JPH0429728A - 水素分離用合金膜 - Google Patents
水素分離用合金膜Info
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- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 86
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 33
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 33
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 51
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims abstract description 10
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 34
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 19
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 abstract description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 23
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000000629 steam reforming Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002803 fossil fuel Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は水素分離用合金膜に関するものである。さら
に詳しくは、この発明は、200℃のような低温におい
ても超高純度の水素を効率よく分離精製でき、耐久性に
も優れた水素分離用の合金膜に関するものである。
に詳しくは、この発明は、200℃のような低温におい
ても超高純度の水素を効率よく分離精製でき、耐久性に
も優れた水素分離用の合金膜に関するものである。
(従来の技術)
水素は、一般に、天然ガスやナフサ等の化石燃料を原料
として水蒸気改質法や部分酸化法により製造されており
、また、この他の石油精製ブワセスにおいても製造され
ている。
として水蒸気改質法や部分酸化法により製造されており
、また、この他の石油精製ブワセスにおいても製造され
ている。
一方、半導体や光ファイバー等の製造プロセスにおいて
は高純度水素が必要とされるが、近年の半導体産業、光
フアイバー製造業等の発展に伴い、高純度水素の需要が
高まっている。
は高純度水素が必要とされるが、近年の半導体産業、光
フアイバー製造業等の発展に伴い、高純度水素の需要が
高まっている。
しかしながら、現状においては、このような高純度水素
を水蒸気改質法等の一般的な水素製造法により直接帯る
ことはできないのが実情である。
を水蒸気改質法等の一般的な水素製造法により直接帯る
ことはできないのが実情である。
水蒸気改質法等で製造される水素ガス中には一酸化炭素
、二酸化炭素、水蒸気、炭化水素等の不純物が含有され
ているため、この水素ガスを半導体産業等で使用するこ
とのできる高純度水素とするためにはさらに精製しなく
てはならない。
、二酸化炭素、水蒸気、炭化水素等の不純物が含有され
ているため、この水素ガスを半導体産業等で使用するこ
とのできる高純度水素とするためにはさらに精製しなく
てはならない。
このような問題を解決する手段として、パラジウム合金
膜を用いる拡散法によって水素ガスを分離精製し、99
.99999%以上の超高純度水素を得る方法が提案さ
れている。この場合、この合金膜に使用するパラジウム
合金としては、パラジウムに銀を20〜30原子%添加
したものが代表的なものである。
膜を用いる拡散法によって水素ガスを分離精製し、99
.99999%以上の超高純度水素を得る方法が提案さ
れている。この場合、この合金膜に使用するパラジウム
合金としては、パラジウムに銀を20〜30原子%添加
したものが代表的なものである。
(発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記のパラジウム合金膜を用いる方法は
、その優れた精製効率にもかかわらず、200 ’t:
’付近で合金膜の水素透過度が低減するために、水素の
分離精製能率を高くすることができないという問題があ
り、また、合金膜自体が高価であるという問題もあった
。
、その優れた精製効率にもかかわらず、200 ’t:
’付近で合金膜の水素透過度が低減するために、水素の
分離精製能率を高くすることができないという問題があ
り、また、合金膜自体が高価であるという問題もあった
。
なお、水素の分離精製法としては、これ以外にもカセイ
ソーダ、ジイソプロパツールアミン等を用いる化学吸収
法、水、深冷メタノール等を用いる物理吸収法、アルミ
ナゲル、活性炭、モレキュラーシーブス等を用いる吸着
法、液体窒素や液体空気を用いる深冷分離法、ポリジメ
チルシロキサン、ポリイミド等を用いる高分子膜による
分離法等も知られているが、これらの方法はいずれも9
9゜99999%以上の超高純度水素を得る方法として
は未だ実用化の域に達していない。
ソーダ、ジイソプロパツールアミン等を用いる化学吸収
法、水、深冷メタノール等を用いる物理吸収法、アルミ
ナゲル、活性炭、モレキュラーシーブス等を用いる吸着
法、液体窒素や液体空気を用いる深冷分離法、ポリジメ
チルシロキサン、ポリイミド等を用いる高分子膜による
分離法等も知られているが、これらの方法はいずれも9
9゜99999%以上の超高純度水素を得る方法として
は未だ実用化の域に達していない。
以上のような従来の水素分離精製法に対し、この発明者
は、最近、ニッケルおよび/またはコバルト5〜20原
子%を含有するバナジウム合金の膜表面にパラジウムま
たはパラジウム合金を被覆したものが水素分離用合金膜
として有望であることを見出している。この水素分離用
合金膜は、パラジウム膜よりも大きい水素透過度を示し
、しかも水素脆性を起こし難いという特徴を有している
。
は、最近、ニッケルおよび/またはコバルト5〜20原
子%を含有するバナジウム合金の膜表面にパラジウムま
たはパラジウム合金を被覆したものが水素分離用合金膜
として有望であることを見出している。この水素分離用
合金膜は、パラジウム膜よりも大きい水素透過度を示し
、しかも水素脆性を起こし難いという特徴を有している
。
しかしながら、この水素分離用合金膜においては、その
バナジウム合金膜の製造に際して市販純度のバナジウム
を原料とした場合、原料バナジウム中に不純物として酸
素や窒素が合計で約0.05原子%程度も含まれている
ために、バナジウム合金膜中で酸素や窒素が不純物とし
て固溶することになる。そして、この固溶不純物として
存在する酸素や窒素が水素と強く相互作用するために水
素の拡散が大きく阻害され、見掛けの水素拡散係数が小
さくなるという問題点があった。
バナジウム合金膜の製造に際して市販純度のバナジウム
を原料とした場合、原料バナジウム中に不純物として酸
素や窒素が合計で約0.05原子%程度も含まれている
ために、バナジウム合金膜中で酸素や窒素が不純物とし
て固溶することになる。そして、この固溶不純物として
存在する酸素や窒素が水素と強く相互作用するために水
素の拡散が大きく阻害され、見掛けの水素拡散係数が小
さくなるという問題点があった。
この発明は以上の通りの事情にzろてなされたものであ
り、上記のバナジウム合金膜の優れた特徴を生かし、し
かも合金膜中に不純物として存在する酸素や窒素の影響
を解消し、200 t’のような低温においても超高純
度の水素を効率よく分離精製することができ、耐久性に
優れ、かつ安価でもある新しい水素分離用合金膜を提供
することを目的としている。
り、上記のバナジウム合金膜の優れた特徴を生かし、し
かも合金膜中に不純物として存在する酸素や窒素の影響
を解消し、200 t’のような低温においても超高純
度の水素を効率よく分離精製することができ、耐久性に
優れ、かつ安価でもある新しい水素分離用合金膜を提供
することを目的としている。
(課題を解決するための手段)
この発明は、上記の課題を解決するものとして、ニッケ
ルおよび/またはコバルト5〜20原子%を含有し、バ
ナジウムより低原子価の金属元素を固溶不純物酸素およ
び窒素を酸化物および窒化物に化合する量添加したバナ
ジウム合金の膜表面にパラジウムまたはパラジウム合金
を被覆してなることを特徴とする水素分離用合金膜を提
供する。
ルおよび/またはコバルト5〜20原子%を含有し、バ
ナジウムより低原子価の金属元素を固溶不純物酸素およ
び窒素を酸化物および窒化物に化合する量添加したバナ
ジウム合金の膜表面にパラジウムまたはパラジウム合金
を被覆してなることを特徴とする水素分離用合金膜を提
供する。
この発明の水素分離用合金膜においては、バナジウム合
金膜の原料として、バナジウムにニッケルおよび/また
はコバルト5〜2o原子%を含有させ、さらにバナジウ
ムよりも低原子価で酸化性および窒化性の大きな別種の
金属元素を含有させたものを使用する。
金膜の原料として、バナジウムにニッケルおよび/また
はコバルト5〜2o原子%を含有させ、さらにバナジウ
ムよりも低原子価で酸化性および窒化性の大きな別種の
金属元素を含有させたものを使用する。
すなわち、まず、バナジウムにニッケルおよび/または
コバルトを5〜20原子%含有させることにより、バナ
ジウムの水素透過度を大きく損なうことなく水素脆性を
抑制して耐久性を向上させ、水素分離膜として好適なも
のとする。バナジウムを単独で使用した場合には、30
0℃以下では水素透過度がパラジウム膜よりも一桁以上
大きくなるが、水素脆性を起こしやすく、水素分離用合
金膜として使用することができない。これに対して、バ
ナジウムにニッケルおよび/またはコバルトを添加して
いくと水素脆性の発生を抑制することができるが、その
添加量が5原子%未満ではまだ水素脆性が顕著で、一方
、その添加量が20原子%を超えるとバナジウム合金膜
中の水素固溶濃度が著しく低下して水素透過度が小さく
なる。そこで、この発明においては、ニッケルおよび/
またはコバルトの添加量を5〜20原子%とし、大きな
水素透過度を有し、かつ水素脆性が抑制されて耐久性が
向上したものとする。
コバルトを5〜20原子%含有させることにより、バナ
ジウムの水素透過度を大きく損なうことなく水素脆性を
抑制して耐久性を向上させ、水素分離膜として好適なも
のとする。バナジウムを単独で使用した場合には、30
0℃以下では水素透過度がパラジウム膜よりも一桁以上
大きくなるが、水素脆性を起こしやすく、水素分離用合
金膜として使用することができない。これに対して、バ
ナジウムにニッケルおよび/またはコバルトを添加して
いくと水素脆性の発生を抑制することができるが、その
添加量が5原子%未満ではまだ水素脆性が顕著で、一方
、その添加量が20原子%を超えるとバナジウム合金膜
中の水素固溶濃度が著しく低下して水素透過度が小さく
なる。そこで、この発明においては、ニッケルおよび/
またはコバルトの添加量を5〜20原子%とし、大きな
水素透過度を有し、かつ水素脆性が抑制されて耐久性が
向上したものとする。
また、この発明においては、バナジウム合金中にバナジ
ウムよりも低原子価で固溶不純物とじての酸素および窒
素と化合しやすい酸化性および窒化性の大きな金属元素
を添加する。これによりバナジウム合金膜中に不純物と
して固溶する酸素や窒素を酸化物あるいは窒化物として
無害化する。
ウムよりも低原子価で固溶不純物とじての酸素および窒
素と化合しやすい酸化性および窒化性の大きな金属元素
を添加する。これによりバナジウム合金膜中に不純物と
して固溶する酸素や窒素を酸化物あるいは窒化物として
無害化する。
このため、この発明のバナジウム合金膜は、バナジウム
にニッケルやコバルトを添加しただけのバナジウム合金
膜に比べて水素拡散係数が著しく向上し、200℃のよ
うな低温においても水素の分離精製を高い効率で行うこ
とが可能となる。
にニッケルやコバルトを添加しただけのバナジウム合金
膜に比べて水素拡散係数が著しく向上し、200℃のよ
うな低温においても水素の分離精製を高い効率で行うこ
とが可能となる。
添加する金属元素としては、バナジウムよりも低原子価
で酸化物および窒化物を生成しやすいものであるかぎり
任意の元素を使用することができ、たとえば、イツトリ
ウム、チタン、ジルコニウム、ガリウム、インジウム、
マグネシウム、ストロンチウム等を例示することができ
る。
で酸化物および窒化物を生成しやすいものであるかぎり
任意の元素を使用することができ、たとえば、イツトリ
ウム、チタン、ジルコニウム、ガリウム、インジウム、
マグネシウム、ストロンチウム等を例示することができ
る。
これらの金属元素の添加量は、不純物として存在する酸
素および窒素をすべて酸化物あるいは窒化物に化合する
量とするのが好ましく、原料として使用するバナジウム
の酸素および窒素の含有量に応じてその添加量を定める
こととする。金属元素の添加量が不純物として存在する
酸素および窒素を酸化物あるいは窒化物にする量に満た
ず、バナジウム合金中に酸素および窒素が残存すると金
属元素の添加効果が明確に現れない。一方、酸素および
窒素の量に対して過剰量に添加すると、添加した金属元
素と水素との相互作用が大きくなり、水素透過度が小さ
くなる。 また、この発明のバナジウム合金膜は、以上
のようなバナジウム合金原料を常法により溶製し膜に加
工することにより得ることができる。
素および窒素をすべて酸化物あるいは窒化物に化合する
量とするのが好ましく、原料として使用するバナジウム
の酸素および窒素の含有量に応じてその添加量を定める
こととする。金属元素の添加量が不純物として存在する
酸素および窒素を酸化物あるいは窒化物にする量に満た
ず、バナジウム合金中に酸素および窒素が残存すると金
属元素の添加効果が明確に現れない。一方、酸素および
窒素の量に対して過剰量に添加すると、添加した金属元
素と水素との相互作用が大きくなり、水素透過度が小さ
くなる。 また、この発明のバナジウム合金膜は、以上
のようなバナジウム合金原料を常法により溶製し膜に加
工することにより得ることができる。
次いでこのバナジウム合金膜の表面にパラジウムまたは
パラジウム合金を被覆する。バナジウム合金膜単独では
、バナジウムが酸化しゃすいた杓にその膜表面に水素透
過の障害となる安定な酸化物が形成され、水素分離膜と
して好ましくないが、パラジウムまたはパラジウム合金
でバナジウム合金膜の表面を被覆することにより膜表面
の酸化を防止することができる。また、このような被覆
により、膜表面が油の蒸気などで汚染されて水素分離性
能が劣化しても、200℃以上で空気を導入するベーキ
ング処理を施すことにより容易に性能の回復を図ること
が可能となり、実際のプラント等における水素分離精製
の操業能率を高めることが可能となる。
パラジウム合金を被覆する。バナジウム合金膜単独では
、バナジウムが酸化しゃすいた杓にその膜表面に水素透
過の障害となる安定な酸化物が形成され、水素分離膜と
して好ましくないが、パラジウムまたはパラジウム合金
でバナジウム合金膜の表面を被覆することにより膜表面
の酸化を防止することができる。また、このような被覆
により、膜表面が油の蒸気などで汚染されて水素分離性
能が劣化しても、200℃以上で空気を導入するベーキ
ング処理を施すことにより容易に性能の回復を図ること
が可能となり、実際のプラント等における水素分離精製
の操業能率を高めることが可能となる。
パラジウムまたはパラジウム合金による被覆の厚さとし
ては、10ナノメーターから数ミクロンとするのが好ま
しい。従来のパラジウム合金膜に比べて高価なパラジウ
ムの使用量は僅かである。
ては、10ナノメーターから数ミクロンとするのが好ま
しい。従来のパラジウム合金膜に比べて高価なパラジウ
ムの使用量は僅かである。
このため、この発明の合金膜は安価に得ることができる
。
。
なお、パラジウムまたはパラジウム合金の被覆方法とし
ては、メツキ法、蒸着法、スパッタ法等種々の方法を採
用することができる。
ては、メツキ法、蒸着法、スパッタ法等種々の方法を採
用することができる。
(作 用)
この発明の水素分離精製用合金膜においては、バナジウ
ムにニッケルおよび/またはコバルトを5〜20原子%
含有させたバナジウム合金膜ヲ用いるので、大きな水素
透過度を有し、かつ水素脆性が抑制されて耐久性が向上
したものとなる。
ムにニッケルおよび/またはコバルトを5〜20原子%
含有させたバナジウム合金膜ヲ用いるので、大きな水素
透過度を有し、かつ水素脆性が抑制されて耐久性が向上
したものとなる。
さらに、このバナジウム合金膜には、バナジウムよりも
低原子価の酸化性および窒化性の大きな金属元素を含有
させるので、バナジウム合金膜中に不純物として固溶す
る酸素や窒素を酸化物あるいは窒化物として無害化する
ことができ、水素拡散係数を著しく向上させ、−層大き
な水素透過度を有するものとすることができる。200
℃のような低温においても水素の分離精製を高い効率で
行うことが可能となり、水素の分離精製操業を省エネル
ギーで行うことが可能となる。
低原子価の酸化性および窒化性の大きな金属元素を含有
させるので、バナジウム合金膜中に不純物として固溶す
る酸素や窒素を酸化物あるいは窒化物として無害化する
ことができ、水素拡散係数を著しく向上させ、−層大き
な水素透過度を有するものとすることができる。200
℃のような低温においても水素の分離精製を高い効率で
行うことが可能となり、水素の分離精製操業を省エネル
ギーで行うことが可能となる。
また、この発明の水素分離精製用合金膜においては、バ
ナジウム合金膜の表面にパラジウムまたはパラジウム合
金を被覆するので、膜表面の酸化を防止することができ
、水素透過の障害となる酸化物の形成を解消することが
できる。またこれにより、膜表面にベーキング処理を施
して、水素分離性能を繰り返し回復させることが可能と
なる。
ナジウム合金膜の表面にパラジウムまたはパラジウム合
金を被覆するので、膜表面の酸化を防止することができ
、水素透過の障害となる酸化物の形成を解消することが
できる。またこれにより、膜表面にベーキング処理を施
して、水素分離性能を繰り返し回復させることが可能と
なる。
(実施例)
以下、この発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
実施例1
アルゴン中でアーク溶解法で溶製することにより、ニッ
ケル15原子%、イツトリウム0.05原子%、残部バ
ナジウムからなるバナジウム合金を製造し、これを厚さ
約1 mmの膜にした。次いで、このバナジウム合金膜
の表面にパルスメツキ法で厚さ約10nmのパラジウム
を被覆し、この発明の水素分離用合金膜を製造した。合
金膜中には、不純物酸素および窒素が合計で約0.05
原子%含まれていた。
ケル15原子%、イツトリウム0.05原子%、残部バ
ナジウムからなるバナジウム合金を製造し、これを厚さ
約1 mmの膜にした。次いで、このバナジウム合金膜
の表面にパルスメツキ法で厚さ約10nmのパラジウム
を被覆し、この発明の水素分離用合金膜を製造した。合
金膜中には、不純物酸素および窒素が合計で約0.05
原子%含まれていた。
この合金膜の水素透過度の温度依存性を第1図(1)に
示した。後述の比較例との対比から明らかなように、そ
の水素透過度は著しく大きいことがわかる。また、20
0℃で散気圧の水素圧で繰り返し試験しても亀裂は生じ
なかった。
示した。後述の比較例との対比から明らかなように、そ
の水素透過度は著しく大きいことがわかる。また、20
0℃で散気圧の水素圧で繰り返し試験しても亀裂は生じ
なかった。
実施例2
バナジウム合金膜中にチタン0.05原子%を含有させ
、実施例1と同様にこの発明の水素分離用合金膜を製造
した。
、実施例1と同様にこの発明の水素分離用合金膜を製造
した。
第1図(2)にその水素透過度を示した。実施例1と同
様その特性は優れていた。
様その特性は優れていた。
実施例3
バナジウム合金膜中に、ジルコニウム0.05原子%を
含有させ、実施例1と同様にこの発明の水素分離用合金
膜を製造した。
含有させ、実施例1と同様にこの発明の水素分離用合金
膜を製造した。
第1図(3)にその水素透過度を示した。実施例1と同
様に優れた特性であった。
様に優れた特性であった。
実施例4
バナジウム合金膜中のチタン含有量を0.05原子%と
して、実施例1と同様にこの発明の水素分離用合金膜を
製造した。
して、実施例1と同様にこの発明の水素分離用合金膜を
製造した。
この合金膜の水素透過度の温度依存性を第2図(1)に
示した。水素透過度は極めて大きいことがわかる。
示した。水素透過度は極めて大きいことがわかる。
また、次の実施例5および6との対比から明らかなよう
に、固溶酸素および窒素量に見合う量のチタン含有量(
0,05原子%)の場合、水素透過度が最も大きくなる
ことが確認された。
に、固溶酸素および窒素量に見合う量のチタン含有量(
0,05原子%)の場合、水素透過度が最も大きくなる
ことが確認された。
実施例5
バナジウム合金膜中のチタン含有量を0.1原子%とし
て、実施例4と同様にこの発明の水素分離用合金膜を製
造した。
て、実施例4と同様にこの発明の水素分離用合金膜を製
造した。
第2図
にその水素透過度を示した。
実施例6
チタン含有量を0.025原子%として実施例4と同様
に合金膜を製造した。その水素透過度は第2図(3)に
示した。
に合金膜を製造した。その水素透過度は第2図(3)に
示した。
比較例1
ニッケル15原子%、残部バナジウムからなるバナジウ
ム合金をバナジウム合金膜の原料として、実施例1と同
様に水素分離用合金膜を製造した。
ム合金をバナジウム合金膜の原料として、実施例1と同
様に水素分離用合金膜を製造した。
このバナジウム合金膜中には、不純物酸素および窒素が
合計で約0.05原子%含まれていた。
合計で約0.05原子%含まれていた。
その水素透過度を第1図(a)として示した。
そのレベルは実施例1〜3に比べて低くかった。
比較例2
厚さ約1肺のパラジウム膜を作成し、水素分離用膜とし
た。その水素透過度を第1図(b)として示した。
た。その水素透過度を第1図(b)として示した。
(発明の効果)
この発明によれば、たとえば第1図に示したように、酸
化性および窒化性の大きい金属元素を含まない合金膜(
比較例)に比べて水素透過度は大きく、200℃のよう
な低温においても超高純度の水素を高い効率で分離精製
することができる。耐久憧に優れ、かつ高能率操業が可
能で、安価な水素分離用合金膜が実現される。
化性および窒化性の大きい金属元素を含まない合金膜(
比較例)に比べて水素透過度は大きく、200℃のよう
な低温においても超高純度の水素を高い効率で分離精製
することができる。耐久憧に優れ、かつ高能率操業が可
能で、安価な水素分離用合金膜が実現される。
第1図および第2図は、水素分離用合金膜の水素透過度
の温度依存性を示した相関図である。 特許出題人 科学技術庁金属材料技術研究所長 新 居 和 嘉 第 図 温 度 / C 1000/T / に−1
の温度依存性を示した相関図である。 特許出題人 科学技術庁金属材料技術研究所長 新 居 和 嘉 第 図 温 度 / C 1000/T / に−1
Claims (1)
- (1)ニッケルおよび/またはコバルト5〜20原子%
を含有し、バナジウムより低原子価の金属元素を固溶不
純物酸素および窒素を酸化物および窒化物に化合する量
添加したバナジウム合金の膜表面にパラジウムまたはパ
ラジウム合金を被覆してなることを特徴とする水素分離
用合金膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2134179A JPH0698281B2 (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 水素分離用合金膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2134179A JPH0698281B2 (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 水素分離用合金膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0429728A true JPH0429728A (ja) | 1992-01-31 |
JPH0698281B2 JPH0698281B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=15122292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2134179A Expired - Lifetime JPH0698281B2 (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 水素分離用合金膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0698281B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003095616A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | National Institute For Materials Science | 水素分離精製装置 |
US6585033B2 (en) | 2001-02-19 | 2003-07-01 | Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. | Process for producing vanadium alloy foil |
JP2003311867A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Toyo Kohan Co Ltd | 分離膜積層材および分離膜積層材を用いた部品 |
EP1300188A3 (en) * | 2001-10-02 | 2005-02-02 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Hydrogen-permeable membrane, manufacturing method of the same, and hydrogen gas separator using the same |
JP2008200558A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 化学気相析出法を用いた水素透過膜製造装置 |
WO2012039283A1 (ja) * | 2010-09-24 | 2012-03-29 | 東京瓦斯株式会社 | 水素分離膜 |
KR101275213B1 (ko) * | 2011-08-18 | 2013-06-17 | 한국에너지기술연구원 | 보론으로 도핑된 바나듐 기재 합금 수소 분리막과 이를 이용한 수소 분리방법 |
JP2019522731A (ja) * | 2016-06-06 | 2019-08-15 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション | 基材上にPd−Au合金層を形成する方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5229503B2 (ja) * | 2007-02-19 | 2013-07-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 水素精製方法、水素分離膜、及び水素精製装置 |
-
1990
- 1990-05-25 JP JP2134179A patent/JPH0698281B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6585033B2 (en) | 2001-02-19 | 2003-07-01 | Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd. | Process for producing vanadium alloy foil |
JP2003095616A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | National Institute For Materials Science | 水素分離精製装置 |
EP1300188A3 (en) * | 2001-10-02 | 2005-02-02 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Hydrogen-permeable membrane, manufacturing method of the same, and hydrogen gas separator using the same |
JP2003311867A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Toyo Kohan Co Ltd | 分離膜積層材および分離膜積層材を用いた部品 |
JP2008200558A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 化学気相析出法を用いた水素透過膜製造装置 |
WO2012039283A1 (ja) * | 2010-09-24 | 2012-03-29 | 東京瓦斯株式会社 | 水素分離膜 |
KR101275213B1 (ko) * | 2011-08-18 | 2013-06-17 | 한국에너지기술연구원 | 보론으로 도핑된 바나듐 기재 합금 수소 분리막과 이를 이용한 수소 분리방법 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0698281B2 (ja) | 1994-12-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |