JPH04285843A

JPH04285843A - 促進耐候および耐光試験室

Info

Publication number: JPH04285843A
Application number: JP3304240A
Authority: JP
Inventors: Eugene N Neigoff; ユージン、エヌ、ネイゴフ; Gene Comerford; ジーン、カマーフォード; James V Huber; ジェームス、ブイ、ヒューバー; Victor H Vlahos; ビクター、エイチ、ブラホス
Original assignee: Atlas Electric Devices Co
Current assignee: Atlas Electric Devices Co
Priority date: 1990-11-06
Filing date: 1991-10-22
Publication date: 1992-10-09
Also published as: EP0487202A1; US5136886A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明の背景織物，プラスチック物品，塗装表面および類似物のよう
な部品の促進耐候および耐光試験のための室は、例えば
Ｈｕｂｅｒらの米国特許第４，８４３，８９３号および
カシマらの米国特許第４，８１７，４４７号に示されて
いるように一般に知られている。加えて、そのような試
験機は、風化，熱等の影響をシミュレートするように、
種々の部品を加熱空気および湿度に対するそれらの抵抗
について、または上記の一つまたは全部と組合せて、製
造者が彼等の製品の耐久性について促進ベースによって
データを得ることができるように試験することもできる
。

【０００２】本発明によれば、自動車ダッシュボードま
たは類似物のような大型部品の耐候および耐光試験を許
容するため、好ましくは大型寸法に構築された部品試験
室が提供される。本発明の部品試験室は大型であるから
、好ましくは複数の光放出ランプが使用され、該光放出
ランプはキセノン型ランプ，金属ハライドランプ，螢光
ランプ，紫外線ランプ，赤外線ランプおよび類似物でよ
い。術語“光”とは可視スペクトルをこえる周波数を含
むことを意図する。

【０００３】本発明の試験室中で実施される光安定性試
験は定量的であり、そして再現性であることを要するた
め、試験される部品もしくはサンプルが受ける光の強度
は予期される強度であることを便利に決定する必要があ
る。本発明により、種々のランプからの光放出が継続使
用を通じランプが年をとるにつれ種々のランプからの光
放出が変化しても、試験室内において連続ベースでコン
スタントな放射束密度のための簡単にして有効な手段が
提供される。本発明の室内において試験されるサンプル
に対して提供される放射強度を自動的に調節するための
簡単な手段が提供され、本発明の室は好ましくはサンプ
ルが室内で占める種々の位置における照射の改善された
均一性を提供する。

【０００４】本発明の説明本発明において、試験されるサンプルのための包囲体を
含む促進耐候および耐光試験室が提供される。包囲体内
のサンプルを照射するための少なくとも１個のランプが
設けられる。ランプからの光強度をモニターするための
手段が設けられる。

【０００５】本発明によれば、該モニター手段は、ラン
プに隣接して位置する一端および光強度測定手段と連通
する他端を有する光透過手段を備え、該光強度測定手段
は光透過手段の前記一端よりもランプから遠方に配置さ
れる。光透過手段は包囲体中のサンプルを直接照射する
ランプの部分と実質上反対側のランプの側に配置される
。このようにして、光透過手段はランプからサンプルへ
の光の伝播を妨害しない。光透過手段は、例えば透明な
ロッド，光ファイバーケーブルまたは開いたチューブで
さえでもよい。

【０００６】上に記載したように複数のランプを設けて
もよい。この状況においては、ロッドのような別々の光
透過手段を設けることができ、各自はそれぞれ上で規定
した別々のランプに隣接して位置するその一端を持って
いる。ロッドの各自は、典型的にはその他端を通じ光強
度測定手段と連通する。各ランプから放出される光強度
を独立して制御するための制御手段が設けられる。

【０００７】このため、めいめいの別個のランプの個々
の光出力は、照射されているサンプルへ所望の光強度を
提供するように別々にモニターしそして制御することが
できる。

【０００８】ロッドまたはケーブルのような光透過手段
は、光透過ロッドまたはケーブルが関係する特定のラン
プによって放出される光を実質的に制御するように、ロ
ッドまたはケーブルを通って透過する光を制限するため
の手段を所望により備えることができる。この制限手段
は該ロッドの一端における光入射角を制限するように、
上に規定した光透過ロッドまたはケーブルの一端のまわ
りに同軸態様で支承された不透明スリーブよりなること
ができる。代りに、この制限手段は光透過ロッドの一端
に支承された不透明な環状ストップ部材よりなることが
できる。

【０００９】また、包囲体は試験されているサンプルを
あらかじめ定めた位置に保持するための手段を備えるこ
とができる。試験されているサンプルを、サンプルへ印
加される照射強度を所望のように変えるため、照射ラン
プへ向っておよびそれから離れて動かすための手段を設
けることもできる。これは備えられたランプへ向ってそ
してそれから離れてプラットホームを上昇および下降さ
せる手段を備えたプラットホーム上に試験すべきサンプ
ルを配置することによって達成することができる。

【００１０】加えて、本発明の試験室は、ランプからの
光をサンプルへ向って指向させるため、ランプの上方に
設けられた反射鏡を備えることができる。反射鏡のいく
つかは、反射光を少なくとも部分的に前記サンプルへ向
って集束させるように凹面である。反射鏡の他のものは
反射光の広い面積を前記サンプルへ指向させるように実
質上平坦である。この手段により、試験室全体を通じ、
照射の均一性の増加が提供でき、そのため種々のサンプ
ルはそれらが試験室内に保持される位置に関係なく、等
しい露出時間において実質上等しい照射量を受ける。

【００１１】特に、少なくとも一対のランプを試験室内
に並列関係に配置することができる。反射鏡は、ランプ
の上方および外側において実質上ランプ間の区域から側
方へその断面が延びる一対のセクションを形成する複数
の平坦な鏡であって、各ランプは前記セクションの大よ
その焦点を占める前記複数の平坦な鏡と、そして前記平
坦な鏡から側方外側に位置するカーブした一般に円筒形
セクションの鏡よりなることができる。

【００１２】加えて、本発明により室内部寸法がサンプ
ル試験区域を決める多数ランプ耐光試験室の光出力を較
正する方法が提供される。該方法は、各ランプをそれ自
体によって順番にオンへそして次にオフへ転じ、その間
各ランプによって提供される照射を前記サンプル試験区
域から測定しそしてそれに応答して各ランプからの照射
強度を所望のレベルへ調節し、そしてまた個々の光モニ
ター手段によって前記サンプル試験区域を直接照射する
各ランプの部分に対し実質上反対側の各ランプの側から
めいめいの個々のランプの光強度を感知し、それによっ
て前記ランプの光強度はめいめい前記モニター手段でそ
の後に感知し得るようにし、そしてサンプル試験区域に
おいて提供された前記照射強度は各ランプの感知された
光強度をあらかじめ定めた限界内に維持することによっ
て同時に制御できるようにすることよりなる。

【００１３】従って、本発明により上に記載した利点を
発揮し、そして大型の製造された物体を試験することが
できる大きな使用融通性を一般に発揮し、同時に個々の
ランプの光出力を連続的にモニターしそして制御するこ
とができ、そして絶対的標準にも相関させることができ
、さらに先行技術のシステムに比較して大きな照射均一
性と光強度の調節の大きな容易性を提供できる、耐光試
験室を提供することができる。

【００１４】図面の説明図面において、図１は本発明の耐光試験室の斜視図であ
る。図２は図１の耐光試験室の前部を破断した正面図で
ある。図３は図１の耐光試験室の一部を破断した側面図
である。図４は図１の試験室の１個のランプおよびその
関連部品の部分断面拡大正面図である。図５は図１の試
験室の並列関係にある２個のランプと前記ランプ上方の
鏡配置の拡大した部分的細部断面図である。図６および
７は各自図４の部分の異なる具体例の拡大部分細部断面
図である。図８は試験室内で照射のためサンプルが受け
る放射束密度を間接的に制御しそして定量化するため、
個々のランプの放射束密度をどのようにして較正するこ
とができるかを示すフローチャートである。

【００１５】特定具体例の説明図面を参照すると、図１は前部ドア１４と、そして試験
すべきサンプル２０を支持するためのプラットホーム１
８を備える内部室１６を含む耐光試験室１０を図示する
。図１に示した特定の場合、試験すべきサンプルは自動
車のダッシュボードである。

【００１６】プラットホーム１８はその四隅において各
自回転シャフトパワーユニット２４によって回転可能な
ねじつきロッド２２によって支持されている。図２およ
び３に詳しく図示するように、シャフト２２を回転する
パワーユニット２４は横シャフト２６，２７によって可
逆ギヤモータ２８へ接続される。４本のそれぞれのねじ
つきシャフト２２のすべては、回転シャフトパワーユニ
ット２４および横シャフト２６，２７を介してこのモー
タへ接続され、そのため垂直なねじつきシャフト２２は
同時にどちらの方向へも均一な態様で回転する。その時
固定ナット３０がプラットホーム１８の各コーナーに支
持され、そのためねじつきシャフト２２が均一に回転す
るとき、プラットホーム１８は上昇または下降する。代
りに、この可動ステージは鋏みジャッキまたは他の昇降
手段を使用することもできる。このように試験すべきサ
ンプル２０はプラットホーム１８によってランプ３２へ
近付けることまたは遠去けることができ、これらランプ
はサンプル２０へ照射を提供するため室１６の頂部に配
置される。特に、ランプ３２はキセノンランプ，金属ハ
ライドランプ，螢光ランプ、またはもし望むならば紫外
線もしくは赤外線ランプ、またはそれらの組合せでよい
。

【００１７】横方向回転シャフト２６，２７には必要な
場合慣用の９０°マイタギヤボックス２９によって角度
転回を設けることができる。

【００１８】上記構造の一つの有意義な利点として、装
置の運転中ランプ３２へのパワーを遮断することなく任
意のサンプル２０へ適用される放射強度を変化させるこ
とが可能である。これは光照射操作の間必要に応じモー
タ２８によってプラットホーム１８を上昇または下降さ
せることによって簡単に達成される。従ってサンプル上
の光照射強度はモニターすることができ、そしてモータ
２８の簡単な運転によってあらかじめ定めた標準と一致
させることができる。

【００１９】ランプ３２は図示するように、反射鏡構造
３６を備えたブラケット３４に支承される。特に図１に
示すように、反射鏡構造３６はランプ３２の各自が延び
る方向に一般に延びる一対の槽状構造を形成する。

【００２０】特に図５を参照すると、一対のランプ３２
と、鏡構造３６およびそれらの槽状構造３８が図示され
ている。詳しくは、鏡構造３６においていくつかの鏡４
０，４２は反射光をサンプルへ向って少なくとも部分的
に集束させるように凹面である。他の反射鏡４４，４６
は反射光の広い面積をサンプルへ向って指向させるよう
に実質上平坦である。

【００２１】特に図示するように、図５に示した一対の
ランプ３２は並列関係に配置され、そして平坦な鏡４４
，４６は、実質上ランプ３２間にある区域４８から側方
に（図５で見て）その断面が延びる一対のセクションを
形成し、該平坦なセクションは前記ランプに関しその断
面が外側方向において上部に延びている。また、各ラン
プ３２は一対の平坦な鏡４４，４６によってそれぞれ形
成されたセクションの一つの大体の焦点にある。加えて
、鏡４２は殆んど平坦であるが、好ましくは小さい曲率
を持っている。鏡４０は、図示するように光を所望のよ
うに集束するため知覚し得る曲率を持っている。これら
の図示したカーブした鏡は、平坦な鏡から側方外側に配
置される。

【００２２】このような配置により、試験すべきサンプ
ルが配置されるプラットホーム１８の表面に対して改良
された照射均一性を提供することが可能になる。このよ
うな配置はプラットホームの異なる位置において受ける
照射の差を最小化することができる。

【００２３】図４は１本の個々のランプ３２，そのブラ
ケット３４および関連部品の拡大図である。各ランプに
は個々のランプ点灯器５０が備えられる。ランプ３２の
出力強度は個々のワット数規制器６１を通じＲＡＭとマ
イクロプロセッサー５２によって制御される。ランプ３
２，それらのブラケット３４およびそれらの電気回路は
、ここで特記する事項を除き慣用のものでよい。代りに
、ＲＡＭおよびマイクロプロセッサーはアナログ回路に
よって置き換えることができる。

【００２４】本発明により、光透過ロッド５４は、ラン
プ３２が包囲体内のサンプル２０を直接照射する部分と
実質上反対側のランプの側から上方の鏡構造３６を通過
しそして直接ランプへ向くように配置される。それぞれ
のランプ３２と、それぞれのサンプルが配置されるプラ
ットホーム１８に関する光透過ロッド５４の位置につい
ては例えば図２を見よ。このため、各光ロッド５４は、
それ自身のランプ３２によって放出された光を慣用デサ
インのものでよい光強度センサー５６へ運ぶ。センサー
５６によって感知された光強度は次に電子信号へ変換さ
れ、ワイヤー５８を通じてマイクロプロセッサー５２へ
送られる。

【００２５】図４に示した状況はランプ３２の各自に対
してくり返され、そのためランプ３２の各自から感知さ
れた光強度に応答する信号はそれぞれのワイヤ５８を通
って別々の電子入力としてマイクロプロセッサー５２へ
供給される。

【００２６】同様に、以前に述べたようにマイクロプロ
セッサー５２は、個々のランプ３２と別々に交信するワ
ット数規制器６１への電子出力６０を備え、そのためマ
イクロプロセッサー５２は各場合毎にセンサー５６を通
じて受取ったフィードバックに応答する態様において、
各ランプ３２の放出強度を個々に調節することができる
。

【００２７】このため本発明により、それぞれのランプ
３２の出力は連続的にモニターすることができ、そして
以下の三手段によってあらかじめ定めた所望の標準に合
致するように調節することができる。１．　　モータ２８によって単にプラットホーム１８を
上昇または下降する。２．　　制御器（アナログまたはＲＡＭとマイクロプロ
セッサー）５２により、入力データを使用してワット数
規制器６１を通じてランプ３２の出力を変化させる。３．　　上記二方法の組合せ。

【００２８】従って、サンプル上の光強度（放射束密度
）を制御することができ、そして適切な試験操作によっ
て要求される試験要件に合致するように連続的調節を行
うことができる。

【００２９】このためまた、耐光試験室の異なる運転に
おいてそれぞれのサンプルへ提供される実際の照射を正
確な耐光性および他の安定性データのため容易に相互に
相関させることができることを確実にする。

【００３０】図６に示すように、光透過ロッド５４の下
端は所望によりロッド５４の全長を延びることができる
金属スリーブ６３によってさやに入れることができる。スリーブ６３は光透過ロッド５４の下端の下方へ延長し
、ロッド５４およびこのためセンサー５６への光の入射
角αを制限することができる。この方策は、各光ロッド
５０を通ってそのそれぞれのセンサー５６へ送られる有
意義な光だけが関連するランプ３２から直接放出される
光であることを確実にすることを助ける。このため各セ
ンサー５６から受取ったデータの独立性が、各別々のラ
ンプ３２からの光放出は他の光源、特に他のランプから
の少ない妨害をもって別々に感知される点において確実
にされる。

【００３１】図７を参照すると、代替例として、光ロッ
ド５４は同様なスリーブ６２を備えることができ、この
場合スリーブ６２の下端は光ロッドの下端における開口
を制限する内側フランジ６４を備えている。これはやは
り光ロッドをそれが受光する光源に関し一層選択的とす
るのに役立つことができ、そのため関連するランプ３２
からの光が与えられたセンサー５６によって感知される
。

【００３２】図８は個々のランプの照射を定量レベルへ
較正する方法を図示する。一旦これがなされれば、本発
明に従ってセンサー５６およびマイクロプロセッサー５
２によって提供された相対的データは、プラットホーム
１８上のサンプルへ各ランプ３２から所望の定量的放射
束密度を提供するため、絶対的データへ相関させられる
。

【００３３】最初のステップとして、プラットホーム１
８上にマスターキャリブレーターセンサーが置かれる。そのような既知のセンサーはランプ３２からの放射の定
量的感知を提供し、その強度の数値読みを提供すること
ができる。

【００３４】すべての変数を初期化した後、ランプ３２
の最初のものが点灯される。放射束密度がマスターキャ
リブレーターセンサーによって測定され、そしてランプ
３２の放射の強度がマスターキャリブレーターセンサー
の数値読みによって指示される所望のレベルへ調節され
る。

【００３５】ワット数がその後モニターされ、そしても
し所望の限界内でなければそのランプは除去し、交換し
なければならない。さもなければプロセスは進行する。

【００３６】次に、マスターセンサー出力対関連する個
々のモニター装置、すなわち光ロッド５４および光セン
サー５６で測定した個々のランプ照射出力の測定を記録
する。

【００３７】次に光モニター５６と、ＲＡＭおよびマイ
クロプロセッサー５２を通じて制御される個々のワット
数規制器６１よりなる個々の光モニターシステムは、マ
スターセンサー出力との相関関係として個々の光モニタ
ーによって感知された適切な値を維持するように調節さ
れることができる。

【００３８】次に同じプロセスが次のランプに関して実
施され、照射データはすべてのランプがこのように較正
されるまで各ランプに関して記憶される。この後、マス
ターキャリブレーションセンサーを除去することができ
る。

【００３９】その時から各ランプについて与えられた照
射出力はサンプル部位における既知の総放射束密度をも
たらすことを知ることができる。この較正データはシス
テムの作動特性が時間経過につれて変化するまで有効で
ある。

【００４０】上記は例証目的のみのために提供され、特
許請求の範囲に規定する本発明の範囲を限定することを
意図しない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の耐光試験室の斜視図である。

【図２】図１の耐光試験室の前部を破断した正面図であ
る。

【図３】図１の耐光試験室の一部を破断した側面図であ
る。

【図４】図１の試験室の１個のランプおよびその関連部
品の部分断面拡大正面図である。

【図５】図１の試験室の並列関係にある２個のランプと
該ランプ上方の鏡配置の拡大部分断面図である。

【図６】図４の部分の異なる具体例の拡大部分断面図で
ある。

【図７】図４の部分の異なる具体例の拡大部分断面図で
ある。

【図８】試験室内で照射のためサンプルが受ける放射束
密度を制御しそして定量化するため、個々のランプの放
射束密度をどのようにして較正するかを示すフロチャー
トである。

【符号の説明】

１０　　　　試験室１８　　　　プラットホーム２０　　　　サンプル３２　　　　ランプ３４　　　　ランプブラケット３６　　　　反射鏡５４　　　　光透過ロッド５６　　　　光強度センサー６１　　　　ワット数規制器

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】試験すべきサンプルのための包囲体と、前
記包囲体中にサンプルを照射するための少なくとも１個
のランプと、前記ランプからの光強度をモニターするた
めの手段を備えている耐光試験室であって、前記モニタ
ー手段は、前記ランプに隣接して配置された一端と、前
記一端よりランプから遠方に配置された光強度測定手段
と連通にある他端を有する光透過ロッドを備え、前記光
透過ロッドは前記包囲体中のサンプルを直接照射する前
記ランプの部分と実質上反対側の前記ランプの側に配置
されていることを特徴とする耐光試験室。
【請求項２】前記ランプの複数と、各自別々のランプに
隣接して配置された前記一端をそれぞれ有する複数の別
々の光透過ロッドを備え、前記光透過ロッドの各自は前
記光強度測定手段と連通し、各ランプからの光強度を光
強度測定手段に応答する態様で独立に制御するための制
御手段を備えている請求項１の耐光試験室。
【請求項３】前記光透過ロッドは該ロッドを通る光透過
を関連するランプから放出される光へ実質上制限するた
めの手段を備えている請求項１または２の耐光試験室。
【請求項４】前記制限手段は、前記ロッドの前記一端に
おける光入射角を制限するように、前記光透過ロッドの
前記一端のまわりに同軸態様に支持された不透明スリー
ブよりなる請求項３の耐光試験室。
【請求項５】前記制限手段は、前記光透過ロッドの前記
一端に支持された不透明環状ストップ部材を備えている
請求項３の耐光試験室。
【請求項６】前記包囲体は、試験すべきサンプルをあら
かじめ定めた位置に保持するための手段と、そして前記
サンプルへ適用される照射強度を所望のように変えるた
め、試験すべきサンプルを前記照射ランプへ向っておよ
びその遠方へ動かすための手段を支承している請求項１
ないし５のいずれかの耐光試験室。
【請求項７】前記ランプからの光を前記サンプルへ向っ
て指向させるため反射鏡が前記ランプの上方に設けられ
、該反射鏡のいくつかは反射光を少なくとも部分的に前
記サンプルへ向って集束するため凹面であり、該反射鏡
の他のものは反射光の広い面積を前記サンプルへ向って
指向させるため実質上平坦である請求項１ないし６のい
ずれかの耐光試験室。
【請求項８】少なくとも一対の前記ランプが並列関係に
配置され、前記反射鏡は、実質上ランプ間の区域から側
方へ上方および外側へ延びる方向に断面が延びる一対の
セクションを形成する複数の平坦な鏡と、そして前記平
坦な鏡から横方向外側に配置された少なくとも１個のカ
ーブした一般に円筒壁セクション鏡を含み、各ランプは
前記平坦な鏡が形成するセクションの一つの大よその焦
点を占めている請求項７の耐光試験室。
【請求項９】試験すべきサンプルのための包囲体と、前
記包囲体中のサンプルを照射するための複数のランプと
、前記ランプからの光強度をモニターするための手段を
備え、前記モニター手段は各自別々のランプに隣接して
配置された一端および光強度感知手段と連通する他端を
それぞれ持っている別々の光透過ロッドと、そして各ラ
ンプからの光強度を光強度測定手段に応答する態様にお
いて独立して制御するための制御手段を備えていること
を特徴とする耐光試験室。
【請求項１０】前記光ロッドは該ロッドを通る光透過を
関連するランプから放出される光へ実質上制限するため
の手段を備えている請求項９の耐光試験室。
【請求項１１】試験すべきサンプルのための包囲体と、
前記包囲体中のサンプルを照射するための少なくとも１
個のランプを備えている耐光試験室であって、前記包囲
体は、試験すべきサンプルをあらかじめ定めた位置に保
持するための手段と、そして前記サンプルへ適用される
照射強度を所望のように変えるため、試験すべきサンプ
ルを前記照射ランプへ向っておよびその遠方へ動かすた
めの手段を備えていることを特徴とする耐光試験室。
【請求項１２】前記試験すべきサンプルをあらかじめ定
めた位置に保持するための手段および前記サンプルを動
かすための手段は、前記ランプへのパワーを遮断するこ
となく前記サンプルを前記ランプからの変化する距離へ
動かすことができるように、上昇および下降し得るプラ
ットホームを備えている請求項１１の耐光試験室。
【請求項１３】前記ランプからの光を前記サンプルへ向
って指向させるための反射鏡が前記ランプの上方に設け
られ、該反射鏡のいくつかは反射光を少なくとも部分的
に前記サンプルへ向って集束するための凹面であり、該
反射鏡の他のものは反射光の広い面積を前記サンプルへ
向って指向させるため実質上平坦である請求項１２の耐
光試験室。
【請求項１４】試験すべきサンプルのための包囲体と、
前記包囲体中のサンプルを照射するための少なくとも一
対のランプと、前記ランプからの光の前記サンプルへ向
って指向させるように配置した反射鏡を備え、該反射鏡
は実質上ランプ間の区域から側方へ上方および外側へ延
びる方向に断面が延びる一対のセクションを形成する複
数の平坦な鏡と、そして前記平坦な鏡から横方向外側に
配置されたカーブした一般に円筒壁セクション鏡を含み
、各ランプは前記平坦な鏡が形成するセクションの一つ
の大よその焦点を占めていることを特徴とする耐光試験
室。
【請求項１５】各自別々のランプに隣接して配置された
一端をそれぞれ有する別々の光透過ロッドを備え、前記
光透過ロッドの各自はその他端において光強度測定手段
と連通し、そして各ランプからの光強度を光強度測定手
段に応答する態様で独立に制御するための制御手段を備
えている請求項１４の耐光試験室。
【請求項１６】室内にサンプル試験区域を備える多数ラ
ンプ耐光試験室の光出力を較正する方法であって、各ラ
ンプをそれ自体で順番にオンおよびオフへ転じ、その間
に、前記サンプル試験区域から各ランプによって提供さ
れる照射を測定し、各ランプについて照射強度を所望レ
ベルへ調節し、個々のランプセンサー手段をもってめい
めいの個々のランプの光強度を感知し、それによって前
記ランプの光強度を各自前記個々のセンサー手段によっ
て後から感知することができ、そしてそれらの照射強度
を、各ランプの感知された光強度が前記サンプル試験区
域から測定された照射レベルに相当するあらかじめ定め
た限界内に維持されるように調節することができること
を特徴とする前記方法。
【請求項１７】個々のセンサー手段をもって、前記サン
プル試験区域を直接照射する各ランプの部分に対し実質
上反対の各ランプの側から各ランプの光強度を測定する
請求項１６の方法。