JPH04291219A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH04291219A JPH04291219A JP5507991A JP5507991A JPH04291219A JP H04291219 A JPH04291219 A JP H04291219A JP 5507991 A JP5507991 A JP 5507991A JP 5507991 A JP5507991 A JP 5507991A JP H04291219 A JPH04291219 A JP H04291219A
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- light
- light source
- exposure apparatus
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Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式を採用す
る例えばプリンタ、ファクシミリ、複写機等の画像形成
装置に用いられる露光装置に関する。
る例えばプリンタ、ファクシミリ、複写機等の画像形成
装置に用いられる露光装置に関する。
【0002】近年、電子写真方式を採用して高品質の画
像が得られるようにしたプリンタ、ファクシミリ、複写
機等の画像形成装置が開発され、実用に供されている。
像が得られるようにしたプリンタ、ファクシミリ、複写
機等の画像形成装置が開発され、実用に供されている。
【0003】かかる画像形成装置においては、印刷すべ
き画像に対応した潜像を感光体上に形成するために、一
様帯電された該感光体に、例えばレーザ光等の光を照射
して走査を行なう露光装置が用いられている。
き画像に対応した潜像を感光体上に形成するために、一
様帯電された該感光体に、例えばレーザ光等の光を照射
して走査を行なう露光装置が用いられている。
【0004】かかる露光装置では、光の収束や偏向のた
めにレンズ、ミラー等の多数の光学素子から成る光学系
が用いられている。したがって、露光装置自体の構造が
複雑且つ大型化するとともに、高価なものとなっていた
。そこで、簡単な構造で小型化が可能であり、且つ安価
な露光装置が望まれている。
めにレンズ、ミラー等の多数の光学素子から成る光学系
が用いられている。したがって、露光装置自体の構造が
複雑且つ大型化するとともに、高価なものとなっていた
。そこで、簡単な構造で小型化が可能であり、且つ安価
な露光装置が望まれている。
【0005】
【従来の技術】従来の画像形成装置においては、像担持
体としての感光体上に潜像を形成するために、露光装置
が用いられている。
体としての感光体上に潜像を形成するために、露光装置
が用いられている。
【0006】かかる露光装置は、記録すべき情報に応じ
た光を発生するための光源として、例えば半導体レーザ
が用いられ、該半導体レーザから出射される発散ビーム
のビーム径を絞るとともに平行光に変換するコリメート
レンズ、該コリメートレンズでビーム径が絞られ、平行
光に変換されたレーザビームの収差を補正するためのシ
リンドリカルレンズ、該シリンドリカルレンズにより補
正されたレーザビームを偏向するための回転多面鏡(ポ
リゴンミラー)又は揺動する一面鏡、これら回転多面鏡
又は一面鏡で偏向されたレーザビームの走査速度を補正
して感光体上に結像させるためのfθレンズ又はarc
sinθレンズ等によって構成されている。
た光を発生するための光源として、例えば半導体レーザ
が用いられ、該半導体レーザから出射される発散ビーム
のビーム径を絞るとともに平行光に変換するコリメート
レンズ、該コリメートレンズでビーム径が絞られ、平行
光に変換されたレーザビームの収差を補正するためのシ
リンドリカルレンズ、該シリンドリカルレンズにより補
正されたレーザビームを偏向するための回転多面鏡(ポ
リゴンミラー)又は揺動する一面鏡、これら回転多面鏡
又は一面鏡で偏向されたレーザビームの走査速度を補正
して感光体上に結像させるためのfθレンズ又はarc
sinθレンズ等によって構成されている。
【0007】かかる露光装置においては、例えばホスト
装置から送られてきた、印刷すべき画像に対応した記録
情報に所定の変調をかけて半導体レーザに供給し、これ
により、半導体レーザは記録情報に応じて発光する。
装置から送られてきた、印刷すべき画像に対応した記録
情報に所定の変調をかけて半導体レーザに供給し、これ
により、半導体レーザは記録情報に応じて発光する。
【0008】この半導体レーザから出射されたレーザビ
ームは、一般に、発散性ビームである。この発散性ビー
ムはコリメートレンズで平行光に変換される。また、こ
のコリメートレンズでは、光束が所定のビーム径になる
ように絞られる。
ームは、一般に、発散性ビームである。この発散性ビー
ムはコリメートレンズで平行光に変換される。また、こ
のコリメートレンズでは、光束が所定のビーム径になる
ように絞られる。
【0009】このコリメートレンズを通過したレーザビ
ームのビーム径は楕円形であるが、シリンドリカルレン
ズを通過することによりその収差が補正されて略真円に
変換され、回転多面鏡又は一面鏡に入射される。この際
、回転多面鏡は一定速度で回転し、また、一面鏡の場合
は所定速度で揺動している。
ームのビーム径は楕円形であるが、シリンドリカルレン
ズを通過することによりその収差が補正されて略真円に
変換され、回転多面鏡又は一面鏡に入射される。この際
、回転多面鏡は一定速度で回転し、また、一面鏡の場合
は所定速度で揺動している。
【0010】したがって、これら回転多面鏡又は一面鏡
で反射されたレーザビームは等角速度で偏向されること
になり、このままでは感光体上で等速度走査とはならず
、感光体の中央付近では低速走査、両端付近では高速走
査が行われることになる。
で反射されたレーザビームは等角速度で偏向されること
になり、このままでは感光体上で等速度走査とはならず
、感光体の中央付近では低速走査、両端付近では高速走
査が行われることになる。
【0011】そこで、回転多面鏡又は一面鏡で反射され
たレーザビームを、fθレンズ又はarcsinθレン
ズを通過させることにより感光体上で等速度走査になる
ように変換し、その変換光を感光体上に結像させる。こ
れにより、点滅するレーザビームで感光体が等速度走査
され、一様帯電された感光体表面が記録情報に応じて除
電され、潜像が形成される。
たレーザビームを、fθレンズ又はarcsinθレン
ズを通過させることにより感光体上で等速度走査になる
ように変換し、その変換光を感光体上に結像させる。こ
れにより、点滅するレーザビームで感光体が等速度走査
され、一様帯電された感光体表面が記録情報に応じて除
電され、潜像が形成される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】このように、fθレン
ズ又はarcsinθレンズを用いて等角速度走査を等
速度走査に変換する従来の露光装置は、光学系が複雑且
つ大きくなり、上述した小型化、低価格化等の要請に応
え得るものではない。
ズ又はarcsinθレンズを用いて等角速度走査を等
速度走査に変換する従来の露光装置は、光学系が複雑且
つ大きくなり、上述した小型化、低価格化等の要請に応
え得るものではない。
【0013】そこで、等角速度で回転又は揺動する回転
多面鏡又は一面鏡から反射された光を感光体上で等速度
走査に変換する手段として、制御回路により半導体レー
ザの発光間隔と発光デューティを制御し、感光体上で実
質的に等速度走査になるようにしたものが本発明者等に
より考えられている。つまり、感光体の中央付近では高
速走査となるので発光間隔が短く、両端付近では低速走
査となるので発光間隔が長くなるように制御し、感光体
上で実質的に等速度走査になるようにしたものである。
多面鏡又は一面鏡から反射された光を感光体上で等速度
走査に変換する手段として、制御回路により半導体レー
ザの発光間隔と発光デューティを制御し、感光体上で実
質的に等速度走査になるようにしたものが本発明者等に
より考えられている。つまり、感光体の中央付近では高
速走査となるので発光間隔が短く、両端付近では低速走
査となるので発光間隔が長くなるように制御し、感光体
上で実質的に等速度走査になるようにしたものである。
【0014】しかしながら、該技術では、走査効率ηが
良好となるように走査係数fを選んでいるので、走査速
度の変動に伴い発光デューティが変動し、書込み効率α
が劣化するという問題があった。
良好となるように走査係数fを選んでいるので、走査速
度の変動に伴い発光デューティが変動し、書込み効率α
が劣化するという問題があった。
【0015】即ち、走査効率ηが大きくなるように印字
に用いる画角を広くとると、走査速度変動が大きくなる
。そこで、感光体上での書込み標本化周期を実質的に一
定とするために、感光体上の走査位置に応じて書込みク
ロックの周波数を変化させると、感光体中央付近の走査
速度が早い部分では、平均速度に比べ非常に速いクロッ
クが必要となり、この部分の露光時間が短くなる。その
ため、短い露光時間で所定のエネルギーを付与して感光
体表面を除電するには大容量の光源(半導体レーザ等)
が必要になるという問題があった。
に用いる画角を広くとると、走査速度変動が大きくなる
。そこで、感光体上での書込み標本化周期を実質的に一
定とするために、感光体上の走査位置に応じて書込みク
ロックの周波数を変化させると、感光体中央付近の走査
速度が早い部分では、平均速度に比べ非常に速いクロッ
クが必要となり、この部分の露光時間が短くなる。その
ため、短い露光時間で所定のエネルギーを付与して感光
体表面を除電するには大容量の光源(半導体レーザ等)
が必要になるという問題があった。
【0016】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
ので、制御回路により半導体レーザの発光間隔と発光デ
ューティを制御し、感光体上で実質的に等速度走査にな
るようにして小型化、低価格化の要請に応えつつ、露光
時間が短くなることにより大容量の光源を必要とすると
いう問題を解消し、書込み効率が劣化するのを防止でき
る露光装置を提供することを目的とする。
ので、制御回路により半導体レーザの発光間隔と発光デ
ューティを制御し、感光体上で実質的に等速度走査にな
るようにして小型化、低価格化の要請に応えつつ、露光
時間が短くなることにより大容量の光源を必要とすると
いう問題を解消し、書込み効率が劣化するのを防止でき
る露光装置を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の露光装置は、光
を発生する光源10と、該光源10が発生する光を所定
の運動により主走査方向に偏向せしめる偏向手段11と
、該偏向手段11で偏向された光による走査で潜像が形
成される感光体12とを具備し、前記偏向手段11の所
定の運動による前記感光体12上での走査速度変動に応
じて、前記光源10の発光間隔を制御して前記感光体1
2上での光照射位置の間隔を略一定としながら潜像を形
成する露光装置において、書込み効率αが大となるよう
に走査係数fを設定し、該走査係数fに基づいて前記光
源10と前記感光体12との配設距離が定められたこと
を特徴とする。
を発生する光源10と、該光源10が発生する光を所定
の運動により主走査方向に偏向せしめる偏向手段11と
、該偏向手段11で偏向された光による走査で潜像が形
成される感光体12とを具備し、前記偏向手段11の所
定の運動による前記感光体12上での走査速度変動に応
じて、前記光源10の発光間隔を制御して前記感光体1
2上での光照射位置の間隔を略一定としながら潜像を形
成する露光装置において、書込み効率αが大となるよう
に走査係数fを設定し、該走査係数fに基づいて前記光
源10と前記感光体12との配設距離が定められたこと
を特徴とする。
【0018】
【作用】本発明は、偏向角度(rad)と像位置との関
係を規定する定数である露光装置の走査係数f(次元は
、通常mm/rad)を、通常使用される走査効率ηの
良い値(走査係数fが小さい領域)に比べ、新たに定義
した書込み効率αから導かれる値(走査係数fは大きい
)とした。これにより、上記露光時間が短くなることに
より大容量の光源を必要とするという問題が解消され、
書込み効率の劣化を防止できるものとなっている。
係を規定する定数である露光装置の走査係数f(次元は
、通常mm/rad)を、通常使用される走査効率ηの
良い値(走査係数fが小さい領域)に比べ、新たに定義
した書込み効率αから導かれる値(走査係数fは大きい
)とした。これにより、上記露光時間が短くなることに
より大容量の光源を必要とするという問題が解消され、
書込み効率の劣化を防止できるものとなっている。
【0019】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【0020】図1は、本発明の露光装置の一実施例の要
部の構成を、簡略化して示した図である。
部の構成を、簡略化して示した図である。
【0021】図において、10は光源としての半導体レ
ーザであり、形成すべき画像に応じて点滅するレーザ光
(走査光)を発生するものである。この半導体レーザ1
0が発生する光は発散性を有し、その発散方向に応じて
拡がり角が異なるのが一般的である。
ーザであり、形成すべき画像に応じて点滅するレーザ光
(走査光)を発生するものである。この半導体レーザ1
0が発生する光は発散性を有し、その発散方向に応じて
拡がり角が異なるのが一般的である。
【0022】12は感光体としての感光体ドラムである
。この感光体ドラム12は、例えば図示矢印A方向(以
下、「副走査方向」という)に回転される。そして、回
転されながら露光(走査)により形成された静電潜像を
担持するものである。
。この感光体ドラム12は、例えば図示矢印A方向(以
下、「副走査方向」という)に回転される。そして、回
転されながら露光(走査)により形成された静電潜像を
担持するものである。
【0023】即ち、図示しない帯電器により一様に帯電
され、副走査方向に回転移動する感光体ドラム12の表
面が、生成すべき画像に応じて点滅する潜像形成光によ
り図示矢印BC方向(以下、「主走査方向」という)に
走査され、光照射された部分が除電されて静電潜像が形
成される。
され、副走査方向に回転移動する感光体ドラム12の表
面が、生成すべき画像に応じて点滅する潜像形成光によ
り図示矢印BC方向(以下、「主走査方向」という)に
走査され、光照射された部分が除電されて静電潜像が形
成される。
【0024】なお、この感光体ドラム12に形成された
静電潜像は、トナーが付着されることにより現像されて
トナー像が形成され、該トナー像が用紙に転写されて定
着されることにより、用紙上に画像が形成されることに
なる。
静電潜像は、トナーが付着されることにより現像されて
トナー像が形成され、該トナー像が用紙に転写されて定
着されることにより、用紙上に画像が形成されることに
なる。
【0025】11は回転楕円面鏡である。回転楕円面鏡
11は、2つの焦点で形成される楕円を、該2つの焦点
を通る軸を中心に回転させた際に形成される回転楕円面
の一部を切り取って構成されるものである。
11は、2つの焦点で形成される楕円を、該2つの焦点
を通る軸を中心に回転させた際に形成される回転楕円面
の一部を切り取って構成されるものである。
【0026】この回転楕円面鏡11は、樹脂或いは硝子
等でモールド成形され、反射面となる凹面に高反射率を
有する金属材料等を蒸着して製造される。
等でモールド成形され、反射面となる凹面に高反射率を
有する金属材料等を蒸着して製造される。
【0027】このようにして製造された回転楕円面鏡1
1は、該回転楕円面鏡11の第1の焦点に光源としての
半導体レーザ10が位置され、第2の焦点が感光体ドラ
ム12の表面の結像点となるように配設される。
1は、該回転楕円面鏡11の第1の焦点に光源としての
半導体レーザ10が位置され、第2の焦点が感光体ドラ
ム12の表面の結像点となるように配設される。
【0028】13は駆動モータである。この駆動モータ
13の軸14には、上記回転楕円面鏡11が固着される
構成となっている。そして、上記半導体レーザ10は、
この軸14(回転軸又は揺動軸)上に配置され、該軸1
4方向にレーザビームを発光する。上記駆動モータ13
は、図示矢印D又はEの一方向のみに回転されるか、ま
たは、図示矢印D及びEの方向に交互に所定角度をもっ
て回転(揺動)するように制御される。
13の軸14には、上記回転楕円面鏡11が固着される
構成となっている。そして、上記半導体レーザ10は、
この軸14(回転軸又は揺動軸)上に配置され、該軸1
4方向にレーザビームを発光する。上記駆動モータ13
は、図示矢印D又はEの一方向のみに回転されるか、ま
たは、図示矢印D及びEの方向に交互に所定角度をもっ
て回転(揺動)するように制御される。
【0029】図2は、図1における回転楕円面鏡11の
2つの焦点を通る面(図1のSで示す)で切断した断面
図である。光源としての半導体レーザ10は、第1の焦
点(発光点)に置かれ、この発光点から発せられた光は
回転楕円面鏡11で反射され、感光体ドラム12の表面
にある第2の焦点(結像点)15に収束される。なお、
16は回転楕円面鏡11の回転軸である。
2つの焦点を通る面(図1のSで示す)で切断した断面
図である。光源としての半導体レーザ10は、第1の焦
点(発光点)に置かれ、この発光点から発せられた光は
回転楕円面鏡11で反射され、感光体ドラム12の表面
にある第2の焦点(結像点)15に収束される。なお、
16は回転楕円面鏡11の回転軸である。
【0030】この回転楕円面鏡11の楕円形状は、次式
で表すことができる。
で表すことができる。
【0031】
ここで、aは楕円の長径であり、bは楕円の短径で
ある。この2焦点間の距離が走査係数fとなる。
ある。この2焦点間の距離が走査係数fとなる。
【0032】このように構成される露光装置は次のよう
に動作する。
に動作する。
【0033】即ち、形成すべき画像に応じた信号が半導
体レーザ10に供給されると、該半導体レーザ10は、
上記信号に応じて発光する。第1の焦点に置かれた半導
体レーザ10から発生された光線は走査光として回転楕
円面鏡11に照射される。そして、この回転楕円面鏡1
1で反射された光線は潜像形成光として、楕円面鏡の性
質から、第2の焦点に到達する。
体レーザ10に供給されると、該半導体レーザ10は、
上記信号に応じて発光する。第1の焦点に置かれた半導
体レーザ10から発生された光線は走査光として回転楕
円面鏡11に照射される。そして、この回転楕円面鏡1
1で反射された光線は潜像形成光として、楕円面鏡の性
質から、第2の焦点に到達する。
【0034】ここに、半導体レーザ10から発せられる
光は発散光束であるところ、第1の焦点から発せられた
全ての光線は、第2の焦点を通ることから、第2の焦点
に集束される。これにより、所定の集光ビーム径で感光
体ドラム12上に結像し、感光体ドラム12上の照射部
分を除電する。
光は発散光束であるところ、第1の焦点から発せられた
全ての光線は、第2の焦点を通ることから、第2の焦点
に集束される。これにより、所定の集光ビーム径で感光
体ドラム12上に結像し、感光体ドラム12上の照射部
分を除電する。
【0035】かかる動作を、駆動モータ13の駆動によ
って回転又は揺動される回転楕円面鏡11により、感光
体ドラム12上での結像位置を主走査方向に移動しなが
ら繰り返し実行する。1ライン分の主走査が完了した時
点で、感光体ドラム12が1走査ラインピッチ分だけ副
走査方向に移動(回転)された状態となり、この状態で
上記と同様の動作が行われる。このような動作を、例え
ば1ページ分繰り返し実行し、感光体ドラム12の表面
上に1ページ分の静電潜像が得られる。
って回転又は揺動される回転楕円面鏡11により、感光
体ドラム12上での結像位置を主走査方向に移動しなが
ら繰り返し実行する。1ライン分の主走査が完了した時
点で、感光体ドラム12が1走査ラインピッチ分だけ副
走査方向に移動(回転)された状態となり、この状態で
上記と同様の動作が行われる。このような動作を、例え
ば1ページ分繰り返し実行し、感光体ドラム12の表面
上に1ページ分の静電潜像が得られる。
【0036】かかる構成の露光装置によれば、半導体レ
ーザ10から発生された発散性を有するビームを平行光
に変換する光学系等が不要となり、露光装置の構成が簡
単になるという利点がある。
ーザ10から発生された発散性を有するビームを平行光
に変換する光学系等が不要となり、露光装置の構成が簡
単になるという利点がある。
【0037】次に、上記半導体レーザ10、回転楕円面
鏡11、及び感光体ドラム12の配設位置について説明
する。
鏡11、及び感光体ドラム12の配設位置について説明
する。
【0038】今、走査効率をηとすれば、走査効率は下
式で表すことができる。
式で表すことができる。
【0039】走査効率η=Tw/Ts…(1)式ここで
、Tw:副走査周期 Ts:印字幅に対応する書込み時間、である。
、Tw:副走査周期 Ts:印字幅に対応する書込み時間、である。
【0040】また、走査速度変動率をHとすれば、走査
速度変動率は下記式で表すことができる。
速度変動率は下記式で表すことができる。
【0041】走査速度変動率H=(Vmax−Vmin
)/Vmax…(2)式 ここで、Vmax:印字幅内の最大走査速度Vmin:
印字幅内の最小走査速度、である。
)/Vmax…(2)式 ここで、Vmax:印字幅内の最大走査速度Vmin:
印字幅内の最小走査速度、である。
【0042】上記走査効率η、及び走査速度変動率Hを
用いて新たな書込み効率αを下記式で定義する。
用いて新たな書込み効率αを下記式で定義する。
【0043】書込み効率α=η×(1−H)…(3)式
この書込み効率αが略最大となるように走査係数f、つ
まり半導体レーザ10と感光体ドラム12の距離を設定
すれば、書込み効率αを高く維持した状態で露光装置を
構成することができる。
この書込み効率αが略最大となるように走査係数f、つ
まり半導体レーザ10と感光体ドラム12の距離を設定
すれば、書込み効率αを高く維持した状態で露光装置を
構成することができる。
【0044】つまり、下記境界条件■、■のもとで下記
によって定義される書込み効率αが略最大となるように
、走査係数fが設定される。
によって定義される書込み効率αが略最大となるように
、走査係数fが設定される。
【0045】境界条件:■印字幅はLとして与えられて
いる。■最大走査全角はθとして与えられている。
いる。■最大走査全角はθとして与えられている。
【0046】印字幅LをA4サイズ又はレターサイズで
用いられる216mmとした場合の、いくつかの最大走
査全角θに対する書込み効率α及び走査係数fの一例を
表1に示す。
用いられる216mmとした場合の、いくつかの最大走
査全角θに対する書込み効率α及び走査係数fの一例を
表1に示す。
【0047】
【表1】
また、最大走査全角θに対する書込み効率α及び走査係
数fの関係を図3に示す。
数fの関係を図3に示す。
【0048】上記表1又は図3に示した関係を有するよ
うに走査係数f、つまり半導体レーザ10と感光体ドラ
ム12の表面間の距離を決定すれば、半導体レーザ10
の容量を小さくできる。
うに走査係数f、つまり半導体レーザ10と感光体ドラ
ム12の表面間の距離を決定すれば、半導体レーザ10
の容量を小さくできる。
【0049】なお、上記実施例では、印字幅Lを216
mmとして、いくつかの最大走査全角について走査係数
f及び書込み効率αを算出した例を示したが、印字幅L
や最大走査全角θが他の値になった場合も同様に計算で
きることは勿論である。
mmとして、いくつかの最大走査全角について走査係数
f及び書込み効率αを算出した例を示したが、印字幅L
や最大走査全角θが他の値になった場合も同様に計算で
きることは勿論である。
【0050】また、上記各値の算出に際し、上記(4)
式からニュートン法等が使用できることも明らかであ
る。
式からニュートン法等が使用できることも明らかであ
る。
【0051】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば制
御回路により半導体レーザの発光間隔と発光デューティ
を制御し、感光体上で実質的に等速度走査になるように
して小型化、低価格化の要請に応えつつ、露光時間が短
くなることにより大容量の光源を必要とするという問題
を解消し、書込み効率が劣化するのを防止できる露光装
置を提供することができる。
御回路により半導体レーザの発光間隔と発光デューティ
を制御し、感光体上で実質的に等速度走査になるように
して小型化、低価格化の要請に応えつつ、露光時間が短
くなることにより大容量の光源を必要とするという問題
を解消し、書込み効率が劣化するのを防止できる露光装
置を提供することができる。
【図1】本発明の実施例の構成を示す図である。
【図2】本発明の実施例の半導体レーザと回転楕円面鏡
と感光体ドラムの位置関係を説明するための図である。
と感光体ドラムの位置関係を説明するための図である。
【図3】本発明の実施例の最大走査全角θに対する書込
み効率α及び走査係数fの関係を示す図である。
み効率α及び走査係数fの関係を示す図である。
10 光源(半導体レーザ)
11 偏向手段(回転楕円面鏡)
12 感光体(感光体ドラム)
Claims (8)
- 【請求項1】 光を発生する光源(10)と、該光源
(10)が発生する光を所定の運動により主走査方向に
偏向せしめる偏向手段(11)と、該偏向手段(11)
で偏向された光による走査で潜像が形成される感光体(
12)とを具備し、前記偏向手段(11)の所定の運動
による前記感光体(12)上での走査速度変動に応じて
、前記光源(10)の発光間隔を制御して前記感光体(
12)上での光照射位置の間隔を略一定としながら潜像
を形成する露光装置において、書込み効率αが大となる
ように走査係数fを設定し、該走査係数fに基づいて前
記光源(10)と前記感光体(12)との配設距離が定
められたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項2】 前記偏向手段(11)は、前記光源(
10)が発生する光を揺動により主走査方向に偏向せし
めることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 【請求項3】 前記偏向手段(11)は、曲面鏡であ
ることを特徴とする請求項2記載の露光装置。 - 【請求項4】 前記偏向手段(11)は、回転楕円面
鏡であることを特徴とする請求項2記載の露光装置。 - 【請求項5】 前記光源(10)は、回転楕円面鏡の
一方の焦点又は該焦点の所定範囲内に配設されたことを
特徴とする請求項4記載の露光装置。 - 【請求項6】 前記偏向手段(11)の揺動軸は、前
記回転楕円面鏡の一方の焦点又は該焦点の所定範囲内を
通るように設けられたことを特徴とする請求項4又は5
記載の露光装置。 - 【請求項7】 前記書込み効率αは、下記(3) 式
により算出され、該書込み効率αが大となるように走査
係数fが設定されることを特徴とする請求項1から6ま
での何れかに記載の露光装置。 書込み効率α=η×(1−H)…(3)式但し、書込み
効率η=Tw/Ts 走査速度変動率H=(Vmax−Vmin)/Vmax
であり、 Tw: 印字幅に対応する書込み時間、Ts:副走査周
期、 Vmax:印字幅内の最大走査速度、 Vmin:印字幅内の最小速度、である。 - 【請求項8】 前記書込み効率αは、下記(4) 式
により算出され、該書込み効率αが大となるように走査
係数fが設定されることを特徴とする請求項1から6ま
での何れかに記載の露光装置。 但し、Lは印字幅、θは最大走査全角である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5507991A JP2861443B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5507991A JP2861443B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04291219A true JPH04291219A (ja) | 1992-10-15 |
JP2861443B2 JP2861443B2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=12988701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5507991A Expired - Lifetime JP2861443B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2861443B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-19 JP JP5507991A patent/JP2861443B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2861443B2 (ja) | 1999-02-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19981110 |