，２Ｈ，＝Ｃ
ＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝Ｏ），３．４−４．０（ｍ，５Ｈ，−
ＯＣＨ２（ＣＨ２）３−，−ＣＨＣＨ２Ｃｌ），４．６
１と４．７４（各々ｍ，合わせて１Ｈ，−ＯＣＨＯ−）
，５．１４（ｍ，１Ｈ，＝ＣＨ−），９．７３（ｔ，Ｊ
＝１．８Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＨＯ）．

【００２９】実施例５

【化４０】 化合物（Ｖ）−８（５２ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）から
実施例１と同様に反応し得た粗生成物をＳｉＯ２カラム
クロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
９：１）にて精製し、化合物（Ｉ）−８（３９ｍｇ，９
０％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ；１．５
４，１．５７（各々ｓ，各々３Ｈ，＝ＣＣＨ３），１．
９−２．１（ｍ，４Ｈ，＝ＣＣＨ２ＣＨ２Ｃ＝），２．
２３（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ
Ｏ），２．４２（ｄｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１．８Ｈｚ，
２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＯ），３．９５（ｄ，Ｊ＝６
．８Ｈｚ，２Ｈ，＝ＣＣＨ２Ｏ−），４．４３（ｓ，２
Ｈ，−ＯＣＨ２Ｐｈ），５．０７，５．３２（各々，ｂ
ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，＝ＣＨ−×２），７．１−７．３
（ｍ，５Ｈ，Ｐｈ），９．６５（ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，
１Ｈ，−ＣＨＯ）．

【００３０】実施例６ 　　（化合物（ＩＩ）から化合物（Ｉ）への単一容器で
の反応例）

【化４１】 化合物（ＩＩ）−３（１．２５ｇ，５．４ｍｍｏｌ）、
化合物（ＩＩＩ）−１（４．０ｇ，２７ｍｍｏｌ）、２
，４−ジニトロフェノール（５０ｍｇ）の混合物を、ア
ルゴン雰囲気下、生成するメタノールを留去しながら、
１３０℃の油浴上加熱かきまぜた。４時間後、ＧＣにて
原料の消失を確認し、過剰の化合物（ＩＩＩ）−１を減
圧留去した。残渣をメタノール（１０ｍｌ）に溶解し、
氷冷下、これにかきまぜながら水素化ホウ素ナトリウム
（７７ｍｇ，２ｍｍｏｌ）を加えた。添加終了後、同温
度で１時間かきまぜを続け、ＴＬＣで反応の完結を確認
した。反応混合物にメタノール（１０ｍｌ）と水（６ｍ
ｌ）を加えた後、かきまぜながらメタ過ヨウ素酸ナトリ
ウム１．５ｇを少量づつ加えた。実施例２と同様に処理
、精製し化合物（Ｉ）−３（１．１７ｇ，８４％）を得
た。

【００３１】参考例１

【化４２】 化合物（Ｉ）−３（１３０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）の塩
化メチレン溶液（４ｍｌ）に、エトキシカルボニルエチ
リデントリフェニルホスホラン（２１７ｍｇ，０．６ｍ
ｍｏｌ）を加え、Ａｒ雰囲気下、室温で５時間かきまぜ
た。塩化メチレン減圧留去で得る残渣を、ＳｉＯ２カラ
ムクロマトグラフィー（展開液ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル５：１）に付し、目的のエステル体１６８ｍｇ（９７
％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；２９７０，２９３０，２８
８０，２２１０，１７１０，１６４０，１４４５，１３
９０，１３６５，１２７０，１１８０，１１２０，１０
９５，１０８０，１０２５． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ；１．１
４（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２）
，１．２６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ
３），１．６０（ｄ，Ｊ＝０．７Ｈｚ，３Ｈ，＝ＣＣＨ
３），１．８０５，１．８０９（各々ｓ，各々３Ｈ，＝
ＣＣＨ３），２．０−２．３（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ
２−），２．５０（ｈｅｐ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ，−
ＣＨ（ＣＨ３）２），４．１６（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，
２Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ３），５．１（ｍ，１Ｈ，＝ＣＨＣ
Ｈ２−），６．２６（ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，１Ｈ，＝
ＣＨ−ＣＨ＝），６．７１（ｔｑ，Ｊ＝７．３，１．４
Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨＣＨ２−），６．８０（ｄｄ，Ｊ＝
０．７，１１．５Ｈｚ，１Ｈ，＝ＣＨ−ＣＨ＝）．

【００３２】参考例２

【化４３】 シアノエステル体（１７５ｍｇ，０．５１ｍｍｏｌ）の
トルエン（５ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下、−７０
℃にて１Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウムトルエン溶
液（２．１ｍｌ，２．１ｍｍｏｌ）を徐々に滴下した。 同温にて２時間かきまぜ後、シュウ酸水溶液（１Ｍ，４
．２ｍｌ）を加え、再びアルゴン雰囲気とし、さらにか
きまぜながら室温にまで約２時間を要し昇温した。液体
クロマトグラフィーにより加水分解の完結を確認後、有
機層を水洗、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、
乾燥、濾過、濃縮で得た残渣をＳｉＯ２カラムクロマト
グラフィー（展開液，ｎ−ヘキサン：酢酸エチル７：１
）にて精製し、目的物ヒドロキシホルミル体（１２３ｍ
ｇ，７９％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；３４３０，２９６０，２９
２０，２８７０，１６７０，１６３０，１４５０，１３
９０，１２９５，１２３０，１１３０，１０７０，１０
１０．ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ；
１．０４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，−ＣＨ（ＣＨ３
）２），１．５９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ，ＣＨ３
−Ｃ＝），１．６３（３Ｈ，ｂｓ，ＣＨ３−Ｃ＝），１
．８６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，ＣＨ３−Ｃ＝），
１．７−２．２（８Ｈ，ｍ，−ＣＨ２ＣＨ２−），２．
８８（１Ｈ，ｈｅｐ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，ＣＨ（ＣＨ３）
２），３．９５（２Ｈ，ｂｓ，−ＣＨ２ＯＨ），５．０
９（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ２ＣＨ＝），５．３８（１Ｈ，ｂ
ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，−ＣＨ２ＣＨ＝），６．８０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，＝ＣＨ−ＣＨ＝），７．１
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，＝ＣＨ−ＣＨ＝），
１０．２５（１Ｈ，ｓ，−ＣＨＯ）．

【００３３】参考
例３

【化４４】 乾燥した塩化リチウム（６４ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ），
２，６−ルチジン（０．２３ｍｌ，２．０ｍｍｏｌ）、
およびヒドロキシホルミル体（３０５ｍｇ，１．０ｍｍ
ｏｌ）のジメチルホルムアミド（１．０ｍｌ）溶液を氷
水上で冷却し、アルゴン雰囲気下かきまぜながらメタン
スルホニルクロリド（１６０ｍｇ，１．４ｍｍｏｌ）を
加えた。約８時間後、原料の消失を確認し、全体を水と
エーテルに溶解した。有機層を水洗、乾燥（ＭｇＳＯ４
）、濃縮して得た残渣をＳｉＯ２カラムクロマトグラフ
ィー（展開液，ｎ−ヘキサン：酢酸エチル１５：１）に
て精製し、目的物クロロホルミル体（２８１ｍｇ，８７
％）を得た。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；２９７０，２９３０，２８
８０，１６７０，１６３０，１４４５，１３９０，１２
９５，１２６５，１１３５． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ；１．０
４（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，６Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２，
１．５９，１．７０（各々ｂｓ，各々３Ｈ，−Ｃ＝ＣＣ
Ｈ３），１．８７（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，３Ｈ，−Ｃ＝
ＣＣＨ３），１．９−２．２（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ
２−），２．８９（ｈｅｐ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ，−
ＣＨ（ＣＨ３）２），３．９８（ｂｓ，２Ｈ，−ＣＨ２
Ｃｌ），５．０９（ｍ，１Ｈ，−Ｃ＝ＣＨＣＨ２−），
５．４７（ｂｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ，−Ｃ＝ＣＨＣ
Ｈ２−），６．８２（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，１Ｈ，−
Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨＯ）−），７．１１（ｄ，Ｊ
＝１２．０Ｈｚ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨＯ）−）
，１０．２７（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ）．

【００３４】参考例４

【化４５】 化合物（Ｆ）（Ｘ＝Ｃｌ）（６４０ｍｇ，２．０ｍｍｏ
ｌ）をトリメチルシリルニトリル（０．３５ｍｌ，２．
６ｍｍｏｌ）に溶解し、窒素雰囲気下、氷水浴上でかき
まぜながら極少量のシアン化カリウム／１８−クラウン
６−エーテル錯体を加えた。２時間後、原料の消失を確
認し、過剰のトリメチルシリルニトリルを留去し化合物
（Ｆ）（Ｘ＝Ｃｌ）（６４７ｍｇ，定量的）が得られた
。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；２９６０，２９３０，２８
８０，２３２０，１４４５，１２５５，１０８０，８７
５，８４５．ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐ
ｐｍ；１．１１，１．１５（各々ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，
各々３Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），１．６０，１．７１
，１．７７（各々ｓ，各々３Ｈ，−Ｃ＝ＣＣＨ３），１
．９−２．２（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ２ＣＨ２−），２．６
４（ｈｅｐ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）
２），３．９９（ｓ，１Ｈ，−ＣＨ２Ｃｌ），５．１１
（ｍ，１Ｈ，−Ｃ＝ＣＨＣＨ２−），５．３３（ｓ，１
Ｈ，−ＣＨＣＮ），５．４８（ｂｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，
１Ｈ，−Ｃ＝ＣＨＣＨ２−），６．０４，６．２５（各
々ｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ，各々１Ｈ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ
＝Ｃ−）．

【００３５】参考例５

【化４６】 アルゴン雰囲気下、リチウムヘキサメチルジシラジドの
テトラヒドロフラン溶液（２０ｍｌ，５．００ｍｍｏｌ
，０．２５Ｍ）を５５℃の油浴上撹拌し、この溶液に化
合物（Ｇ）（３７８ｍｇ，０．８９５ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン溶液（１５ｍｌ）を５０分かけて滴下し
た。この温度で２０分間撹拌した後、反応溶液を氷（５
０ｇ）を入れた飽和食塩水（３０ｍｌ）−ヘキサン（２
０ｍｌ）混合液にあけ、反応を停止した。有機層を分離
後、水層をヘキサン−エーテル（５：１，３０ｍｌ）で
抽出した。抽出液を乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）し、減圧下溶
媒を除去した後得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トで精製すると化合物（Ｈ）（２８８ｍｇ，８３％）と
化合物（Ｊ）（４２．９ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ，１６
％）が得られた。化合物（Ｈ）の物性は以下の通りであ
る。 ＩＲ（ｆｉｌｍ）ｃｍ−１；２９７０，２９２０，１４
４０，１３８５，１２５３，１１２５，１０８５，９４
０，８４５，７５５． ＰＭＲ（ＣＤＣｌ３，２５０ＭＨｚ）δｐｐｍ；０．２
３（ｓ，９Ｈ，−ＳｉＭｅ３），１．０９，１．１５（
各々ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，各々３Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）
２），１．５０，１．６２（各々ｂｓ，各々３Ｈ，−Ｃ
＝ＣＣＨ３），１．７０（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，３Ｈ，
−Ｃ＝ＣＣＨ３），２．０−２．２（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ
２ＣＨ２−×２），２．５１（ｓｅｐ，Ｊ＝６．７Ｈｚ
，１Ｈ，−ＣＨ（ＣＨ３）２），２．５５，２．６５（
各々ｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ，各々１Ｈ，−ＣＨａＨｂＣ
Ｎ−），４．９４（ｂｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ，−Ｃ
＝ＣＨＣＨ２−），５．１５（ｂｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，
１Ｈ，−Ｃ＝ＣＨＣＨ２−），６．１７，６．４４（各
々ｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ，各々１Ｈ，−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ
＝Ｃ−）．

【００３６】参考例６

【化４７】 アルゴン雰囲気下、化合物（Ｈ）（２８８ｍｇ，０．７
４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０ｍｌ）に
水（０．３ｍｌ）およびフッ化テトラブチルアンモニウ
ムのテトラヒドロフラン溶液（１６μｌ，０．０１６ｍ
ｍｏｌ，１．０Ｍ）を加えた。反応溶液を室温で１７時
間撹拌した後、飽和食塩水（１０ｍｌ）を加え、有機物
をヘキサン−エーテル（５：１，３０ｍｌ×２）で抽出
した。抽出液を乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）後、溶媒を減圧下
留去すると目的とする化合物（Ｊ）（２００ｍｇ，９４
％）が得られた。

【００３７】参考例７ 　　アルゴン雰囲気下、水素化アルミニウムリチウムの
ジエチルエーテル溶液（２．９４ｍｌ，２．０ｍｍｏｌ
，０．６８Ｍ）を撹拌し、これに（Ｓ）−２−（２，６
−キシリジノメチル）ピロリジン（４９０ｍｇ，２．４
ｍｍｏｌ）を室温でゆっくり滴下し、滴下終了後、反応
混合物を室温で２時間撹拌した。反応混合物を−７４℃
に冷却し、これに化合物（Ｊ）（６９ｍｇ，０．２４ｍ
ｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（３ｍｌ）を１０分間
かけて滴下した。−７４℃で１時間撹拌後、硫酸ナトリ
ウム飽和水溶液（１ｍｌ）を加え、室温でしばらく撹拌
した。ジエチルエーテル（１０ｍｌ）および希塩酸（２
０ｍｌ）を加え、有機層を分離後、水層をジエチルエー
テル（２０ｍｌ）で抽出した。抽出液を飽和食塩水（２
０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、減
圧下溶媒を留去し、得られる残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製すると、光学活性ザルコフ
ィトールＡ（６１ｍｇ，８８％）が得られた。得られた
光学活性ザルコフィトールＡの光学純度はＣＨＩＲＡＬ
ＣＥＬＬ　　ＯＤを用いるＨＰＬＣ分析により９３％ｅ
ｅであることが判明した。 ［α］２４Ｄ：＋２０４．４°（Ｃ＝０．２７，ＣＨＣ
ｌ３）

【００３８】

【発明の効果】本発明の方法によれば、医・農薬等の合
成中間体として有用なアルデヒド類が、従来より入手し
やすい出発原料を用い、高立体選択的に、しかも水銀塩
を使用することなく高収率で製造することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式（ＩＩ） 【化１】 ［式中、Ｒ１はそれぞれが官能基を有していてもよいア
   ルキル基、アルケニル基又はアリール基を表わす］で表
   わされる化合物と 一般式（ＩＩＩ）又は一般式（ＩＩＩ’）【化２】 ［式中、Ｒ２はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表わす］で表
   わされる化合物を、酸触媒の存在下で加熱して反応させ
   、得られた 一般式（ＩＶ） 【化３】 ［式中、Ｒ１は一般式（ＩＩ）におけるのと同様の意味
   を表わす］で表わされる化合物を還元し、生成する一般
   式（Ｖ） 【化４】 ［式中、Ｒ１は一般式（ＩＩ）におけるのと同様の意味
   を表わす］で表わされる化合物の１，２−ジオールを酸
   化的に開裂する一連の反応に付すことを特徴とする一般
   式（Ｉ） 【化５】 ［式中、Ｒ１は一般式（ＩＩ）におけるのと同様の意味
   を表わす］で表わされるアルデヒド類の製造方法。