JPH0431339A - ガラス―セラミック複合体 - Google Patents

ガラス―セラミック複合体

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JPH0431339A
JPH0431339A JP13362390A JP13362390A JPH0431339A JP H0431339 A JPH0431339 A JP H0431339A JP 13362390 A JP13362390 A JP 13362390A JP 13362390 A JP13362390 A JP 13362390A JP H0431339 A JPH0431339 A JP H0431339A
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JP
Japan
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aluminum nitride
glass
composite material
powder
composite
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Pending
Application number
JP13362390A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Gomyo
利雄 五明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Industries Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Industries Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shinko Electric Industries Co Ltd filed Critical Shinko Electric Industries Co Ltd
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Publication of JPH0431339A publication Critical patent/JPH0431339A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はガラス−セラミック複合体に関し、更に詳細に
は硼珪酸ガラスの粉末と窒化アルミニウムの粉末とを焼
成して得られるガラス−セラミック複合体に関する。
(従来の技術〉 LSI等の半導体装置には、耐熱性、熱伝導性等の観点
からセラミック多層回路基板(以下、基板と称すること
がある)が用いられつつある。
かかる基板を製造する際には、アルミナ粉末等のセラミ
ック材料をバインダー等と混練してから板状に成形し、
次いで前記板状の成形体上に回路を導電性金属でパター
ニングした後に焼成する。
この様に、回路を形成する導電性金属も同時に焼成され
るため、前記金属は焼成温度以上の融点を有することが
必要である。
ところで、従来のアルミナセラミック多層回路基板を製
造する際の焼成温度は1400〜1500℃にも達する
ため、従来、回路を形成する導電性金属として汎用され
ている、銅(融点1083℃)、銀(融点952℃)、
金(融点1064°C)等の導電性金属は使用すること
ができない。
このため、モリブデンやタングステン等の耐熱性を有す
る導電性金属が使用されている。
唯、かかるタングステン等の導電性金属は、銅等の導電
性金属よりも電気抵抗等が高い欠点を有することから、
半導体装置の高性能化、高集積化のなめには、電気抵抗
がタングステン等よりも低い銅、銀、又は金等の低融点
の導電性金属(以下、低融点金属と称することがある)
を使用することを要する。
このため、アルミナ粉末とガラス粉末とを混合すること
によって、基板の焼成温度を銅等の低融点金属の融点以
下に低下することができる、アルミナ−ガラス複合体が
提供されている。
しかし、アルミナ−ガラス複合体は、アルミナセラミッ
クよりも熱伝導率が低いため、高い放熱性を必要とする
用途に対しては不向きであるという問題点があった。
(発明が解決しようとする課題) この様な従来のアルミナ−ガラス複合体に比較して、ア
ルミナよりも高い熱伝導率の窒化アルミニウムを含有す
るガラス−窒化アルミニウム複合体は、高い熱伝導率を
有することが期待できる。
このため、本発明者は、ガラス−窒化アルミニウム複合
体の電気的特性を向上させるべく、前記複合体のガラス
として低誘電率のガラスとして知られている硼珪酸ガラ
スを用いて複合体を試作してみた。
しかしながら、得られる硼珪酸ガラス−窒化アルミニウ
ム複合体は、気泡等を含むものであって緻密な構造の複
合体を得ることができなかった。
そこで、本発明の目的は、従来のガラス−アルミナ複合
体よりも高い熱伝導率を有し、且つ緻密な構造の基板を
得ることができるガラス−セラミック複合体を提供する
ことにある。
(課題を解決するための手段) 本発明者は、前記目的を達成すべく、先ず溶融した硼珪
酸ガラス(以下、溶融ガラスと称することがある)と窒
化アルミニウムとの濡れ性を調査したところ、窒化アル
ミニウムの板状体上の溶融ガラスは球状となり、窒化ア
ルミニウムと溶融ガラスとの濡れ性が劣ることを知った
本発明者は、この様な知見から窒化アルミニウムと溶融
ガラスとの濡れ性を向上させることによって、a密な構
造のガラス−セラミック複合体を得ることができるもの
と考え検討を重ねた結果、本発明に到達した。
即ち、本発明は、硼珪酸ガラスの粉末と窒化アルミニウ
ムの粉末とを焼成して得られるガラスセラミック複合体
において、該複合体を形成する窒化アルミニウム粉末の
表面層が酸化アルミニウムに改質されていることを特徴
とするガラス−セラミック複合体にある。
かかる本発明において、窒化アルミニウムの粉末の表面
層が焼成前に酸化アルミニウムに改質されていることが
、−層緻密な構造の複合体とすることを可能にする。
(作用) 本発明者が当初に試作した硼珪酸ガラス−窒化アルミニ
ウム複合体においては、窒化アルミニウムに対する溶融
ガラスの濡れ性が劣るため、焼成中に溶融ガラスと窒化
アルミニウム粉末とが分離し、得られる複合体中に気泡
等が発生するものと考えられる。
この点、本発明においては、窒化アルミニウム粉末の表
面層が溶融ガラスと濡れ性が良好な酸化アルミニウムに
改質されているため、焼成中に溶融ガラスと窒化アルミ
ニウム粉末との分離が発生せず、緻密な構造の複合体が
得られるのである。
また、窒化アルミニウム粉末の表面層のみが化学的に安
定な酸化アルミニウムに改質されているため、焼成工程
中の水分等に因る窒化アルミニウムの変質を防止でき、
更に窒化アルミニウムの有する優れた熱伝導性をそのま
ま維持することかもきる。
(発明の構成) 本発明の複合体は、硼珪酸ガラスの粉末と窒化アルミニ
ウムの粉末とを焼成して得られるガラス−セラミック複
合体である。
かかる複合体において、窒化アルミニウムの粉末として
、粉末の表面層が酸化アルミニウムに改質されているこ
とが緻密な構造の複合体を得るために大切である。
窒化アルミニウムの粉末表面層を形成する酸化アルミニ
ウム層と溶融ガラスとの濡れ性が良好であるため、焼成
中に溶融ガラスと窒化アルミニウム粉末との分離に因る
気泡等の発生を防止できるからである。
このなめ、予め焼成前に窒化アルミニウム粉末の表面層
を酸化アルミニウムに改質しておくことが、焼成中を通
して溶融ガラスと窒化アルミニウムとの濡れ性を良好に
保つことができ、緻密な構造の複合体を得る上で好まし
い。
この様な表面層が酸化アルミニウムに改質された窒化ア
ルミニウムは、窒化アルミニウムの粉末を空気中で加熱
処理分施すことによって容易に得ることができる。
尚、粉末の加熱処理温度や加熱時間笠の加熱処理条件は
、粉末の粒径等によって異なるため、予め実験的に加熱
処理条件を定めておくことが好ましい。
本発明の複合体の硼珪酸ガラス粉末と表面層が酸化アル
ミニウムに改質された窒化アルミニウム粉末(以下、改
質窒化アルミニウムと称することがある)との混合比率
は、回路を形成する銅等の導電性金属の融点以下の焼成
温度となるように、下記に示す範囲内で調整することが
好ましい。
硼珪酸ガラス    :20〜80岨%改質窒化アルミ
ニウム=80〜2ONlllt%ここで、硼珪酸ガラス
が2()WE%未満0場合(改質窒化アルミニウムが8
0wt%を越える場合〉、焼成温度が銅等の導電性金属
の融点よりも高温となる傾向がある。
一方、硼珪酸ガラスが80wt%を越える場合(改質窒
化アルミニウムが20wt%未満の場合)には、焼成温
度を回路金属の融点よりも著しく低温にすることができ
るが、得られる複合体の熱伝導性等の物性が劣る傾向が
ある。
本発明の複合体を製造する際に、焼成前にガラス等の複
合体形成材料を所定の形状に成形するため、バインダー
等を混入してもよい。
この様な場合には、焼成温度をバインダー等の熱分解温
度よりも高温度で且つ導電性金属の融点よりも低温とな
るように、硼珪酸ガラスと改質窒化アルミニウムとの混
合比率を調整する。
尚、本発明の複合体を製造する際の焼成は、窒素中或い
は空気中のいずれで行なってもよい。
この様にして得られる本発明の複合体は、気泡等か存在
せず緻密な構造の複合体である。
(実施例) 本発明を実施例によって更に一層詳細に説明する。
平均粒径3〜4μ園の窒化アルミニウムの粉末を大気中
において1100℃の温度で加熱処理し、粉末の表面層
を酸化アルミニウムとした。
表面層が酸化アルミニウムに改質された改1!i窒化ア
ルミニウムの粉末40部と硼珪酸ガラスの粉末60部と
を混合し、有機バインダー、可塑剤、及び有機溶剤を加
えてスラリーとした。 更に1作成したスラリーをドク
ターブレード法によって厚さ約04.のグリーンシート
とし、前記グリーンシト上に銅金属から成る回路を形成
した。
この回路は、粒径的1〜2μ−の銅粉末を用いて調整し
た銅ペーストをスクリーン印刷法に因り印刷して乾燥さ
せたものである。
次いで、このグリーンシートを弱酸化雰囲気中で脱脂し
、非酸化雰囲気中で焼成した。
この場合の焼成温度は1100℃である。
得られた焼結体は、断面には気泡等が存在せず緻密な構
造であり、且つ回路の銅は銅本来の色相に近い色を呈し
ていた。
(発明の効果) 本発明の複合体は、緻密な構造で且つ窒化アルミニウム
の優れた熱伝導性を保持することができるため、半導体
装置の基板に用いることによって基板の放熱性を向上す
ることができ、半導体装置の高性能化、高集積化に対応
することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、硼珪酸ガラスの粉末と窒化アルミニウムの粉末とを
    焼成して得られるガラス−セラミック複合体において、 該複合体を形成する窒化アルミニウム粉末 の表面層が酸化アルミニウムに改質されていることを特
    徴とするガラス−セラミック複合体。 2、窒化アルミニウム粉末の表面層が焼成前に酸化アル
    ミニウムに改質されている請求項第1項記載のガラス−
    セラミック複合体。
JP13362390A 1990-05-23 1990-05-23 ガラス―セラミック複合体 Pending JPH0431339A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009234862A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Tama Tlo Ltd 窒化アルミニウム粉末の処理方法及び窒化アルミニウム
JP2013060323A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Tokuyama Corp 窒化アルミニウム焼結顆粒の製造方法
US20130196842A1 (en) * 2012-01-26 2013-08-01 Ngk Insulators, Ltd. Glass-ceramic composite material

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009234862A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Tama Tlo Ltd 窒化アルミニウム粉末の処理方法及び窒化アルミニウム
JP2013060323A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Tokuyama Corp 窒化アルミニウム焼結顆粒の製造方法
US20130196842A1 (en) * 2012-01-26 2013-08-01 Ngk Insulators, Ltd. Glass-ceramic composite material
US8912106B2 (en) * 2012-01-26 2014-12-16 Ngk Insulators, Ltd. Glass-ceramic composite material

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