JPH0429563Y2 - - Google Patents

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JPH0429563Y2
JPH0429563Y2 JP11307886U JP11307886U JPH0429563Y2 JP H0429563 Y2 JPH0429563 Y2 JP H0429563Y2 JP 11307886 U JP11307886 U JP 11307886U JP 11307886 U JP11307886 U JP 11307886U JP H0429563 Y2 JPH0429563 Y2 JP H0429563Y2
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JP
Japan
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circuit board
dam ring
base
holding plate
top surface
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JP11307886U
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JPS6318848U (ja
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は回路基板の上面を樹脂モールドする際
に使用するダムリングの接合装置に関するもので
ある。
(従来の技術とその問題点) 通常リードピンを多数備える回路基板における
ダムリングの接合は、大気中において回路基板上
面に熱硬化性の接着剤を塗布すると共に、該接着
剤が塗布された上面に治具で保持されたダムリン
グを載置し、かつ該ダムリング上面を押圧した
後、これを真空室に入れて接着剤中の気泡を脱気
していた。
ところが、この接合作業はダムリングを回路基
板上面に接合した後、真空室に入れて脱気すると
いう2つの工程を必要とし、さらに接着剤中の気
泡を全て脱気するには1.5torrの真空中で約30分
〜90分の時間を要するため非常に非能率的であつ
た。
(考案が解決しようとする技術的課題) 以上の問題を解決しようとする本考案の技術的
課題は、回路基板におけるダムリングの接合作業
の工程を短縮することである。
(技術的課題を達成するための技術的手段) 以上の技術的課題を達成するための本考案の技
術的手段は、基台の上方に保持板を上下動自在に
設けて形成した接合機を真空室内に内設し、該基
台の上面には載置部を凹設すると共に、保持板の
下面には載置部と対向するホルダーを設けること
である。
(考案の効果) 本考案は以上の様な構成にしたことにより下記
の効果を有する。
ダムリングの接合機を真空室に設置したの
で、ダムリングの接合作業及び脱気作業を一連
の連続工程で行なうことができ、作業能率の向
上を図ることができる。
ダムリングの接合作業を真空室内で行なうの
で、回路基板上面に塗布された接着剤中の気泡
及びダムリング下面に付着した気泡の脱気時間
(1.5torrの真空中)を従来の約30分〜90分に対
して3分〜6分に大幅に短縮することができ
る。
(実施例) 以下、本考案の一実施例を図面により説明す
る。
第1図〜第3図は回路基板mにおけるダムリン
グnの接合装置Aの作動図を示すものであり、該
回路基板用ダムリングの接合装置Aは真空室1と
該真空室内1aに内設された接合機2とにより構
成される。
回路基板mはガラスエポキシ樹脂、セラミツク
等で適宜大きさに形成された基板m1に、縦横方
向に等間隔をもつて多数のリードピンm2が取り
付けられると共に、マウント部aに前記リードピ
ンm2とリード線を介して連結されたICチツプが
搭載されて形成されている。
ダムリングnは、ICチツプを樹脂モールドす
るためにシリコンゴム等の熱硬化性樹脂製の接着
剤sを介して回路基板mの上面に接着される。
また、該ダムリングnは回路基板mよりもやや
小さな平面方形に形成されると共に、マウント部
a及びボンデイングリード部に対応する中央部に
開口部n1が穿孔されている。
接合機2は基台3と該基台3の上方に設けた保
持板4とからなり、基台3の上面には回路基板m
が載置されるための載置部5が縦横に等間隔をも
つて多数凹設されている。
該載置部5は回路基板mにおける基板m1より
やや大きく、かつ該回路基板mを載置した状態で
基板上面と基台上面とが面一状になるか、或いは
基板上面が基台上面からやや突出するくらいの深
さに切欠形成する。
保持板4は油圧シリンダー4aを介して上下動
可能に設けられると共に、前記載置部5と対向す
る下面にホルダー6が設けられている。
該ホルダー6は対向状に設けた2対の挾持片6
aで形成されると共に、該挾持片6aが操作部に
おける操作スイツチと電気的に連結され、該スイ
ツチの操作により開閉動してダムリングnを保持
したり或いは保持されたダムリングnを落下させ
たりするものである。
第5図と第6図はホルダー6の他の実施例を示
す断面図である。
第5図における20は回路基板mをセツトする
ための凹溝であり、21は凹溝20に回路基板m
を保持させるための掛止片であり、ばね21aに
より出没自在に設けられている。
また、22は回路基板mを基台3上の載置部5
に落下させるためのスライド板である。
而して、回路基板mをリードピンm2が上向き
の状態でセツトすると共に基台3の載置部5に接
着剤sを塗布したダムリングnを載置し、脱気作
業が終つた後に、スライド板22がスライドして
回路基板mをダムリングnに落下させる。
第6図は保持板4下面に切欠した凹溝30の上
面に電磁石31を設けたものであり、前記と同様
に電磁石31に回路基板mのリードピンm2を吸
着させてセツトし、該電磁石31の電源のON・
OFFにより、回路基板mを載置部5にセツトさ
れたダムリングnに落下させるものである。
而して、該回路基板用ダムリングの接合装置A
の作動について説明する。
まず、最初に真空室1内に内設した接合機2の
保持板4を上昇させた状態で基台3の載置部5
に、上面へ接着剤sを塗布した回路基板mを設置
すると共に、保持板4のホルダー6にダムリング
nを保持させる。そして、該接着剤s中及びダム
リングn下面に付着した気泡を脱気する(第1
図)。
次に、保持板4を下降させて所定位置、すなわ
ち基台上面と保持板下面との間隙が約1cmのとこ
ろで停止させる(第2図)。
そして、ホルダー6の挾持片6aを開動させて
ダムリングnを回路基板mに落下させると共に、
所定時間後にダムリングnが回路基板mに接合さ
れた状態で再び脱気をする(第3図)。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本考案の回路基板用ダムリン
グの接合装置の作動を示す断面図、第4図は同平
面図、第5図、第6図はホルダーの他の実施例を
示す断面図である。 尚、図中A……回路基板用ダムリングの接合装
置、1……真空室、2……接合機、3……基台、
4……保持板、5……載置部、6……ホルダーを
夫々示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 基台の上方に保持板を上下動自在に設けて形成
    した接合機を真空室内に内設し、該基台の上面に
    は載置部を凹設すると共に、保持板の下面には載
    置部と対向するホルダーを設けた回路基板用ダム
    リングの接合装置。
JP11307886U 1986-07-22 1986-07-22 Expired JPH0429563Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11307886U JPH0429563Y2 (ja) 1986-07-22 1986-07-22

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JP11307886U JPH0429563Y2 (ja) 1986-07-22 1986-07-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6318848U JPS6318848U (ja) 1988-02-08
JPH0429563Y2 true JPH0429563Y2 (ja) 1992-07-17

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JPS6318848U (ja) 1988-02-08

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