JPH04289537A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
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- JPH04289537A JPH04289537A JP3054970A JP5497091A JPH04289537A JP H04289537 A JPH04289537 A JP H04289537A JP 3054970 A JP3054970 A JP 3054970A JP 5497091 A JP5497091 A JP 5497091A JP H04289537 A JPH04289537 A JP H04289537A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクに関し、特に
光ディスクの製造方法に関するものである。
光ディスクの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光線を照射することにより情報の
記録、再生が行われる光ディスクの基板は表面にプリグ
ルーブを備えた円盤状のガラスあるいは透明な合成樹脂
で構成されており、また該基板上の少なくとも一面には
、垂直に磁化された（Ｔｂ−ＳｉＯ２ ／Ｔｂ−Ｆｅ−
Ｃｏ／Ｔｂ−ＳｉＯ２ ）磁性膜が記録媒体として形成
される。このような光ディスクの基板または記録媒体上
には、上記レーザ光線に対して透光性を有する合成樹脂
による保護層が形成されている。
記録、再生が行われる光ディスクの基板は表面にプリグ
ルーブを備えた円盤状のガラスあるいは透明な合成樹脂
で構成されており、また該基板上の少なくとも一面には
、垂直に磁化された（Ｔｂ−ＳｉＯ２ ／Ｔｂ−Ｆｅ−
Ｃｏ／Ｔｂ−ＳｉＯ２ ）磁性膜が記録媒体として形成
される。このような光ディスクの基板または記録媒体上
には、上記レーザ光線に対して透光性を有する合成樹脂
による保護層が形成されている。
【０００３】図３は光ディスクの製造方法の一例を示す
フロー図である。予め所定の外形寸法に成形されるとと
もに表面にトラック及びグルーブを形成した円盤状の基
板１に対し例えばスパッタリング、ＣＶＤ法等により記
録媒体２を蒸着する（図３（ａ） ）。その後、基板１
をスピンコータのターンテーブル１５にセットし、例え
ば紫外線硬化樹脂等の液状の合成樹脂３ａを基板１の中
心近傍に滴下しながら軸１６の周りに該ターンテーブル
１５を基板１とともに高速回転させて、遠心力によって
上記合成樹脂３ａを基板１の外周へ向けて移動させなが
ら基板１上及び記録媒体２上に被覆させる（図３（ｂ）
）。さらに上記合成樹脂３ａに向けて紫外線照射を行
って上記合成樹脂３ａを硬化させる（図３（ｃ） ）。 上記のような保護層３の形成工程は基板１の裏面に対し
ても同様に行われ、光ディスク２０を得る（図３（ｄ）
）。
フロー図である。予め所定の外形寸法に成形されるとと
もに表面にトラック及びグルーブを形成した円盤状の基
板１に対し例えばスパッタリング、ＣＶＤ法等により記
録媒体２を蒸着する（図３（ａ） ）。その後、基板１
をスピンコータのターンテーブル１５にセットし、例え
ば紫外線硬化樹脂等の液状の合成樹脂３ａを基板１の中
心近傍に滴下しながら軸１６の周りに該ターンテーブル
１５を基板１とともに高速回転させて、遠心力によって
上記合成樹脂３ａを基板１の外周へ向けて移動させなが
ら基板１上及び記録媒体２上に被覆させる（図３（ｂ）
）。さらに上記合成樹脂３ａに向けて紫外線照射を行
って上記合成樹脂３ａを硬化させる（図３（ｃ） ）。 上記のような保護層３の形成工程は基板１の裏面に対し
ても同様に行われ、光ディスク２０を得る（図３（ｄ）
）。
【０００４】
【発明が解決すべき課題】ところで上記の工程を経て製
造された光ディスク２０は、図３（ｄ） に示すように
硬化する前の合成樹脂３ａが基板１の表面あるいは裏面
から逸脱し、基板１の外周側面１ａに紫外線照射で硬化
してバリ３ｂとなって付着し、該光ディスク２０の外径
が所期の値よりも大きくなる寸法誤差を生じる事態が頻
発していた。
造された光ディスク２０は、図３（ｄ） に示すように
硬化する前の合成樹脂３ａが基板１の表面あるいは裏面
から逸脱し、基板１の外周側面１ａに紫外線照射で硬化
してバリ３ｂとなって付着し、該光ディスク２０の外径
が所期の値よりも大きくなる寸法誤差を生じる事態が頻
発していた。
【０００５】近年光ディスクは関連装置の小型化に伴い
、外径５インチ規格の光ディスクに替わって、外径３．
５インチ規格の光ディスクの需要が高まりつつある中で
、外径５インチ規格の光ディスクにおいては深刻な問題
となり得なかった、上記バリ３ｂによる外径寸法誤差が
、外径３．５インチ規格の光ディスクではＩＳＯ（Ｉｎ
ｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｒｇａ
ｎｉｚａｔｉｏｎ） で規定された外径寸法の許容誤差
を逸脱してしまう場合が少なくない。
、外径５インチ規格の光ディスクに替わって、外径３．
５インチ規格の光ディスクの需要が高まりつつある中で
、外径５インチ規格の光ディスクにおいては深刻な問題
となり得なかった、上記バリ３ｂによる外径寸法誤差が
、外径３．５インチ規格の光ディスクではＩＳＯ（Ｉｎ
ｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｒｇａ
ｎｉｚａｔｉｏｎ） で規定された外径寸法の許容誤差
を逸脱してしまう場合が少なくない。
【０００６】上記バリ３ｂを除去するために、図４（ａ
） に示すようにバイト１７で切削する除去作業や、図
４（ｂ） に示すように、合成樹脂３ａの硬化前に外周
側面１ａをスポンジ等の払拭具１８で払拭作業を行う方
法も考えられるが、これでは光ディスクの製造工程が煩
雑化し、製造コスト低減を図る上で支障がある。本発明
は上記従来の事情に鑑み提案されたものであって、光デ
ィスクの保護層形成工程を簡略化を果たす光ディスクの
製造方法を提供することを目的とするものである。
） に示すようにバイト１７で切削する除去作業や、図
４（ｂ） に示すように、合成樹脂３ａの硬化前に外周
側面１ａをスポンジ等の払拭具１８で払拭作業を行う方
法も考えられるが、これでは光ディスクの製造工程が煩
雑化し、製造コスト低減を図る上で支障がある。本発明
は上記従来の事情に鑑み提案されたものであって、光デ
ィスクの保護層形成工程を簡略化を果たす光ディスクの
製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は以下の手段を採用する。すなわち、図１に
示すように、基板１上または基板１表面に形成された記
録媒体２上に合成樹脂３ａによる保護層３を形成する光
ディスクの製造方法において、上記保護層３を形成する
前段で、基板１の外周側面１ａに撥油性の高い材料によ
る防護被膜４を形成する構成とした光ディスクの製造方
法であり、特に保護層３となる合成樹脂３ａの上記防護
被膜４に対する接触角θを４０°以上とすることが望ま
しい。
めに本発明は以下の手段を採用する。すなわち、図１に
示すように、基板１上または基板１表面に形成された記
録媒体２上に合成樹脂３ａによる保護層３を形成する光
ディスクの製造方法において、上記保護層３を形成する
前段で、基板１の外周側面１ａに撥油性の高い材料によ
る防護被膜４を形成する構成とした光ディスクの製造方
法であり、特に保護層３となる合成樹脂３ａの上記防護
被膜４に対する接触角θを４０°以上とすることが望ま
しい。
【０００８】
【作用】上記の構成において、図１に示すように、防護
被膜４によって基板１の外周側面１ａが保護層３となる
合成樹脂３ａと濡れ難くなるために、保護層３の形成工
程と同時に該外周側面１ａにはみ出した合成樹脂３ａが
、重力で落下するか、もしくは遠心力によって振り飛ば
されたりするので外周側面１ａに付着することを抑制な
いしは防止することができる。また、一部付着した合成
樹脂３ａによるバリ３ｂも上記防護被膜４から容易に除
去することができるようになる。
被膜４によって基板１の外周側面１ａが保護層３となる
合成樹脂３ａと濡れ難くなるために、保護層３の形成工
程と同時に該外周側面１ａにはみ出した合成樹脂３ａが
、重力で落下するか、もしくは遠心力によって振り飛ば
されたりするので外周側面１ａに付着することを抑制な
いしは防止することができる。また、一部付着した合成
樹脂３ａによるバリ３ｂも上記防護被膜４から容易に除
去することができるようになる。
【０００９】また、図２に示すように、硬化前の合成樹
脂３ａの防護被膜４に対する接触角θを４０°以上とな
るように防護被膜４の材料、あるいは合成樹脂３ａを選
定することで、上記の作用が確実に保障され、４０°未
満の場合では合成樹脂３ａの一部が外周側面１ａに付着
したり、あるいは除去し難くなる恐れがあり、好ましく
ない。
脂３ａの防護被膜４に対する接触角θを４０°以上とな
るように防護被膜４の材料、あるいは合成樹脂３ａを選
定することで、上記の作用が確実に保障され、４０°未
満の場合では合成樹脂３ａの一部が外周側面１ａに付着
したり、あるいは除去し難くなる恐れがあり、好ましく
ない。
【００１０】尚、上記防護被膜４は所定の溶剤を使用し
て容易に除去でき、その際に光ディスクに悪影響をおよ
ぼす懸念は全くない。
て容易に除去でき、その際に光ディスクに悪影響をおよ
ぼす懸念は全くない。
【００１１】
【実施例】以下、本発明に関し、実施例をもとに説明す
る。図１は本発明に係る一実施例のフロー図であり、図
２は保護層となる合成樹脂の濡れ性を比較する説明図で
ある。図１に示すように、予め所定外径、所定厚さの円
盤状に成形されるとともに表面にトラック及びグルーブ
を形成したポリカーボネイト製の基板１に対し例えばス
パッタリング、ＣＶＤ法等により記録媒体２を蒸着する
（図１（ａ） ）。
る。図１は本発明に係る一実施例のフロー図であり、図
２は保護層となる合成樹脂の濡れ性を比較する説明図で
ある。図１に示すように、予め所定外径、所定厚さの円
盤状に成形されるとともに表面にトラック及びグルーブ
を形成したポリカーボネイト製の基板１に対し例えばス
パッタリング、ＣＶＤ法等により記録媒体２を蒸着する
（図１（ａ） ）。
【００１２】次に基板１の外周側面１ａに撥油性の高い
フッ素系離型剤（例えば商品名：ＭＳ１８８、ダイキン
工業株式会社製）を含浸させたスポンジローラ１１を当
接させて、防護被膜４を形成する（図１（ｂ） ）。尚
、この防護被膜４は所定の溶剤を使用して払拭すること
により容易に除去できる。その後、基板１をスピンコー
タのターンテーブル１５にセットし、紫外線硬化性を有
する合成樹脂（例えば商品名：ＳＤ−３０１、大日本イ
ンキ化学工業株式会社製）３ａを基板１の中心近傍に滴
下しながら軸１６の周りに該ターンテーブル１５を基板
１とともに高速回転させて、遠心力によって上記合成樹
脂３ａを基板１の外周へ向けて移動させながら基板１上
及び記録媒体２上に被覆させる（図１（ｃ））。この工
程において、上記合成樹脂３ａは基板１の外周上縁から
落下して、防護被膜４で被覆した外周側面１ａに付着す
るが、上記合成樹脂３ａは図２（ａ） に示すように防
護被膜４に対する接触角θがほぼ５０°と、図２（ｂ）
に示す上記ポリカーボネイト製の基板１に対する接触
角ψが５°程度であるのに比べて、外周側面１ａに形成
された防護被膜４に対する濡れ性が格段に悪いために、
上記ターンテーブル１５の回転に伴って外周側面に付着
した合成樹脂３ａが全て振り飛ばされた。尚、上記保護
層３を形成するための方法は任意に選択可能であるが、
上記のように保護層３の形成と同時に外周側面１ａに付
着した合成樹脂３ａを後段で除去する工程は全く不要と
なるスピンコータを形成手段として使用することが望ま
しい。
フッ素系離型剤（例えば商品名：ＭＳ１８８、ダイキン
工業株式会社製）を含浸させたスポンジローラ１１を当
接させて、防護被膜４を形成する（図１（ｂ） ）。尚
、この防護被膜４は所定の溶剤を使用して払拭すること
により容易に除去できる。その後、基板１をスピンコー
タのターンテーブル１５にセットし、紫外線硬化性を有
する合成樹脂（例えば商品名：ＳＤ−３０１、大日本イ
ンキ化学工業株式会社製）３ａを基板１の中心近傍に滴
下しながら軸１６の周りに該ターンテーブル１５を基板
１とともに高速回転させて、遠心力によって上記合成樹
脂３ａを基板１の外周へ向けて移動させながら基板１上
及び記録媒体２上に被覆させる（図１（ｃ））。この工
程において、上記合成樹脂３ａは基板１の外周上縁から
落下して、防護被膜４で被覆した外周側面１ａに付着す
るが、上記合成樹脂３ａは図２（ａ） に示すように防
護被膜４に対する接触角θがほぼ５０°と、図２（ｂ）
に示す上記ポリカーボネイト製の基板１に対する接触
角ψが５°程度であるのに比べて、外周側面１ａに形成
された防護被膜４に対する濡れ性が格段に悪いために、
上記ターンテーブル１５の回転に伴って外周側面に付着
した合成樹脂３ａが全て振り飛ばされた。尚、上記保護
層３を形成するための方法は任意に選択可能であるが、
上記のように保護層３の形成と同時に外周側面１ａに付
着した合成樹脂３ａを後段で除去する工程は全く不要と
なるスピンコータを形成手段として使用することが望ま
しい。
【００１３】さらに上記合成樹脂３ａに紫外線を照射し
、上記合成樹脂３ａを硬化させ（図１（ｄ） ）、基板
１の裏面に対しても図１（ａ） 乃至（ｄ） に示す工
程が行われることにより、保護層３を構成する合成樹脂
３ａによるバリが外周側面１ａに全く付着しない状態の
光ディスク１０を得た（図１（ｅ） ）。尚、本発明は
上記実施例において使用した保護層３を構成する合成樹
脂３ａや、防護被膜４の材料に限定されず、種々の材料
を使用することができる。さらに上記防護被膜４を形成
する工程も記録媒体２の蒸着後ではなく、基板１の成形
直後に行うこともできる。
、上記合成樹脂３ａを硬化させ（図１（ｄ） ）、基板
１の裏面に対しても図１（ａ） 乃至（ｄ） に示す工
程が行われることにより、保護層３を構成する合成樹脂
３ａによるバリが外周側面１ａに全く付着しない状態の
光ディスク１０を得た（図１（ｅ） ）。尚、本発明は
上記実施例において使用した保護層３を構成する合成樹
脂３ａや、防護被膜４の材料に限定されず、種々の材料
を使用することができる。さらに上記防護被膜４を形成
する工程も記録媒体２の蒸着後ではなく、基板１の成形
直後に行うこともできる。
【００１４】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば 保護
層を形成する前段で、基板の外周側面に撥油性の高い材
料による防護被膜を形成することにより、基板の外周側
面に上記保護層を構成する合成樹脂によるバリが付着し
なくなるか、あるいは付着しても容易に除去できるため
に、別工程でのバリの除去作業が不要となるので、製造
工程を簡略化できるとともに、製品に対する悪影響を排
除することができ、製造コストの低減、製品の歩留まり
の向上に大きく寄与するものである。
層を形成する前段で、基板の外周側面に撥油性の高い材
料による防護被膜を形成することにより、基板の外周側
面に上記保護層を構成する合成樹脂によるバリが付着し
なくなるか、あるいは付着しても容易に除去できるため
に、別工程でのバリの除去作業が不要となるので、製造
工程を簡略化できるとともに、製品に対する悪影響を排
除することができ、製造コストの低減、製品の歩留まり
の向上に大きく寄与するものである。
【図１】本発明に係る一実施例のフロー図である。
【図２】保護層となる合成樹脂の濡れ性を比較する説明
図である。
図である。
【図３】従来例の製造手順を示すフロー図である。
【図４】従来例の問題点を示す説明図である。
１ 基板
１ｂ 外周側面
２ 記録媒体
３ 保護層
３ａ 合成樹脂
４ 防護被膜
θ 接触角
Claims (2)
- 【請求項１】 基板（１） 上または基板（１） 表
面に形成された記録媒体（２） 上に合成樹脂（３ａ）
による保護層（３） を形成する光ディスクの製造方法
において、上記保護層（３） を形成する前段で、基板
（１） の外周側面（１ａ）に撥油性の高い材料による
防護被膜（４） を形成することを特徴とする光ディス
クの製造方法。 - 【請求項２】 保護層（３） となる合成樹脂（３ａ
）の、上記防護被膜（４） に対する接触角 （θ）
を４０°以上とした請求項１に記載の光ディスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3054970A JP2774877B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3054970A JP2774877B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04289537A true JPH04289537A (ja) | 1992-10-14 |
| JP2774877B2 JP2774877B2 (ja) | 1998-07-09 |
Family
ID=12985517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3054970A Expired - Fee Related JP2774877B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2774877B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6349086B2 (en) * | 1998-01-09 | 2002-02-19 | Sony Corporation | Optical disc and method for manufacturing same |
-
1991
- 1991-03-19 JP JP3054970A patent/JP2774877B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6349086B2 (en) * | 1998-01-09 | 2002-02-19 | Sony Corporation | Optical disc and method for manufacturing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2774877B2 (ja) | 1998-07-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980414 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |