JPH0428272B2 - - Google Patents
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- JPH0428272B2 JPH0428272B2 JP58188555A JP18855583A JPH0428272B2 JP H0428272 B2 JPH0428272 B2 JP H0428272B2 JP 58188555 A JP58188555 A JP 58188555A JP 18855583 A JP18855583 A JP 18855583A JP H0428272 B2 JPH0428272 B2 JP H0428272B2
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Classifications
-
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D495/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は3,4,9,10−テトラチオペリレ
ンおよび3,4,9,10−テトラセレノペリレン
の新規な製造方法に関するものである。
ンおよび3,4,9,10−テトラセレノペリレン
の新規な製造方法に関するものである。
ペリ位がカルコゲン(酸素族元素)架橋基によ
り修飾された多環状芳香族化合物は有機導体また
は半導体の有用なドナーであることが知られてい
る。例えばドイツ特許第2641742号明細書および
米国特許第3984593号明細書;J.Am.Chem.Soc.,
98:1,252(1967)および同99:1,255
(1977);J.Org.,Chem.,30,3997(1965)およ
び米国特許第3403165号、同第3634366号明細書参
照のこと。後記の米国特許明細書には、多数のカ
ルコゲン架橋基で修飾された多環状芳香族化合物
の中に、3,4,9,10−テトラチオ−、3,
4,9,10−テトラテルロ−および3,4,9,
10−テトラセレノペリレンのようなテトラカルコ
ゲンペリレンも挙げられている。5,6,11,12
−テトラクロルテトラセンとナトリウムジテルリ
ドとのN,N−ジメチルホルムアミドまたはヘキ
サメチルホスホルアミド存在下での反応による
Organometallics,1,739(1982)によつて公知
の5,6,11,12−テトラテルロテトラセンの製
造方法によれば、3,4,9,10−テトラチオ
−、3,4,9,10−テトラテルロ−または3,
4,9,10−テトラセレノペリレンは純粋な状態
で製造されず、また(または)痕跡量でしか製造
されない。ナトリウムジセレニドとの反応でも依
然として塩素を含む生成物が得られている(J.
Veigl、論文、ハイデルベルグ大学、1981年)。
り修飾された多環状芳香族化合物は有機導体また
は半導体の有用なドナーであることが知られてい
る。例えばドイツ特許第2641742号明細書および
米国特許第3984593号明細書;J.Am.Chem.Soc.,
98:1,252(1967)および同99:1,255
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び米国特許第3403165号、同第3634366号明細書参
照のこと。後記の米国特許明細書には、多数のカ
ルコゲン架橋基で修飾された多環状芳香族化合物
の中に、3,4,9,10−テトラチオ−、3,
4,9,10−テトラテルロ−および3,4,9,
10−テトラセレノペリレンのようなテトラカルコ
ゲンペリレンも挙げられている。5,6,11,12
−テトラクロルテトラセンとナトリウムジテルリ
ドとのN,N−ジメチルホルムアミドまたはヘキ
サメチルホスホルアミド存在下での反応による
Organometallics,1,739(1982)によつて公知
の5,6,11,12−テトラテルロテトラセンの製
造方法によれば、3,4,9,10−テトラチオ
−、3,4,9,10−テトラテルロ−または3,
4,9,10−テトラセレノペリレンは純粋な状態
で製造されず、また(または)痕跡量でしか製造
されない。ナトリウムジセレニドとの反応でも依
然として塩素を含む生成物が得られている(J.
Veigl、論文、ハイデルベルグ大学、1981年)。
置換されていないペリレンまたは1,12−およ
び3,10−ジヒドロキシペリレンは、例えばナフ
タリン、1−ブロムナフタリン、1,1′−ビナフ
チル、1,1′−または2,2′−ビナフトールのよ
うなナフタリン誘導体を塩化アルミニウムの存在
下で約150−160℃に加熱することによつて製造す
ることができる。しかし収量は極めて低い。置換
されていないペリレンは、また1,1′−ビナフチ
ルを少なくとも36%のフツ化水素酸と二酸化マン
ガンの存在下で約140℃にて環化することによ
り;2,2′−ビナフトールを五塩化リンおよびリ
ン酸と400〜500℃に、またはオキシ塩化リンおよ
び亜鉛末と500〜600℃に加熱することにより;ま
たは1,12−または3,10−ジヒドロキシペリレ
ンを亜鉛末と共に蒸留することにより得ることが
できる。これらの従来法では極めて苛酷な反応条
件を用いなければならず、従つてナフタリンまた
はナフタリン誘導体の種々の置換基、特にカルコ
ゲン架橋基はその様な反応条件に耐えることが出
来ない。例えば、E.Clar,Polycyclic
Hydrocarbons,第2巻第24頁以下(Academic
Press社(1964年))を参照のこと。
び3,10−ジヒドロキシペリレンは、例えばナフ
タリン、1−ブロムナフタリン、1,1′−ビナフ
チル、1,1′−または2,2′−ビナフトールのよ
うなナフタリン誘導体を塩化アルミニウムの存在
下で約150−160℃に加熱することによつて製造す
ることができる。しかし収量は極めて低い。置換
されていないペリレンは、また1,1′−ビナフチ
ルを少なくとも36%のフツ化水素酸と二酸化マン
ガンの存在下で約140℃にて環化することによ
り;2,2′−ビナフトールを五塩化リンおよびリ
ン酸と400〜500℃に、またはオキシ塩化リンおよ
び亜鉛末と500〜600℃に加熱することにより;ま
たは1,12−または3,10−ジヒドロキシペリレ
ンを亜鉛末と共に蒸留することにより得ることが
できる。これらの従来法では極めて苛酷な反応条
件を用いなければならず、従つてナフタリンまた
はナフタリン誘導体の種々の置換基、特にカルコ
ゲン架橋基はその様な反応条件に耐えることが出
来ない。例えば、E.Clar,Polycyclic
Hydrocarbons,第2巻第24頁以下(Academic
Press社(1964年))を参照のこと。
また、いわゆるSchollschen反応によつて1−
メトキシ−または1−エトキシナフタリンをニト
ロベンゼンおよびルイス酸またはプロトン酸、特
に塩化アルミニウムまたはベンゼンスルホン酸の
存在下で温和に加熱すると、1,1′−ジメトキシ
−または1,1′−ジエトキシ−4,4′−ビナフチ
ルを生成することが知られている。1−メトキシ
ナフタリンの代わりに1,8−ジメトキシナフタ
リンを使用すると前記の反応条件下で簡単に結合
が起り1,1′,8,8′−テトラメトキシ−4,
4′−ビナフチルを生ずる〔例えば、Chem.Ber.,
55,330(1922)およびChem.Ber.,91,2109
(1958)参照〕。
メトキシ−または1−エトキシナフタリンをニト
ロベンゼンおよびルイス酸またはプロトン酸、特
に塩化アルミニウムまたはベンゼンスルホン酸の
存在下で温和に加熱すると、1,1′−ジメトキシ
−または1,1′−ジエトキシ−4,4′−ビナフチ
ルを生成することが知られている。1−メトキシ
ナフタリンの代わりに1,8−ジメトキシナフタ
リンを使用すると前記の反応条件下で簡単に結合
が起り1,1′,8,8′−テトラメトキシ−4,
4′−ビナフチルを生ずる〔例えば、Chem.Ber.,
55,330(1922)およびChem.Ber.,91,2109
(1958)参照〕。
今ここに式
〔式中、XはSまたはSeを表わす。〕で示される
カルコゲン置換ペリレンが、式 〔式中、Xは式の場合と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物を、ニトロベンゼン中またはニ
トロベンゼンおよびニトロベンゼンに混合性で、
かつ反応条件下で不活性な有機溶媒の混合液中で
ルイス酸またはプロトン酸の存在下で20〜120℃
に加熱することによつて、驚くべきことに簡単な
方法でかつ緩和な反応条件下でかつ純粋な状態で
製造されることが見出された。
カルコゲン置換ペリレンが、式 〔式中、Xは式の場合と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物を、ニトロベンゼン中またはニ
トロベンゼンおよびニトロベンゼンに混合性で、
かつ反応条件下で不活性な有機溶媒の混合液中で
ルイス酸またはプロトン酸の存在下で20〜120℃
に加熱することによつて、驚くべきことに簡単な
方法でかつ緩和な反応条件下でかつ純粋な状態で
製造されることが見出された。
XがSを表わす式の化合物の反応に際して
は、ルイス酸を用いることが好ましく、反応温度
は20〜40℃の間が好都合である。XがSeである
式の化合物の反応に際してはプロトン酸の使用
と80〜100℃の反応温度が好ましい。
は、ルイス酸を用いることが好ましく、反応温度
は20〜40℃の間が好都合である。XがSeである
式の化合物の反応に際してはプロトン酸の使用
と80〜100℃の反応温度が好ましい。
ルイス酸としては、例えば三塩化アルミニウ
ム、三臭化アルミニウム、BF3、四塩化スズ、塩
化亜鉛および四塩化チタンが挙げられる。ルイス
酸としては三塩化アルミニウムを使用することが
好ましい。
ム、三臭化アルミニウム、BF3、四塩化スズ、塩
化亜鉛および四塩化チタンが挙げられる。ルイス
酸としては三塩化アルミニウムを使用することが
好ましい。
適当なプロトン酸は、例えばハロゲン化水素酸
(HF、HClおよびHBr等)、硫酸、リン酸、ポリ
リン酸、またはハロゲン化されていてもよい脂肪
族カルボン酸(ジクロル酢酸およびトリフルオロ
酢酸等)、特に脂肪族または芳香族スルホン酸
(メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸またはナフタリンスルホン酸
等)である。プロトン酸としては、芳香族スルホ
ン酸、特にベンゼンスルホン酸またはp−トルエ
ンスルホン酸を使用することが好ましい。
(HF、HClおよびHBr等)、硫酸、リン酸、ポリ
リン酸、またはハロゲン化されていてもよい脂肪
族カルボン酸(ジクロル酢酸およびトリフルオロ
酢酸等)、特に脂肪族または芳香族スルホン酸
(メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸またはナフタリンスルホン酸
等)である。プロトン酸としては、芳香族スルホ
ン酸、特にベンゼンスルホン酸またはp−トルエ
ンスルホン酸を使用することが好ましい。
反応条件下で不活性で、かつニトロベンゼンと
混合性の有機溶媒としては、例えば芳香族炭化水
素(ベンゼンまたはトルエン等)を使用すること
ができる。ニトロベンゼンおよびそれと混合性の
不活性有機溶媒の混合物を使用する場合、ニトロ
ベンゼンの割合は式の化合物1モルあたり少な
くとも1/2モルが好都合である。反応は純粋のニ
トロベンゼン中、特に無水のニトロベンゼン中で
行うことが好ましい。
混合性の有機溶媒としては、例えば芳香族炭化水
素(ベンゼンまたはトルエン等)を使用すること
ができる。ニトロベンゼンおよびそれと混合性の
不活性有機溶媒の混合物を使用する場合、ニトロ
ベンゼンの割合は式の化合物1モルあたり少な
くとも1/2モルが好都合である。反応は純粋のニ
トロベンゼン中、特に無水のニトロベンゼン中で
行うことが好ましい。
式の化合物の処理は、ニトロベンゼンによつ
て酸化される可能性のある最終生成物の成分を所
望の形にするために、TiCl3のような還元剤の存
在下で行うのが好都合である。本発明により得ら
れた粗生成物は昇華によつて精製するのがよい。
て酸化される可能性のある最終生成物の成分を所
望の形にするために、TiCl3のような還元剤の存
在下で行うのが好都合である。本発明により得ら
れた粗生成物は昇華によつて精製するのがよい。
式の原料は公知である〔J.Am.Chem.Soc.,
99:1,255(1977)参照〕。
99:1,255(1977)参照〕。
式の化合物は、すでに述べたように、例えば
有機導体または半導体製造のためのドナー(電子
供与体)として適しており、その際には電子受容
体として例えば米国特許第3403165号に挙げられ
ているようなベンゾキノン類、ハロゲン(塩素、
臭素および特にヨウ素)、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、
TaF6 -、ClO4 -、ReO4 -またはFSO3 -、7,7,
8,8−テトラシアノキノジメタンまたは有機酸
(カルボン酸またはスルホン酸)を使用すること
ができる(例えば、米国特許第3634336号明細書
参照)。3,4,9,10−テトラチオペリレンと
ヨウ素との導電性錯体は、例えば3,4,9,10
−テトラチオペリレンとヨウ素とを一緒に昇華す
ることによつて製造することができる〔Solid
State Comm.,38,1129(1981)参照〕。
有機導体または半導体製造のためのドナー(電子
供与体)として適しており、その際には電子受容
体として例えば米国特許第3403165号に挙げられ
ているようなベンゾキノン類、ハロゲン(塩素、
臭素および特にヨウ素)、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、
TaF6 -、ClO4 -、ReO4 -またはFSO3 -、7,7,
8,8−テトラシアノキノジメタンまたは有機酸
(カルボン酸またはスルホン酸)を使用すること
ができる(例えば、米国特許第3634336号明細書
参照)。3,4,9,10−テトラチオペリレンと
ヨウ素との導電性錯体は、例えば3,4,9,10
−テトラチオペリレンとヨウ素とを一緒に昇華す
ることによつて製造することができる〔Solid
State Comm.,38,1129(1981)参照〕。
例 1:
350mlのスルホン化フラスコ中で、アルゴン雰
囲気下に塩化アルミニウム6.9g(51.74mmol)
を無水のニトロベンゼン200mlに溶かす。この溶
液を10℃に冷却する。次いでナフト〔1,8−
c,d〕−1,2−ジチオール7.6g〔40mmol〕
を無水のニトロベンゼン70mlに溶かした溶液を加
える。生成した暗青色の混合液を次にまず1/2時
間10℃で、次いで24時間40℃でかきまぜる。この
とき赤紫色の懸濁物が沈澱してくる。次いで反応
混合物を1NHCl500ml中に注ぎ良くかきまぜる。
10%HCl中の15%TiCl3溶液50mlを加え、1時間
かきまぜる。吸引過後、得られた固体を水およ
びジエチルエーテルでよく洗浄し、次いで40℃/
0.13Paにて高真空乾燥する。粗生成物のテトラチ
オペリレン2.2g(理論量の29%)を得る。次に
粗生成物を300℃/0.13Paにて昇華すると、純粋
のテトラチオペリレンが金色に輝く針状晶として
晶析してくる(1.2g;理論量の約16%)。マスス
ペクトルによる同定:M+=376。1,2,4−ト
リクロルベンゼン中での可視スペクトル:λnax
572nmおよび531nm。X−線による結晶構造:
単斜晶系、空間群P21/n(中心対称);軸:a=
16.149Å、b:4.013Å、c=22.292Å、β=
94.54°。
囲気下に塩化アルミニウム6.9g(51.74mmol)
を無水のニトロベンゼン200mlに溶かす。この溶
液を10℃に冷却する。次いでナフト〔1,8−
c,d〕−1,2−ジチオール7.6g〔40mmol〕
を無水のニトロベンゼン70mlに溶かした溶液を加
える。生成した暗青色の混合液を次にまず1/2時
間10℃で、次いで24時間40℃でかきまぜる。この
とき赤紫色の懸濁物が沈澱してくる。次いで反応
混合物を1NHCl500ml中に注ぎ良くかきまぜる。
10%HCl中の15%TiCl3溶液50mlを加え、1時間
かきまぜる。吸引過後、得られた固体を水およ
びジエチルエーテルでよく洗浄し、次いで40℃/
0.13Paにて高真空乾燥する。粗生成物のテトラチ
オペリレン2.2g(理論量の29%)を得る。次に
粗生成物を300℃/0.13Paにて昇華すると、純粋
のテトラチオペリレンが金色に輝く針状晶として
晶析してくる(1.2g;理論量の約16%)。マスス
ペクトルによる同定:M+=376。1,2,4−ト
リクロルベンゼン中での可視スペクトル:λnax
572nmおよび531nm。X−線による結晶構造:
単斜晶系、空間群P21/n(中心対称);軸:a=
16.149Å、b:4.013Å、c=22.292Å、β=
94.54°。
例 2:
250ml三つ口フラスコ中でアルゴン雰囲気下に
ナフト(1,8−c,d〕−1,2−ジセレノー
ル1.0g(3.49mmol)と無水のベンゼンスルホン
酸5.0g(31.6mmol)とを無水のニトロベンゼン
100mlに溶かした混合液を100℃で20時間かきまぜ
る。次いで赤紫色の溶液を高真空下で濃縮する。
60℃で一夜高真空下に乾燥した後、油状の残留物
に10%重炭酸ソーダ水溶液250mlを加える。これ
により生成した結晶性沈澱を吸引過し、更に重
炭酸ソーダ溶液および次いで1N HCl溶液で洗浄
し、30分間10%HCl(20ml)中の15%TiCl3と共に
かきまぜる。次に生成物を水で中性になるまで洗
浄し、高真空下で乾燥する。粗生成物が1g(理
論量の100%)得られる。粗生成物を375℃/
0.13Paにて昇華すると純粋のテトラセレノペリレ
ンが銀色に輝く小さな針状物として110mg(理論
量の11%)得られる。マススペクトルによる同
定:M+=564。
ナフト(1,8−c,d〕−1,2−ジセレノー
ル1.0g(3.49mmol)と無水のベンゼンスルホン
酸5.0g(31.6mmol)とを無水のニトロベンゼン
100mlに溶かした混合液を100℃で20時間かきまぜ
る。次いで赤紫色の溶液を高真空下で濃縮する。
60℃で一夜高真空下に乾燥した後、油状の残留物
に10%重炭酸ソーダ水溶液250mlを加える。これ
により生成した結晶性沈澱を吸引過し、更に重
炭酸ソーダ溶液および次いで1N HCl溶液で洗浄
し、30分間10%HCl(20ml)中の15%TiCl3と共に
かきまぜる。次に生成物を水で中性になるまで洗
浄し、高真空下で乾燥する。粗生成物が1g(理
論量の100%)得られる。粗生成物を375℃/
0.13Paにて昇華すると純粋のテトラセレノペリレ
ンが銀色に輝く小さな針状物として110mg(理論
量の11%)得られる。マススペクトルによる同
定:M+=564。
同位体群は1分子当りSe原子4個に対応する。
ベンゼン中での可視スペクトル:λnax574nm、
532nm。X−線による結晶構造:単斜晶系、空
間群P21/C;軸a=7.896Å、b=4.201Å、c
=22.578Å、β=90.57°。
532nm。X−線による結晶構造:単斜晶系、空
間群P21/C;軸a=7.896Å、b=4.201Å、c
=22.578Å、β=90.57°。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、XはSまたはSeを表わす。〕 で示される化合物を、ニトロベンゼン中またはニ
トロベンゼンおよびニトロベンゼンと混合性で、
かつ反応条件下で不活性な有機溶媒の混合液中で
ルイス酸またはプロトン酸の存在下にて20〜120
℃に加熱することを特徴とする式 〔式中、Xは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるカルコゲン置換ペリレンの製造方法。 2 XがSを表わす式の化合物をルイス酸の存
在下に20〜40℃に加熱することを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載の製造方法。 3 XがSを表わす式の化合物を塩化アルミニ
ウムの存在下で20〜40℃に加熱することを特徴と
する特許請求の範囲第2項に記載の製造方法。 4 XがSeを表わす式の化合物をプロトン酸
の存在下で80〜100℃に加熱することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載の製造方法。 5 XがSeを表わす式の化合物を芳香族スル
ホン酸の存在下に80〜100℃に加熱することを特
徴とする特許請求の範囲第4項に記載の製造方
法。 6 XがSeを表わす式の化合物をベンゼンス
ルホン酸またはp−トルエンスルホン酸の存在下
で80〜100℃に加熱することを特徴とする特許請
求の範囲第5項に記載の製造方法。 7 純粋のニトロベンゼン中、特に無水のニトロ
ベンゼン中で反応を行うことを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH596282 | 1982-10-12 | ||
CH5962/82-3 | 1982-10-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5988486A JPS5988486A (ja) | 1984-05-22 |
JPH0428272B2 true JPH0428272B2 (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=4302181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58188555A Granted JPS5988486A (ja) | 1982-10-12 | 1983-10-11 | 3,4,9,10−テトラチオペリレンおよび3,4,9,10−テトラセレノペリレンの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4505858A (ja) |
EP (1) | EP0106805B1 (ja) |
JP (1) | JPS5988486A (ja) |
CA (1) | CA1208652A (ja) |
DE (1) | DE3365690D1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4754028A (en) * | 1984-09-24 | 1988-06-28 | The Dow Chemical Company | 3,4,5-triselena-tricyclo-[5.2.1.0.2,6 ]decanes and derivatives thereof |
US4737426A (en) * | 1985-05-15 | 1988-04-12 | Ciba-Geigy Corporation | Cyclic acetals or ketals of beta-keto esters or amides |
JPH0832985B2 (ja) * | 1985-12-27 | 1996-03-29 | 津田駒工業株式会社 | ジエツトル−ムの起動方法 |
US4960886A (en) * | 1986-12-15 | 1990-10-02 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Charge transfer complex formed between benzoquinone derivative and electron donor and process for producing the same |
US6464773B1 (en) * | 2000-11-10 | 2002-10-15 | Sun Chemical Corporation | Toluene sulfonic acid swelling of perylene pigments |
US7368624B2 (en) * | 2004-03-30 | 2008-05-06 | Eastman Kodak Company | Synthesis for polycyclic aromatic hydrocarbon compounds |
CN104583161B (zh) * | 2012-08-30 | 2016-12-14 | 巴斯夫欧洲公司 | 作为有机电子材料和染料的结构单元的方便制备的萘和苝衍生物 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA446528A (en) * | 1948-02-03 | Schetty Guido | Manufacture of naphthosultone derivatives |
-
1983
- 1983-09-30 US US06/538,022 patent/US4505858A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-10-06 EP EP83810459A patent/EP0106805B1/de not_active Expired
- 1983-10-06 DE DE8383810459T patent/DE3365690D1/de not_active Expired
- 1983-10-11 CA CA000438859A patent/CA1208652A/en not_active Expired
- 1983-10-11 JP JP58188555A patent/JPS5988486A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1208652A (en) | 1986-07-29 |
US4505858A (en) | 1985-03-19 |
EP0106805A1 (de) | 1984-04-25 |
EP0106805B1 (de) | 1986-08-27 |
JPS5988486A (ja) | 1984-05-22 |
DE3365690D1 (en) | 1986-10-02 |
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