JPH04303954A - ヒートシンク - Google Patents

ヒートシンク

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Publication number
JPH04303954A
JPH04303954A JP9336591A JP9336591A JPH04303954A JP H04303954 A JPH04303954 A JP H04303954A JP 9336591 A JP9336591 A JP 9336591A JP 9336591 A JP9336591 A JP 9336591A JP H04303954 A JPH04303954 A JP H04303954A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat sink
cooling fins
semiconductor device
thermal resistance
burn
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9336591A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Ishizawa
真 石澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP9336591A priority Critical patent/JPH04303954A/ja
Publication of JPH04303954A publication Critical patent/JPH04303954A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の放熱に使用
するヒートシンクに関し、特にバーンインスクリーニン
グ工程におけるバーンイン炉内で用いて好適なヒートシ
ンクに関する。
【0002】
【従来の技術】従来から半導体装置の放熱用に用いられ
ているヒートシンク11は、図3に示すように、ヒート
シンク本体12に複数個の冷却フィン14を一体に有し
ており、ヒートシンク本体の一部12aに接触される半
導体装置(図示せず)の熱をこれら冷却フィン14から
放熱させている。その放熱効率は、これら冷却フィン1
4の大きさ,数,形状,材質によって一義的に決定され
ており、したがって冷媒の種類,流量などの条件が一定
であるならば熱抵抗(℃/W)は、そのヒートシンクに
固有のものとなる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来のヒートシン
クを、半導体装置のバーンインスクリーニング工程にお
けるバーンイン炉内での半導体装置の放熱に使用すると
、各半導体装置におけるバーンイン炉内での熱抵抗(℃
/W)は固有であるため、同一のバーンイン炉に投入す
る半導体装置の夫々の電力に差があった場合には、半導
体装置のジャンクション温度(Tj)が各半導体装置の
電力に応じて異なることになる。このため、同一のバー
ンイン工程を経たものでも、電力によってそれぞれのス
クリーニング効果(実効バーンイン時間)に差が生じて
しまい、特に高電力の半導体装置の場合、その差は無視
できないものとなる。本発明の目的は半導体装置におけ
るスクリーニング効果を均一とするために熱抵抗の調節
可能としたヒートシンクを提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明のヒートシンクは
、ヒートシンクに設ける複数個の冷却フィンをヒートシ
ンク本体に対して選択的に着脱可能に構成する。又、冷
却フィンをバイメタル構造をした2枚の板部材で構成し
、高温状態で各板部材が互いに背反する方向に湾曲変形
するように構成する。
【0005】
【作用】本発明によれば、ヒートシンクに装着する冷却
フィンの数を調節することで、放熱効率を調節すること
が可能となる。又、温度に応じてバイメタル構造の板部
材が変形されることで、冷却フィンの表面積を自動的に
調節し、これに伴って放熱効率を自動的に調節する。
【0006】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の第1実施例の正面図である。ヒート
シンク1は金属材で形成されたヒートシンク本体2を有
し、このヒートシンク本体2の一部に設けた台部2aは
接触面として構成され、ここに図外の半導体装置が接触
される。又、ヒートシンク本体2の反対側の面には複数
個の凹穴3が形成されている。一方、複数個の冷却フィ
ン4は夫々金属材で形成され、その一部には前記ヒート
シンク本体2の凹穴3に嵌入可能な嵌合部5が一体に設
けられている。そして、これら冷却フィン4は嵌合部5
をヒートシンク本体2の凹穴3に嵌入させ、あるいは離
脱させることで、ヒートシンク本体2に対して容易に着
脱することができるように構成している。
【0007】この構成によれば、半導体装置で発生され
た熱はヒートシンク本体2に伝達され、更に冷却フィン
4に伝達された上でここから放熱される。このとき、放
熱効率は冷却フィン4の大きさ,数,形状,材質によっ
て決定されるが、ここでは冷却フィン4をヒートシンク
本体2に対して選択的に着脱することで、その数を変化
させることができ、これにより冷却フィン4の総合表面
積を変化させ、熱抵抗(℃/W)を調節して放熱効率を
調節することが可能となる。したがって、このヒートシ
ンク1を用いて半導体装置のバーンインスクリーニング
工程を行った場合に、各半導体装置に夫々電力差が生じ
ていても、各半導体装置に使用するヒートシンクの熱抵
抗を調節することで、半導体装置毎のジャンクション温
度の差を小さくでき、スクリーニング効果を均一なもの
にできる。
【0008】図2は本発明の第2実施例の正面図である
。同図(a)のように、ヒートシンク本体2に設けた複
数個の冷却フィン4Aは、夫々常温で真直とされるバイ
メタル構造をもった2枚の板部材6,7を互いに背反す
る向きに接触させた状態で対を成すように構成し、かつ
各一端部をヒートシンク本体2に連結させている。この
ように、半導体装置のジャンクション温度(Tj)が低
く、ヒートシンク1自体の温度も低い常温状態では、同
図のように各対を成す板部材6,7は互いに対向面が接
触するために冷却フィン4の表面積が小さくなり、熱抵
抗(℃/W)は大きくなる。
【0009】一方、半導体装置のジャンクション温度(
Tj)が高く、ヒートシンク自体の温度も高くなると、
図2(b)のように、各対を成す板部材6,7が互いに
背反する方向に湾曲変形されるため、冷却フィン4は開
いた状態となり、その表面積が大きくなり、熱抵抗(℃
/W)は小さくなる。この作用により、バーンインスク
リーニング工程における半導体装置のジャンクション温
度(Tj)を適当な値に調節することができる。したが
って、この実施例では、バーンイン中にヒートシンク以
外の要因(冷媒流量の低下など)で熱抵抗が変化した場
合でも、半導体装置のジャンクション温度(Tj)を適
当な値にある程度保つことができるという利点をもつ。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、冷却フィ
ンを選択的に着脱可能とし、或いは温度状態によって自
動的に冷却フィンの放熱面積を調節するように構成して
いるので、半導体装置のバーンインスクリーニング工程
に用いた場合に、各半導体装置に電力差が生じていても
、夫々に用いるヒートシンクの熱抵抗を調節することが
可能となり、半導体装置のジャンクション温度の差を小
さくし、スクリーニング効果を均一なものにできる効果
がある。このことは、換言すれば、同一パワーの半導体
装置に任意の熱抵抗のヒートシンクを使用することで、
同時に任意のジャンクション温度について信頼性評価が
可能となる効果となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の正面図である。
【図2】本発明の第2実施例の正面図であり、(a)は
常温時、(b)は高温時の状態を夫々示す図である。
【図3】従来のヒートシンクの正面図である。
【符号の説明】
1  ヒートシンク                
    2  ヒートシンク本体 3  凹穴                    
        4  冷却フィン5  嵌合部   
                       6,
7  板部材(バイメタル構造)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  複数個の冷却フィンを有し、半導体装
    置に接触させてこの半導体装置の放熱を行うヒートシン
    クにおいて、前記複数個の冷却フィンをヒートシンク本
    体に対して選択的に着脱可能に構成したことを特徴とす
    るヒートシンク。
  2. 【請求項2】  複数個の冷却フィンを有し、半導体装
    置に接触させてこの半導体装置の放熱を行うヒートシン
    クにおいて、前記冷却フィンをバイメタル構造をした2
    枚の板部材で構成し、高温状態で各板部材が互いに背反
    する方向に湾曲変形するように構成したことを特徴とす
    るヒートシンク。
JP9336591A 1991-03-30 1991-03-30 ヒートシンク Pending JPH04303954A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9336591A JPH04303954A (ja) 1991-03-30 1991-03-30 ヒートシンク

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JP9336591A JPH04303954A (ja) 1991-03-30 1991-03-30 ヒートシンク

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Publication Number Publication Date
JPH04303954A true JPH04303954A (ja) 1992-10-27

Family

ID=14080266

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9336591A Pending JPH04303954A (ja) 1991-03-30 1991-03-30 ヒートシンク

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JP (1) JPH04303954A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013242740A (ja) * 2012-05-22 2013-12-05 Hitachi Ltd マルチプロセッササーバの冷却方法
US9653379B2 (en) 2014-03-14 2017-05-16 Fuji Electric Co., Ltd. Cooler and semiconductor device having cooler

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013242740A (ja) * 2012-05-22 2013-12-05 Hitachi Ltd マルチプロセッササーバの冷却方法
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