JPH04320849A - 記録ヘッド用基体および記録ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、記録ヘッド用基体の製
造方法および記録ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【背景技術の説明】近年、インクジェット記録装置は、
複写機，ファクシミリ，ワードプロセッサおよびホスト
コンピュータの出力用プリンタやビデオ出力プリンタな
どに使用され始めている。

【０００３】図１７は、インクジェット記録装置に用い
られるインクジェット記録ヘッドの構成を示す概略構成
図である。

【０００４】インクジェット記録ヘッド８００　は、シ
リコンなどからなる基板８０１　と、電気熱変換素子ア
レイを構成する複数の電気熱変換素子８０２　と、電気
熱変換素子８０２　と電気熱変換素子８０２　の駆動用
機能素子（不図示）とをそれぞれ接続する配線電極８０
３　と、電気熱変換素子８０２　を隔絶する複数のノズ
ル壁８０３　と、ノズル壁８０３　を介して基板８０１
　と互いに対向するよう設けられた天板８０４　とを有
し、前記駆動用機能素子で配線電極８０３　を介して電
気熱変換素子８０２　に通電し電気熱変換素子８０２　
上のインクを加熱することにより発生する発泡のエネル
ギーを利用して、インク液滴を吐出口８０８　から吐出
させるものである。なお、前記インクは供給管８０５お
よびコネクタ８０６　を介して不図示のインクタンクか
ら共通液室８０７　に供給され、毛管現象によりノズル
（基板８０１　とノズル壁８０３　と天板８０４　とで
囲まれた各空間）に供給される。

【０００５】しかし、このインクジェット記録ヘッド８
００　では、前記駆動用機能素子は基板８０１　の外部
に配置され、電気熱変換素子８０２　と前記駆動用機能
素子との接続は、配線電極８０３　と前記駆動用機能素
子とをフレキシブルケーブルやワイヤードボンディング
などによって接続することにより行われているため、イ
ンクジェット記録ヘッドの構造の簡易化，製造工程で生
ずる不良の低減化，各素子の特性の均一化および再現性
の向上について若干問題がある。そこで、本出願人は、
この問題を解決するため、電気熱変換素子と駆動用機能
素子とを同一基板上に設けたインクジェット記録ヘッド
を特開昭５７ー７２８６７号公報において提案した。

【０００６】図１８は、特開昭５７ー７２８６７号公報
において提案した構成によるインクジェット記録ヘッド
用基体の一部分の縦構造を示す模式図である。

【０００７】このインクジェット記録ヘッド用基体９０
０　は、電気熱変換素子である発熱部９２０　と駆動用
機能素子であるバイポーラトランジスタ９３０　とをＰ
型シリコン基板９０１　上に形成したものである。

【０００８】ここで、バイポーラトランジスタ９３０　
は、Ｎ型コレクタ埋込領域９０２　およびＮ型コレクタ
埋込領域９０２　を介してＰ型シリコン基板９０１　上
に形成された２つの高濃度Ｎ型コレクタ領域９１１　と
、Ｎ型コレクタ埋込領域９０２　およびＰ型ベース領域
９０５　を介して高濃度Ｎ型コレクタ領域９１１　の内
側に形成された２つの高濃度Ｐ型ベース領域９０８　と
、Ｎ型コレクタ埋込領域９０２　およびＰ型ベース領域
９０５　を介して高濃度Ｐ型ベース領域９０８　に挟ま
れて形成された高濃度Ｎ型エミッタ領域９１０とにより
ＮＰＮトランジスタの構造を有するが、高濃度Ｎ型コレ
クタ領域９１１　と高濃度Ｐ型ベース領域９０８　とが
コレクタ・ベース共通電極９１２　により接続されるこ
とによりダイオードとして動作する。また、バイポーラ
トランジスタ９３０　に隣接して、素子分離領域として
のＰ型アイソレーション埋込領域９０３　，Ｐ型アイソ
レーション領域９０６　および高濃度Ｐ型アイソレーシ
ョン領域９０９　が順次形成されている。また、発熱抵
抗層９２３　が、Ｎ型エピタキシャル領域９０４　，蓄
熱層９２１　および層間膜９２２　を介してＰ型シリコ
ン基板９０１　上に形成されており、発熱抵抗層９２３
　上に形成された配線電極９２４　が切断されることに
より、発熱部９２０　が構成されている。なお、インク
ジェット記録ヘッド用基体９００　の上面は第１の保護
膜９２５　で覆われており、また、バイポーラトランジ
スタ９３０　の高濃度Ｎ型エミッタ領域９１０　から発
熱部９２０　側の第１の保護膜９２５　は、第２の保護
膜９２６　で覆われている。このような構造を有するイ
ンクジェット記録ヘッド用基体９００　は、公知のフォ
トリソグラフィによる半導体製造プロセスで製造するこ
とができる。

【０００９】図１９（Ａ）〜（Ｅ）はそれぞれ、フォト
リソグラフィにより発熱部９２０　における配線電極の
材料層８２４　のエッチングを行うときの過程を示す模
式図である。発熱抵抗層９２３　上全面に配線電極の材
料層８２４　（たとえば、アルミニウム）を堆積し、配
線電極の材料層８２４　上全面にマスク用フォトレジス
ト１０００を塗布し、マスクを用いてマスク用フォトレ
ジスト１０００を露光したのち、マスク用フォトレジス
ト１０００を現像することにより、配線電極の材料層８
２４　をエッチングする部分のマスク用フォトレジスト
１０００を除去する（同図（Ａ））。その後、配線電極
用エッチング液で配線電極の材料層８２４　をエッチン
グすることにより、マスク用フォトレジスト１０００が
除去された部分の配線電極の材料層８２４　が徐々にエ
ッチングされて、配線電極の材料層８２４　が切断され
て、配線電極９２４　が形成される（同図（Ｂ）〜（Ｄ
））。配線電極９２４　が形成されたのち、残っている
マスク用フォトレジスト１０００が除去される（同図（
Ｅ））。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たインクジェット記録ヘッド用基体９００　は、発熱部
９２０において形成された配線電極９２４　のエッジ部
９２４１が、図１９（Ｅ）に示すようにほとんど垂直に
近い形状を有するため、以下に示すような問題が生じる
。

【００１１】（１）発熱部９２０　に熱エネルギーを発
生させるため、高濃度Ｎ型エミッタ領域９１０　から配
線電極９２４　に電流を流すと、発熱部９２０　におけ
る配線電極９２４　から発熱抵抗層９２３　への電流の
流れは、図２０に矢印で示すように、エッジ部９２４１
の下方に集中する。すなわち、一実験結果によると、エ
ッジ部９２４１の下方における電流密度は８．２×１０
７　Ａ／ｃｍ２　に達し、配線電極９２４　内の電流密
度１．７×１０６　Ａ／ｃｍ２　および発熱部９２０　
における発熱抵抗層９２３　の中央部における電流密度
１．０３×１０７　Ａ／ｃｍ２　に比較して異常に大き
な値となる。その結果、エッジ部９２４１の下方におけ
る電流密度の集中が発熱抵抗層９２３　の一部切断を招
きインクジェット記録ヘッドの寿命を決定することが判
明した。

【００１２】（２）発熱部９２０　におけるステップカ
バレージをよくするには、第１の保護膜９２５　の厚さ
をたとえば１．０μｍ程度とする必要があるため、第１
の保護膜９２５が発熱部９２０　で発生した熱エネルギ
ーがインクへ伝わる際の熱抵抗として介在し、発熱抵抗
層９２３　の駆動電力を大きくしなければならず、かつ
熱伝導遅延による周波数特性の劣化を招いており、イン
クジェット記録ヘッドの低消費電力化および高性能化を
妨げる一因となっていた。

【００１３】本発明の目的は、耐久性に優れかつ低消費
電力化および高性能化が図れる記録ヘッド用基体および
記録ヘッドの製造方法を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の記録ヘッド用基
体の製造方法は、フォトリソグラフィにより、複数の電
気熱変換素子と、該各電気熱変換素子をそれぞれ駆動す
る複数の駆動用機能素子と、該各駆動用機能素子と前記
各電気熱変換素子とをそれぞれ接続する複数の配線電極
とを基板に形成する記録ヘッド用基体の製造方法におい
て、テトラ・メチル・アンモニウム・ハイドロオキサイ
ドを主成分とする、液温が３０〜５５℃のアルカリ性溶
液を用いて、前記配線電極の材料層のマスク用フォトレ
ジストをエッチング後退させながら前記配線電極の材料
層をエッチングして前記配線電極を形成する。

【００１５】ここで、テトラ・メチル・アンモニウム・
ハイドロオキサイドを主成分とする、液温が３０〜５５
℃のアルカリ性溶液を用いて、マスク用フォトレジスト
の現像を行ってもよいし、配線電極の材料層がアルミニ
ウム層であってもよい。

【００１６】本発明の記録ヘッドの製造方法は、フォト
リソグラフィにより、複数の電気熱変換素子、該各電気
熱変換素子をそれぞれ駆動する複数の駆動用機能素子、
および該各駆動用機能素子と前記各電気熱変換素子とを
それぞれ接続する複数の配線電極を基板に形成して記録
ヘッド用基体を作成する基体作成工程と、インクを吐出
するための複数の吐出口を有するインク吐出部を前記記
録ヘッド用基体上に作成するインク吐出部作成工程とを
含む記録ヘッドの製造方法において、前記基体作成工程
が、テトラ・メチル・アンモニウム・ハイドロオキサイ
ドを主成分とする、液温が３０〜５５℃のアルカリ性溶
液を用いて、前記配線電極の材料層のマスク用フォトレ
ジストをエッチング後退させながら前記配線電極の材料
層をエッチングして前記配線電極を形成する配線電極エ
ッチング工程を含む。ここで、基体作成工程が、テトラ
・メチル・アンモニウム・ハイドロオキサイドを主成分
とする、液温が３０〜５５℃のアルカリ性溶液を用いて
、マスク用フォトレジストの現像を行う現像工程を含ん
でもよいし、配線電極の材料層がアルミニウム層であっ
てもよい。

【００１７】

【作用】本発明の記録ヘッド用基体の製造方法は、テト
ラ・メチル・アンモニウム・ハイドロオキサイドを主成
分とする、液温が３０〜５５℃のアルカリ性溶液を用い
て、配線電極の材料層のマスク用フォトレジストをエッ
チング後退させながら配線電極の材料層をエッチングす
ることにより、マスク用フォトレジストが後退する領域
における配線電極の材料層のエッチング量をほぼ直線的
に変化させることができるため、形成された配線電極の
エッジ部の形状を直線状のテーパーとすることができる
。

【００１８】また、本発明の記録ヘッドの製造方法は、
基体作成工程が、テトラ・メチル・アンモニウム・ハイ
ドロオキサイドを主成分とする、液温が３０〜５５℃の
アルカリ性溶液を用いて、配線電極の材料層のマスク用
フォトレジストをエッチング後退させながら配線電極の
材料層をエッチングして配線電極を形成する配線電極エ
ッチング工程を含むことにより、耐久性に優れた記録ヘ
ッドを製造することができる。

【００１９】

【実施例】以下、図面を参照しながら本発明について詳
細に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定され
ることはなく、本発明の目的が達成され得るものであれ
ばよい。

【００２０】図１（Ａ）〜（Ｅ）はそれぞれ、本発明の
記録ヘッド用基体の製造方法の第１の実施例を説明する
ための配線電極の材料層３４がエッチングされる過程を
示す模式図である。

【００２１】発熱抵抗層２３上全面にアルミニウムから
なる配線電極の材料層３４を堆積し、配線電極の材料層
３４上全面にマスク用フォトレジスト１００　（ポジ型
）を厚さ１．２μｍだけ塗布し、マスクを用いてマスク
用フォトレジスト１００　を露光したのち、マスク用フ
ォトレジスト１００　を現像することにより、配線電極
の材料層３４をエッチングする部分のマスク用フォトレ
ジスト１００　を除去する（同図（Ａ））。その後、配
線電極の材料層３４とマスク用フォトレジスト１００　
との密着性向上およびマスク用フォトレジスト１００　
中の溶媒などを除却するため、ベークを１２５℃で２２
５秒行ったのち、配線電極の材料層３４のエッチング動
作を開始する。ここで、アルミニウムからなる配線電極
の材料層３４のエッチングに用いる配線電極（アルミニ
ウム）用エッチング液としては、リン酸（Ｈ３ＰＯ４）
，硝酸（ＨＮＯ３）および酢酸（ＣＨ３ＣＯＯＨ）の混
合液が一般的に知られているが、この混合液ではマスク
用フォトレジスト１００　をエッチングすることができ
ない。そこで、アルミニウムは両性金属でありアルカリ
可溶であること、また、アルカリ可溶性フェノール樹脂
とナフトキノンジアジドとの混合物で代表されるポジ型
のマスク用フォトレジスト１００　も基本的には強いア
ルカリ水溶液に溶けることから、本実施例では、テトラ
・メチル・アンモニウム・ハイドロオキサイド（以下、
「ＴＭＡＨ」と称する。）を主成分とする、液温が３４
℃のアルカリ性溶液を使用して配線電極の材料層３４の
エッチングを行う。前記アルカリ性溶液を用いて配線電
極の材料層３４のエッチングを開始した時点では、配線
電極の材料層３４のみが主にエッチングされる（同図（
Ｂ））が、時間が経過するにつれてマスク用フォトレジ
スト１００　もエッチングされるため、マスク用フォト
レジスト１００がエッチング後退されながら配線電極の
材料層３４がエッチングされる（同図（Ｃ））。したが
って、マスク用フォトレジスト１００　が後退した領域
における配線電極の材料層３４のエッチング量はほぼ直
線的に変化するため、配線電極の材料層３４のエッチン
グ動作が終了して配線電極２４が形成されたときには、
同図（Ｄ）に示すように、配線電極２４のエッジ部２４
１　の形状は直線状のテーパーとなる。以上のようにし
て配線電極２４の形成が終了すると、残っているマスク
用フォトレジスト１００　を除去する（同図（Ｅ））。 なお、液温が３４℃でＴＭＡＨ濃度が２．３８％の前記
アルカリ性溶液を用いて１０分間配線電極の材料層３４
のエッチングを行った一実験結果では、マスク用フォト
レジスト１００のエッチング後退量（パターン寸法シフ
ト量）は約１．３μｍであり、図２（Ａ）に示す配線電
極２４のエッジ部２４１　のテーパーの角度（配線電極
２４の表面の法線に対する角度）θは約６０度であった
。

【００２２】また、図１に示すようにして配線電極の材
料層３４をエッチングすると、形成された配線電極２４
の両側面（紙面の手前および後方側の面）２４２　の形
状も、図２（Ｂ）に示すように、直線状のテーパーとな
る。

【００２３】図３は、図１に示した製造方法により製造
したインクジェット記録ヘッド用基体４０の一部分の縦
構造を示す模式図である。

【００２４】このインクジェット記録ヘッド用基体４０
が図１８に示したインクジェット記録ヘッド用基体９０
０　と異なる点は、配線電極２４のエッジ部２４１　お
よび両側面２４２　の形状が直線状のテーパーとなって
いることと、コレクタ・ベース共通電極１２，エミッタ
電極１３およびアイソレーション電極１４のエッジ部，
両側面の形状も、図４（Ａ），（Ｂ）にそれぞれ示すよ
うに、直線状のテーパーとなっていることである。

【００２５】したがって、このインクジェット記録ヘッ
ド用基体４０では、発熱部２０における電流の流れは、
図５に示すように、配線電極２４のエッジ部２４１　の
下方に集中することがない。たとえば、一実験結果によ
ると、配線電極２４のエッジ部２４１　の下方における
電流密度をエッジ部２４１　の形状がほぼ垂直なときの
８．２×１０７　Ａ／ｃｍ２　から２．６×１０７　Ａ
／ｃｍ２　にまで低減することができる。その結果、発
熱抵抗層２３の一部切断を防止することができるため、
たとえばインクジェット記録ヘッド用基体４０を用いて
インクジェット記録ヘッドを構成した一実験結果による
と、インクジェット記録ヘッドの耐久性を７×１０７　
パルスから１×１０９　パルスにまで大幅に延ばすこと
ができた。

【００２６】また、第１の保護膜２５（図３参照）にお
けるステップカバレージ性も極めて良好にすることがで
きるため、第１の保護膜２５の厚さをエッジ部２４１　
の形状がほぼ垂直なときよりも薄く（たとえば、１．０
μｍから０．６μｍ）することができた。その結果、発
熱部２０で発生した熱エネルギーを効率的にかつ高速に
インクに伝達することができるとともに、第１の保護膜
２５を形成する装置のスループットを約２倍にすること
ができた。

【００２７】次に、図３に示したインクジェット記録ヘ
ッド用基体４０の製造工程について説明する。

【００２８】図６に示すように、Ｐ型シリコン基板１（
不純物濃度１×１０１２〜１×１０１６ｃｍー３程度）
の表面に、８０００Å程度のシリコン酸化膜を形成した
のち、各セル（各バイポーラトランジスタ３０）のＮ型
コレクタ埋込領域２を形成する部分のシリコン酸化膜を
フォトリソグラフィーにより除去した。シリコン酸化膜
を形成したのち、Ｎ型不純物（たとえば、Ｐ，Ａｓなど
）をイオン注入し、熱拡散により不純物濃度１×１０１
８ｃｍー３以上のＮ型コレクタ埋込領域２を厚さ２〜６
μｍほど形成し、シート抵抗が３０Ω／□以下の低抵抗
となるようにした。続いて、Ｐ型アイソレーション埋込
領域３を形成する領域のシリコン酸化膜を除去し、１０
００Å程度のシリコン酸化膜を形成したのち、Ｐ型不純
物（たとえば、Ｂなど）をイオン注入し、熱拡散により
不純物濃度１×１０１５〜１×１０１７ｃｍー３以上の
Ｐ型アイソレーション埋込領域３を形成した。

【００２９】図７に示すように、全面のシリコン酸化膜
を除去したのち、Ｎ型エピタキシャル領域４（不純物濃
度１×１０１３〜１×１０１５ｃｍー３程度）を厚さ５
〜２０μｍほどエピタキシャル成長させた。

【００３０】図８に示すように、Ｎ型エピタキシャル領
域４の表面に１０００Å程度のシリコン酸化膜を形成し
、レジストを塗布し、パターニングを行い、低濃度のＰ
型ベース領域５を形成する部分にのみＰ型不純物をイオ
ン注入した。レジスト除去後、熱拡散によって低濃度の
Ｐ型ベース領域５（不純物濃度５×１０１４〜５×１０
１７ｃｍー３程度）を厚さ５〜１０μｍほど形成した。 その後、再びシリコン酸化膜を全面除去し、８０００Å
程度のシリコン酸化膜を形成したのち、Ｐ型アイソレー
ション領域６を形成する部分のシリコン酸化膜を除去し
、ＢＳＧ膜を全面にＣＶＤ法を用いて堆積し、さらに、
熱拡散によって、Ｐ型アイソレーション埋込領域３に届
くように、Ｐ型アイソレーション領域６（不純物濃度１
×１０１８〜１×１０２０ｃｍー３程度）を厚さ１０μ
ｍほど形成した。このとき、ＢＢｒ３　を拡散源として
用いてＰ型アイソレーション領域６を形成することも可
能である。

【００３１】図９に示すように、ＢＳＧ膜を除去し、８
０００Å程度のシリコン酸化膜を形成し、さらに、Ｎ型
コレクタ領域７を形成する部分のみシリコン酸化膜を除
去したのち、Ｎ型の固相拡散およびリンイオンを注入し
あるいは熱拡散によって、Ｎ型コレクタ埋込領域２に届
きかつシート抵抗が１０Ω／□以下の低抵抗となるよう
にＮ型コレクタ領域７（不純物濃度１×１０１８〜１×
１０２０ｃｍー３程度）を厚さ１０μｍほど形成した。 続いて、１２５００Å程度のシリコン酸化膜を形成し、
蓄熱層２１（図１０参照）を形成したのち、セル領域の
シリコン酸化膜を選択的に除去し、２０００Å程度のシ
リコン酸化膜を形成した。レジストパターニングを行い
、高濃度ベース領域８および高濃度アイソレーション領
域９を形成する部分にのみＰ型不純物の注入を行った。 レジストを除去したのち、高濃度Ｎ型エミッタ領域１０
および高濃度Ｎ型コレク領域１１を形成する部分のシリ
コン酸化膜を除去し、熱酸化膜を全面に形成し、Ｎ型不
純物を注入して、熱拡散によって高濃度Ｎ型エミッタ領
域１０および高濃度Ｎ型コレク領域１１を同時に形成し
た。 なお、高濃度Ｎ型エミッタ領域１０および高濃度Ｎ型コ
レク領域１１の厚さは１．０μｍ以下、不純物濃度は１
×１０１８〜１×１０２０ｃｍー３程度とした。

【００３２】次に、図１０に示すように、一部電極の接
続箇所のシリコン酸化膜を除去したのち、Ａｌ（アルミ
ニウム）を全面堆積して、コレクタ・ベース共通電極１
２，エミッタ電極１３およびアイソレーション電極１４
の領域以外のＡｌを除去した。このとき、コレクタ・ベ
ース共通電極１２，エミッタ電極１３およびアイソレー
ション電極１４のエッジ部，両側面の形状が垂直ではな
く、法線に対して３０度〜７５度の角度になるように、
図１に示したようにレジストをエッチング後退させなが
らＡｌをエッチングした。

【００３３】続いて、図１１に示すように、スパッタリ
ング法により蓄熱層としての機能も有する層間膜２２と
なるＳｉＯ２　膜を全面に０．６〜１．０μｍほど形成
した。ＳｉＯ２　膜はＣＶＤ法によるものであってもよ
い。 また、ＳｉＯ２　膜に限らずＳｉＯ膜またはＳｉＯＮ膜
であってもよい。その後、電気的接続をとるために、エ
ミッタ電極１３およびコレクタ・ベース共通電極１２の
上部にあたる層間膜２２の一部をフォトリソグラフィに
より開口し、スルーホールＴＨを形成した。

【００３４】次に、図１２に示すように、エミッタ電極
１３およびコレクタ・ベース共通電極１２上と層間膜２
２（ＳｉＯ２　膜）上とに、発熱抵抗層２３としてをス
ルーホールＴＨを通してＨｆＢ２　を１０００Åほど堆
積した。発熱抵抗層２３上に、電気熱変換素子の一対の
配線電極２４（ダイオードのカソード配線電極に相当）
およびダイオードのアノード配線電極１５を形成するた
めの配線電極の材料層であるＡｌ層を約５０００Åほど
堆積したのち、配線電極２４のエッジ部２４１　および
両側面の形状が垂直ではなく、法線に対して３０度〜７
５度の角度になるように、図１に示したようにマスク用
フォトレジストをエッチング後退させながらＡｌをエッ
チングした。

【００３５】その後、図１３に示すように、スパッタリ
ング法またはＣＶＤ法により、電気熱変換素子の保護層
およびＡｌ層間の絶縁層としての第１の保護膜２５（Ｓ
ｉＯ２　膜）を約６０００Åほど堆積したのち、耐キャ
ビテーションのための第２の保護膜２６としてＴａを電
気熱変換体の発熱部２０上部に約２０００Åほど堆積し
た。このようにして作成された電気熱変換素子，Ｔａお
よびＳｉＯ２　膜を部分的に除去し、ボンディング用の
パッドＰを形成した。なお、第１の保護膜２５はＳｉＯ
２　以外にＳｉＯＮまたはＳｉＮでもよい。

【００３６】次に、図３に示したインクジェット記録ヘ
ッド用基体４０の駆動用機能素子であるバイポーラトラ
ンジスタ３０の基本動作について、図１４を用いて説明
する。

【００３７】バイポーラトランジスタ３０では、コレク
タ・ベース共通電極１２がダイオードのアノード電極に
対応し、エミッタ電極１３がダイオードのカソード電極
に対応している。すなわち、コレクタ・ベース共通電極
１２に正電位のバイアスＶＨ１を印加することにより、
セル内のＮＰＮトランジスタがターンオンし、バイアス
電流がコレクタ電流およびベース電流としてエミッタ電
極１３から流出する。また、ベースとコレクタとを短絡
した構成にした結果、電気熱変換素子の熱の立上がりお
よび立下がり特性が良好となり膜沸騰現象の生起、それ
に伴う気泡の成長収縮の制御性がよくなり安定したイン
クの吐出を行うことができる。これは、熱エネルギーを
利用するインクジェット記録ヘッドではトランジスタの
特性と膜沸騰の特性との結び付きが深く、トランジスタ
における少数キャリアの蓄積が少ないためスイッチング
特性が速く立上がり特性がよくなることが予想以上に大
きく影響しているものと考えられる。また、比較的寄生
効果が少なく、素子間のバラツキがなく、安定した駆動
電流が得られるものでもある。さらに、アイソレーショ
ン電極１４を接地することにより、隣接する他のセルへ
の電荷の流入を防ぐことができ、他の素子の誤動作とい
う問題を防ぐことができる。

【００３８】このような半導体装置においては、Ｎ型コ
レクタ埋込領域２の濃度を１×１０１８ｃｍー３以上と
すること、ベース領域５の濃度を５×１０１４〜５×１
０１７ｃｍー３とすること、さらには、高濃度ベース領
域８と電極との接合面の面積をなるべく小さくすること
が望ましい。このようにすれば、ＮＰＮトランジスタか
らＰ型シリコン基板１およびアイソレーション領域を経
てグランドにおちる漏れ電流の発生を防止することがで
きる。

【００３９】図１４には、２つのダイオードセルＳＨ１
，ＳＨ２が示されているだけであるが、実際には、この
ような駆動用機能素子がたとえば１２８個の電気熱変換
素子に対応して同数等間隔に配置され、ブロック駆動が
可能なように電気的にマトリックス接続されている。 ここでは、説明の簡単のため、同一グループに２つのセ
グメントとしての電気熱変換素子ＲＨ１，ＲＨ２の駆動
について説明する。

【００４０】電気熱変換素子ＲＨ１を駆動するためには
、まずスイッチング信号Ｇ１によりグループの選択がな
されるとともに、スイッチング信号Ｓ１により電気熱変
換素子ＲＨ１が選択される。すると、トランジスタ構成
のダイオードセルＳＨ１は正バイアスされ、電流が供給
されて電気熱変換素子ＲＨ１は発熱する。この熱エネル
ギーが液体（インク）に状態変化を生起させて気泡を発
生させ、吐出口より液体を吐出させる。同様に、電気熱
変換素子ＲＨ２を駆動する場合にも、スイッチング信号
Ｇ１およびスイッチング信号Ｓ２により電気熱変換素子
ＲＨ２を選択して、ダイオードセルＳＨ２を駆動して電
気熱変換素子ＲＨ２に電流を供給する。このとき、Ｐ型
シリコン基板１はアイソレーション領域を介して接地さ
れている。このように各半導体素子（セル）のアイソレ
ーション領域が接地されることにより各半導体素子間の
電気的な干渉による誤動作を防止している。

【００４１】次に、本発明の記録ヘッドの製造方法の一
実施例について説明する。

【００４２】図３に示したインクジェット記録ヘッド用
基体４０を有する、図１７に示したような構造をもつイ
ンクジェット記録ヘッドを製造するためには、配線電極
の材料層３４のマスク用フォトレジスト１００をエッチ
ング後退させながら配線電極の材料層３４をエッチング
して配線電極２４を形成する図１に示した配線電極エッ
チング工程を有する、図６から図１３に示した基体作成
工程に続いて、インクを吐出するための複数の吐出口を
有するインク吐出部をインクジェット記録ヘッド用基体
４０上に作成するインク吐出部作成工程（図１５に示す
ように、インクジェット記録ヘッド用基体４０上に、吐
出口２０８　を形成するための複数のノズル壁（図１７
参照）および天板２０４　を設ける工程）や、天板２０
４　にコネクタ（図１７参照）を設ける工程などを追加
すればよい。

【００４３】このようにして製造したインクジェット記
録ヘッドについて、電気熱変換素子をブロック駆動し、
記録，動作試験を行った。動作試験では、一つのセグメ
ントに８個の半導体ダイオードを接続し、各半導体ダイ
オードに３００ｍＡ（計２．４Ａ）の電流を流したが、
他の半導体ダイオードは誤動作せず、良好な吐出を行う
ことができた。また、上記インクジェット記録ヘッドは
熱伝達効率がよいため、駆動電力が従来の８０％ですみ
、かつ高周波応答性に優れたものであった。さらに、寿
命，均一性に関しても優れた特性が得られた。

【００４４】表１に、配線電極２４のエッジ部２４１　
の直線状のテーパーの角度θを変えてインクジェット記
録ヘッドの耐久試験を行ったときの評価結果の一例を示
す。

【００４５】

【表１】 この評価結果から、配線電極２４のエッジ部２４１　の
直線状のテーパーの角度θを３０度から７５度の間にす
ることにより、インクジェット記録ヘッドの耐久性が向
上することがわかった。

【００４６】また、表２に、ＴＭＡＨを主成分とするア
ルカリ性溶液の液温と、配線電極２４のエッジ部２４１
　のテーパーの角度θとの関係を調べた一実験結果を示
す。

【００４７】

【表２】 表２に示した実験結果より、ＴＭＡＨを主成分とするア
ルカリ性溶液の液温を変えることにより、配線電極２４
のエッジ部２４１　のテーパーの角度θを所望の角度に
設定することができるとともに、ＴＭＡＨを主成分とす
るアルカリ性溶液の液温を３０〜５５℃とすることによ
り、配線電極２４のエッジ部２４１　のテーパーの角度
θを３０度から７５度の間にすることができることがわ
かった。

【００４８】次に、本発明の記録ヘッド用基体の製造方
法の第２の実施例について説明する。

【００４９】本実施例の記録ヘッド用基体の製造方法は
、ＴＭＡＨを主成分とするアルカリ性溶液がポジ型のレ
ジストの現像液としても使用できることに着目し、マス
ク用フォトレジスト１００　を現像して、配線電極の材
料層３４をエッチングする部分のマスク用フォトレジス
ト１００　を図１（Ａ）に示すように除去する際に、Ｔ
ＭＡＨを主成分とする、液温が３０〜５５℃のアルカリ
性溶液を現像液として使用する点が、図１に示したもの
と異なる。したがって、本実施例では、マスク用フォト
レジスト１００　の現像工程と配線電極エッチング工程
とを連続して行うことができるため、基体作成工程の短
縮化が進みスループットが向上が図れる。

【００５０】なお、ＴＭＡＨを主成分とする、液温が４
０℃のアルカリ性溶液を使用して、マスク用フォトレジ
スト１００　を現像したのち、連続してマスク用フォト
レジスト１００　をエッチング後退させながら配線電極
の材料層３４をエッチングした一実験結果では、配線電
極２４のエッジ部２４１　の直線状のテーパーの角度θ
を約７５度にすることができた。

【００５１】次に、本発明の記録ヘッド用基体の製造方
法の第３の実施例について説明する。

【００５２】図１に示した実施例では、配線電極２４の
両側面２４２（図２（Ｂ）参照）の形状も直線状のテー
パーとしたが、発熱部２０における電流密度の低減のみ
を達成するためには、配線電極２４の両側面２４２　の
形状は、図１６（Ｂ），（Ｃ）にそれぞれ示すようにほ
ぼ垂直のままであってもよい。

【００５３】この場合には、配線電極２４を形成するた
めの配線電極の材料層３４のエッチングと、配線電極２
４のエッジ部２４１　の形状を直線状のテーパーとする
ための配線電極２４のエッジ部２４１　のエッチングと
を分けて行えばよい。すなわち、まず、配線電極の材料
層３４全面上にレジストを塗布し、従来のウエットエッ
チング法またはＣｌ系のガスによるＲＩＥなどによるド
ライエッチング法を用いて配線電極の材料層３４をエッ
チングすることにより、配線電極２４を形成する。この
とき、配線電極２４の両側面の形状は従来と同様にほぼ
垂直となる。その後、図１６（Ａ）に示すように、マス
ク用フォトレジスト５０で発熱部２０以外を覆ったのち
、図１に示した方法により配線電極２４をエッチングし
て、同図（Ｂ），（Ｃ）に示すように、配線電極２４の
エッジ部２４１　の形状のみを直線状のテーパーとする
ことができる。

【００５４】以上の説明においては、インクジェット記
録ヘッド用基体およびインクジェット記録ヘッドについ
て説明したが、本発明により製造される記録ヘッド用基
体および記録ヘッドは、たとえば、サーマルヘッド用基
体およびサーマルヘッドにも応用できるものである。ま
た、図３に示した発熱抵抗層２３を構成する材料として
は、Ｔａ，ＺｒＢ２，Ｔｉ−Ｗ，Ｎｉ　−Ｃｒ，Ｔａ−
Ａｌ，Ｔａ−Ｓｉ，Ｔａ−Ｍｏ，Ｔａ−Ｗ，Ｔａ−Ｃｕ
，Ｔａ−Ｎｉ，Ｔａ−Ｎｉ−Ａｌ，Ｔａ−Ｍｏ−Ａｌ，
Ｔａ−Ｍｏ−Ｎｉ，Ｔａ−Ｗ−Ｎｉ，Ｔａ−Ｓｉ−Ａｌ
，Ｔａ−Ｗ−Ａｌ−Ｎｉなどがある。

【００５５】図２１は、本発明の記録ヘッドの製造方法
により製造したインクジェット記録ヘッド（以下、「記
録ヘッド」と称する。）５１０　が搭載されたインクジ
ェット記録装置７００　の一構成例を示す概略構成図で
ある。

【００５６】記録ヘッド５１０　は、駆動モータ７０１
　の正逆回転に連動して駆動力伝達ギア７０２，７０３
　を介して回転するリードスクリュー７０４　の螺旋溝
７２１　に対して係合するキャリッジ７２０　上に搭載
されており、駆動モータ７０１　の動力によってキャリ
ッジ７２０　とともにガイド７１９　に沿って矢印ａ，
ｂ方向に往復移動される。図示しない記録媒体給送装置
によってプラテン７０６　上に搬送される記録用紙Ｐ用
の紙押え板７０５　は、キャリッジ移動方向にわたって
記録用紙Ｐをプラテン７０６　に対して押圧する。

【００５７】フォトカプラ７０７，７０８は、キャリッ
ジ７２０　のレバー７０９　のこの域での存在を確認し
て駆動モータ７０１　の回転方向切換などを行うための
ホームポジション検知手段である。支持部材７１０　は
、前述の記録ヘッド５１０　の全面をキャップするキャ
ップ部材７１１　を支持する。また、吸引手段７１２　
は、キャップ部材７１１内を吸引し、キャップ内開口７
１３　を介して記録ヘッド５１０　の吸引回復を行う。 移動部材７１５　はクリーニングブレード７１４　を前
後方向に移動可能にするものである。移動部材７１５　
およびクリーニングブレード７１４　は本体支持板７１
６　により支持されている。クリーニングブレード７１
４　は、この形態でなく周知のクリーニングブレードが
本例に適用できることはいうまでもない。また、吸引回
復の吸引を開始するためのレバー７１７　は、キャリッ
ジ７２０　と係合するカム７１８　の移動に伴って移動
し、駆動モータ７０１　からの駆動力がクラッチ切換な
どの公知の伝達手段で移動制御される。記録ヘッド５１
０　に設けられた発熱部に信号を付与したり、前述した
各機構の駆動制御を司ったりする印字制御部は、装置本
体側に設けられている（不図示）。

【００５８】上述のような構成のインクジェット記録装
置７００　は、前記記録媒体給送装置によってプラテン
７０６　上に搬送される記録用紙Ｐに対し、記録ヘッド
５１０　が記録用紙Ｐの全幅にわたって往復移動しなが
ら記録を行うものであり、記録ヘッド５１０は、前述し
たような方法で製造したものを用いているため、高精度
で高速な記録が可能である。

【００５９】本発明は、特にインクジェット記録方式の
中でもキヤノン（株）の提唱する、熱エネルギーを利用
してインクを吐出する方式のインクジェット記録ヘッド
（以下、「記録ヘッド」と称する。）およびインクジェ
ット記録装置（以下、「記録装置」と称する。）におい
て、優れた効果をもたらすものである。

【００６０】その代表的な構成や原理については、例え
ば、米国特許第４，７２３，１２９号明細書、同第４，
７４０，７９６号明細書に開示されている基本的な原理
を用いて行なうものが好ましい。この方式はいわゆるオ
ンデマンド型、コンティニュアス型のいずれにも適用可
能であるが、特に、オンデマンド型の場合には、液体（
インク）が保持されているシートや液路に対応して配置
されている電気熱変換体に、記録情報に対応していて核
沸騰を越える急速な温度上昇を与える少なくとも一つの
駆動信号を印加することによって、電気熱変換体に熱エ
ネルギーを発生せしめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰
させて、結果的にこの駆動信号に一対一対応し液体（イ
ンク）内の気泡を形成出来るので有効である。この気泡
の成長、収縮により吐出用開口を介して液体（インク）
を吐出させて、少なくとも一つの滴を形成する。この駆
動信号をパルス形状とすると、即時適切に気泡の成長収
縮が行なわれるので、特に応答性に優れた液体（インク
）の吐出が達成でき、より好ましい。このパルス形状の
駆動信号としては、米国特許第４，４６３，３５９号明
細書、同第４，３４５，２６２号明細書に記載されてい
るようなものが適している。なお、上記熱作用面の温度
上昇率に関する発明の米国特許第４，３１３，１２４号
明細書に記載されている条件を採用すると、さらに優れ
た記録を行なうことができる。

【００６１】記録ヘッドの構成としては、上述の各明細
書に開示されているような吐出口、液路、電気熱変換体
の組み合わせ構成（直線状液流路または直角液流路）の
他に熱作用部が屈曲する領域に配置されている構成を開
示する米国特許第４，５５８，３３３号明細書、米国特
許第４，４５９，６００号明細書を用いた構成も本発明
に含まれるものである。加えて、複数の電気熱変換体に
対して、共通するスリットを電気熱変換体の吐出部とす
る構成を開示する特開昭５９年第１２３６７０号公報や
熱エネルギーの圧力波を吸収する開口を吐出部に対応さ
せる構成を開示する特開昭５９年第１３８４６１号公報
に基づいた構成としても本発明は有効である。

【００６２】さらに、記録装置が記録できる最大記録媒
体の幅に対応した長さを有するフルラインタイプの記録
ヘッドとしては、上述した明細書に開示されているよう
な複数記録ヘッドの組み合わせによって、その長さを満
たす構成や一体的に形成された一個の記録ヘッドとして
の構成のいずれでもよいが、本発明は、上述した効果を
一層有効に発揮することができる。

【００６３】加えて、装置本体に装着されることで、装
置本体との電気的な接続や装置本体からのインクの供給
が可能になる交換自在のチップタイプの記録ヘッド、あ
るいは記録ヘッド自体に一体的に設けられたカートリッ
ジタイプの記録ヘッドを用いた場合にも本発明は有効で
ある。

【００６４】また、本発明の記録装置の構成として設け
られる、記録ヘッドに対しての回復手段、予備的な補助
手段などを付加することは本発明の効果を一層安定化で
きるので好ましいものである。これらを具体的に挙げれ
ば、記録ヘッドに対しての、キャッピング手段、クリー
ニング手段、加圧あるいは吸引手段、電気熱変換体ある
いはこれとは別の加熱素子あるいはこれらの組み合わせ
による予備加熱手段、記録とは別の吐出を行なう予備吐
出モードを行なうことも安定した記録を行なうために有
効である。

【００６５】さらに、記録装置の記録モードとしては黒
色等の主流色のみの記録モードだけではなく、記録ヘッ
ドを一体的に構成するか複数個の組み合わせによってで
もよいが、異なる色の複色カラーまたは、混色によるフ
ルカラーの少なくとも一つを備えた装置にも本発明は極
めて有効である。

【００６６】以上説明した本発明実施例においては、イ
ンクを液体として説明しているが、室温やそれ以下で固
化するインクであって、室温で軟化もしくは液体あるい
は、上述のインクジェットではインク自体を３０℃以上
７０℃以下の範囲内で温度調整を行なってインクの粘性
を安定吐出範囲にあるように温度制御するものが一般的
であるから、使用記録信号付与時にインクが液状をなす
ものであればよい。加えて、積極的に熱エネルギーによ
る昇温をインクの固形状態から液体状態への態変化のエ
ネルギーとして使用せしめることで防止するかまたは、
インクの蒸発防止を目的として放置状態で固化するイン
クを用いるかして、いずれにしても熱エネルギーの記録
信号に応じた付与によってインクが液化してインク液状
として吐出するものや記録媒体に到達する時点ではすで
に固化し始めるものなどのような、熱エネルギーによっ
て初めて液化する性質のインク使用も本発明には適用可
能である。このような場合インクは、特開昭５４−５６
８４７号公報あるいは特開昭６０−７１２６０号公報に
記載されるような、多孔質シート凹部または貫通孔に液
状または固形物として保持された状態で、電気熱変換体
に対して対向するような形態としてもよい。本発明にお
いては、上述した各インクに対して最も有効なものは、
上述した膜沸騰方式を実行するものである。

【００６７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は次に示す
効果がある。

【００６８】請求項１乃至請求項３に記載の発明は、配
線電極の材料層のマスク用フォトレジストをエッチング
後退させながら配線電極の材料層をエッチングして配線
電極を形成することにより、配線電極のエッジ部の形状
を直線状のテーパーにすることができるため、発熱部に
おける電流密度の集中を防止することができるとともに
、発熱部におけるステップカバレージを向上させること
ができる。

【００６９】請求項４乃至請求項６に記載の発明は、基
体作成工程が、配線電極の材料層のマスク用フォトレジ
ストをエッチング後退させながら配線電極の材料層をエ
ッチングして配線電極を形成する配線電極エッチング工
程を含むことにより、耐久性に優れかつ低消費電力化お
よび高性能化が図れる記録ヘッドを製造することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の記録ヘッド用基体の製造方法の第１の
実施例を説明するための配線電極の材料層がエッチング
される過程を示す模式図であり、（Ａ）は配線電極の材
料層をエッチングする前の状態を示す図、（Ｂ）〜（Ｄ
）は配線電極の材料層をエッチングする途中の状態を示
す図、（Ｅ）は配線電極の材料層のエッチングが終わっ
たときの状態を示す図である。

【図２】形成された配線電極の形状を示す図であり、（
Ａ）は（Ｂ）のＡーＡ線に沿う断面図、（Ｂ）は平面図
である。

【図３】図１に示した製造方法により製造したインクジ
ェット記録ヘッド用基体の一部分の縦構造を示す模式図
である。

【図４】図３に示したコレクタ・ベース共通電極，エミ
ッタ電極およびアイソレーション電極のエッジ部，両側
面の形状を示す図であり、（Ａ）は（Ｂ）のＡーＡ線に
沿う断面図、（Ｂ）は平面図である。

【図５】図３に示した発熱部における電流の流れを示す
図である。

【図６】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基体
の製造工程を示す図である。

【図７】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基体
の製造工程を示す図である。

【図８】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基体
の製造工程を示す図である。

【図９】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基体
の製造工程を示す図である。

【図１０】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基
体の製造工程を示す図である。

【図１１】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基
体の製造工程を示す図である。

【図１２】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基
体の製造工程を示す図である。

【図１３】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基
体の製造工程を示す図である。

【図１４】図３に示したインクジェット記録ヘッド用基
体の駆動用機能素子であるバイポーラトランジスタの基
本動作を説明するための図である。

【図１５】本発明による記録ヘッドの製造方法を説明す
る為の模式的断面図である。

【図１６】本発明の記録ヘッド用基体の製造方法の第３
の実施例を示す図であり、（Ａ）は配線電極の材料層を
エッチングする前の状態を示す図、（Ｂ）は配線電極の
材料層をエッチングしたあとの状態を示す（Ｃ）のＡー
Ａ線に沿う断面図、（Ｃ）は配線電極の材料層をエッチ
ングしたあとの状態を示す平面図である。

【図１７】インクジェット記録装置に用いられるインク
ジェット記録ヘッドの構成を示す概略構成図である。

【図１８】特開昭５７ー７２８６７号公報において提案
した構成によるインクジェット記録ヘッド用基体の一部
分の縦構造を示す模式図である。

【図１９】フォトリソグラフィにより発熱部における配
線電極の材料層のエッチングを行うときの過程を示す模
式図であり、（Ａ）は配線電極の材料層をエッチングす
る前の状態を示す図、（Ｂ）〜（Ｄ）は配線電極の材料
層をエッチングする途中の状態を示す図、（Ｅ）は配線
電極の材料層のエッチングが終わったときの状態を示す
図である。

【図２０】図１８に示したインクジェット記録ヘッド用
基体の問題点を説明するための図である。

【図２１】本発明の記録ヘッドの製造方法により製造し
たインクジェット記録ヘッドが搭載されたインクジェッ
ト記録装置の一構成例を示す概略構成図である。

【符号の説明】

１　　　　　　Ｐ型シリコン基板 ２　　　　　　Ｎ型コレクタ埋込領域 ３　　　　　　Ｐ型アイソレーション埋込領域４　　　
　　　Ｎ型エピタキシャル領域５　　　　　　Ｐ型ベー
ス領域 ６　　　　　　Ｐ型アイソレーション領域７　　　　　
　Ｎ型コレクタ領域 ８　　　　　　高濃度Ｐ型ベース領域 ９　　　　　　高濃度Ｐ型アイソレーション領域１０　
　　　高濃度Ｎ型エミッタ領域 １１　　　　高濃度Ｎ型コレクタ領域 １２　　　　コレクタ・ベース共通電極１３　　　　エ
ミッタ電極 １４　　　　アイソレーション電極 １５　　　　アノード配線電極 ２０　　　　発熱部 ２１　　　　蓄熱層 ２２　　　　層間膜 ２３　　　　発熱抵抗層 ２４　　　　配線電極 ２４１　　　エッジ部 ２４２　　　側面 ２５　　　　第１の保護膜 ２６　　　　第２の保護膜 ３０　　　　バイポーラトランジスタ ３４　　　　配線電極の材料層 ４０　　　　インクジェット記録ヘッド用基体５０，１
００　　　　マスク用フォトレジスト２０４　　　　天
板 ２０８　　　　吐出口 ＴＨ　　　　スルーホール Ｐ　　　　　　パッド ＲＨ１，ＲＨ２　　　　電気熱変換素子ＳＨ１，ＳＨ２
　　　　ダイオードセルＳ１，Ｓ２　　　　　　　　ス
イッチ信号Ｇ１　　　　スイッチング信号 ＶＨ１　　　　バイアス

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　フォトリソグラフィにより、複数の電
   気熱変換素子と、該各電気熱変換素子をそれぞれ駆動す
   る複数の駆動用機能素子と、該各駆動用機能素子と前記
   各電気熱変換素子とをそれぞれ接続する複数の配線電極
   とを基板に形成する記録ヘッド用基体の製造方法におい
   て、テトラ・メチル・アンモニウム・ハイドロオキサイ
   ドを主成分とする、液温が３０〜５５℃のアルカリ性溶
   液を用いて、前記配線電極の材料層のマスク用フォトレ
   ジストをエッチング後退させながら前記配線電極の材料
   層をエッチングして前記配線電極を形成することを特徴
   とする記録ヘッド用基体の製造方法。
2. 【請求項２】　　テトラ・メチル・アンモニウム・ハイ
   ドロオキサイドを主成分とする、液温が３０〜５５℃の
   アルカリ性溶液を用いて、マスク用フォトレジストの現
   像も行う請求項１記載の記録ヘッド用基体の製造方法。
3. 【請求項３】　　配線電極の材料層がアルミニウム層で
   ある請求項１または請求項２記載の記録ヘッド用基体の
   製造方法。
4. 【請求項４】　　フォトリソグラフィにより、複数の電
   気熱変換素子、該各電気熱変換素子をそれぞれ駆動する
   複数の駆動用機能素子、および該各駆動用機能素子と前
   記各電気熱変換素子とをそれぞれ接続する複数の配線電
   極を基板に形成して記録ヘッド用基体を作成する基体作
   成工程と、インクを吐出するための複数の吐出口を有す
   るインク吐出部を前記記録ヘッド用基体上に作成するイ
   ンク吐出部作成工程とを含む記録ヘッドの製造方法にお
   いて、前記基体作成工程が、テトラ・メチル・アンモニ
   ウム・ハイドロオキサイドを主成分とする、液温が３０
   〜５５℃のアルカリ性溶液を用いて、前記配線電極の材
   料層のマスク用フォトレジストをエッチング後退させな
   がら前記配線電極の材料層をエッチングして前記配線電
   極を形成する配線電極エッチング工程を含むことを特徴
   とする記録ヘッドの製造方法。
5. 【請求項５】　　基体作成工程が、テトラ・メチル・ア
   ンモニウム・ハイドロオキサイドを主成分とする、液温
   が３０〜５５℃のアルカリ性溶液を用いて、マスク用フ
   ォトレジストの現像を行う現像工程を含む請求項４記載
   の記録ヘッドの製造方法。
6. 【請求項６】　　配線電極の材料層がアルミニウム層で
   ある請求項４または請求項５記載の記録ヘッドの製造方
   法。