JPH0428705B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規アスコフラノン類緑体に関する。
さらにくわしくは本発明は、一般式 〔式中、R¹はオキソ基または低級アルキレン
ジオキシ基、R²は２−テトラヒドロピラニルオ
キシ基、水酸基、低級アルカノイルオキシ基、ハ
ロゲン原子、基

【式】

【式】

【式】または

【式】 を意味する。但しR¹がオキソ基を示す場合には、
R²は基

【式】 であつてはならない。〕 で示されるアスコフラノン類緑体に係る。 アスコフラノンは天然物から抽出され、その化
学名は（Ｅ，Ｅ）−３−クロロ−４，６−ジヒド
ロキシ−２−メチル−５−〔３−メチル−７−（テ
トラヒドロ−５，５−ジメチル−４−オキソ−２
−フラニル）−２，６−オクタジエニル）ベンズ
アルデヒドであつて、下記構造式 で示される化合物である（Tetrahedron Letters
No.25，2541頁および2544頁（1972年）を参照）。
アスコフラインは抗高脂血症作用、抗腫瘍作用に
より、動脈硬化等の予防及び治療剤、制ガン剤と
して有用な化合物である。〔Tetrahedron
Letter，25，2541〜2544（1972）、Ｈ，Sasaki et.
al.，J.Antibiotics，26，676（1973），J.Magae
et.al.，J.Antibiotics，35，1547（1982）、K.
Andoet.at.Tetrahedron Letters，887（1975）参
照〕。 このアスコフラノンは、分子内に不斉炭素原子
を有しており、光学活性の観点から言えば（−）
体である。而して上記アスコフラノンとその光学
異性体とのラセ三体（以下これを「（±）−アスコ
フラノン」という）も、同様の薬理活性を有して
いると考えらている。本発明の上記一般式(1)で表
わされるアスコフラノン類緑体は、斯かる（±）
−アスコフラノンを合成するための中間体として
有用である。 前記一般式(1)においてR¹で示される低級アル
キレンジオキシ基としては、代表的にはエチレン
ジオキシが挙げられる。R²で示される低級アル
カノイルオキシ基としては、具体的にはホルミル
オキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、
プチリルオキシ基等を例示できる。またハロゲン
原子としては、フツ素、塩素、臭素及びヨウ素原
子を示す。 本発明の化合物は種々の方法で製造され得る
が、好ましい方法としては以下の反応式で示され
る方法がある。 〔式中THPは２−テトラヒドロピラニル基、
R³は低級アルカノイル基、Ａは低級アルキレン
基、Ｘはハロゲン原子を意味する。〕 まず、式dlコサンで表わされる公知の化合物に
不活性溶媒中、リチウム−ヘキサメチル−ジシラ
ザイドないしは、リチウム−ジ（低級アルキル）
アミドなどの存在下、式（）で示される公知〓
化合物を反応させて、式（）で示される縮合物
が得られる。式（）の化合物と式（）の化合
物との使用割合としては、特に制限されず広い範
囲内であ適宜選択することができるが、通常前者
に対して後者を１〜５倍モル量、好ましくは２倍
モル量程度とするのがよい。ここで用いられる不
活性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロ
ホルムなどのハロゲン化炭化水素類、メチルエー
テル、エチルエーテル、テトラヒドロフランなど
のエーテル類が挙げられる。上記反応は、特に限
定されないが、通常−100℃〜０℃程度、好まし
くは−90〜−60℃にて行なわれ、一般に１〜５時
間程度で反応は完了する。 次に適当な不活性溶媒中触媒及びオルト蟻酸ア
ルキル類の存在で式（）の縮合物を反応させる
ことにより環化物（Ia）が得られる。ここで用い
られる不活性溶媒としては、例えばメチルエーテ
ル、エチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、
塩化メチレンなどのハロゲン化炭素水素類が挙げ
られ、また、触媒としては、例えばｐ−トルエン
スルホン酸、10−カンフアスルホン酸、ピリジニ
ウム−ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸やメ
タノール、エタノールなどのアルコール類が挙げ
られる。オルト蟻酸エステル類として例えばオル
ト蟻酸メチル、オルト蟻酸エチルが挙げられ、こ
れらは化合物（）に対して通常大過剰量用いら
れる。化合物（）に対する触媒の使用量として
は特に制限されず、広い範囲内で適宜選択するこ
とができるが、通常化合物（）に対して触媒を
通常１モル以下、好ましくは１／200〜１／400モ
ル量とするのがよい。上記反応は通常０〜60℃程
度、好ましくは20〜40℃にて行なわれ、該反応は
一般に５〜10時間程度で完了する。 上記で得られた化合物（Ia）を適当な不活性溶
媒中で酸性触媒下に処理すると水酸化物（Ib）が
得られる。ここで用いられる不活性溶媒として
は、例えば水、メタノール、エタノールなどの低
級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどのエーテル類などが挙げられる。 酸性触媒としては、例えば塩酸、硫酸などの無
機酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機
酸が含まれ、それらの使用量はとくに限定されな
いが、化合物（Ia）に対して通常触媒量〜過剰量
が用いられる。上記反応は、通常室温〜70℃程
度、好ましくは30〜60℃にて行なわれ、該反応は
一般に１〜５時間程度で完了する。 上記で得られた化合物（Ib）を低級アルカノイ
ル化して対応する化合物（Ic）を得る。この反応
は通常のアシル化反応の条件下に行なわれ、例え
ば不活性溶媒中または無溶媒下、塩基性化合物の
存在下に低級アルカン酸の反応性誘導体、例えば
低級アルカン酸無水物またはハライドを作用させ
るとよい。不活性溶媒としては、例えば塩化メチ
レン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素
類、ピリジンなどが挙げられ、また塩基性化合物
としては酢酸ナトリウムなどのアルカリ金属化合
物トリエチルアミン、ピリジンなどの第３級アミ
ン類が挙げられる。塩基性化合物の使用量として
は、通常化合物（Ib）に対して10〜50モル量、好
ましくは15〜25モル量とするのがよい。用いられ
る低級アルカン酸の反応性誘導体の使用量として
は、化合物（Ib）に対し少なくとも等モル量、通
常過剰量で使用するのがよい。上記反応は通常０
〜50℃、好ましくは室温付近に１〜18時間程度で
完了する。 化合物（Ic）を無溶媒下にまたは例えばクロロ
ホルム塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素などの適当な不活性溶媒中、トリ（低級アル
キル）シリルトリフロオロメタンスルホン酸など
の強酸の存在下にエチレングリコールジートリ
（低級アルキル）シリルエーテルを作用させると
対応するケタール体（Id）が得られる。上記強酸
は、化合物（Ic）に対して通常0.5モル量以下、
好ましくは１／100〜１／25モル量使用するのが
よい。またエチレングリコールジートリ（低級ア
ルキル）シリルエーテルは、化合物（Ic）に対し
て通常１〜５モル量、好ましくは１〜1.5モル量
使用するのがよい。上記反応温度は通常−30〜40
℃、好ましくは０〜15℃、反応時間は通常３〜15
時間、好ましくは５〜８時間とするのがよい。 上記で得られる化合物（Id）を通常のエステル
加水分解反応の条件下に加水分解により水酸化物
（Ie）が得られる。すなわち、化合物（Id）を通
常の不活性溶媒中、塩基性化合物で処理する。不
活性溶媒としては、例えば水、メタノール、エタ
ノールなどの低級アルコール類が挙げられ、塩基
性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカ
リ土類金属水酸化物、またはアルカリ金属もしく
はアルカリ土類金属の炭酸塩などの弱酸塩が挙げ
られる。塩基性化合物の使用量としては特に制限
されず広い範囲内で適宜選択することができる
が、通常化合物（Id）に対して0.3〜５倍モル量、
好ましくは、0.5倍〜等モル量使用するのがよい。
上記反応は、通常０〜50℃、好ましくは室温付近
にて、一般に１〜18時間程度で行なわれる。 化合物（Id）から化合物（Ie）を得るには、上
記加水分解方式の他に、例えば水酸化アルミニウ
ムリチウムを作用させる通常のエステル還元方
法、またはグルニヤール試薬を用いるアルコール
製造方法の反応条件を適用することもできる。 化合物（Ie）の水酸基を活性化したのち、適当
な不活性溶媒中、塩基性化合物存在下にハロゲン
化剤を作用させればハロゲン化物（If）が得られ
る。 化合物（Ie）の水酸基の活性化は、例えばｐ−
トシルハライド、ベンゼンスルホニルハライドな
どの活性化剤を用い、メチルエーテル、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
ヘキサメチルリン酸トリアミド（HMPA）など
の溶媒中、通常０〜50℃にて30分〜６時間程反応
させることにより行なわれる。次にハロゲン化に
用いられる不活性溶媒としては、例えばメチルエ
ーテル、エチルエーテル、テトラヒドロフランな
どのエーテル類が挙げられる。塩基性化合物とし
ては、例えばブチルリチウムなどのアルキルリチ
ウム、水素化ナトリウムなどが挙げられ、その使
用量は化合物（Ie）に対して少なくとも等モル程
度とするのがよい。またハロゲン化剤としては、
中性または塩基性下で用いることのできる塩化リ
チウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウムなどのハ
ロゲン化リチウムなどが挙げられ、その使用量は
化合物（Ie）に対して少なくとも等モル、好まし
くは１〜２倍モル程度とするのがよい。上記反応
は通常０〜50℃にて１〜18時間程度で完了する。 上記で得られる化合物（If）に通常の脱ハロゲ
ン化水素反応の条件下に化合物（）を反応させ
て対応する化合物（Ig）が得られる。すなわち、
化合物（If）に不活性溶媒中、塩基性化合物の存
在下に化合物（）を反応させる。用いられ不活
性溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ヘ
キサメチルリン酸などが挙げられ、塩基性化合物
としては例えばブチルリチウムなどのアルキルリ
チウム水酸化ナトリウムなどが挙げられる。塩基
性化合物の使用量としては特に制限されず広い範
囲内で適宜選択することができるが、通常化合物
（If）に対して0.5倍〜５倍モル量、好ましくは0.5
〜1.5倍モル量用いるのがよい。化合物（）は
通常化合物（If）に対して少なくとも等モル量、
好ましくは１〜２倍モル量程度用いるのがよい。
上記反応は通常−150℃〜室温、好ましくは−100
〜50℃にて、10分〜３時間程度で完了する。 上記で得られる化合物（Ig）にハロゲン化剤を
作用させれば対応するハロゲン化化合物（Ik）が
得られる。すなわち、化合物（Ig）を例えば水、
アセトン、ジメトキシエタン、ジメチルスルホキ
サイドなどの不活性溶媒、好ましくはジメチルホ
ルムアミド−水の混合溶媒中、炭酸ナトリウム、
炭酸水素ナトリウム炭酸カルシウムなどの塩基性
化合物の存在下に、Ｎ−クロロコハク酸イミドな
どのクロル化剤を通常化合物（Ig）に対して少な
くとも２倍モル量、好ましくは２〜2.5倍モル量
作用させることにより化合物（Ih）が得られる。
化合物（Ig）に対する塩基性化合物の使用量とし
ては特に制限されず広く範囲内で適宜選択するこ
とができるが、通常１〜20倍モル、好ましいは３
〜10倍モル量使用するのがよい。この反応は、通
常０〜70℃、好ましくは０℃〜室温付近にて、６
〜18時間程度行なわれる。なお、この方法で得ら
れる化合物（Ih）にはケトーエーテル互変異性が
存在し、３，５−ジクロロ−４−メチル−２，６
−ジオキソシクロヘキシル基を有するもの（ケト
体）と、２−ヒドロキシ−３，５−ジクロロ−４
−メチル−６−オキソ−１−シクロヘキセニル基
を有するもの（エノール体）とがあり、いずれも
本発明の範囲に包含される。 上記で得られる化合物（Ih）を例えばテトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンなどの適当な不活
性溶媒中、強塩基性化合物で処理して対応する化
合物（Ii）が得られる。強塩基性化合物として
は、例えば1.8−ジアザビシクロ〔５，４，０〕
ウンデセン−７（DBU）、１，５−ジアザビシク
ロ〔４，３，０〕ノネン−５−（DBN）などが挙
げられ、斯かる強塩基性化合物は化合物（Ih）に
対して少なくとも等モル量、好ましくは５モル量
程度用いられる。この反応は通常50〜100℃、好
ましくは60〜80℃にて１〜５時間程度、好ましく
は３時間前後行われる。 次に化合物（Ii）を適当な不活性溶媒中でグリ
ニヤール試薬と反応させたのち、ホルミノ化剤と
反応させると化合物（Ij）が得られる。化合物
（Ii）とグリニヤール試薬との反応は、例えばメ
チルエーテル、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類などの不活性溶媒中にて、
エチルマグネシウムブロマイドなどのグリニヤー
ル試薬を化合物（Ii）に対して少なくとも２倍モ
ル量用い、０〜50℃、好ましくは室温付近にて、
１時間程度、好ましくは10〜30分程度行なわれ
る。ついでこれに化合物（Ii）に対して少なくと
も等モル量のホルミル化剤、例えばトリエトキシ
メタン、トリメトキシメタンなどを加えて50〜
150℃程度、好ましくは100℃前後で約５〜60分加
熱してホルミル化合物（Ij）を得る。 上記各工程で得られる本発明の化合物は通常の
単離方法、例えばシリカゲルクロマトグラフイ
ー、再結晶等により容易に単離、精製される。 本発明の化合物のうち化合物（Ij）を脱ケター
ル化することにより（±）−アスコフラン（）
に誘導することができる。 〔式中Ａは前記に同じ。〕 化合物（Ij）の脱ケタール化は、通常の条件
下、酸性触媒下、不活性溶媒にて加熱還流により
行なわれる。上記脱ケタール化の不活性溶媒とし
ては、例えばアセトン、メチルエチルケトンなど
のカルボニル化合物やテトラヒドロフラン、メチ
ルエーテル、エチルエーテルなどのエーテル類、
水、酢酸の混合溶媒が挙げられ。酸性溶媒として
塩酸、硫酸、過塩素酸などの無機酸や酢酸、パラ
トルエンスルホン酸などの有機酸が挙げられる。
反応温度は通常０〜150℃でよく、一般に10分〜
15時間、好ましくは30分〜２時間反応を行なうの
がよい。 以下に参考例及び実施例を掲げて本発明により
一層明らかにする。 参考例 １ 10−ケト−８，11−ジハイドロキシ−３，７，
11−トリメチル−2E，6E−ドデカジエン−１−
オール−（２−テトラハイドロピラニル）エーテ
ル（）の製法： ヘキサメチルジシラザン58−５mlとｎ−ブチル
リチウム177ml（1.57Nヘキサン溶液）をTHFに
溶解し650mlとし、４等量のリチウムヘキサメチ
ルジシラザイドとし、アルゴン気流下、−20〜−
30℃で３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノ
ン14.16g（0.139モル）を溶解した150mlテトラヒ
ドロフラン溶液を滴下した後、同温にて１時間攪
拌する。その後−78℃まで冷却後、17.5g（0.069
モル）の（Ｅ，Ｅ）−８−テトラヒドロピラニル
オキシ−2.6−ジメチル−２−６−オクタジエナ
ール（）を溶解したテトラハイドロフラン250
ml溶液を90分かけて滴下したのち、30分同温で攪
拌する。反応後塩化アンモニウムで反応を停止
し、食塩水に注ぎエチルエーテルにて抽出する。
食塩水にて洗浄しMgSO₄で乾燥し、溶媒を減圧
留去する。残渣をカラムクロマトグラフイー（担
体；SILICAR CC−7SPECIAL，
Mallinckrodt社製（以下“CC−７”と略記する）
300g、溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝100：５
〜100）により分離すれば、10−ケト−８，11−
ジヒドロキシ−３，７，11−トリメチル−2E，
6E−ドデカジエン−１−オール−（２−テトラヒ
ドロピラニル）エーテル18.0g（73.2％）（）を
得た。 ｎ21／Ｄ＝1.4859 NMR δ（CCl₄）：1.26（ｓ，6H） 1.62（brs，12H） 1.90〜2.35（ｍ，6H） 3.10〜4.40（ｍ，5H） 4.55（ｓ，1H） 5.00〜5.60（ｍ，2H） 実施例 １ ５−〔１，５−ジメチル−７−（２−テトラヒド
ロピラニル）オキシ−1E，5E−ヘプタジエニル〕
−ジヒドロ−2.2−ジメチル−３（2H）−フラノン
（Ia）の製法： 上記参考例１で得られた10−ケト−８，11−ジ
ハイドロキシ−３，７，11−トリメチル−2E，
6E−ドデカジエン−１−オール−（２−テトラヒ
ドロピラニル）エーテル17.5g（0.049モル）（）
をオルト蟻酸メチル160mlに溶解し、メタノール
1.98ml（0.049モル）と、ｐ−トルエンスルホン
酸水和物24mg（0.12ミリモル）を加え室温にて８
時間攪拌する。途中ｐ−トルエンスルホン酸水和
物24mgを２回、メタノール0.5mlを１回追加する。
反応終了後飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩
水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後エチル
エーテル及びオルト蟻酸メチルを減圧留去する。
残渣をクロマトグラフイ−（シリカゲル350gヘキ
サン：酢酸エチル＝100：５〜20）すれば標記化
合物8.8g（52.9％）を得る。 ｎ21／Ｄ＝1.4854 NMR δ（CCl₄）：1.15（ｓ，3H） 1.22（ｓ，3H） 1.64（brs，12H） 1.90〜2.40（ｍ，6H） 3.14〜4.09（ｍ，4H） 4.34〜4.57（ｍ，2H） 実施例 ２ ５−（７−ヒドロキシ−１，５−ジメチル−
1E，5E−ヘプタジエニル）−ジヒドロ−２，２−
ジメチル−３（2H）−フラノン（Ib）の製法： 上記実施例１で得られた化合物8.6g（25.6ミリ
モル）を酢酸：テトラヒドロフラン：水（３：
１：１）200ml中に加え、２時間50℃で加熱攪拌
する。反応終了後、水に注ぎエチルエーテルにて
抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム、食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムにて乾燥する。溶媒を減圧
留去後、残渣をクロマトグラフイ−（シリカゲル
70g、ヘキサン：酢酸エチル＝100：10〜100）す
れば標記化合物6.2g（96.1％）を得る。 ｎ21／Ｄ＝1.4606 NMR δ（CCl₄）：1.15（ｓ，3H） 1.20（ｓ，3H） 1.61（ｓ，3H） 1.86〜2.43（ｍ，6H） 2.68（brs，1H） 3.94（ｄ，2H，Ｊ＝7Hs） 4.42（ｔ，1H，Ｊ＝7Hs） 5.09〜5.70（ｍ，2H） 実施例 ３ ５−（７−アセトキシ−１，５−ジメチル−
1E，5E−ヘプタジエニル）−ジヒドロ−２，２−
ジメチル−３−（2H）−フラノン〔（Ic）、R³＝ア
セチル〕の製法： 上記実施例２で得られた化合物271mgをピリジ
ン1.4mlに溶解し無水酢酸0.15mlを加え、室温に
て終夜攪拌する。反応後、希塩酸に注ぎpHを４
とした後、エチルエーテルにて抽出する。水、食
塩水洗浄後、硫酸マグネシウムにて乾燥エチルエ
ーテルを減圧留去する。残渣をクロマトグラフイ
−（シリカゲル5g、ヘキサン：酢酸エチル＝
（100：８）すれば上記目的化合物を285mg（90.0
％）得る。 ｎ21／Ｄ＝1.4760 NMR δ（CCl₄）：1.14（ｓ，3H） 1.20（ｓ，3H） 1.62（ｓ，3H） 1.69（ｓ，3H） 1.95（ｓ，3H） 1.86〜2.45（ｍ，6H） 4.42（ｔ，1H，Ｊ＝7Hs） 4.46（ｄ，2H，Ｊ＝7Hs） 5.10〜5.69（ｍ，2H） 実施例 ４ ８−（７−アセトキシ−１，５−ジメチル−
1E，5E−ヘプタジエニル）−６，６−ジメチル−
１，４，７−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン
〔（Id）、R³＝アセチル、Ａ＝エチレン〕の製法： トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン
酸のジクロルメタン2.2ml（４モル％）に、氷冷
下上記実施例３で得られた化合物1.65g（5.6ミリ
モル）とエチレングリコールジトリメチルシリル
エーテル1.58g（7.6ミリモル）のジクロルメタン
２ml溶液をアルゴン気流下で滴下する。同温にて
７時間反応後、ピリジン22mlを加え、反応を停止
し、飽和炭素水素ナトリウム水溶液に注ぐ。エチ
ルエーテルにて抽出し、食塩水で洗浄後、炭酸カ
リウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。残渣をク
ロマトグラフイ−（CC−７ 60g、ヘキサン：酢
酸エチル＝100：２〜30）すれば、上記の目的物
を1.525g（80.4％）得る。 ｎ21／Ｄ＝1.4832 NMR δ（CCl₄）：1.12（ｓ，6H） 1.55（ｓ，3H） 1.70（ｓ，3H） 1.97（ｓ，3H） 1.90〜2.35（ｍ，6H） 3.86（ｓ，4H） 4.22（ｔ，1H，Ｊ＝7Hs） 4.49（ｄ，2H，Ｊ＝7Hs） 5.10〜5.55（ｍ，2H） 実施例 ５ ８−（７−ヒドロキシ−１，５−ジメチル−
1E，5E−ヘプタジエニル）−６，６−ジメチル−
１，４，７−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン
〔（Ic）、Ａ＝エチレン〕の製法： 実施例４で得られた化合物691mg（2.04ミリモ
ル）をメタノール2.3mlに溶解し、メタノール0.7
ml、水3.5mlに炭酸カリウム1.41gを溶解させたも
のを滴下する。室温にて終夜攪拌し、反応終了
後、水に注ぎエチルエーテルにて抽出する。食塩
水洗浄後、炭酸カリウムで乾燥し、溶媒を減圧留
去する。残渣をクロマトグラフイー（CC−７
15g ヘキサン：酢酸エチル＝100：10）すれば
上記の目的化合物を563mg（93.1％）得る。 ｎ21／Ｄ＝1.4937 NMR δ（CCl₄）：1.11（ｓ，6H） 1.53（ｓ，3H） 1.62（ｓ，3H） 1.80〜2.21（ｍ，6H） 3.85（ｓ，4H） 3.70〜4.40（ｍ＝3H） 5.10〜5.60（ｍ，2H） 実施例 ６ ８−（７−ブロモ−１，５−ジメチル−1E，5E
−ヘプタジエニル）−６，６−ジメチル−１，４，
７−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン〔（If）、
Ａ＝エチレン、Ｘ＝臭素原子〕の製法： 上記実施例５で得られた化合物557mg（1.88ミ
リモル）のヘキサメチルリン酸トリアミド0.66
ml、エチルエーテル1.9ml溶液に氷冷下ｎ−ブチ
ルリチウム1.25ml（（1.88ミリモル、1.50N、ヘキ
サン溶液）を滴下した後、塩化ｐ−トルエンスル
ホン酸376mg（1.97ミリモル）のエチルエーテル
1.9ml溶液を滴下する。５分後臭化リチウム330mg
（3.8ミリモル）を加え、室温に戻し、終夜攪拌す
る。反応後、エチルエーテル希釈炭酸水素ナトリ
ウム溶液を加え、エチルエーテル層を分離後水、
食塩水にて洗浄し炭酸カリウムで乾燥する。溶媒
を減圧留去すれば上記の目的化合物600mgが得ら
れる。 NMR δ（CCl₄）：1.10（ｓ，6H） 1.53（ｓ，3H） 1.70（ｓ，3H） 1.89〜2.31（ｍ，6H） 3.82（ｓ，4H） 3.80〜4.40（ｍ＝3H） 5.20〜5.70（ｍ，2H） 実施例 ７ ８−｛７−（２，６−ジメトキシ−４−メチル−
２，５−シクロヘキシジエニル）−１，５−ジメ
チル−1E，5E−ヘプタジエニル｝−６，６−ジメ
チル−１，４，７−トリオキサスピロ〔４，４〕
ノナン〔（Ig）、Ａ＝エチレン〕の製法： tert−ブチルリチウム0.9ml（２，３ミリモル、
２，6Mヘキサン溶液）のテトラヒドロフラン８
ml溶液中に−78℃アルゴン気流下で１，５−ジメ
トキシ−３−メチル−１，４−シクロヘキサジエ
ン319mg（2.07ミリモル）テトラヒドロフラン1.5
ml溶液を徐々に滴下する。同温にて45分攪拌後ヘ
キサメチルリン酸トリアミド0.42mlを加えさらに
10分同温にて攪拌する。このものに、上記実施例
６で得られた化合物600mgのテトラヒドロフラン
２ml溶液を徐々に滴下し同温で30分攪拌後、−20
℃に昇温し、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応
を停止する。食塩水に注ぎエチルエーテルにて抽
出後、食塩水で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥す
る。溶媒を減圧留去し、残渣をクロマトグラフイ
ー（CC−７ 25g ヘキサン：酢酸エチル＝
100：１〜４）すれば上記の目的物270mg（33.2
％）を得る。 ｎ21／Ｄ＝1.5040 実施例 ８ ８−｛７−（3.5−ジクロロ−４−メチル−２，
６−ジオキソシクロヘキシル）−１，５−ジメチ
ル−1E，5E−ヘプタジエニル｝−６，６−ジメチ
ル−１，４，７−トリオキサスピロ〔４，４〕ノ
ナン〔（Ih）、Ａ＝エチレン〕の製法： 実施例７で得られた化合物256mg（0.59ミリモ
ル）をジメチルホルムアミド３ml、水0.27ml中に
溶解し、炭酸カルシウム33mg（0.33ミリモル）を
加え、アルゴンガスを10分吹き込む。氷冷下、ア
ルゴン気流中、Ｎ−クロロコハク酸イミド174mg
（1.3ミリモル）を徐々に加えた後、室温にて終夜
攪拌する。反応終了後、水に注ぎ1N塩酸でpHを
４〜５とした後、エチルエーテルにて抽出し、
水、食塩水洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を減圧留去し、残渣をクロマトグラフイ
ー（CC−７ 9g、ヘキサン：酢酸エチル＝100：
２〜50）すれば上記の目的物177mg（63.2％）を
得る。 IR（Vmax）：3200（ｍ）、2980（ｓ）、2940（ｓ）、 2890（ｍ）、1620（ｓ）、1450（ｍ）、 1370（ｓ）、1300（ｍ）、1240（ｓ）、 1170（ｍ）、1140（ｓ）、1110（ｗ）、 1080（ｗ）、1030（ｓ）、1000（ｗ）、 980（ｗ），945（ｗ）、880（ｗ） 実施例 ９ ８−｛７−（３−クロロ−２，６−ジヒドロキシ
−４−メチルフニエル）−１，５−ジメチル−
1E，5E−ヘプタジエニル｝−６，６−ジメチル−
１，４，７−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン
〔（Ii）、Ａ＝エチレン〕の製法： 実施例８で得られた化合物177mgをテトラヒド
ロフラン0.9ml中に溶解し、１，８−ジアザビシ
クロ〔５，４，０〕ウンデセン−７ 0.28mlを加
え、アルゴン気流下４時間加熱還流する。反応
後、放冷し、水に注ぎ1N塩酸でpHを４〜５とし
エチルエーテルにて抽出する。水、食塩水で洗浄
後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去す
る。残渣をクロマトグラフイー（CC−７ 5g、
ヘキサン：酢酸エチル＝100：２）すれば上記の
目的物80mg（50.0％）を得る。 NMR δ（CCl₄）：1.19（ｓ，6H） 1.51（ｓ，3H） 1.68（ｓ，3H） 1.75〜2.20（ｍ，6H） 2.20（ｓ，3H） 3.23（ｄ，2H，Ｊ＝7Hs） 3.85（ｓ，4H） 4.29（ｔ，1H，Ｊ＝7Hs） 4.91〜5.51（ｍ，2H） 5.65（brs，1H） 6.16（ｓ，1H） 6.36（br，1H） 実施例 10 ８−｛７−（３−クロロ−５−ホルミル−２，６
−ジヒドロキシ−４−メチルフエニル）−１，５
−ジメチル−1E，5E−ヘプタジエニル｝−６，６
−ジメチル−１，４，７−トリオキサスピロ
〔４，４〕ノナン〔（Ij）、Ａ＝エチレン〕の製
法： ２等量のエチル臭化マグネシウムのエチルエー
テル溶液中に室温で実施例９で得られた化合物79
mg（0.18ミリモル）のエチルエーテル１mg溶液を
滴下する。滴下後、同温で30分攪拌ののちトリエ
トキシメタン0.12ml（0.72ミリモル）を加え、加
熱し、まずエチルエーテルを留去後、100℃にて
10分間反応する。反応終了後、放冷し、1N塩酸
を加えエチルエーテルで抽出する。水、食塩水で
洗浄後、硫酸マグネシウムにて乾燥し、エチルエ
ーテルを減圧留去後、残渣をクロマグラフイー
（CC−７ 3.5g ヘキサン：酢酸エチル＝100：
５）すれば上記の化合物を73mgを得る。 参考例 ２ （±）−アスコフラノン（）の製法： 実施例10で得られた化合物73mgを酢酸：水
（２：１）２ml中で0.5時間加熱還流する。放冷後
水に注ぎエチルエーテルで抽出し、水、希炭酸水
素ナトリウム、食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を減圧留去し調製用薄層クロ
マトグラフイー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１）で精製して38mgのオイルを得る。このものを
エチルエーテルに溶解し不溶物を別したのち、
エチルエーテルを留去して33mgのオイルを得る。
このオイルは、ヘキサンエチルエーテルで結晶化
させ粗結晶24mg（31.5％）を得る。ヘキサン−ア
セトンより再結晶すれば16mg（21.0％）の上記の
目的物の結晶を得る。 無色針状晶、m.p.87〜91℃ NMR δ（CDCl₃）： 1.220（ｓ，3H）、1.280（ｓ，3H） 1.625（ｓ，3H）、1785（ｓ，3H） 2.00〜2.09（ｍ，2H） 2.10〜2.21（ｍ，2H） 2.35（dd，1H，Ｊ＝18Hs，Ｊ＝10Hs） 2.42（dd，1H，Ｊ＝18Hs，Ｊ＝7Hs） 2.60（ｓ，3H） 3.39（ｄ，2H，Ｊ＝7.0Hs） 4.52（dd，1H，Ｊ＝10Hs，Ｊ＝7Hs） 5.21（ｔ，1H，Ｊ＝7Hs） 5.505（ｔ，1H，Ｊ＝7.0Hs） 6.46（ｓ，1H）、10.14（ｓ，1H） 12.70（ｓ，1H）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R¹はオキソ基または低級アルキレン
   ジオキシ基、R²は２−テトラヒドロピラニルオ
   キシ基、水酸基、低級アルカノイルオキシ基、ハ
   ロゲン原子、基 【式】【式】 【式】または 【式】 を意味する。但しR¹がオキソ基を示す場合には、
   R²は基【式】であつてはならな い。〕 で示されるアスコフラノン類緑体。