JPH04277714A

JPH04277714A - 光学式スキャナ及び走査方法

Info

Publication number: JPH04277714A
Application number: JP3289212A
Authority: JP
Inventors: Ravinder Prakash; ラヴィンダー　（エヌエムエヌ）　プラカシュ
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Priority date: 1991-01-31
Filing date: 1991-10-08
Publication date: 1992-10-02
Also published as: US5168167A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、一般に光学式スキャナ
に係り、更に詳細には、被走査部材からの反射光を生成
するための照射装置に係る。

【０００２】

【従来の技術】光学式スキャナは、紙のような部材又は
表面に存在する光学的なしるし（ｉｎｄｉｃｉａ　）又
は情報を対応する電気信号へ変換するために使用するこ
とができる。このようなスキャナは、走査される部材を
照射するための手段を通常必要とする。部材から反射さ
れた光は次に、感光性素子によって検出されるか、又は
荷電結合素子（ＣＣＤ）のようなセンサアレイ上へイメ
ージされ、このとき光エネルギは電気信号又はデータへ
変換される。このプロセスの間に必要とされる照射を生
成するためにレーザ・ダイオードを都合よく利用するこ
とができる。レーザ・ダイオードは、比較的安価である
と共にパワー効率がいいので、この機能にとって望まし
い。しかしながら、スキャナのいくつかの応用では、単
一ダイオードによって生成される制限された光によって
、レーザ・ダイオードの使用は制限される。

【０００３】高い光強度を要求するスキャナ照射の応用
においてレーザ・ダイオードを魅力的な選択肢とするた
めに、レーザ・ダイオードアレイの使用が提唱されてい
る。これらのアレイは、全体の出力パワーレベルを実行
可能な値へ増大させるために、いくつかのダイオードを
使用する。米国特許第４、９２４、３２１号は、読み出
し操作の間に必要な照射レベルを供給するために半導体
レーザアレイを使用する画像読出装置を開示している。このアレイは、ビーム・スプリッタ及びプリズムを使用
し、別々のレーザ・ビームを、被走査部材を横切って走
査又は偏向される単一のビームへ結合する。このアプロ
ーチはある場合には有利であるが、ビーム・エネルギの
半分はスプリッタの銀被膜部分を通り抜け、他の半分は
反射されるので、従来のビーム・スプリッタは全体の光
出力を約５０％減少させる。この参考特許では、この装
置のよりよい機能は、読み出しモードの間必要とされる
高照射レベルを要求しないので、画像の読み出し及び再
生の間使用されるダイオードの数が変えられる。

【０００４】この参考特許のスキャナ照射システムを使
用する際のもう１つの重要な検討事項は、スポット全体
からの反射光がセンサ素子によって受信されるので、レ
ーザ・ビームによって生成される光のスポットの正確な
アライメントを保持していることである。すなわち、も
し照射スポットが所望の位置から変位されると、スキャ
ナによって生成されて得られる電気信号は誤ったものに
違いない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、アライメント
の重要性を低くし、レーザ・ダイオードアレイによって
生成される走査光を結合する効率的な方法を与える照射
システムを提供することが所望されると共に、本発明の
目的である。

【０００６】光学式スキャナの幾つかの特性は、スキャ
ナから得られる走査データの均一性及び正確さに影響を
与え得る。結像レンズ又はＣＣＤセンサの非均一性（そ
の設計に固有な非均一性、又は製造公差による非均一性
）、走査スポットに関する被走査部材の位置、及び被走
査部材を横切る走査ビームの速度変化のような事項によ
って、被走査部材上のしるしを表示する電気信号が不正
確になる。これらの理由のため、他のスキャナ構造によ
って経験された非均一性を減少させるか、又は補償する
ことのできる効率的なスキャナ・システムを提供するこ
ともまた所望されると共に、本発明の目的である。

【０００７】

【課題を解決するための手段及び作用】先行技術のスキ
ャナを越える幾つかの利点を可能にするよう構成された
新規且つ有用な光学式スキャナがここに開示されている
。別々に発生された複数のレーザ・ビームを用いる照射
源を使用して、被走査部材上に走査線を照射する。これ
らのビームは、被走査部材上の走査線に沿った異なる位
置に、別々の光スポットを形成する。線型の荷電結合素
子（ＣＣＤ）を用いて、光スポットによって反射されて
ＣＣＤ上にイメージされる光を感知する。ＣＣＤ上の個
々のセンサからの信号を、センサに対応する部材上の位
置を全てのスポットがカバーするのに必要な時間に渡っ
て積算することによって、レーザで発生した光スポット
から合成信号が生成される。本発明によって教示される
スキャナ装置を用いることによって、表面を走査する光
を修正して、スキャナの走査、露出及び光学システムに
おける種々の非均一性を補償することができる。加えて
、１つ又はそれ以上のレーザ・ビーム発生装置によって
放射される光の量を変化させることによって、走査光の
波長の調整が容易に達成できる。

【０００８】本発明の特定の実施例によると、レーザ・
ビームは、互いに平行でないビームを生成するように取
付台に支持された別々のレーザ・ダイオードによって発
生される。これらのビームは、回転多面鏡上へビームを
集中させるために、異なる角度で配置された鏡によって
反射される。ビームは被走査部材を横切って回転多面鏡
によって偏向されて、相互に一致しない光スポットを生
成する。光学システムを使用して、走査線に沿った特定
の位置に対応する複数の個々のセンサを有する線型ＣＣ
Ｄ素子上に、走査線をイメージする。被走査部材を横切
って走査する各別々の光スポットに起因する各センサに
おける電荷の積算又は合成機能によって、被走査部材上
の各位置に対する合成信号又は総電荷信号を生成するこ
とができる。それは、その位置の全体的な読取りを生成
する個々の光スポット反射の和なので、必要とされる総
信号を提供するのに十分なダイオードが使用されるなら
ば、より低いパワーのレーザ・ダイオードが照射のため
に使用されてもよい。スポットを互いに重ね合わせる代
わりに、走査線に沿って光スポットを変位させることに
よって、ビーム・スプリッタを使用する必要がないので
、照射装置の効率は先行技術の装置以上に高められる。

【０００９】本発明の更に進んだ利点及び使用は、以下
の詳細な記載及び図面を考察するとより明らかになるで
あろう。

【００１０】

【実施例】以下の記載を通して、同様の参照文字は、図
面の全ての図中の同様のエレメント又は部材を示すもの
である。

【００１１】図面、特に図１を参照すると、本発明の特
定の実施例に従って構成された光学式スキャナの概略ブ
ロック図が示されている。スキャナは光ビーム発生器及
びスキャナ１０、１２を含み、これらはそれぞれ、複数
の個々のレーザ・ビームを含む光ビーム１４及び１６を
生成する。これらのビームは、情報又は印刷されたしる
しをその上に含む紙である被走査部材１８を横切って走
査される。平坦な物体、３次元の物体、及び表示装置又
は読出装置のような他のタイプの部材も、本発明に従っ
て走査することができる。いくつかの適用例では、浮出
した表面の陰影が邪魔にならないときに部材１８の表面
を照射するためにただ１つの光ビーム発生器及びスキャ
ナを使用すれば十分である。

【００１２】光ビーム１４及び１６の主走査方向は、図
の紙面に対して実質的に垂直である。部材１８からの反
射光２０は、結像レンズ２２によって、センサ又は荷電
結合素子（ＣＣＤ）２４上へイメージされる。この特定
の実施例では、ＣＣＤ２４は、図１の紙面に垂直なライ
ンパターンに配列された複数の別々のセンサを有する線
型素子である。従って、スキャナは事実上、図１に垂直
な主走査方向に部材１８を走査する線型スキャナである
。部材１８の完全な走査は、走査された照射線が表面全
体を通り過ぎるように、スキャナ装置及び被走査部材１
８を相対的に移動させることによって達成される。この
相対移動は、矢印２６又は２８の方向に副走査方向の移
動を生成する。通常の作動では、走査線は被走査部材１
８の一端から始まり、部材全体が走査されるまで、部材
１８は一方向に移動される。

【００１３】ＣＣＤ２４の個々のセンサは、発生した光
スポットが各位置を異なる瞬間に掃引するのに従って、
被走査部材１８上の特定位置からの光エネルギを感知又
は検出する。部材１８上の光学的しるしに対応する合成
又は全体の出力電気信号を得るために、ＣＣＤ２４に蓄
積された電荷の記録が終了する前に、各レーザ・ビーム
によって生成される光スポットは同一の位置を照射する
ことが可能にされる。タイマ３０は、スポット位置情報
に応答して、ＣＣＤ２４の電荷の記録が終了（クロック
アウト）されて合成出力信号を生成するときを決定する
。

【００１４】発生器１０及び１２によって生成される別
々に発生した光ビームは、光ビームコントローラ３２に
よって制御される。コントローラは、発生器によって生
成された光ビームのいくらかを有効にオン又はオフする
か、もしくは、パルス幅変調の使用によってその出力を
調節して、走査線を横切る所望のエネルギ・プロファイ
ルを得る。このプロファイルは、波長制御、強度制御、
位置制御、又は部材１８を横切る効率のいい且つあつら
えの光走査パターンを生成するのに所望される他の制御
のためのものである。

【００１５】図２は、図１に示される光ビーム発生器及
びスキャナの１つとして使用することのできる照射装置
の平面図である。取付台３４は、半導体レーザ・ダイオ
ード３６、３８及び４０を含む。これらのレーザ・ダイ
オードを使用して、互いに平行でないが、コリメータ・
レンズ４２、４４及び４６によってそれぞれが平行化さ
れる別々のレーザ・ビームを発生する。この実施例では
３つのレーザ・ダイオードで説明されているが、本発明
の教示から逸脱することなく、取付台３４は、３つのダ
イオードよりも多い又は少ない数のダイオードを含むこ
とができる。

【００１６】レーザ・ダイオードによって発生されるレ
ーザ・ビーム４８、５０及び５２は、鏡５４、５６及び
５８からそれぞれ反射される。３つの鏡の使用によって
、レーザ・ダイオードはビームの長さを更に延長するこ
となく、相互に物理的に分離されることができる。これ
によって、構造の緻密度が高まる。発生されたレーザ・
ビームは、被走査部材１８を横切ってビームを走査する
ために、回転多面鏡６０によって偏向される。明らかな
理由で、図２は、図１の発生器及びスキャナに関して９
０°に合わせられている。従って、図２に示される主走
査方向６２は、図１では、図１を含む平面に垂直な方向
である。

【００１７】図２でわかるように、３つのレーザ・ビー
ムは、部材１８の異なる位置に到達する。被走査部材１
８上に衝突するビームは、主走査方向６２で部材を横切
って同時に走査される３つの光スポットを生成する。図
１に示されるように、これらの光スポットは被走査部材
１８上のしるしを照射し、しるしからの反射光はＣＣＤ
上にイメージされる。走査線に沿った各位置は、異なる
時に各スポットによって照射されるので、ＣＣＤの対応
するセンサ上の全体の電荷は、３つのスポット全部がそ
のしるしを照射するまでは得られない。同一のイメージ
位置を全ての光スポットが照射するまでＣＣＤからの出
力信号を適切に遅延させることによって、ＣＣＤからの
信号は、３つ全部の光スポットによって照射された後の
被走査部材１８上の特定のスポット又は位置を表示する
合成信号となる。

【００１８】複数のレーザ・ダイオードの使用は、部材
１８上のしるしへ方向付けられた全体の照射光の波長制
御を考慮に入れたものであることが強調される。ＣＣＤ
アレイ上の反射光の結像と組み合って、この装置は他の
構造態様の使用を可能にする。例えば、回転多面鏡６０
の代わりにガルバノ・ミラーを使用してレーザ・ビーム
を偏向してもよい。ガルバノ・ミラー偏向器又はスキャ
ナの示す偏向ビームの配置の正確さは、回転多面鏡より
も通常劣る。しかしながら、ここに以下論議されるよう
に、本発明に従うレーザ・ビームの正確な配置は、スキ
ャナの適切な作動を開発するにおいて重要ではない。更
に、被走査部材又は文書はほぼ平行な光で照射されてい
るので、スキャナ・システムは実質的に、被走査部材へ
衝突する前のビーム長を事実上長くするか又は短くする
書類位置の変化を感知しない。

【００１９】本発明のスポット位置の公差が緩められた
ことによって使用することのできる他の装置が図３に示
されている。図３は、ビーム長さを短くし、且つ構造全
体の緻密性を高めるために、回転多面鏡６０と被走査部
材１８との間で使用することのできるフォールディング
鏡（ｆｏｌｄｉｎｇ　ｍｉｒｒｏｒ）の側面図である。フォールディング鏡６４は、ガラス又はプラスチックの
ような光学的に透明な材料で構成され、向かい合う側面
は、コーティング６６及び６８のような反射性銀コーテ
ィングで被覆されている。従って、フォールディング鏡
６４へ入る光ビームは、透明材料から出て被走査部材１
８へ到達する前に、透明材料を通って後ろから前へ反射
される。ここでまた、このような鏡は、振動又はミスア
ライメントに陥り易く、スポットが非常に正確に保持さ
れなければならないような装置ではしばしば有用ではな
い。しかし、本発明によって与えられたスポット位置の
広い公差のため、フォールディング鏡システムは、スキ
ャナの正確さを低下させることなくスキャナのサイズを
小さくするために使用することができる。

【００２０】図４は、走査光スポットと、光スポットが
その上にイメージされる個々のＣＣＤセンサとの間の関
係を説明する図である。図４に示されるライン７０は、
レーザ・ビーム・スポットが被走査部材を横切って主走
査方向６２に進行する位置を示すものである。光スポッ
ト７２、７４及び７６は、それぞれ図２に関してビーム
４８、５０及び５２である対応のレーザ・ビームによっ
て、被走査部材上に生成される。レーザ・ダイオードか
ら出る光によって生成されるスポットは、円形のように
描かれているが、楕円形のような他の形状を有していて
もよい。軸寸法が０．８×２．０　ｍｍ　である楕円ス
ポットは、この走査システムでは部材を十分に照射する
。図４に示された実線７８は、被走査部材１８上に含ま
れたしるしを表示している。このような場合、スポット
７６からの反射光は、スポット７４からの反射光よりも
強度が大きく、スポット７２からの反射光の強度は、他
の２つの反射光の強度の間である。

【００２１】ＣＣＤアレイ８０は、主走査方向に延長す
るセンサの線型アレイである。これは、ライン７０がセ
ンサアレイ８０上へイメージされるので、ライン７０で
示されるような被走査部材１８を横切るライン走査を有
効に可能にする。スポット７２、７４及び７６は、同時
に被走査部材の同一領域を照射しないので、互いに合致
しない。しかしながら、被走査部材上の各領域は、完全
なライン走査のうちに、光スポットの全てによって照射
される。例えば、ライン走査７０における領域８２は、
ＣＣＤセンサアレイ８０の個々のセンサ位置８４上にイ
メージされる。領域８２は、スポット７２によって始め
に照射され、つぎにスポット７４及び７６によって引き
続いて照射される。電気信号がＣＣＤから得られる前に
ＣＣＤが各スポットによる反射光を受信できるようにす
ることによって、領域８２で光スポットによって走査さ
れた光学的しるしを表示する合成又は全体の電気信号を
得ることができる。従って、より小さい又はより弱い光
レベルを各個々のスポットのために使用し、ＣＣＤで積
算又は結合して、被走査領域を十分に表示することがで
きる。これによって、複数のレーザ・ビームの走査スポ
ットが走査作動の間相互に合致するようにするシステム
を越える有効なエンハンスメントが得られる。というの
は、これらのシステムは、合致ビームに含まれる光の量
を減少させるビーム・スプリッタを通常使用するからで
ある。

【００２２】ＣＣＤセンサアレイ上にイメージされてい
る領域よりもスポットが大きいことにも注意する。従っ
て、照射及び感知される領域付近のスポットの正確な配
置は重要ではない。理想位置からのスポットの小さな移
動は、その領域を表示する電気信号出力に実質的に影響
しない。これによって、走査データの品質を低下させる
ことなくスポット位置の正確さを減少させる他の構成要
素をスキャナで使用することが可能になる。

【００２３】図５は、ビーム走査速度、所望のレーザ・
パワー及び走査位置の間の関係を説明するグラフである
。被走査部材を横切るスポットの走査速度は、曲線８５
によって示される。図５でわかるように、スポットが走
査の中央にあるとき速度は最低である。一方スポットが
、走査の出発点及び終了点である走査位置の両極端にあ
るとき、走査速度は最高である。これは、走査されてい
る平坦な部材を横切ってビームが偏向されるときにスポ
ットを生成するレーザ・ビームの角速度は一定であるが
、ビームの長さは増大されるからである。走査の中央部
で必要とされる照射エネルギの減少を補償するために、
速度が遅いところではレーザ・パワーが適切に制御され
て、曲線８６で示されるようにパワー中央又は中央走査
位置での照射エネルギを減少させることができる。この光プロファイルは、図１に示されるコントローラ３
２によって、振幅変調を行うか、又は中央走査位置にお
ける被走査部材１８を横切って走査するレーザ・ダイオ
ードの数を少なくして達成することができる。これは、
１つまたはそれ以上のダイオードをオフすることによっ
て達成できる。多面鏡速度、レーザ走査システムの幾何
学、及び従来の走査開始（ｓｔａｒｔ−ｏｆ−ｓｃａｎ
　）センサからの信号の知識全てにより、走査されたと
きにスポット位置についての情報を提供することができ
る。このような情報は、図１に示されるＣＣＤ出力信号
タイマ３０への入力としても使用することができる。

【００２４】光ビーム・コントローラ３２は、部材を横
切って走査するときにレーザ・ダイオードをパルス幅変
調することによって、もしくは走査シーケンスの間にレ
ーザ・ダイオードの作動を大きくする又は小さくするこ
とによって、機能を果たすことも可能であることは、認
識されるべきである。これは、偏向の半径方向速度と、
部材１８を横切って走査するためにビームが出発する瞬
間の時間とを知ることによって決定することのできるビ
ーム位置の知識で達成される。より多くのレーザを加え
ることによって及び／又は単一のキャビティ・レーザを
レーザアレイで置き換えることによって、平均レーザパ
ワーを増大することができる。

【００２５】図６は、スポット位置と走査時間との間の
関係を説明するグラフである。例えば、曲線８８は、図
４に示されるスポット７２に対応する。スポット７２は
、走査の先頭スポットなので、最初（ｔ＝０）から始ま
り、距離９０によって示される走査の終点へ到達するま
でライン走査を横切って移動するにつれて位置を変える
。同様の分析によって、曲線９２は、図４に示されるス
ポット７４の軌道を示し、曲線９４は図４に示されるス
ポット７６の軌道を示す。これらの後者２つのスポット
は、第１スポットから変位されているので、曲線９２及
び９４は主走査の間他の曲線８８から遅れる。これらの
曲線は、走査の間生じる速度の変化をも示す。曲線は中
央部又は中央走査位置でより水平に形づくられるので、
走査の終点よりも所定時間に対してより少ない位置又は
距離を移動する。従って、走査スポットの速度は走査の
中央で最小である。

【００２６】図７、８、９、及び１０は、ＣＣＤアレイ
内の全ての画素、すなわちセンサ位置の組合せのため、
及び個々の画素、すなわちセンサ位置のための、ＣＣＤ
からの電荷レベル、すなわち出力信号を示す。図７にお
いて、線９６は、線型ＣＣＤ内の全ての画素上の電荷が
走査の終点でその上限へ到達していることを示す。言い
換えると、全ての画素のための全体の電荷レベルは、ラ
イン走査が完了した後に得られる。時間遅延９８が生じ
て、その間にＣＣＤの電荷の記録が終了されて、さらに
進んだ電気処理のために必要なデータを提供する。次の
ライン走査は、線９９によって特に表示される。

【００２７】図８、９及び１０は、特定の画素に対応す
る特定の個々のセンサ位置上の電荷レベルを示す。これ
らのレベルは、同一アレイレベルがセンサ上で感知され
ているか又は集中されているものとする。線１００は、
３つのスポットが最後の画素を走査し終わったときに生
成される線型アレイの最後の画素の電荷を表示する。線
１０２は、３つの光スポットが第２ピクセルを走査し終
わったときに、第２画素でライン走査の開始から発展さ
れる電荷を示す。第３の光スポットがこの画素を通過し
た後、時間間隔１０４の間にＣＣＤの記録が終了される
までは、電荷は同一のままである。もう１つの例によっ
て、第１画素は図１０で示される線１０６によって示さ
れる。

【００２８】公差の重要な構成要素の使用を可能にする
ようアレンジされた照射サブシステム及び感知サブシス
テムの組合せを使用する、能率を大きく低下させること
なくエネルギ及び波長制御に容易に適用できる走査シス
テムがここに開示された。本発明の教示から逸脱するこ
となく上記に説明したシステムに多数の変化が成され得
ることが強調される。例えば、本発明の教示から逸脱す
ることなくシステムに成されるであろう変化には、ライ
ン走査に沿って２つまたはそれ以上のダイオードを使用
すること、積み重ね又は積層されたレーザ・ダイオード
アレイを用いる２次元ＣＣＤアレイを使用して何本かの
ラインの同時走査を可能にすること、及び異なる優勢波
長を有するレーザ・ダイオードを使用すること、が含ま
れる。異なる優勢波長のダイオードを有するレーザアレ
イを適切に変調することによって、照射光全体の波長を
特定の走査応用のためにあつらえることができる。例え
ば、背景が青色の文書を走査するテキストは、より短い
波長、すなわち紫外線領域で全体の波長を有効に生成す
る照射光を使用することによって、よりよい結果を提供
することができる。レーザ・ダイオードの選択的制御は
、被走査部材上のある領域をマスクアウトするために使
用することもできる。

【００２９】ここで使用されたように、光は、赤外光及
び紫外光を含む、目にみえる及びみえない型の照射を示
すものである。上記の説明に含まれる又は添付図面に示
された事項の全ては、限定ではなく例示として理解され
るよう意図されたものである。

【００３０】

【発明の効果】上記に説明したように、本発明の照射シ
ステムは、アライメントの重要性を低くすると共に、レ
ーザ・ダイオードアレイによって生成される走査光を結
合する有効な方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従って構成された光学式スキャナの概
略ブロック図である。

【図２】本発明で使用される照射装置の平面図である。

【図３】本発明と共に使用されるフォールディング・レ
ンズの側面図である。

【図４】走査光スポットと、それに対応する個々のＣＣ
Ｄセンサとの間の関係を説明する図である。

【図５】ビーム走査速度及び所望のレーザ・パワーをス
ポット位置の関数として説明するグラフである。

【図６】スポット変位及び可変スポット速度を示す３つ
のビーム曲線のグラフである。

【図７】本発明の実施例に従って、ＣＣＤからの全体の
及び個々のセンサ信号出力を説明するグラフである。

【図８】本発明の実施例に従って、ＣＣＤからの全体の
及び個々のセンサ信号出力を説明するグラフである。

【図９】本発明の実施例に従って、ＣＣＤからの全体の
及び個々のセンサ信号出力を説明するグラフである。

【図１０】本発明の実施例に従って、ＣＣＤからの全体
の及び個々のセンサ信号出力を説明するグラフである。

【符号の説明】

１０、１２　　　　光ビーム発生器及びスキャナ１８　
　　　被走査部材２２　　　　結像レンズ２４　　　　荷電結合素子（ＣＣＤ）３０　　　　ＣＣＤ出力信号タイマ３２　　　　光ビームコントローラ３４　　　　取付台３６、３８、４０　　　　半導体レーザ・ダイオード４
２、４４、４６　　　　コリメータ・レンズ４８、５０
、５２　　　　レーザ・ビーム５４、５６、５８　　　
　鏡６０　　　　回転多面鏡６４　　　　フォールディング鏡６６、６８　　　　コーティング７２、７４、７６　　　　光スポット

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　被走査部材上に存在する光学的しるし
を表示する電気的情報を提供するための光学式スキャナ
であって、別々に発生された複数の光ビームを生成する
光エネルギ源と、被走査部材上に衝突して別々の合致し
ない光スポットを生成する前記ビームのそれぞれを、被
走査部材を横切って走査するための手段と、各センサ上
に衝突する光を表示する電気信号を供給する光センサア
レイと、前記アレイ内の光センサ上に、被走査部材上に
生成した光スポットの限定領域をイメージするための手
段と、を備えた光学式スキャナ。
【請求項２】　　光エネルギ源は、第１及び第２の光ビ
ームをそれぞれ生成する第１及び第２のレーザ・ダイオ
ードを含むと共に、スキャナは、前記レーザ・ダイオー
ドから発する光を選択的に制御するための手段を含む請
求項１記載の光学式スキャナ。
【請求項３】　　光センサアレイからの電気信号の出力
の時間を計って、異なる時に異なる光ビームによって走
査された被走査部材上の特定の領域を表示する合成信号
を生成するための手段を含む請求項１記載の光学式スキ
ャナ。
【請求項４】　　生成された別々の光スポットは、主走
査方向で互いに変位されている請求項１記載の光学式ス
キャナ。
【請求項５】　　生成された別々の光スポットが主走査
方向に垂直な方向で相互に位置合わせされることによっ
て、光スポットは、異なる時に被走査部材上のしるしを
同一ラインで走査することができる請求項４記載の光学
式スキャナ。
【請求項６】　　第１及び第２のレーザ・ダイオードは
位置合わせされて、相互に平行でないそれぞれのレーザ
・ビームを放射する請求項２記載の光学式スキャナ。
【請求項７】　　平行でない光ビームは、異なる角度に
向けられた第１及び第２の鏡によって、走査手段へ向け
て反射される請求項６記載の光学式スキャナ。
【請求項８】　　走査手段は回転多面鏡である請求項１
記載の光学式スキャナ。
【請求項９】　　走査手段はガルバノ・ミラーである請
求項１記載の光学式スキャナ。
【請求項１０】　　走査手段と被走査部材との間にフォ
ールディング・レンズが配置されて、走査ビームの長さ
を短くする請求項１記載の光学式スキャナ。
【請求項１１】　　生成された光スポットは、光センサ
アレイの個々のセンサによって感知される被走査部材上
の領域よりも大きい請求項１記載の光学式スキャナ。
【請求項１２】　　光センサのアレイは線型ＣＣＤであ
る請求項１記載の光学式スキャナ。
【請求項１３】　　走査ビームと被走査部材との間の相
対移動を生じさせるための手段を更に含むことによって
、完全に２次元の部材が走査されるのを可能にする請求
項１２記載の光学式スキャナ。
【請求項１４】　　光センサアレイは２次元アレイであ
り、光エネルギ源には、被走査部材上で光スポットを主
走査方向に垂直な方向に同時に生成する追加のレーザ・
ダイオードが含まれる請求項１記載の光学式スキャナ。
【請求項１５】　　レーザ・ダイオードを選択的に制御
するための手段は、１つ又はそれ以上のダイオードから
の光を調節して、走査光ビームの全てに対する全体の波
長の所望の特性を確立する請求項２記載の光学式スキャ
ナ。
【請求項１６】　　レーザ・ダイオードを選択的に制御
するための手段は、１つ又はそれ以上のダイオードから
の光を調節して、被走査部材を横切る全体の光の所望の
パワー・プロファイルを確立する請求項２記載の光学式
スキャナ。
【請求項１７】　　被走査部材上に存在する光学的しる
しを表示する電気的情報を提供するための光学式スキャ
ナであって、少なくとも第１及び第２の平行でない光ビ
ームをそれぞれ生成する第１及び第２のレーザ・ダイオ
ードを含む光源と、被走査部材を横切って前記第１及び
第２のビームを走査するための手段であって、ビームは
被走査部材上へ衝突して別々の合致しない光スポットを
生成し、前記光スポットは主走査方向で相互に変位され
、且つ主走査方向に垂直な方向で相互に位置合わせされ
て、異なる時に被走査部材上の同一のしるしを光スポッ
トが走査できるようにするような手段と、前記レーザ・
ダイオードから発する光を選択的に制御するための手段
と、各センサ上へ衝突する光に応答する電気信号を供給
する光センサの線型ＣＣＤアレイと、被走査部材上に生
成された光スポットの限定領域を、前記アレイの光セン
サ上にイメージするための手段と、光センサアレイから
の電気信号の出力の時間を計って、被走査部材上の走査
されたしるしに対する合成信号を生成するための手段と
、を備えた光学式スキャナ。
【請求項１８】　　光学的しるしを表示する電気的情報
を提供するために被走査部材上の光学的しるしを走査す
る方法であって、被走査部材上の同一のしるしを走査す
るために位置合わせされるが主走査方向に相互に変位さ
れている第１及び第２の合致しない光スポットで被走査
部材を照射するステップと、被走査部材を横切ってスポ
ットを走査するステップと、センサアレイの別々のセン
サ上へ各スポット全体の領域より小さい領域をイメージ
するステップと、各センサ上にイメージされた光に応答
する電気信号をセンサアレイから出力するステップと、
を含む走査方法。
【請求項１９】　　被走査部材を横切る所望の全体の光
のプロファイルを提供するためにレーザ・ダイオードか
ら発する光を選択的に制御するステップと、光センサア
レイからの電気信号の出力の時間を計って、被走査部材
上の走査されたしるしに対する合成信号を生成するステ
ップと、を含む請求項１８記載の光学式スキャナ。