JPH0432148A - 質量分析装置用イオン源 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、質量分析装置用イオン源に関する。

［従来技術］ 液体クロマトグラフで分離した試料液を、質量分析装置
に直接導入する方式のイオン源として、第２図に示す構
造のものが実開昭６１−１１６０６５号公報に記載され
ている。

第２図において、１は質量分析装置の質量分析部、２は
イオン源、Ｓはイオン源ブロック、３はイオン源ブロッ
クＳ内に設けられているイオン化室、４はイオン化室内
で生成されたイオンの加速と収束を行う電極群、５は一
次粒子ビーム発生器、６は液体クロマトグラフ、７は液
体クロマトグラフ６で分離された試料液をイオン化室３
内へ導入するための導入管である。この導入管７として
はフユーズドシリ力管が用いられる。また、イオン化室
３内に挿入された導入管７の先端部には、拡大断面図を
第３図に示すようにステンレス管８が被せられ、さらに
、その外側にガラス管９が被せられている。そして、ほ
ぼ平坦な表面を有する多孔性部材１０が導入管７の開口
部を塞ぐように取り付けられている。この多孔性部材１
０としては、例えばステンレスの粉末を焼結して作成し
たフィルタ（フリット）が使用される。尚、多孔性部材
１０にはステンレス管８を介して図示しないリベラ電源
から適宜なりベラ電圧が印加されている。

この様な構成において、イオン化室３内の多孔性部材１
０に送られてきた試料液か、多孔性部材１０の内部を移
動し、多孔性部材１０の表面に滲み出る。そして、試料
液は、先に述べた一次粒子ビームＢの照射を受けてイオ
ン化される。生成されたイオンＩはステンレス管８を介
して多孔性部材に印加されたりベラ電圧によりイオン化
室３から押し出され、質量分析部１へ導入されて質量分
析される。

この様な装置では、多孔性部材に送られる試料液が順次
完全にイオン化されて多孔性部材表面に残らないような
送液速度で、試料液を多孔性部材に供給する必要がある
が、上記構成の装置では、この適正な送液量が僅かな量
のために現在の技術レベルでは正確な制御は非常に困難
である。そのため、適正な送液速度を越えて多量の試料
液が多孔性部材に送られてしまうことは避けられない。

そうすると、先に送られた試料成分が全てイオン化され
ずに一部残り、後に送られた試料成分と一緒にイオン化
される所謂メモリ現象が発生してしまい、分析に悪影響
か出てしまう。

そこで、この様な問題を解決するために、第４図に示す
イオン源が提案されている。

このイオン源においては、多孔性部材１０の表面におけ
る試料液の滲出領域を規定する開口１１を有する包囲体
（キャップ）１２をこの多孔性部材１０に密接して被せ
、この開口部に滲出した試料液を一次粒子ビーム照射に
よりイオン化するようにしている。１３は導入管７をキ
ャップ１２内に固定する位置決め部材である。

この様にすれば、多孔性部材に送られてきた試料液は、
開口部とそれ以外の部分に別れて滲出し、開口部以外の
面から滲出する試料液はキャップ内部に取り出される。

そのため多量の試料液を多孔性部材に送っても一次粒子
ビームが照射される開口部の領域に滲出する試料量を抑
えることができる。

［発明が解決しようとする課題］ ところが、この提案方式を採用しても、多孔性部材表面
の開口部の中央に滲出した試料液は表面を伝わって放射
状に周辺に広がり、キャップの開口周縁部分Ａに溜まる
。そして、この周縁部分に溜まった試料液に一次粒子ビ
ームが照射されるので、メモリ現象を完全に防止するこ
とができなかった。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、簡単な構
成によりキャップの開口周縁部分に試料液が溜まるのを
防止することのできるイオン源を提供することを目的と
するものである。

［課題を解決するための手段］ 前記目的を達成するため、本発明の質量分析装置用イオ
ン源は、真空雰囲気中に配置されるイオン化室と、真空
外から試料液をイオン化室へ供給する導入管と、ほぼ平
坦な表面を有し該表面がイオン化室内に向けて露出する
ように且つ導入管の先端開口部を封止する形で配置され
る多孔性部材と、多孔性部材を介してイオン化室内へ導
入され多孔性部材の表面に滲出した試料をイオン化する
ための一次粒子ビームを発生する手段と、前記多孔性部
材に被せられ、かつ前記多孔性部材表面における一次粒
子ビーム照射領域を規定する開口を有する包囲体と、前
記多孔性部材表面の前記−次粒子ビーム照射領域の周縁
部分に沿い且つ多孔性部材に間隔を持って対向するよう
に設けられるヒーターとを備えたことを特徴としている
。

［作用コ イオン化室内に取り付けられた多孔性部材表面における
一次粒子ビーム照射領域の周縁部分と路間−の形状を有
し且つ多孔性部材に間隔を持って対向するようにヒータ
ーを設け、このヒーターで包囲体の開口周縁部分に溜ま
った試料液を加熱し気化させることによって、包囲体の
開口周縁部分に試料液が溜まるのを防止できる。

［実施例コ 以下本発明の実施例を添附図面に基づいて詳述する。

第１図は本発明の一実施例装置の要部を拡大した概略図
である。第１図中、第４図に示した従来例と同一の構成
要素には、同一の番号を付しである。第１図の装置にお
いて、１４は多孔性部材１０表面の一次粒子ビーム照射
領域の周縁部分に沿うような形状を有し且つ多孔性部材
に間隔を持って対向するように設けられたヒーターでイ
オン源ブロックＳに絶縁体を介して支持されている。１
５はヒーター１４に電流を供給するための電源である。

そして、多孔性部材１０の裏面全体を、導入管７の先端
にステンレス管８を介して被せられたガラス管９の端面
で覆い、かつ、多孔性部材の周面も導入管７をキャップ
１２内に固定する位置決め部材１３で覆って、多孔性部
材１０のキャップ１２に当接していない開口１１部分の
みから試料液が滲出するようにしている。

この様な構成において、従来例で述べたと同様に、イオ
ン化室内の多孔性部材１０に送られてきた試料液が、多
孔性部材１０の内部を移動し、開口１１部分の多孔性部
材１０の表面に滲み出る。

多孔性部材表面の開口部の中央に滲出した試料液は表面
を伝わって放射状に周辺に広がっていき、その際、先に
述べた一次粒子ビームの照射を受けてイオン化される。

生成されたイオンはステンレス管８を介して多孔性部材
１０に印加されたりベラ電圧によりイオン化室から押し
出され、質量分析部へ導入されて質量分析される。そし
て、イオン化されずに開口周縁部分に到達した試料液は
、ヒーター１４によって加熱気化される。そして、この
気化した試料液は図示しない真空ポンプによってイオン
化室外へ排出される。

なお、本実施例装置においては、ヒーターはイオン源ブ
ロックに支持されるようにしたが、熱及び電気的絶縁体
を介してキャップの前面に取り付けるようにしても良い
。

この様にしたことで、試料液が周縁部分に溜らなくなっ
たため、周縁部分に溜まった試料液によるメモリ現象を
完全に防止することができた。

［効果］ 以上詳述したように本発明によれば、キャップの開口周
縁部分に試料液が溜まるのを防止できるイオン源を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例装置の要部を拡大した概略図、
第２図、第３図、第４図は従来例装置の構成を示す概略
図である。 １：質量分析部　　　　２：イオン源 ３：イオン化室　　　　４：電極群 ５ニ一次粒子ビーム発生器 ６：液体クロマトグラフ ７：導入管　　　　　　８ニステンレス管９ニガラス管
　　　　１０：多孔性部材１に開口　　　　　１２：キ
ャップ １３：位置決め部材　１４：ヒーター １５：電源 ＼

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空雰囲気中に配置されるイオン化室と、真空外から試
   料液をイオン化室へ供給する導入管と、ほぼ平坦な表面
   を有し該表面がイオン化室内に向けて露出するように且
   つ導入管の先端開口部を封止する形で配置される多孔性
   部材と、多孔性部材を介してイオン化室内へ導入され多
   孔性部材の表面に滲出した試料をイオン化するための一
   次粒子ビームを発生する手段と、前記多孔性部材に被せ
   られ、かつ前記多孔性部材表面における一次粒子ビーム
   照射領域を規定する開口を有する包囲体と、前記多孔性
   部材表面の前記一次粒子ビーム照射領域の周縁部分に沿
   い且つ多孔性部材に間隔を持って対向するように設けら
   れるヒーターとを備えたことを特徴とする質量分析装置
   用イオン源。