JPH04307978A - 長手方向流れを備えた高周波励起ガスレーザー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、流れ方向に貫流するレ
ーザーガスを有する放出チャネルと、流れ方向に横断す
るように高周波放出を生じさせるために放出チャネルの
両側に配設される高周波電極、とを有する、長手方向流
れを備えた高周波励起ガスレーザーに関する。

【０００２】

【従来の技術】そのような長手方向流れを備えた高周波
励起ガスレーザーは公知である。このタイプの長手方向
流れを備えた高周波励起ガスレーザーにおいて、放出チ
ャネルは丸いチャネルであり、それは、長手方向にそれ
を貫流するガスを有し、また、レゾネーターからのビー
ムの束によって長手方向に貫かれる。

【０００３】レーザー出力を増大させるために、励起レ
ーザーガスのボリュームを増大させる必要がある。例え
ば、長手方向流れを備えるガスレーザーにおいては、そ
れによって丸い放出チャネルの断面が拡大される。それ
は再度、特にそれが放出チャネルの全断面に亙って実質
的に同質的であるように意図されるときには、高周波刺
激に関する問題を伴う。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、一般的なタイプの長手方向流れを備えた高周波励起
ガスレーザーを改善し、構造的に出来るだけシンプルで
あり同時にそのデザインが出来るだけコンパクトである
ようなレーザーによって高出力が達成され得るようにす
ることである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明に従
い、放出チャネルは、複数個のチャネル構成要素を有し
、それらのチャネル軸線は、流れの方向に相互に平行に
整列され、チャネル構成要素は、流れ方向に横断するよ
うな設備の方向に隣接又は近傍に配設され、チャネル構
成要素は、第１横断方向及び流れ方向に直角に延びる第
２横断方向よりも流れ方向に直角な第１横断方向に大き
な拡張を有する断面を有する、先に記載したタイプの長
手方向流れを備えた高周波励起ガスレーザーによって達
成される。

【０００６】この進歩的な概念は、大きなレーザー出力
に適するような放出チャネルを簡単な形式で構築する可
能性を提供する。この放出チャネルの簡単な構造は、チ
ャネル構成要素が流れ方向に相互に平行なチャネル軸線
と整列され且つ相互に並んで配置されるという事実を生
じるばかりでなく、チャネル構成要素が所定断面を有す
るという事実を特に生じる。この所定断面は、チャネル
構成要素の上記設計のために相互に隣接配置することが
より簡単であるので、上記方向に直角な第１横断方向に
おいて、流れの方向に直角且つ第１のそれに直角に延び
る第２横断方向におけるものより大きな引張を有する。 更に、このように設計されるチャネル構成要素は、極め
てコンパクトな形式が相互に隣接配置され得るという利
点を有する。

【０００７】進歩的解決策の範囲内において、第１横断
方向が設備の方向に平行に延びることが特に有益的であ
り、これによりチャネル構成要素は、直角よりも設備方
向に延びるより大きな引張を有する。更に、第２横断方
向が設備の方向に平行に延びることは可能である。最適
条件は、高周波放出が第２横断方向に平行に延びるとき
に、チャネル構成要素がその方向においてより小さい引
張を有するので、レーザーガスにおける高周波放出に関
して達成され得る。高周波放出の方向のレーザーガスの
拡大が出来るだけ小さいときに高周波放出を安定的に保
持することは極めて容易である。更に、この実施例は、
高周波放出に否定的な影響を伴うことなく第１方向の選
択的な引張を備えるチャネル構成要素の設計可能性を提
供する。

【０００８】進歩的な解決策の範囲内において、高周波
放出が第１横断方向に平行な方向に実質的に一定である
ことが特に好ましい。このことは、レーザーガスのより
小さい拡張を通して第２横断方向の方向に延びる高周波
放出を有することによって単純な形式で為し遂げられ得
る。これにより、第１横断方向の方向の安定化が問題を
持ち出すことは全くない。

【０００９】後段において詳細に説明する高周波放出に
要する電極の配置に関して、電極は設備の方向に平行な
面内に実質的に配置され従って相互に影響を及ぼすある
いは干渉するということがないので、高周波放出が設備
の方向に直角に延びることが有益的である。あるいは、
高周波放出が設備の方向に平行に延びることが考えられ
よう。この場合、チャネル構成要素は、隣接するチャネ
ル構成要素の高周波電極が相互に面して配置されねばな
らないように配設される。このことは、相互に反対に配
置される電極が同一ポテンシャルを有するときにのみコ
ンパクトな解決策を作出する。

【００１０】上記高周波放出に関する状態は、それが第
１横断方向に実質的に一定な高周波放出にとって予め要
求される極めて単純なことであるので、チャネル構成要
素が第１横断方向に平行に延び且つ相互に対向する偏平
な内部壁面を有するときに、特に単純な形式で実現され
得る。更に、側部壁領域を通って出来る限り一定である
高周波放出を実現するために、チャネル構成要素が第２
横断方向に平行に延び且つ相互に対向する偏平な内部壁
面を有することが有益的である。

【００１１】特に、出来る限りコンパクトである進歩的
放出の構造に関して、チャネル構成要素が設備の方向に
直角に延びる偏平な外部壁面を反対側に有することが好
ましく、これによりチャネル構成要素は、設備の方向に
隣接して配置され得る。更に、チャネル構成要素が設備
の方向に平行に延びる偏平な外部壁面を反対側に有する
ときに、構造のコンパクト性が付加的に改善され得る。

【００１２】特に好適実施態様において、チャネル構成
要素は、実質的に矩形状の内側断面を有し、加えて、チ
ャネル構成要素は好ましくは実質的に矩形形状を有する
ようにされる。出来る限りコンパクトな構造及び高出力
を有する高出力レーザーを提供するためには、励起され
るがレーザービームに寄与せず結果を生じないガス放出
領域及びレーザー作用にとって最適形式としてそのよう
なビームの束を備える全励起レーザーガスが用いられる
ので、チャネル構成要素は、チャネル構成要素の内側断
面に実質的に適合される断面を有するビームの束によっ
て貫かれる。

【００１３】更に、ビームの束が相互に隣接配置される
チャネル構成要素を通ってくねくね延びることが有益的
である。これに関連して、チャネル構成要素が不安定な
レゾネーターのビームの束によって貫かれることが特に
有益的である。上記長手方向流れを備えたガス放出レー
ザーの実施態様においては、どのように放出チャネルに
貫流するレーザーガスが供給されるのかについての詳細
が記載されていない。有益的な実施態様において、放出
チャネルは、複数個の通路を有し、これらの通路は、レ
ーザーガスチャネルの両側でそこから離れるように延び
且つ通路軸線と相互に整列して対となるように配置され
る。この点において、レーザーガスチャネルは、設備の
方向に延びることが特に有益的であり、これによりその
方向の総ての通路の間の連結を生じる。

【００１４】更に、好適実施態様において、外側レーザ
ーガスチャネルは、放出チャネルの両外側に配置され、
外側レーザーガスチャネルの各々は、ミラーチャンバに
よって放出チャネルの反対に続く。ミラーチャンバの配
置及びレーザーガスを備える放出チャネルの通路の供給
は、この構成で簡単に実現され得る。この点に関しては
、ミラーチャンバのミラーが簡単な形式で汚れに対して
保護され得るので、外側レーザーガスチャネルがレーザ
ーガス供給チャネルであることが特に好ましい。

【００１５】上記実施態様の範囲内において、そのよう
なチャネル構成要素の設計に関する詳細が記載されてい
ない。好適実施態様において、チャネル構成要素は、設
計的に同様である。この場合、必要な多くのチャネル構
成要素を備えた放出チャネルが安く効果的に製造され得
る。特に、極めて変化に富むレーザー出力の放出チャネ
ルを簡単に構成することができる。

【００１６】チャネル構成要素自体の設計に関して、チ
ャネル構成要素に所定の安定性を与えるのに必要な総て
の寸法が免除され得るので、チャネル構成要素が自己支
持構造を有することが特に好ましい。チャネル構成要素
は横断壁及び下部横断壁、並びにそれらを相互に離隔す
る支持ウエブを有し、これらの総てのの構成要素が連続
部分を構成することが好ましい。

【００１７】特に、チャネル構成要素の安定性及び緊張
のために、それらが一体的であるような設計が好ましい
。更に、自己支持部品のようなチャネル構成要素の設計
は、チャネル構成要素が電極を支持し従って電極保持の
ために付加的な機械的構造が不要であるという点におい
てより有益的に利用され得る。高周波励起の間に起きる
電圧スパークに伴う問題に鑑みて、それは特に利点であ
る。

【００１８】チャネル構成要素が設備の方向に相互に隣
接してあるいは近傍に配置されるときに、特にコンパク
トな形式で進歩的な解決策が構成され得る。上記総ての
実施態様において、どのようにチャネル構成要素が放出
チャネルに連結されるかについての詳細が記載されてい
ない。特に有益的な機械的構造において、チャネル構成
要素は、支持構成要素によって相互に連結される。この
支持構成要素は、チャネル構成要素がその端面で壁板に
当接するように便宜的に設計される。

【００１９】設備の方向に相互に隣接配置される総ての
チャネル構成要素が各端面で共通の壁板に当接し、設備
の方向に相互に近接配置されるチャネル構成要素が２つ
の壁板の間に配置されるときに、放出チャネルは特に簡
単な形式で構成され得る。相互に向かって引っ張られる
ように引っ掛けロッドによって保持される壁板を有する
ことにより、放出チャネルは、壁板の間の所定位置に有
益的に固定され得る。

【００２０】出来る限り有益的であり且つ構造的にシン
プルである壁板とチャネル構成要素との間にシールを実
現するために、チャネル構成要素は、単品で開口を囲み
所定平面内に配置されたシール面を備える開口を端面に
有する。特に、壁板は、チャネル構成要素の各端面の開
口に対応する開口の周りにおいて、面内に配置され且つ
単品でそれらの開口を囲うシール面を有する。

【００２１】本発明の追加的な特徴及び利点は、幾つか
の実施例の図面並びに以下の記載の目的事項である。

【００２２】

【実施例】長手方向流れを備えた進歩的な高周波励起ガ
スレーザーの一実施例は、１０で全体的に示される放出
チャネルを有し、第１の部分１２及び第２の部分１４で
構成される。これらの部分は、中央レーザーガスチャネ
ル１６の各側部に配設され、それらの間にこのチャネル
を囲んでいる。

【００２３】外側レーザーガスチャネル１８は、中央レ
ーザーガスチャネル１６から離隔された放出チャネル１
０の第１部分１２の側部に設けられ、外側レーザーガス
チャネル２０は、中央レーザーガスチャネル１６から離
隔された第２部分１４の側部に設けられる。中央レーザ
ーガスチャネル１６は、レーザーガス出口チャネルとし
て好ましくは用いられるが、２つの外側レーザーガスチ
ャネル１８及び２０は、レーザーガス供給チャネルであ
り、放出チャネル１０の第１部分１２及び放出チャネル
１０の第２部分１４はそれぞれ、その間を通って長手方
向２２に流れるガスを有する。

【００２４】クーラー２４は、長手方向２２に直角に中
央レーザーガスチャネルに続く。このクーラーは、排出
されるレーザーガスを冷却し、これにより冷却水連結器
２６を介して連結水が供給される。幾つかの遠心送風機
２８は、中央レーザーガスチャネルと反対のクーラー２
４の側部に隣合って配設され、これらの遠心送風機２８
は、クーラー２４からの冷却されたレーザーガスを外側
レーザーガスチャネル１８及び２０に送る。本発明に基
づき、同一番号の遠心送風機２８は、外側レーザーガス
チャネル１８及び外側レーザーガスチャネル２０の両方
にレーザーガスを送り、これにより、２つの部分１２及
び１４の各々において、中央レーザーガスチャネル１６
に向かうレーザーガスの流れが生じる。

【００２５】ミラーチャンバ３０は、第１部分１２と反
対の外側レーザーガスチャネル１８の側部に配設され、
長手方向流れを備えた進歩的なガスレーザーのレゾネー
ターのミラー３２を一式受容する。同様に、ミラーチャ
ンバ３４は、第２部分１４と反対の外側レーザーガスチ
ャネル２０の側部に配設され、ミラー３６を一式受容す
る。ミラー３６は、ミラー３２一式と共に、レーザービ
ーム３８が出るレゾネーターを構成する。

【００２６】進歩的な放出チャネル１０の第１部分１２
は、チャネル軸線４２ａ〜ｄに相互平行に配設され且つ
長手方向２２に平行に配設される４つのチャネル構成要
素４０ａ〜ｄを有する。チャネル構成要素４０ａ〜ｄは
、本発明に従い、同一の設計が為され、反対側に配設さ
れている端面４４及び４６の間に延び、そこには端面開
口４８及び５０がそれぞれ設けられる。

【００２７】チャネル構成要素４０ａ〜ｄの端面４４及
び４６はそれぞれ、壁板５２又は５４に当接し、これに
より、壁板５２及び５４はそれぞれ、開口５６及び５８
を有し、それらは端部開口４８及び５０と整列し且つ好
ましくは端部開口４８及び５０と同じ断面領域を有する
。従って、放出チャネル１０の第１部分１２は、チャネ
ル構成要素４０ａ〜ｄで構成された４つの通路６０ａ〜
ｄを有する。レーザーガスは、これらの通路を通り、外
側レーザーガスチャネル１８から中央レーザーガスチャ
ネル１６に向かって長手方向２２に流れることができる
。

【００２８】放出チャネル１０の第２部分１４は、第１
部分１２と同一の設計が為され、従って、並設された合
計４つのチャネル構成要素６２ａ〜ｄを有する。これら
のチャネル構成要素は、チャネル軸線６４ａ〜ｄと相互
平行に整列され且つ長手方向２２に平行に整列されてい
る。これらのチャネル構成要素６２ａ〜ｄは、２つの端
面６６及び６８の間に延び、且つ端部開口７０及び７２
を有する。

【００２９】チャネル構成要素６２ａ〜ｄの端面６６及
び６８はそれぞれ、壁板７４及び７６と当接し、それら
は、端部開口７０及び７２と整列された開口７８及び８
０を有する。このことは、第２部分１４がレーザーガス
の通路８２ａ〜ｄを構成することを意味し、これにより
、それは外側レーザーガスチャネル２０から中央レーザ
ーガスチャネル１６内に流れることができる。

【００３０】中央レーザーガスチャネル１６は、壁板５
４及び５６によって横方向に制限される。加えて、外側
レーザーガスチャネル１８及び２０は、放出チャネルに
面する側部の壁板５２及び７４によって制限される。更
に、チャネル軸線４２ａ〜ｄはそれぞれのチャネル軸線
６４ａ〜ｄと対になるように整列配置される、すなわち
、チャネル構成要素４０のチャネル軸線４２ａはチャネ
ル構成要素６２のチャネル軸線６４ａと整列され、チャ
ネル構成要素４０ｂのチャネル軸線４２ｂはチャネル構
成要素６２のチャネル軸線６４ｂと整列される。

【００３１】加えて、放出チャネル１０のチャネル構成
要素６２ａ〜ｄは、相互に同様に設計が為され且つチャ
ネル構成要素４０ａ〜ｄと同様であり、従って、通路６
０ａ〜ｄの断面は、通路８２のそれと同様である。更に
、一式のミラー３２及び３６の間を長手方向２２に延び
るビーム８４の束は、通路６０ａ〜ｄ及び８２ａ〜ｄに
適合する断面を有する。この進歩的な実施例において、
ミラー３２及び３６は、ビーム８４の束が先ず通路６０
ａ及び８２ａを通り抜けるように設計されている。 ビームの束が通路８２ｂ及び６０ｂを通り抜けるように
一式のミラー３６によって反射され、通路６０ｃ及び８
２ｃを通り抜けるように一式のミラー３２によって再度
反射され、最終的に通路８２ｄ及び６０ｄを通り抜ける
ように一式のミラー３６によって再度反射され、不安定
なレゾネーターの場合には、一式のミラー３２と連結さ
れた窓からレーザービーム３８として出射する。安定的
なレゾネーターの場合には、一式のミラー３２は、窓の
代わりに部分通過ミラーを有する。チャネル構成要素４
０ａ〜ｄ及び６２ａ〜ｄは、図２に示すチャネル構成要
素４０に基づいて例示したように、以下のように詳細に
設計が為される。

【００３２】各チャネル構成要素は、セラミック部材又
は石英の完全なパイプであり、上部横断壁９０及び下部
横断壁９２を有し、それらは、相互に平行に延び、また
、第１横断方向９８に平行に整列され且つ相互に離隔さ
れた関係で延びる下部内部壁面９６並びに上部内部壁面
９４を構成する。更に、上部横断壁９０及び下部横断壁
９２は、第２横断方向１０７に平行に延びる内部壁面１
０４及び１０６を有する側壁１００及び１０２によって
相互に離隔された関係で反対側に保持されている。好ま
しくは、この第２横断方向１０７は、第１横断方向９８
と直角である。

【００３３】従って、内部壁面９４，９６，１０４，及
び１０６は、チャネル構成要素４０の必然的な矩形内部
断面を画定し、また、それによって形成される通路６０
のそれを画定する。更に、上部横断壁９０は外側壁面１
０８を有し、下部横断壁９２は外側壁面１１０を有し、
それは、同様に相互に平行に延び且つ各々の内部壁面９
４及び９６から好ましくは等しい距離で延びている。従
って、上部横断壁９０及び下部横断壁９２は必然的に同
一の厚みを有する。

【００３４】更に、側部壁１００及び１０２は外部側部
壁面１１２及び１１４を有し、それらは、同様に相互に
平行にそして内部壁面１０４及び１０６に平行に延び、
必然的にそこから等しい距離で延びている。従って、側
部壁１００及び１０２は必然的に同一の厚みを有し、好
ましくは上部横断壁９０及び下部横断壁９２と等しい厚
みを有する。

【００３５】各チャネル構成要素４０，６２は、好まし
くは自己支持する構造として構成され、上部横断壁９０
及び下部横断壁９２は、支持ウエブを形成する側部壁１
００及び１０２によって相互に離隔されて保持される。 本発明に従い、横断壁９０及び９２並びに側部壁１００
及び１０２は、相互に一体的に連結され、各チャネル構
成要素４０，６２は好ましくは、一体的な部品として単
品で構成される。

【００３６】図１に示すように、上記実施例においてチ
ャネル構成要素４０ａ〜ｄは、第１横断方向９８に平行
に延びる設備１２０の方向に隣接配置される。このこと
は、連続したチャネル構成要素４０が外部側部壁面１１
２及び１１４と隣接して配置され、チャネル構成要素４
０の外部側部壁面１１４及び１１２が好ましくは相互に
当接した設備の方向に相互に隣接してあるいは近傍に配
置される、ということを意味する。

【００３７】それは、チャネル構成要素４０と同様の構
造から成るチャネル構成要素６２ａ〜ｄについても妥当
する。このことは、チャネル構成要素がそれらの外部側
部壁１１２及び１１４によって並んで支持されているこ
とを意味する。更に、図３及び４に示すように、各チャ
ネル構成要素４０及び６２は、各壁板に関係してシール
が為される。このことは、図３及び４に示すように、チ
ャネル構成要素４０の１つ及び壁板５２の間におけるシ
ールの一例によって以下記載されよう。チャネル構成要
素４０は、壁板５２の後部側部１２６に平行に延びる面
１２４に配置される端面１２２をその端面４４に有する
。更に、壁板５２は、その各々の開口５６の周りに延び
る溝１２８を有する。溝内にはシール１３０が有り、そ
れは溝１２８において単品で各開口５６を囲み、且つ所
定配置が為され、これにより、開口５６がチャネル構成
要素の端面の開口４８と一致している限りにおいてチャ
ネル構成要素４０が壁板５２に当接するときには、シー
ルは、このチャネル構成要素の端面に当接する。

【００３８】壁板５２とチャネル構成要素４０との間の
適切なシールは、一方において端面１２２内に押圧され
他方において溝１２８内に押圧されるシール１３０によ
って達成される。この目的のため、図１に示すように、
壁板５２及び５４並びに７４及び７６は、クランピィン
グロッド１３２によって相互に向かって引張され、それ
らは長手方向２２に延び、これにより各チャネル構成要
素４０及び６２は、端面４４及び４６並びに６６及び６
８の領域においてそれぞれ壁板５２及び５４の間あるい
は７４及び７６の間にクランプされ、各シール１３０は
それらの間に配設され、これにより必要な圧縮力が得ら
れる。

【００３９】加えて、クランピィングロッド１３２は、
中央レーザーガスチャネル１６を貫通し、同時に放出チ
ャネルの第２部分１４に対して第１部分１２を整列保持
し、チャネル軸線４２がチャネル軸線６４と整列するよ
うに設計される。チャネル構成要素４０及び６２が矩形
状の内部断面を有するので、好ましくはビーム８４の束
は、この矩形状内部断面に適合され、それは、曲がりく
ねった形式でチャネル構成要素４０及び６２を通って一
式のミラー３２，３４から他の一式のミラー３４，３２
に向かって流れる際に、必然的に各通路６０及び８２の
全内部断面を充満する。

【００４０】更に、一式のミラー３２及び３４は好まし
くは、ビーム８４の束が不安定なレゾネーターのビーム
の束であるように構成される。高周波励起は、本発明に
従い、図１に示すように、外側縁部面１０８及び１１０
に配設された電極１３４によって実施される。それらの
電極は好ましくは、設計的に板状に成され、且つ第１断
面９８の内部壁面９４及び９６の全長にわたって延び、
従ってチャネル構成要素４０の長手方向において平行に
連結された３つの電極は重ねて配置される。

【００４１】それらの電極１３４は、第２横断方向１０
７に平行な各通路６０及び８２に高周波を放出せしめ、
従って高周波放出は、第１横断方向９８の方向に必然的
に一定である。このことは、各チャネル構成要素４０及
び６２を貫流するレーザーガスがその中で励起され、こ
れによりビーム８４の束の形状を有するレーザービーム
がミラー３２及び３４の間において形成される、という
ことを意味する。

【００４２】進歩的なチャネル構成要素４０，６２は、
放出チャネル１０の構造に寄与するだけでなく、同時に
第１横断方向９８全体にわたって延び第２横断方向１０
７に平行な均一な高周波放出を発生する誘電性を有する
。チャネル構成要素自体は、誘電性部材、好ましくはセ
ラミックス又は石英で形成される。進歩的なチャネル構
成要素４０，６２のための誘電性部材を選択することに
より、高周波励起のための電圧スパークに関する総ての
問題は、電極１３４の領域の金属から放出チャネル１０
を完全に自由にするよう構成することによって回避され
る。チャネル構成要素４０，６２は、自己支持的な構造
のために金属支持構造を必要とせずに、それら自体で電
極１３４を支持し、基本的に、必要とされる多くのチャ
ネル構成要素４０，６２と同様に、設備１２０の方向に
隣接して配置され得る。

【００４３】図示実施例において、レーザーガスＣＯ２
　は、約１００ｍｂａｒｓ　の圧力で溢れ、高周波放出
は、１０〜５０ＭＨｚの周波数である。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、部分的に破断した一実施例の全体斜視
図である。

【図２】図２は、チャネル構成要素の拡大斜視図である
。

【図３】図３は、チャネル構成要素の側部から見た壁板
の側面図である。

【図４】図４は、図１の４−４線に沿う断面図である。

【符号の説明】

１０…放出チャネル １２…第１部分 １４…第２部分 １６…中央レーザーガスチャネル １８，２０…外側レーザーガスチャネル２２…長手方向 ２４…クーラー ２８…遠心送風機 ３２，３６…ミラー ３４…ミラーチャンバ

Claims (29)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　流れ方向に貫流するレーザーガスを有
   する放出チャネルと、流れ方向に横断するように高周波
   放出を生じさせるために放出チャネルの両側に配設され
   る高周波電極、とを有する長手方向流れを備えた高周波
   励起ガスレーザーにおいて、放出チャネル（１０）は、
   複数個のチャネル構成要素（４０，６２）を有し、それ
   らのチャネル軸線（４２，６４）は、流れ（２２）の方
   向に相互に平行に整列され、チャネル構成要素（４０，
   ６２）は、流れ方向に横断するような設備（１２０）の
   方向に隣接又は近傍に配設され、チャネル構成要素（４
   ０，６２）は、第１横断方向（９８）及び流れ方向（２
   ２）に直角に延びる第２横断方向（１０７）よりも流れ
   方向（２２）に直角な第１横断方向（９８）に大きな拡
   張を有することを特徴とする長手方向流れを備えた高周
   波励起ガスレーザー。
2. 【請求項２】　　上記第１横断方向（９８）は、設備（
   １２０）の方向に平行に延びることを特徴とする請求項
   １に記載のガスレーザー。
3. 【請求項３】　　上記第２横断方向（１０７）は、設備
   （１２０）の方向に平行に延びることを特徴とする請求
   項１に記載のガスレーザー。
4. 【請求項４】　　高周波放出は、第２横断方向（１０７
   ）に平行に延びることを特徴とする上記請求項のいずれ
   か１項に記載のガスレーザー。
5. 【請求項５】　　高周波放出は、第１横断方向（９８）
   に平行な方向に実質的に一定であることを特徴とする請
   求項４に記載のガスレーザー。
6. 【請求項６】　　チャネル構成要素（４０，６２）は、
   第１横断方向（９８）に平行に延び且つ相互に対向する
   偏平な内部壁面（９４，９６）を有することを特徴とす
   る上記請求項のいずれか１項に記載のガスレーザー。
7. 【請求項７】　　チャネル構成要素（４０，６２）は、
   第２横断方向（１０７）に平行に延び且つ相互に対向す
   る偏平な内部壁面（１０４，１０６）を有することを特
   徴とする上記請求項のいずれか１項に記載のガスレーザ
   ー。
8. 【請求項８】　　チャネル構成要素（４０，６２）は、
   設備（１２０）の方向に直角に延びる偏平な外部壁面（
   １００，１０２）を反対側に有することを特徴とする上
   記請求項のいずれか１項に記載のガスレーザー。
9. 【請求項９】　　チャネル構成要素（４０，６２）は、
   設備（１２０）の方向に平行に延びる偏平な外部壁面（
   １０８，１１０）を反対側に有することを特徴とする上
   記請求項のいずれか１項に記載のガスレーザー。
10. 【請求項１０】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、実質的に矩形状の内側断面を有することを特徴とする
    上記請求項のいずれか１項に記載のガスレーザー。
11. 【請求項１１】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、チャネル構成要素（４０，６２）の内側断面に実質的
    に適合される断面を有するビーム（８４）の束によって
    貫かれることを特徴とする上記請求項のいずれか１項に
    記載のガスレーザー。
12. 【請求項１２】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、不安定なレゾネーターのビーム（８４）の束によって
    貫かれることを特徴とする上記請求項のいずれか１項に
    記載のガスレーザー。
13. 【請求項１３】　　放出チャネル（１０）は、複数個の
    通路（６０，８２）を有し、通路（６０，８２）は、レ
    ーザーガスチャネル（１６）の両側でそこから離れるよ
    うに延び且つ通路軸線（４２，６４）と相互に整列して
    対となるように配置されることを特徴とする上記請求項
    のいずれか１項に記載のガスレーザー。
14. 【請求項１４】　　レーザーガスチャネル（１６）は、
    設備（１２０）の方向に延びることを特徴とする請求項
    １３に記載のガスレーザー。
15. 【請求項１５】　　外側レーザーガスチャネル（１８，
    ２０）は、放出チャネル（１０）の両外側に配置され、
    外側レーザーガスチャネルの各々は、ミラーチャンバ（
    ３０，３４）によって放出チャネル（１０）の反対に続
    くことを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の
    ガスレーザー。
16. 【請求項１６】　　外側レーザーガスチャネル（１８，
    ２０）は、レーザーガス供給チャネルであることを特徴
    とする請求項１５に記載のガスレーザー。
17. 【請求項１７】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、電気的に非導電性な材料で形成されていることを特徴
    とする上記請求項のいずれか１項に記載のガスレーザー
    。
18. 【請求項１８】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、セラミックス又は石英で形成されることを特徴とする
    請求項１７に記載のガスレーザー。
19. 【請求項１９】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、設計的に同様であることを特徴とする上記請求項のい
    ずれか１項に記載のガスレーザー。
20. 【請求項２０】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、自己支持構造を有することを特徴とする上記請求項の
    いずれか１項に記載のガスレーザー。
21. 【請求項２１】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、上部横断壁（９０）及び下部横断壁（９２）、並びに
    それらを相互に離隔する支持ウエブ（１００，１０２）
    を有し、これらの構成要素は連続部分を構成することを
    特徴とする請求項２０に記載のガスレーザー。
22. 【請求項２２】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、一体部分から成ることを特徴とする請求項２０又は２
    １に記載のガスレーザー。
23. 【請求項２３】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、電極（１３４）を支持することを特徴とする上記請求
    項のいずれか１項に記載のガスレーザー。
24. 【請求項２４】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、設備（１２０）の方向に直接的に隣接して配置される
    ことを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載のガ
    スレーザー。
25. 【請求項２５】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、支持構成要素（５２，５４，７４，７６，１３２）に
    よって相互に連結されることを特徴とする上記請求項の
    いずれか１項に記載のガスレーザー。
26. 【請求項２６】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、その端面で壁板（５２，５４，７４，７６）と当接す
    ることを特徴とする請求項２５に記載のガスレーザー。
27. 【請求項２７】　　設備方向に隣接配置される総てのチ
    ャネル構成要素（４０，６２）は、各々の端面で共通壁
    板（５２，５４，７４，７６）と当接することを特徴と
    する請求項２６に記載のガスレーザー。
28. 【請求項２８】　　壁板（５２，５４，７４，７６）は
    、相互に向かって引っ張られるように引っ掛けロッド（
    １３２）によって保持されることを特徴とする請求項２
    ６又は２７に記載のガスレーザー。
29. 【請求項２９】　　チャネル構成要素（４０，６２）は
    、単品で開口（４８，５０）を囲み所定平面内に配置さ
    れたシール面（１２２）を備える開口（４８，５０）を
    端面に有することを特徴とする上記請求項のいずれか１
    項に記載のガスレーザー。