JPH04311003A - 正の抵抗温度係数を有する半導体磁器 - Google Patents
正の抵抗温度係数を有する半導体磁器Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
有するチタン酸バリウム(BaTiO3)系半導体磁器
に関し、詳しくは、その室温比抵抗の低減に関する。
チタン酸バリウム(BaTiO3)系半導体磁器が開発
されており、この半導体磁器は、キュリー温度を越える
と抵抗値が急激に増大して、通過する電流量を減少させ
ることから、回路の過電流保護用や、テレビ受像機のブ
ラウン管枠の消磁用など種々の用途に広く用いられてい
る。一方、このチタン酸バリウム系半導体磁器を用いた
素子をさらに大電流化し、小型化するために、半導体磁
器の室温比抵抗をこれまで以上に低減することが要求さ
れている。
温比抵抗の低減に関しては、Fe,Cr,Na,Kなど
の微量成分(不純物)の混入を抑制することが重要であ
り、これらの不純物の混入を抑制防止することにより、
室温比抵抗を低減する方法が知られている。そして、例
えば,Feについては、0.001%レベルでの混入で
抵抗値が著しく上昇すると報告されている(センサ技術
、1990年4月号、p44)。
法では、室温比抵抗をある程度は低減できるものの、従
来着目していたFe,Cr,Na,Kなどの元素の混入
量を低減するのみでは、室温比抵抗の低減効果は必ずし
も十分ではなく、室温比抵抗のさらに低い正の抵抗温度
係数を有する半導体磁器が望まれていた。
あり、Fe,Cr,Na,Kなどの含有量を減少させる
ことにより室温比抵抗を低減した従来の半導体磁器より
もさらに室温比抵抗の低い正の抵抗温度係数を有する半
導体磁器を提供することを目的とする。
するために、この発明の半導体磁器は、正の抵抗温度係
数を有するチタン酸バリウム系半導体磁器のフッ素,塩
素,及び臭素の含有量の合計を0.01原子%(at%
)以下にしたことを特徴とする。
る半導体磁器には、0.01原子%(at%)以下のM
nを含有させることができる。
体磁器は、室温比抵抗をさらに低減することを目的とし
て、半導体磁器中の微量不純物を分析し、その影響を綿
密に検討することにより発明されるに至ったものである
。すなわち、不純物として、従来より注目されていたF
e,Cr,Na,Kなどの陽イオン以外にも、陰イオン
であるフッ素(F)、塩素(Cl)、臭素(Br)が半
導体磁器の低抵抗化を阻害しており、これらの元素の含
有量の合計を0.01原子%以下にすることにより、正
の抵抗温度係数を有するチタン酸バリウム系半導体磁器
をさらに低抵抗化することが可能であることを知り、こ
の発明を完成したものである。
、抵抗温度係数を高めるために、Mnを添加することが
あるが、上述したF,Cl,Brの合計含有量を低減さ
せることによる比抵抗低減の効果は、Mn添加量が0.
01原子%以下の場合には特に顕著であり、Mn添加量
をそれ以上にした場合には、Mnの添加による半導体磁
器の高抵抗化のために、塩素含有量を減少させることに
よる低抵抗化の効果が相殺され、全体としては低抵抗化
の効果が小さくなる。
らに詳細に説明する。
iO2,SrCO3,CaCO3,La2O3,MnO
2,SiO2を下記の式(1)で表される組成になるよ
うに調合した。 (Ba0.846Sr0.05Ca0.10La0.0
04)(Ti(1−X)MnX)O3+0.001Si
O2(ただし、X=0〜0.016)
……(1)
2】なお、上記原料の調合の際に、焼成後の半導体磁器
中のCl含有量を変化させるため、BaCO3に対する
BaCl2の割合を0〜10%の範囲で変えた。また、
BaCl2以外の原料は、F,Cl,Brの含有量の合
計が、0.001原子%以下のものを使用するとともに
、フッ素系樹脂、塩化ビニル、汗など、F,Cl,Br
の混入要因となる物質が混入しないように細心の注意を
払った。
ールとともにポリエチレン製ポットに入れて5時間粉砕
混合した後、蒸発乾燥し、1100℃で2時間仮焼した
。この仮焼粉に酢酸ビニル系のバインダーを5重量%添
加して混合した後乾燥し、プレス成形機により直径17
mm、厚さ3mmの円板状の成形体を作成した。そして
、この成形体を、1350℃の温度で1時間、大気中で
焼成し、焼成体(半導体磁器)を得た。それから、この
半導体磁器の両主面に、In−Ga合金を塗布して電極
を形成し、これを特性測定用の試料とした。
半導体磁器)中のFとBrの含有量をそれぞれ0.00
2原子%及び0.001原子%一定とし、Cl含有量の
みを変化させた。
、F,Cl,Brの合計含有量と室温比抵抗との関係を
示す。図1より、F,Cl,Brの合計含有量が少ない
ほど比抵抗が低く、特にF,Cl,Brの合計含有量が
0.01原子%以下では、比抵抗が著しく低下すること
がわかる。また、比抵抗の低下は、Mn含有量が0.0
1原子%以下のときに顕著であり、Mn含有量が0.0
16原子%になると、Mnの添加による半導体磁器の高
抵抗化のため、F,Cl,Brの合計含有量を減少させ
たことによる低抵抗化の効果が打ち消され、全体として
は低抵抗化の効果が小さくなることがわかる。
いてのF,Cl,Brの合計含有量と抵抗温度係数との
関係を示す。図2より、抵抗温度係数はF,Cl,Br
の合計含有量を減少させても殆ど低下しないことがわか
る。なお、Mn含有量が多いほど、抵抗温度係数が高く
なっており、室温比抵抗が高くならない範囲(Mn含有
量0.01原子%以下)でMnを含有させることが望ま
しいことがわかる。
より算出した値である。 抵抗温度係数={2.303/(T2−T1)
}×100 ……(2)T1=抵抗が室温抵抗の1
0倍になる温度T2=抵抗が室温抵抗の100倍になる
温度
としてBaCO3を用いたこと及び、バインダーを混合
しこれを乾燥した後、フッ素樹脂(テフロン(商品名)
)微粒子を添加し、遊星ミルで乾式混合することにより
焼成後の残留F量を制御したこと以外は上記実施例1と
同様の方法で半導体磁器を作成した。
導体磁器)中のClとBrの含有量をそれぞれ0.00
3原子%及び0.001原子%一定とし、Fの含有量の
みを変化させた。
、F,Cl,Brの合計含有量と室温比抵抗との関係を
示す。図3より、F,Cl,Brの合計含有量が少ない
ほど比抵抗が低く、特にF,Cl,Brの合計含有量が
0.01原子%以下では、比抵抗が著しく低下すること
がわかる。また、比抵抗の低下は、Mn含有量が0.0
1原子%以下のときに顕著である。
いてのF,Cl,Brの合計含有量と抵抗温度係数との
関係を示す。図4より、抵抗温度係数はF,Cl,Br
の合計含有量を減少させても殆ど変化しないことがわか
る。
、これを乾燥した後、BrC6H4NHCOCH3を添
加し、遊星ミルで乾式混合することにより焼成後の残留
Br量を制御したこと以外は上記実施例2と同様の方法
で半導体磁器を作成した。
導体磁器)中のFとClの含有量を各々0.002原子
%及び0.003原子%一定とし、Brの含有量のみを
変化させた。
、F,Cl,Brの合計含有量と室温比抵抗との関係を
示す。図5より、F,Cl,Brの合計含有量が少ない
ほど比抵抗が低く、特にF,Cl,Brの合計含有量が
0.01原子%以下では、比抵抗の顕著な低下が認めら
れ、さらに、比抵抗の低下は、Mn含有量が0.01原
子%以下のときに顕著であることがわかる。
いてのF,Cl,Brの合計含有量と抵抗温度係数との
関係を示す。図6より、抵抗温度係数はF,Cl,Br
の合計含有量を減少させても殆ど低下しないことがわか
る。
る半導体磁器の主成分であるチタン酸バリウム系半導体
材料としては、半導体化剤としてY,Laなどの希土類
元素やNb,Sbその他の元素を含有させたものや、B
aの一部をSr,Pb,Caなどで置換したものなど種
々のチタン酸バリウム系材料を用いることが可能である
。
ン酸バリウム系半導体磁器材料のF,Cl,Brの合計
含有量を0.01原子%以下にしているので、正の抵抗
温度係数を有する半導体磁器の抵抗温度係数を劣化させ
ることなく、室温比抵抗を大幅に低減することが可能に
なり、素子の大電流化、小型化を実現することができる
。
原子%まで含有させることが可能であり、室温比抵抗と
抵抗温度係数の両方に優れた正の抵抗温度係数を有する
半導体磁器を得ることができる。
含有量と室温比抵抗との関係を示す線図である。
含有量と抵抗温度係数との関係を示す線図である。
含有量と室温比抵抗との関係を示す線図である。
含有量と抵抗温度係数との関係を示す線図である。
含有量と室温比抵抗との関係を示す線図である。
含有量と抵抗温度係数との関係を示す線図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 正の抵抗温度係数を有するチタン酸バ
リウム系半導体磁器において、該半導体磁器のフッ素,
塩素,及び臭素の含有量の合計が0.01原子%以下で
あることを特徴とする正の抵抗温度係数を有する半導体
磁器。 - 【請求項2】 Mn含有量が0.01原子%以下であ
ることを特徴とする請求項1記載の正の抵抗温度係数を
有する半導体磁器。
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- 1991-04-09 JP JP3104763A patent/JP2677041B2/ja not_active Expired - Lifetime
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