JPH04273252A - 像保持部材及びそれを用いた装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、静電像および／または
トナー画像を保持するための像保持部材に関し、詳しく
は耐久性に優れた像保持部材およびこれを用いた装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】像保持部材には一般に電子写真感光体と
、その他の像保持部材、例えば多数回の転写が必要なカ
ラー複写機の中間転写部材および静電記録部材等の静電
像及び／又はトナー像を保持する部材がある。

【０００３】電子写真感光体は所定の特性を得るためあ
るいは適用される電子写真プロセスの種類に応じて種々
の構成をとるものである。電子写真感光体の代表的なも
のとして支持体上に光導電層が形成されている感光体お
よび表面に保護層を備えた感光体があり広く用いられて
いる。支持体と光導電層から構成される感光体は最も一
般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電、画像露光お
よび現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用い
られる。また保護層を備えた感光体についてこの保護層
は光導電層の保護、感光体の機械的強度の改善、暗減衰
特性の改善、または、特定の電子写真プロセスに適用さ
れるため、等の目的のために設けられるものである。な
おこのような特定の電子写真プロセスの代表的な例は、
帯電時に支持体側から電荷を注入させて保護層と光導電
層の間にまで電荷を移動させることを利用した方式があ
ります。このような方式として代表的なものは、特公昭
４２−２３９１０号公報、特公昭４３−２４７４８号公
報等に開示されているように、１次帯電、１次帯電と逆
極性の２次帯電若しくはＡＣ除電と同時画像露光および
全面露光によって静電像を形成する方式である。また、
上記方式において画像露光は２次帯電又はＡＣ除電の前
若しくは後にされてもよい。全面露光は省略されてもよ
い。

【０００４】また、他の方式として、米国特許第３０４
１１６７号公報に開示されているものが挙げられる。

【０００５】電子写真感光体には所定の電子写真プロセ
スに適用されて、静電像が形成され、この静電像は現像
されて可視化される。

【０００６】その他の像保持部材の代表的ないくつかは
次に説明される。

【０００７】（１）電子写真感光体の繰返し使用性の改
善の目的で電子写真感光体に形成された静電像を他の像
保持部材に転写して現像を行い、次いでトナー画像は記
録体に転写される。（２）また、電子写真感光体に形成
された静電像に対応させて他の像保持部材に静電像を形
成させる他の電子写真プロセスとして、多数の微細な開
口を有するスクリーン状の電子写真感光体に所定の電子
写真プロセスによって静電像を形成し、この静電像を介
して他の像保持部材にコロナ帯電処理を行なうことによ
り、コロナのイオン流を変調させて静電像を他の像保持
部材に形成させて、これをトナー現像して記録体に転写
させて最終画像を形成するプロセスが挙げられる。 （３）また、他の電子写真プロセスによれば、電子写真
感光体もしくはその他の像保持部材に形成されたトナー
画像を直接記録体に転写しないでさらに他の像保持部材
に転写し、次いでこの像保持部材から記録体にトナーと
画像を転写して定着する。このプロセスはカラー画像の
形成あるいは高速複写に特に有効である。記録体は通常
、紙、フイルムといった屈曲性に富んだものが多く、そ
のために、三色画像を正確に位置合わせをしながら記録
体に転写するよりも、変形を殆ど生ずることがないよう
な材料で形成できる像保持部材に三色画像を転写し、こ
れを一度に記録体に転写した方がより正確に位置合わせ
されたカラー画像が形成される。また、複写の高速化に
対しても、トナー画像が像保持部材を経て記録体に転写
されることは有効である。（４）また、他のプロセスと
して、多針電極に電気信号を印加して像保持部材表面に
、電気信号に応じた静電像を形成し、これを現像して画
像とすることができる。

【０００８】（１）〜（４）のような静電像形成プロセ
スに用いられる像保持部材は光導電層を必要としない。

【０００９】このように、静電像又はトナー画像が形成
される像保持部材としては表面層が保護層又は光導電層
である電子写真感光体をはじめとして、一般に表面層が
絶縁層である各種の部材が用いられる。

【００１０】像保持部材は適用される記録プロセスに応
じた電気特性が要求されるが、像保持部材の耐久性は重
要な性質である。耐久性は像保持部材を繰返し使用する
場合に要求される性質である。

【００１１】即ち、像保持部材には、当然のことである
が、適用される電子写真プロセスに応じた所定の感度、
電気特性、更には、光学特性を備えていることが要求さ
れる。特に繰り返し使用可能な感光体にあってはその感
光体の表面層にはコロナ帯電、トナー現像、紙への転写
、クリーニング処理等の電気的、機械的外力が直接に加
えられるため、それらに対する耐久性が要求される。 具体的には、コロナ帯電時に発生するオゾンやＮＯｘに
よる劣化のために感度低下や電位低下、残留電位増加、
及び摺擦による表面の摩耗や傷の発生等に対する耐久性
が要求される。

【００１２】更に、クリーニング性は重要な要素であり
、クリーニング性を向上させる為には、摩擦抵抗を低下
させることが必須である。

【００１３】像保持部材の表面は主として樹脂及び光導
電材料等によって構成されるため、特に樹脂の性能が重
要であり、上述の諸特性を満たす優れた樹脂が要望され
ていた。最近になりこれらを満足する樹脂としてポリカ
ーボネート樹脂が表面層のバインダー（結着剤）として
用いられる様になってきた。

【００１４】しかしながら、その耐久性はアクリル系の
樹脂を用いていた当時の通紙数千〜一万枚ぐらいの耐久
性が、ポリカーボネート樹脂を用いることによって五万
〜十万枚に延びたものの、無機感光体であるＳｅ又はａ
−Ｓｉ（無定形Ｓｉ）を用いた場合の耐久性三十万〜百
万枚には達することが出来なかった。

【００１５】そこで従来の樹脂又は含沸素樹脂等を添加
して保護層を設ける研究が数多くなされているが、感光
層の構成上電荷の移動しない層を設けることに起因して
、どうしても耐久使用によって残留電位（Ｖｒ）が増加
したり、感度が低下するという弊害が見られた。この問
題は保護層の膜厚を薄く例えば、２〜３μｍ以下に薄く
することで改善はされるが、従来使用されている樹脂で
は耐久使用による摩耗が依然として大きい−耐久性が改
善されない−という結果に終っている。

【００１６】更に、ポリテトラフルオロエチレン（以下
、「ＰＴＦＥ」と略称することがある）を添加した樹脂
を保護層に用いる場合に、ＰＴＦＥの良好なクリーニン
グ特性を引き出すためには柔らかい樹脂を使う必要があ
る。これは感光体の耐久使用と共に表面を少しずつ削り
、フレッシュなＰＴＦＥを表面に出す為であり、固いバ
インダーではＰＴＦＥの効果がうまく発現しないためで
ある。しかしながら柔らかいバインダーを用いると、Ｐ
ＴＦＥの効果で保護層の耐久性は増すが、膜が柔らかい
ためにクリーニングブレードによる摺擦によるキズや、
衝撃による割れ（膜の剥離）が発生し易くなる。更には
転写紙の先端あるいは後端等、像保持部材と接触すると
、その像保持部材の接触部分が、傷になってしまうので
黒スジ状等の画像欠陥となる。又、耐久使用による残留
電位の増加及び感度低下の問題については通常の保護層
と全く同じ問題を残している。

【００１７】また、耐摩耗性を改良するために高硬度の
樹脂の使用も考えられるが、ポリカーボネート等を表面
に用いた場合に比べて摩擦抵抗係数が数段大きくなり、
良好なクリーニング特性を得にくいといった点に改良の
余地がある。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】（１）耐久特性を更に
飛躍的に伸長させると共に、安定した電位特性をも備え
た像保持部材を提供すること。 （２）上記像保持部材の製造方法を提供すること。 （３）上記像保持部材を用いた各種装置を提供すること
。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は高融点ポリエス
テル樹脂及び硬化樹脂及びシリコーン系クシ型グラフト
ポリマーを含有する表面層を有することを特徴とする像
保持部材及びその製造方法に関する。

【００２０】本発明の表面層を像保持部材に設けること
によって、耐久テストによる削れも殆ど無く、安定した
電位特性を示し、耐久使用後もキズによるスジ画像発生
及び部分的な削れによる濃度の傾きの無い像保持部材を
得ることができ、その結果良好な複写画像を得ることが
可能になった。

【００２１】本発明の像保持部材を図面に基づいて、以
下に説明する。ここで、図１〜図３は本発明の像保持部
材の内、表面層が保護層であるものの各種態様を示す模
式的断面図である。各図において、同一の符号は同一の
層を表わす。

【００２２】同図において、１は保護層であり、像保持
部材の最外部に位置してその内側の層を保護する。２は
光導電層であるが、本発明の像保持部材中には前述した
如く存在しない場合もある。３は支持体である。４は電
荷輸送層、５は電荷発生層であって、これらの両層の上
下位置関係は何れでも構わない。

【００２３】保護層１は耐摩耗性について格段に優れて
いるに拘らず、摩擦抵抗が小さいので、像保持部材の表
面保護層として極めて有用である。これは従来の単一種
の樹脂あるいは共重合体樹脂とは異なり、高融点ポリエ
ステル樹脂と硬化樹脂とシリコーン系クシ型グラフトポ
リマーとの混成がそれぞれの樹脂成分の特性を相乗的に
作用させ合った結果、従来にない効果を発現したものと
考えている。

【００２４】本発明の保護層１は極めて強靭であるので
薄膜化が可能であって、保護層の膜厚は３μｍ以下、望
ましくは０．１〜２μｍに設定する。また、像保持部材
としては、必要に応じて光導電層２を有することが出来
る。

【００２５】光導電層としては例えば、Ｓｅ、ａ−Ｓｉ
、ＺｎＯ、ＣｄＳ等の無機光導電性を有する物質又は有
機染料、有機顔料、ポリシラン化合物等の有機光導電性
を有する物質が用いられる。さらに光導電層はその層構
成によって、支持体４上に先ず電荷発生層６、次いで電
荷輸送層５の順番に積層したもの、あるいは支持体４上
に先ず電荷輸送層５、次に電荷発生層６の順番に積層し
たもの、あるいは電荷発生物質と電荷輸送物質を混在さ
せた１以上の層を有するもの等がある。またこらの層構
成は最小限のもので、必要に応じて中間層を設けても差
支え無い。本発明で用いた各層（保護層含む）には、必
要に応じて他の成分を加えることが出来る。該成分は低
分子量物質であるか高分子量物質であるかを問わない。

【００２６】図４〜図６は本発明の像保持部材の内、表
面層が光導電層であるものの各種態様を示す模式的断面
図である。各図において、同一の符号は同一の層を表わ
す。

【００２７】同図において、６は光導電層であり、高融
点ポリエステル樹脂、硬化樹脂、シリコーン系クシ型グ
ラフトポリマー、電荷発生物質及び電荷輸送物質から形
成されている。３は支持体である。７は電荷輸送層であ
り、電荷輸送物質、高融点ポリエステル樹脂及び硬化樹
脂及びシリコーン系クシ型グラフトポリマーから主とし
て形成されている。８は電荷発生層であり、電荷発生物
質から主として形成されている。９は電荷発生層であり
、電荷発生物質、高融点ポリエステル樹脂及び硬化樹脂
及びシリコーン系クシ形グラフトポリマーから主として
形成されている。１０は電荷輸送層であり、電荷輸送物
質から主としてなる。

【００２８】光導電層としては例えば、Ｓｅ、ａ−Ｓｉ
（無定形Ｓｉ）ＺｎＯ、ＣｄＳ等の無機光導電性を有す
る物質又は有機染料、有機顔料、ポリシラン化合物等の
有機光導電性を有する物質が用いられる。さらに光導電
層はその層構成によって、支持体上に先ず電荷発生層、
次いで電荷輸送層の順番に積層したもの、あるいは支持
体上に先ず電荷輸送層、次に電荷発生層の順番に積層し
たもの、あるいは電荷発生物質と電荷輸送物質を混在さ
せた１以上の層を有するもの等がある。またこれらの層
構成は最小限のもので、必要に応じて中間層を設けても
差支え無い。

【００２９】本発明の像保持部材の表面層例えば、上述
した如き、保護層１、光導電層６、電荷輸送層７及び電
荷発生層９の形成に用いる樹脂成分について説明する。

【００３０】ポリエステルとは酸成分とアルコール成分
との縮合ポリマーであり、ジカルボン酸とグリコールと
の縮合あるいはヒドロキシ安息香酸等のヒドロキシ基と
カルボキシ基とを有する化合物の縮合によって得られる
重合体である。

【００３１】酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸
、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、コ
ハク酸、アジピン酸、セバチン酸等の脂肪族ジカルボン
酸、ヘキサヒドロテレフタル酸等の脂環族ジカルボン酸
、ヒドロキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸等
を用いることができる。

【００３２】グリコール成分としては、エチレングリコ
ール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンジメ
チロール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール等を使用することができる。

【００３３】なお、前記ポリエステル樹脂が実質的に線
状である範囲でペンタエリスリトール、トリメチロール
プロパン、ピロメリット酸及びこれらのエステル形成誘
導体等の多官能化合物を共重合させても良い。

【００３４】本発明に用いるポリエステル樹脂としては
、高融点ポリエステル樹脂を用いる。

【００３５】高融点ポリエステル樹脂としては、オルソ
クロロフェノール中３６℃で測定した極限粘度が０．４
ｄｌ／ｇ以上、好ましくは０．５ｄｌ／ｇ以上、更に好
ましくは０．６５ｄｌ／ｇ以上のものが用いられる。

【００３６】好ましい高融点ポリエステル樹脂としては
、ポリアルキレンテレフタレート系樹脂が挙げられる。 ポリアルキレンテレフタレート系樹脂は酸成分として、
テレフタール酸、グリコール成分として、アルキレング
リコールから主としてなるものである。

【００３７】その具体例としては、テレフタル酸成分と
エチレングリコール成分とから主としてなるポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、テレフタル酸成分と１、
４−テトラメチレングリコール（１、４−ブチレングリ
コール）成分とから主としてなるポリブチレンテレフタ
レート（ＰＢＴ）、テレフタル酸成分とシクロヘキサン
ジメチロール成分とから主としてなるポリシクロヘキシ
ルジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）等を挙げること
ができる。他の好ましい高分子量ポリエステル樹脂とし
ては、ポリアルキレンナフタレート系樹脂を例示できる
。ポリアルキレンナフタレート系樹脂は酸成分としてナ
フタレンジカルボン酸成分とグリコール成分としてアル
キレングリコール成分とから主としてなるものであって
、その具体例としては、ナフタレンジカルボン酸成分と
エチレングリコール成分とから主としてなるポリエチレ
ンナフタレート（ＰＥＮ）等を挙げることができる。

【００３８】高融点ポリエステル樹脂としては、その融
点が好ましくは１６０℃以上、特に好ましくは２００℃
以上のものである。

【００３９】高融点ポリエステル樹脂は、高融点である
が故に、結晶性が高い。この結果、硬化樹脂ポリマー鎖
と高融点ポリマー鎖との相互の絡み合いが均一かつ密に
なって、高耐久性の表面層を形成できるものと考えられ
る。低融点ポリエステル樹脂の場合には、結晶性が低い
ので、硬化樹脂ポリマー鎖との絡み合いの程度が大きい
所と小さい所が生じ、耐久性が劣るものと考えられる。

【００４０】高融点ポリエステル樹脂としての特性を損
わない限り、他の熱可塑性樹脂、例えばポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリアリレート、ポリオキシメチレン
、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファ
イド、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロ
ピレン共重合体、ポリスチレン、スチレン・ブタジエン
共重合体の外、飽和ポリエステル樹脂のオリゴマー等の
少なくとも１種以上を配合することも出来る。

【００４１】本発明に用いる硬化樹脂成分を形成する硬
化性樹脂成分とは、熱又は好ましくは光重合開始剤もし
くは架橋剤及び紫外線の様な光照射等によって重合もし
くは架橋が生じる樹脂である。硬化性樹脂成分としては
、イオン重合性又は架橋性のものが特に好ましい。

【００４２】イオン重合性又は架橋性のものは、空気中
の酸素によって重合又は架橋が妨げられないので、表面
層の厚さ方向に硬化が同じように進行し、より耐久性に
優れた表面層を形成するものと考えられる。このような
光イオン硬化性の樹脂としては、エポキシ樹脂、ウレタ
ン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂
及びシリコーン樹脂等が挙げられる。更に好ましくは、
カチオン重合性樹脂成分を挙げることができる。

【００４３】カチオン重合性樹脂としては、１分子中に
オキシラン環を２個以上有するエポキシ樹脂を主成分と
するカチオン重合性樹脂の１種又は２種以上の混合物が
好ましい。この種のエポキシ樹脂としては、芳香族型エ
ポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキ
シ樹脂等が用いられる。

【００４４】この様な芳香族型エポキシ樹脂としては、
例えば、エピコート８２８、エピコート８３４、エピコ
ート８３６、エピコート１００１、エピコート１００４
、エピコート１００７、エピコート１９０Ｐ、エピコー
ト１９１Ｐ（以上、油化シェルエポキシ社製品の商品名
）、ＤＥＲ３３１、ＤＥＲ３３２、ＤＥＲ６６１、ＤＥ
Ｒ６６４、ＤＥＲ６６７（以上、ダウケミカル社製品の
商品名）、アラルダイト２６０、アラルダイト２８０、
アラルダイト６０７１、アラルダイト６０８４、アラル
ダイト６０９７（以上、チバガイギー社製品の商品名）
等が挙げられ、それらは単独で又は混合して用いられる
。

【００４５】前記ノボラック型エポキシ樹脂としては、
例えばエピコート１５２、エピコート１５４（以上、油
化シェルエポキシ社製品の商品名）、アラルダイトＥＰ
Ｎ１１３８、アラルダイトＥＰＮ１１３９、アラルダイ
トＥＣＮ１２３５、アラルダイトＥＣＮ１２７３、アラ
ルダイトＥＣＮ１２８０、アラルダイトＥＣＮ１２９９
（以上、チバガイギー社製品の商品名）等が挙げられ、
それらは単独で又は混合して用いられる。

【００４６】脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、ア
ラルダイトＣＹ１７５、アラルダイトＣＹ１７７、アラ
ルダイトＣＹ１７９、アラルダイトＣＹ１９２（以上、
チバガイギー社製品の商品名）、ＥＲＬ４２２１、ＥＲ
Ｌ４２２９、ＥＲＬ４２３４（以上、ユニオンカーバイ
ド社製品の商品名）等が挙げられ、それらは単独でまた
は混合して用いられる。

【００４７】その他のブタジエン系エポキシ樹脂等の使
用も可能であり、前記各種エポキシ樹脂を混合したもの
も使用し得る。

【００４８】本発明に用いられるカチオン重合性化合物
には、硬化特性を低下させない範囲内で単官能エポキシ
希釈剤を使用しても良い。この様な単官能エポキシ希釈
剤としては、例えばフェニルグリシジルエーテル、ｔ−
ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。

【００４９】更に、カチオン重合性ビニル化合物を前記
エポキシ樹脂に混合して使用することも可能であり、そ
の様なカチオン重合性ビニル化合物としては、例えばス
チレン、アリルベンゼン、トリアリルイソシアネート、
トリアリルシアネート、ビニルエーテル、Ｎ−ビニルカ
ルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。

【００５０】本発明に用いる硬化樹脂の硬化処理は熱硬
化によることも出来るが、紫外線照射による光硬化を行
なうことが望ましい。

【００５１】光硬化させるときは、光重合開始剤が添加
される。紫外線照射によりカチオン重合性化合物の重合
を開始させるルイス酸を遊離する光重合開始剤としては
、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩、第ＶＩ
ｂ族又はＶｂ族元素の光感応性芳香族オニウム塩等が挙
げられる。

【００５２】前記芳香族ジアゾニウム塩とは、次の一般
式（１）で表わされる化合物である：

【００５３】

【外１６】 ［式中、Ｒ１、Ｒ２は水素原子、アルキル基又はアルコ
キシ基、Ｒ３は水素原子、芳香族基、アミド基又は硫黄
原子により連結された芳香族基、Ｍは金属又は半金属、
Ｑはハロゲン原子をそれぞれ表わす。ａは１〜６の数で
あり、しかも、ａ＝（ｂ−ｃ）が成立し、ｂはｃ＜ｂ≦
８の関係を充足する数、ｃは２〜７の数でＭの原子価に
等しい。］例えば、次の化合物を挙げることができる。

【００５４】

【外１７】 等が挙げられる。

【００５５】前記芳香族ハロニウム塩は一般式［（Ｒ４
）ｄ（Ｒ５）ｅＸ］　＋ｆ［ＭＱｇ］−（ｇ−ｎ）　　
　　（２）［式中、Ｒ４は１価の芳香族有機基、Ｒ５は
２価の芳香族有機基、Ｘは例えば、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ等の
ハロゲン原子、Ｍは金属又は半金属、Ｑはハロゲン原子
を表わし、ｄは０又は２、ｅは０又は１であり、ｇはｈ
＜ｇ≦８の関係を充足する数、かつ（ｄ＋ｅ）は２又は
Ｘの原子価に等しい。］で示される化合物であって、例
えば、

【００５６】

【外１８】 等が挙げられる。

【００５７】更に、第ＶＩｂ族元素又は第Ｖｂ族元素の
光感応性芳香族オニウム塩とは、一般式（３）で表わさ
れる化合物である： ［（Ｒ６）ｉ（Ｒ７）ｊ（Ｒ８）ｋＹ］　＋１［ＭＱｍ
］−（ｍ−ｎ）（３）［式中、Ｒ６は１価の芳香族有機
基、Ｒ７はアルキル基、シクロアルキル基、置換アルキ
ル基から選ばれた１価の脂肪族有機基、Ｒ８は脂肪族有
機基及び芳香族有機基から選ばれた複素環構造を構成す
る多価有機基、ＹはＳ、Ｓｅ、Ｔｅの第ＶＩｂ族元素又
はＮ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ及びＢｉから選ばれた第Ｖｂ族元
素、Ｍは金属又は半金属、Ｑはハロゲン原子を表わす。 ｉは０〜４の整数、ｊは０〜２の整数、ｋは０〜２の整
数であり、かつ、（ｉ＋ｊ＋ｋ）はＹの原子価に等しく
、Ｙが第ＶＩｂ族のときは３、Ｙが第Ｖｂ族のときは４
に等しく、ｉ＝（ｍ−ｎ）が成立し、ｍはｎ＜ｍ≦８の
関係を充足する数を表わし、かつ、ｎは２〜７の整数で
Ｍの原子価に等しい。］第ＶＩｂ族元素のオニウム塩と
しては、例えば、

【００５８】

【外１９】 等が挙げられる。

【００５９】また、第Ｖｂ族元素のオニウム塩としては
、例えば、

【００６０】

【外２０】 等が挙げられる。

【００６１】本発明に使用される樹脂組成物は溶媒に溶
解し基材に塗布することが望ましい。

【００６２】本発明によるシリコーン系クシ型グラフト
ポリマーは、下記一般式（１）および（２）から選ばれ
るシリコーンと下記一般式（３）のシリコーンとの縮合
反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基を有す
る化合物とを共重合させることによって得ることが出来
る。

【００６３】

【外２１】 Ｒ１〜Ｒ５はアルキル基およびアリール基から選ばれる
基。ｎは正の整数。

【００６４】

【外２２】 Ｒ６およびＲ７はアルキル基およびアリール基から選ば
れる基。ｎは正の整数。

【００６５】

【外２３】 Ｒ８は水素原子、アルキル基、アリール基及びアラルキ
ル基から選ばれる基、Ｒ９はアルキル基及びアリール基
から選ばれる基、Ｘはハロゲン原子およびアルコキシ基
から選ばれる基、ｍは０または１、ｌはｍ＝０の場合０
〜２の整数、ｍ＝１の場合２である。ｎは１〜３の整数
である。

【００６６】本発明で用いられるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーは、主鎖に対してシリコーンを含有する
側鎖が技状にぶらさがった構造を有している。

【００６７】前記一般式（１）及び（２）で示されるＲ
１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７はアルキ
ル基又はアリール基であり、これらは、置換基を有する
ものであってもよい。例えばアルキル基としてメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基などであり、ハロゲ
ン原子などで置換されていても良い。また、アリール基
としてはフェニル基、ナフチル基などであり、置換基を
有しても良い。好ましくはメチル基、フェニル基である
。ｎは平均重合度を示し、１以上１０００以下、特には
１０以上５００以下が好適である。一般式（３）で示さ
れるＲ８は、水素原子あるいはメチル基、エチル基、プ
ロキル基、ブチル基などのアルキル基、あるいはフェニ
ル基、ナフチル基などのアリール基、ベンジル基などの
アラルキル基を示し、アルキル基、アリール基およびア
ラルキル基とも置換基を有しても良い。特に好ましくは
水素原子あるいはメチル基である。

【００６８】Ｒ９はアルキル基として、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などでありハロゲン原子な
どで置換されていても良い、アリール基としてはフェニ
ル基、ナフチル基などであり置換基を有しても良い。好
ましくはメチル基、フェニル基である。

【００６９】Ｘはハロゲン原子として弗素、塩素、臭素
、ヨウ素であり、好ましくは塩素原子である。

【００７０】アルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブドキシ基などであり、置換基
を有しても良い。

【００７１】好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、２
−メトキシ−エトキシ基である。ｍは０又は１、ｌはｍ
＝０の場合０〜２の整数、ｍ＝１の場合２である。ｎは
１〜３の整数である。

【００７２】一般式（１）〜（３）の具体例を以下に示
す。

【００７３】

【外２４】

【００７４】

【外２５】

【００７５】

【外２６】

【００７６】

【外２７】

【００７７】

【外２８】

【００７８】

【外２９】

【００７９】

【外３０】

【００８０】

【外３１】

【００８１】

【外３２】

【００８２】

【外３３】

【００８３】

【外３４】

【００８４】

【外３５】

【００８５】

【外３６】

【００８６】

【外３７】

【００８７】

【外３８】

【００８８】

【外３９】

【００８９】

【外４０】

【００９０】一般式（１）および／または一般式（２）
で示されるシリコーンは、（１）と（２）の両方を一般
式（３）のシリコーンと反応させて変性シリコーンを形
成させてもよい。一般式（１）および（２）と一般式（
３）との縮合反応は、通常有機化学反応操作に従いきわ
めて円滑に進行し、例えば特開昭５８−１６７６０６号
公報、特開昭５９−１２６４７８号公報に開示されてい
るように、その反応モル比や反応条件を制御する事で安
定な変性シリコーンを得ることができる。

【００９１】重合性官能基を有する化合物としては、ケ
イ素原子を持たない重合性の単量体もしくは末端に重合
性の官能基を有する分子量が１０００から１００００程
度の比較的低分子量のポリマーからなるマクロモノマー
等が挙げられる。重合性単量体としては、オレフイン系
化合物の例としてエレチン、プロピレン、ブチレンの如
き低分子量直鎖状不飽和炭化水素、塩化ビニル、及びフ
ツ化ビニルの如きハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き
有機酸のビニルエステル、スチレン、スチレン置換体並
びにビニルピリジン及びビニルナフレンの如きその他の
ビニル芳香族化合物、アクリル酸、メタクリル酸、並び
にそれらのエステル、アミド及びアクリロニトリルを含
むアクリル酸、メタクリル酸の誘導体、Ｎ−ビニルカル
バゾール、Ｎ−ビニルピロリドン及びＮ−ビニルカプロ
ラクタムの如きＮ−ビニル化合物、ビニルトリエトキシ
シランの如きビニルケイ素化合物等がある。ジ置換エチ
レンも使用でき、その例としてフツ化ビニリデン、塩化
ビニリデン等である。又無水マレイン酸、マレイン酸及
びフマル酸のエステル等も用いることができる。

【００９２】また、重合性単量体は単独または２種以上
のモノマーを組み合わせて使用できる。

【００９３】シリコーン系クシ型グラフトポリマーの重
合法としては、溶液重合法、懸濁重合法、バルク重合法
等のラジカル重合やイオン重合が適用できるが、溶液重
合法によるラジカル重合法が簡便で好ましい。

【００９４】共重合比は変性シリコーンの含有率として
５〜９０重量％が好ましく、１０〜７０重量％が更に好
ましい。得られた重合体の分子量は数平均分子量として
５００から１０００００、特に１０００から５００００
が好ましい。

【００９５】本発明の樹脂組成物を溶解する溶媒として
は、高融点ポリエステル樹脂を溶解する溶媒としては用
いられるものが使用できるが、一般に、クレゾール類、
クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、
トリクロロプロパン及びテトラクロロベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素、テトラフルオロエタノール、ヘキサフ
ルオロイソプロパノール等のフッ素含有アルコール等の
１種又は２種以上の混合溶媒が望ましい。

【００９６】特に好ましい溶媒はテトラフルオロエタノ
ール、ヘキサフルオロイソプロパノール等のフッ素含有
アルコール又はこれらの１種又は２種以上を含有する混
合溶媒である。これらのフッ素含有アルコールが常用の
塩素系溶媒に比して有利である点としては、それが電子
写真作製に影響を及ぼしにくく、高温、高湿度の環境に
おいても長時間の使用に耐える点である。

【００９７】高融点ポリエステル樹脂１００重量部に対
する硬化性樹脂の配合比は３〜５０重量部、好ましくは
８〜４５重量部、更に好ましくは１０〜４０重量部であ
る。前記ルイス酸遊離型光重合開始剤の配合比は硬化樹
脂１００重量部に対して、０．１〜５０重量部、好まし
くは１〜３０重量部である。またシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーの含有率は像保持部材表面層の重量分率
で０．０１〜１０％、好ましくは０．０１〜５％である
。

【００９８】塗布方法としては、浸漬法、ロールコータ
ー、バーコーター、スプレー、ハケ塗り等の任意の方法
を用いることができる。特に、浸漬法（ディッピング方
式）は生ずる塗膜の均一性にも優れている点で、好まし
い。

【００９９】紫外線の照射条件は室温から高分子量ポリ
エステル樹脂の分解温度までの温度、好ましくはガラス
転移点温度以上で、溶融開始温度以下の温度、特に好ま
しくはガラス転移点温度よりも２０℃以上高い温度で溶
融開始温度よりも２０℃低い温度以下。照射時間は６０
秒以下、好ましくは３０秒以下、更に好ましくは５〜１
５秒である。

【０１００】照射条件は得られる架橋物の溶媒不溶解分
の量によって適宜選択される。紫外線としては、一般に
波長２００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎ
ｍのものが使用される。

【０１０１】特定の樹脂成分からなる本発明の表面層は
その硬化物１００ｍｇを溶媒１０ｍｌに１００℃で１時
間加熱攪拌溶解させた後、３Ｇのガラスフィルターで濾
過洗浄した後に残る不溶解部を１３０℃で恒温に達する
まで乾燥させた際の不溶解分（ゲル）が１０重量％以上
、好ましくは１５重量％以上、特に好ましくは２０重量
％以上となる量まで紫外線照射を受けることによって硬
化が行なわれる。

【０１０２】本発明における像支持部材の支持体として
は、例えば以下に示した形態のものを挙げることができ
る。

【０１０３】（１）アルミニウム、アルミニウム合金、
耐食鋼（ステンレス鋼）、銅等の金属を板形状またはド
ラム形状に形成したもの。

【０１０４】（２）ガラス、樹脂、紙等の非導電性支持
体や前記（１）の導電性支持体上にアルミニウム、パラ
ジウム、ロジウム、金、白金等の金属を蒸着又はラミネ
ートすることにより薄膜を形成させたもの。

【０１０５】（３）ガラス、樹脂、紙等の非導電性支持
体や前記（１）の導電性支持体上に導電性高分子、酸化
スズ、酸化インジウム等の導電性化合物の層を蒸着する
か又は導電性もしくは非導電性高分子との分散塗料とし
て塗布することにより形成させたもの。

【０１０６】支持体と光導電層との中間にバリヤー機能
又は接着機能を有する下引き層を設けることもできる。 下引き層の膜厚は５μｍ以下、好ましくは０．１〜３μ
ｍが適当である。下引き層は例えば、カゼイン、ポリビ
ニルアルコール、ニトロセルロース、ポリアミド（ナイ
ロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０、共重合ナイロ
ン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン等）、ポリウレタ
ン又は酸化アルミニウム等によって形成することができ
る。

【０１０７】本発明に用いられる有効な電荷発生物質と
しては、例えば以下のような物質が挙げられる。これら
の電荷発生物質は単独で用いてもよく、２種以上組み合
わせてもよい。

【０１０８】（１）アゾ系顔料：モノアゾ、ビスアゾ、
トリスアゾ等； （２）フタロシアニン系顔料：金属−フタロシアニン、
非金属フタロシアニン等； （３）インジゴ系顔料：インジゴ、チオインジゴ等（４
）ペリレン系顔料：ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミ
ド等； （５）多環キノン系顔料：アンスラキノン、ピレンキノ
ン等の縮合環化合物； （６）スクワリリウム色素； （７）ピリリウム塩、チオピリリウム塩類；（８）トリ
フェニルメタン系色素； （９）セレン、非晶質シリコン等の無機物質。

【０１０９】電荷発生物質を含有する層、すなわち、電
荷発生層６は前記のような電荷発性物質を例えば適当な
結着剤に分散し、これを支持体上に塗工することにより
形成させることができる。また、支持体４上に蒸着、ス
パッタ、ＣＶＤ等の乾式法で薄膜を形成させることによ
っても作製することができる。

【０１１０】上記結着剤（バインダー）としては広範囲
な結着性樹脂から選択でき、例えば、ポリカーボネート
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ブチラ
ール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹
脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体
樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。

【０１１１】これらは単独または共重合体として用いる
ことができる外に１種または２種以上混合して用いても
よい。電荷発生層中に含有される樹脂の量は８０量％以
下、好ましくは、０〜４０重量％に選ぶ。また電荷発生
層の膜厚は５μｍ以下、特に０．０１μｍ〜１μｍの膜
厚をもつ薄膜層とすることが好ましい。

【０１１２】また、電荷発生層には種々の増感剤を添加
してもよい。

【０１１３】電荷輸送層は電荷発生層の上又は下に設け
られ、電界の存在下で電荷発生層から電荷キャリアを受
取り、これを輸送する機能を有している。電荷輸送層５
は電荷輸送物質を必要に応じて適当なバインダーと共に
溶剤中に溶解し、塗布することによって形成され、その
膜厚は一般的には５〜４０μｍであるが、１５〜３０μ
ｍが好ましい。

【０１１４】電荷輸送物質としては電子輸送物質と正孔
輸送物質があり電子輸送物質としては、例えば２，４，
７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラ
ニトロフルオレノン、クロラニル、テトラシアノキノジ
メタン等の電子吸引性物質やこれら電子吸引性物質を高
分子化したもの等が挙げられる。

【０１１５】正孔輸送物質としては、ピレン、アントラ
セン等の多環芳香族化合物；カルバゾール、インドール
、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジ
アゾール、ピラゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、
トリアゾール等の複素環化合物；ｐ−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ，
Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデン−９−エチ
ルカルバゾール等のヒドラゾン系化合物；α−フェニル
−４’−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベン、５−［
４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）ベンジリデン］−５Ｈ−
ジベンゾ［ａ，ｄ］シクロヘプテン等のスチリル系化合
物；ベンジジン系化合物；トリアリールメタン系化合物
；トリフェニルアミンあるいは、これらの化合物からな
る基を主鎖または側鎖に有するポリマー（例えばポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン等）
が挙げられる。

【０１１６】これらの有機電荷輸送物質の他にセレン、
セレン−テルル、アモルファスシリコン（α−Ｓｉ）、
硫化カドミウム等の無機材料も用いることができる。

【０１１７】またこれらの電荷輸送物質は１種または２
種以上組み合わせて用いることができる。

【０１１８】電荷輸送物質が成膜性を有していない場合
には適当なバインダー（結着性樹脂）を用いることがで
きる。バインダーとして具体的には、アクリル樹脂、ポ
リアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
スチレン、アクリロニトリル−スチレンコポリマー樹脂
、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリアミド、塩
素化ゴム等の絶縁性樹脂又はエラストマー、ポリーＮ−
ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン等の有機
光導電性ポリマー等が挙げられる。

【０１１９】本発明の別の具体例として、前述のアゾ顔
料と電荷輸送物質とを同一層に含有させた像保持部材を
挙げることができる。この際、前述の電荷輸送物質とし
てポリーＮ−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレ
ノンからなる電荷移動錯体を用いることもできる。

【０１２０】この例の像保持部材は前述のアゾ顔料と電
荷輸送物質とを適当な樹脂溶液中に分散させた液を支持
体上に塗布乾燥して形成させることができる。

【０１２１】本発明による光導電層を有する像保持部材
は電子写真感光体として電子写真複写機に使用するのみ
ならず、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター
、ＬＥＤプリンター、液晶プリンター、レーザー製版及
びファクシミリ用のプリンター等の電子写真応用分野に
も広く用いることができる。

【０１２２】本発明の像保持部材の中で、光導電層を有
しない像保持部材の例としては、支持体上に静電潜像も
しくはトナー像を保持する目的で支持体の上に表面層、
又は支持体の上に誘電体層を介して表面層を設けたもの
で、表面層は高融点ポリエステル樹脂及び硬化樹脂特に
、光イオン硬化樹脂を含み、さらにシリコーン系クシ型
グラフトポリマーを含む層として形成させられたものが
挙げられる。

【０１２３】光導電層を有しない像保持部材の応用例と
しては、トナー層もしくは静電潜像の中間転写部材又は
静電記録部材等が挙げられる。

【０１２４】図７に本発明の像保持部材を装着したドラ
ム型感光体を用いた一般的な転写式電子写真装置の概略
構成を示す。

【０１２５】図７において、４１は像担持部材としての
ドラム型感光体であり、軸４１ａを中心に矢印方向に所
定の周速度で回転駆動される。該感光体４１はその回転
過程で、帯電手段４２によって、その周面に正又は負の
所定電位の均一帯電を受け、次いで露光部４３において
、不図示の像露光手段により、光像露光Ｌ（スリット露
光、レーザービーム走査露光等）を受ける。これにより
感光体周面に露光像に対応した静電潜像が順次形成され
る。

【０１２６】その静電潜像は、次で現像手段４４でトナ
ー現像され、そのトナー現像像が転写手段４５により、
不図示の給紙部から感光体４１と転写手段４５との間に
感光体４１の回転と同期取りされて給送された転写材Ｐ
の面に順次転写される。

【０１２７】像転写を受けた転写材Ｐは感光体面から分
離されて像定着手段４８へ導入されて像定着を受け、複
写物（コピー）として機外へプリントアウトされる。

【０１２８】像転写後の感光体４１の表面はクリーニン
グ手段４６によって転写残りトナーの除去を受けて清浄
面化されて繰り返して像形成に使用される。

【０１２９】感光体４１の均一帯電手段４２としてはコ
ロナ帯電装置が一般に広く使用されている。また、転写
装置４５としても、コロナ転写手段が広く一般に使用さ
れている。電子写真装置して、上述の感光体４１、現像
手段４４及びクリーニング手段４６等の構成要素のうち
、複数のものを装置ユニットとして一体に結合して構成
し、このユニットを装置本体に対して着脱自在に構成し
ても良い。例えば、感光体４１とクリーニング手段４６
とを一体化して単一の装置ユニットとし、装置本体のレ
ール等の案内手段を用いて着脱自在の構成にしても良い
。この際に、上記の装置ユニットの方に帯電手段４２及
び／又は現像手段４４を伴って構成しても良い。

【０１３０】また、光像露光Ｌは電子写真装置を複写機
又はプリンターとして使用する場合には、原稿からの反
射光、透過光又は原稿を読み取り信号化し、この信号に
よってレーザービームの走査、発光ダイオードアレイの
駆動又は液晶シャッターアレイの駆動等によって行なわ
れる。

【０１３１】また、ファクシミリのプリンターとして使
用する場合には、光像露光Ｌは受信データをプリントす
る為の露光になる。第５図はこの場合の１例をブロック
図で示したものである。

【０１３２】第５図において、コントローラ５１は画像
読み取り部５０とプリンター５９を制御する。コントロ
ーラ５１の全体はＣＰＵ５７によって制御されている。 画像読み取り部からの読み取りデータは送信回路５３を
通して相手局に送信される。

【０１３３】相手局から受けたデータは受信回路５２を
通してプリンター５９に送られる。画像メモリ５６には
、所定の画像データが記憶される。プリンタコントロー
ラ５８はプリンター５９を制御している。５４は電話で
ある。

【０１３４】回線５５から受信された画像（回線を介し
て接続されたリモート端末からの画像情報）は受信回路
５２で復調された後に、ＣＰＵ５７で画像情報の復号処
理が行なわれて順次画像メモリ５６に格納される。そし
て、少なくとも１頁分の画像が画像メモリ５６に格納さ
れると、その頁の画像記録を行なう。ＣＰＵ５７は画像
メモリ５６から１頁分の画像情報を読み出してプリンタ
ーコントローラ５８に復号化された１頁分の画像情報を
送出する。プリンターコントローラ５８はＣＰＵ５７か
らの１頁分の画像情報を受け取ると、その頁の画像情報
記録を行なうべく、プリンター５９を制御する。なお、
ＣＰＵ５７はプリンター５９による記録中に次の頁分の
受信を行なっている。

【０１３５】以上の様に、本発明の像保持部材を装着し
た電子写真装置をプリンターとして、画像の受信と記録
とが行なわれ得る。

【０１３６】

【実施例】実施例１−１ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これにアルコキシメチル化ナイロンの５
％メタノール溶液を浸漬法で塗布して、膜厚１μｍの下
引き層（中間層）を設けた。

【０１３７】次に下記構造式の顔料を１０部（重量部、
以下同様）、ポリビニルブチラール８部

【０１３８】

【外４１】 およびシクロヘキサノン５０部を直径１ｍｍのガラスビ
ーズ１００部を用いたサンドミル装置で２０時間混合分
散した。この分散液にメチルエチルケトン７０〜１２０
（適宜）部を加えて下引き層上に塗布し、１００℃で５
分間乾燥して０．２μｍの電荷発生層を形成させた。

【０１３９】次にこの電荷発生層の上に下記構造式スチ
リル化合物１０部と

【０１４０】

【外４２】 ビスフェノールＺ型ポリカーボネート１０部をモノクロ
ルベンゼン６５部に溶解した。この溶液をディッピング
法によって基体上に塗布し、１２０℃で６０分間の熱風
乾燥させて、２０μｍ厚の電荷輸送層を形成させた。

【０１４１】次にこの電荷輸送層の上に以下の方法で膜
厚１．０μｍの保護層を設けた。

【０１４２】酸成分としてテレフタル酸を、またグリコ
ール成分としてエチレングリコールを用いて得られた高
融点ポリエチレンテレフタレート（Ａ）（極限粘度０．
７０ｄｌ／ｇ、融点２５８℃（示差熱測定器を用いて１
０℃／分の昇温速度で測定した。また、測定サンプルは
５ｍｇで測定しようとするポリエステル樹脂を２８０℃
で溶融後、０℃の氷水で急冷して作成した。以下の実施
例において同じ）、ガラス転移点温度７０℃）１００部
とエポキシ樹脂（Ｂ）［エポキシ当量１６０；芳香族エ
ステルタイプ；商品名：エピコート１９０Ｐ（油化シェ
ルエポキシ社製）］３０部とをフェノールとテトラクロ
ロエタン（１：１）混合液１００ｍｌに溶解させた。次
いで、光重合開始剤としてトリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート（Ｃ）３部を添加し次いで
変性シリコーンとして一般式（１）−１：ｎ平均３０及
び（３）−４８、変性シリコーン３０部を用い、共重合
単量体としてメチルメタクリレート７０部を用いて合成
したシリコーン系クシ型グラトポリマー２部を添加し、
樹脂組成物溶液を調製した。

【０１４３】光の照射条件としては、２ｋｗ高圧水銀灯
（３０ｗ／ｃｍ）を２０ｃｍ離した位置から１３０℃で
８秒間照射して硬化させた。

【０１４４】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機［商品名：ＮＰ−３５２５（キヤノン社製）］に装
着し、温度２４℃及び相対湿度５５％で通紙６０万枚の
耐久テストを行った。結果を表１−１に示す。

【０１４５】 比較例１−１実施例１−１で用いた保護層を用いない以
外には実施例１−１と同様の感光体を作製し、実施例１
−１と同様に耐久テストを行った。結果を表１−１に示
す。

【０１４６】比較例１−２ 実施例１−１で用いた保護層の代りに、電荷輸送層（Ｃ
ＴＬ）で用いたものと同じバインダーとして、ビスフェ
ノールＺ型ポリカーボネート４部とモノクロルベンゼン
７０部、ＰＴＦＥ微粉末１部をサンドミルで１０時間混
合分散して塗工液を作製した。この塗工液をスプレー法
でＣＴＬ上に膜厚１．０μｍになるように塗布して保護
層とし、実施例１−１と同様に耐久テストを行った。そ
の結果を表１−１に示す。

【０１４７】比較例１−３ 比較例１−２で用いた保護層の膜厚が１２．０μｍにな
るように塗工液を再調合し、スプレーで塗布して厚さ１
２．０μｍの保護層を設け、実施例１−１と同様に耐久
テストを行った。結果を表１−１に示す。

【０１４８】この様にして作成した感光体ドラムを複写
機［商品名：ＮＰ−３５２５（キヤノン社製）］に装着
して実施例１−１と同様に通紙６０万枚の耐久テストを
行った。結果を表１−１に示す。

【０１４９】実施例１−２ 酸成分としてテレフタル酸を、グリコール成分としてエ
チレングリコール８０モル％とポリエチレングリコール
［分子量１０００］２０モル％を用いて得られた高融点
ポリエステル樹脂（極限粘度０．６８ｄｌ／ｇ、融点２
１０℃、ガラス転移温度６８℃）を用い、シリコーン系
クシ型グラフトポリマーを変性シリコーンとして一般式
（１）−２：ｎ平均３０及び（３）−４７、変性シリコ
ーン３０部を用い、共重合単量体としてメチルメタクリ
レート８０部を用いて合成したシリコーン系クシ型グラ
フトポリマー３部を添加した以外には実施例１−１と同
様の実験を行った。結果を表１−１に示す。

【０１５０】実施例１−３ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール６３モル％とポリエチレングリコール
３７モル％との混合物を用いて得られた高融点ポリエス
テル樹脂（極限粘度０．６７ｄｌ／ｇ、融点１９５℃、
ガラス転移温度６５℃）を用いた外には実施例１−１と
同様の実験を行った。その結果を表１−１に示す。

【０１５１】実施例１−４ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール５０モル％とポリエチレングリコール
５０モル％との混合物を用いて得られた高融点ポリエス
テル樹脂（極限粘度０．６６ｄｌ／ｇ、融点１８０℃、
ガラス転移温度６４℃）を用いた外には実施例１−２と
同様の実験を行った。その結果を表１−１に示す。

【０１５２】実施例１−５ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール４０モル％とポリエチレングリコール
６０モル％との混合物を用いて得られた高融点ポリエス
テル樹脂（極限粘度０．６４ｄｌ／ｇ、融点１６１℃、
ガラス転移温度６０℃）を用い、さらにシリコーン系ク
シ型グラフトポリマーを変性シリコーンとして一般式（
２）−２６：ｎ平均３００、及び（３）−５８、変性シ
リコーン２０部を用い、共重合単量体としてスチレン／
メチルメタクリレート＝３０部／５０部を用いて合成し
たシリコーン系クシ型グラフトポリマー３部を添加した
以外には実施例１−１と同様の実験を行った。結果を表
１−１に示す。

【０１５３】実施例１−６ 熱硬化樹脂としてエポキシ樹脂［エポキシ当量１８４〜
１９４；ビスフェノール系；商品名：エピコート８２８
（油化シェルエポキシ社製）］を用いた以外には実施例
１−５と同様の実験を行った。結果を表１−１に示す。

【０１５４】実施例１−７ 実施例１−１で用いたエポキシ樹脂の量を１０部にした
以外には実施例１−１と同様の感光体を作製して同例と
同様に耐久テストを行った。結果を表１−１に示す。用
いた保護層の膜厚は０．８μｍであった。

【０１５５】実施例１−８ 実施例１−１で用いた高圧水銀灯光を５秒間照射した以
外には実施例１−５と全く同様の感光体を作製して同例
と同様に耐久テストを行った。結果を表１−１に示す。 用いた保護層の膜厚は０．９μｍであった。

【０１５６】実施例１−９ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例１−１で用いたアルコキ
シメチル化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で塗
布し、膜厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。次に
電荷発生物質であるε型Ｃｕ−ＰＣ３部と電荷輸送物質
である次の構造式のヒドラゾン化合物６部、

【０１５７
】

【外４３】 実施例１−１で用いたビスフェノールＺ型ポリカーボネ
ート６部及びモノクロルベンゼン５０部をサンドミルで
３０時間混合分散して塗工液を作製した。この塗工液を
基体上にスプレー法で塗布し、膜厚が２０μｍの感光層
を形成させた。

【０１５８】次にこの感光層の上に実施例１−１と同様
にして膜厚１．０μｍの保護層を形成させ、同様にその
耐久テストを行った。その結果を表１−１に示す。

【０１５９】実施例１−１０ 実施例１−１の電荷発生層と電荷輸送層との層構成順序
を逆にした以外には実施例１−１と同様の感光体を作製
して、同例と同様にその耐久テストを行った。結果を表
１−１に示す。用いた保護層の膜厚は０．９μｍであっ
た。

【０１６０】実施例１−１１ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例１−１で用いたアルコキシ
メチル化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で塗布
し、膜厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。

【０１６１】次に、Ｃｕ−Ｋα線のＸ線回折におけるブ
ラック角２θ±０．２°が９．０°、１４．２°、２３
．９°及び２７．１°に強いピークを有する結晶系のオ
キソチタニウムフタロシアニン顔料を１０部ポリビニル
ブチラール８部及びシクロヘキサノン５０部を直径１ｍ
ｍのガラスビーズ１００部を用いたサンドミル装置で２
０時間混合分散した。

【０１６２】この分散液にメチルエチルケトン７０〜１
２０（適宜）部を加えて下引き層上に塗布し、１００℃
で５分間乾燥して０．２μｍの電荷発生層を形成させた
。

【０１６３】次にこの電荷発生層の上に下記構造式のス
チリル化合物１０部と

【０１６４】

【外４４】 実施例１−１で用いたビスフェノールＺ型ポリカーボネ
ート１０部をモノクロルベンゼン６５部に溶解した。こ
の溶液をディッピング法によって基体上に塗布し、１２
０℃で６０分間の熱風乾燥させて、２０μｍ厚の電荷輸
送層を形成させた。

【０１６５】次にこの電荷輸送層の上に以下の方法で膜
厚１．０μｍの保護層を設けた。酸成分としてテレフタ
ル酸を、またグリコール成分として１，４−テトラメチ
レングリコールを用いて得られた高融点ポリブチレンテ
レフタレート（ＰＢＴ）（Ａ）（極限粘度０．７２ｄｌ
／ｇ、融点２２．４℃、ガラス転移点温度３５℃）１０
０部と実施例１−１で用いたエポキシ樹脂（Ｂ）３０部
とをフェノールとテトラクロロエタン（１：１）混合液
１００ｍｌに溶解させた。次いで、光重合開始剤として
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト（Ｃ）３部を添加し、さらにシリコーン系クシ型グラ
フトポリマーとして、変性シリコーンとして一般式（１
）−７：ｎ平均３０、（３）−６３、変性シリコーン１
５部、共重合単量体スチレン８５部を用いて合成したも
のを２部添加して、樹脂組成物溶液を調製した。

【０１６６】光の照射条件としては、２ｋｗ高圧水銀灯
（３０ｗ／ｃｍ）を２０ｃｍ離した位置から１３０℃で
８秒間照射して硬化させた。

【０１６７】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機［商品名：ＮＰ−３５２５（キヤノン社製）］に装
着して実施例１−１と同様に通紙６０万枚の耐久テスト
を行った。結果を表１−２に示す。

【０１６８】比較例１−４ 実施例１−１１における保護層を用いなかった以外には
実施例１−１１と同様の感光体を作製し、実施例１−１
と同様に耐久テストを行った。その結果を表１−２に示
す。

【０１６９】比較例１−５ 実施例１−１１で用いた保護層の代りに、電荷輸送層（
ＣＴＬ）で用いたものと同じバインダーとして、実施例
１−１で用いたビスフェノールＺ型ポリカーボネート４
部とモノクロルベンゼン７０部、ＰＴＦＥ微粉末１部を
サンドミルで１０時間混合分散して塗工液を作製した。 この塗工液をスプレー法でＣＴＬ上に膜厚１．０μｍに
なるように塗布して保護層とし、実施例１−１１と同様
に耐久テストを行った。その結果を表１−２に示す。

【０１７０】比較例１−６ 比較例１−５で用いた保護層の膜厚が１２．０μｍにな
るように塗工液を再調合し、スプレーで塗布して厚さ１
２．０μｍの保護層を設けた。

【０１７１】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機［商品名：ＮＰ−３５２５（キヤノン社製）］に装
着して実施例１−１１と同様に通紙６０万枚の耐久テス
トを行った。結果を表１−２に示す。

【０１７２】比較例１−７ 実施例１−１で用いた高融点ポリエチレンテレフタレー
トのかわりに軟化点１６３℃（非結晶性のため融点をも
たない）のポリエステル樹脂（バイロン２００：東洋紡
績株式会社製）を用いた以外は実施例１−１と同様の感
光体ドラムを作製し特性を評価した。結果を表１−１に
示す。

【０１７３】実施例１−１２ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてシ
クロヘキサンジメチロールを用いて得られた高融点ポリ
シクロヘキサンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）樹
脂（極限粘度０．６６ｄｌ／ｇ、融点２９０℃、ガラス
転移温度８０℃）を用いた外は実施例１−１１と同様の
実験を行った。結果を表１−２に示す。

【０１７４】実施例１−１３ 酸成分として１，１０−ナフタレンジカルボン酸及びグ
リコール成分としてエチレングリコールとを用いて得ら
れた高融点ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ）（
極限粘度０．６９ｄｌ／ｇ、融点２８０℃、ガラス転移
温度８５℃）を用いた外は実施例１−１１と同様の実験
を行った。結果を表１−２に示す。

【０１７５】実施例１−１４ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分として１
，４−テトラメチレングリコール６３モル％とポリエチ
レングリコール３７モル％との混合物を用いて得られた
高融点ポリエステル樹脂（極限粘度０．６７ｄｌ／ｇ、
融点１９０℃、ガラス転移温度１５℃）を用いた以外は
実施例１−１１と同様の実験を行った。その結果を表１
−２に示す。

【０１７６】実施例１−１５ 硬化樹脂として、実施例１−６で用いたエポキシ樹脂を
用いた以外には実施例１−１１と同様の実験を行った。 その結果を表１−２に示す。

【０１７７】実施例１−１６ 実施例１−１１で用いたエポキシ樹脂の量を１０部にし
た以外には実施例１−１１と全く同様の感光体を作製し
て耐久テストを行った。結果を表１−２に示す。用いた
保護層の厚さは０．９μｍであった。

【０１７８】実施例１−１７ 実施例１−１１で用いた高圧水銀灯を５秒間照射した以
外には実施例１−１１と同様の感光体を作製して耐久テ
ストを行った。結果を表１−２に示す。用いた保護層の
膜厚は１．０μｍであった。

【０１７９】実施例１−１８ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例１−１１で用いたアルコ
キシメチル化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で
塗布し、膜厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。次
に電荷発生物質である実施例１−１１で用いた顔料３部
を電荷輸送物質である実施例１−１で用いたスチリル化
合物６部、実施例１−１１で用いたビスフェノールＺ型
ポリカーボネート６部及びモノクロルベンゼン５０部を
サンドミルで３０時間混合分散して塗工液を作製した。 この塗工液を基体上にスプレー法で塗布し、膜厚２０μ
ｍの感光層を形成させた。

【０１８０】次に、この感光層の上に実施例１−１１と
同様にして膜厚１．０μｍの保護層を形成させ、同様に
その耐久テストを行った。結果を表１−２に示す。

【０１８１】実施例１−１９ 実施例１−１１の電荷発生層と電荷輸送層との層構成順
序を逆にした以外には実施例１−１１と同様の感光体を
作製して、その耐久テストを行った。結果を表に示す。 用いた保護層の膜厚は０．８μｍであった。

【０１８２】実施例１−２０ 実施例１−１１で用いたフェノールとテトラクロルエタ
ン（１：１）混合液１００ｍｌの代わりにヘキサフルオ
ロイソプロパノール１００ｍｌを用いた以外には実施例
１−１１と同様にして感光体を作製し、同例と同様の耐
久テストを行った。その結果を表１−２に示す。

【０１８３】実施例１−２１及び１−２２実施例１−１
１の感光体と実施例１−２０の感光体とを温度３０℃及
び相対湿度８５％の環境において、複写機［商品名：Ｎ
Ｐ−３５２５（キヤノン社製）］を用いて実施例１−１
１と同様に通紙１０万枚の耐久テストを行った。結果を
表１−２に示す。

【０１８４】

【表１】

【０１８５】

【表２】

【０１８６】実施例２−１ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これにアルコキシメチル化ナイロンの５
％メタノール溶液を浸漬法で塗布し、膜厚１μｍの下引
き層（中間層）を設けた。

【０１８７】次に下記構造式の顔料を１０部（重量部、
以下同様）及びポリビニルブチラー

【０１８８】

【外４５】 ル８部及びシクロヘキサノン５０部を直径１ｍｍのガラ
スビーズ１００部収容のサンドミル装置で２０時間混合
分散した。この分散液にメチルエチルケトン７０〜１２
０（適宜）部を加えて下引き層上に塗布し、１００℃で
５分間の乾燥をして０．２μｍの電荷発生層（ＣＧＬ）
を形成させた。次に、この電荷発生層の上に下記構造式
のヒドラゾン１３０部を用いて

【０１８９】

【外４６】 以下の手法で、調製した樹脂液に混合溶解（ヒドラゾン
と樹脂成分との混合比は１：１）し、塗工液とした。こ
の塗工液をディッピング法によって、電荷発生層上に塗
布及び光照射して、膜厚２０μｍの電荷輸送層（ＣＴＬ
）を作成した。

【０１９０】樹脂液は酸成分としてテレフタル酸を、グ
リコール成分としてエチレングリコールを用いて得られ
た高融点ポリエチレンテレフタレート（Ａ）（極限粘度
０．７０ｄｌ／ｇ、融点２５８℃、ガラス転移点温度７
０℃）１００部とエポキシ樹脂（Ｂ）［エポキシ当量１
６０；芳香族エステルタイプ；商品名：エピコート１９
０Ｐ（油化シェルエポキシ社製）］３０部とをフェノー
ルとテトラクロロエタン（１：１）混合液１００ｍｌに
溶解させた。

【０１９１】次いで、光重合開始剤としてトリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（Ｃ）３部
を添加し、さらに実施例１−１で用いたシリコーン系ク
シ型グラフトポリマー２部を添加して、樹脂組成物溶液
を調製した。

【０１９２】このようにして調製した塗工液をディッピ
ング法によって、電荷発生層上に塗布及び光照射して、
膜厚２０μｍの電荷輸送層（ＣＴＬ）を作成した。

【０１９３】光の照射条件としては、２ｋｗ高圧水銀灯
（３０ｗ／ｃｍ）を２０ｃｍ離した位置から１３０℃で
８秒間照射して硬化させた。

【０１９４】この様にして作製した感光体ドラムを複写
機［商品名：ＮＰ−３５２５（キヤノン（株）製）］に
装着して、温度２４℃及び相対湿度５５％の環境で通紙
６０万枚の耐久テストを行った。結果を表２−１に示す
。

【０１９５】実施例２−２ 酸成分としてテレフタル酸を、グリコール成分としてエ
チレングリコール８０モル％とポリエチレングリコール
［分子量１０００］２０モル％を用いて得られた高融点
ポリエステル樹脂（極限粘度０．６８ｄｌ／ｇ、融点２
１０℃、ガラス転移温度６８℃）を用い、さらに実施例
１−２で用いたシリコーン系クシ型グラフトポリマー３
部を添加した外には、実施例２−１と同様の実験を行っ
た。結果を表２−１に示す。

【０１９６】実施例２−３ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール６３モル％とポリエチレングリコール
［分子量１０００］３７モル％との混合物を用いて得ら
れた高融点ポリエステル樹脂（極限粘度０．６７ｄｌ／
ｇ、融点１９５℃、ガラス転移温度６５℃）を用いた外
には、実施例２−１と同様の実験を行った。結果を表２
−１に示す。

【０１９７】実施例２−４ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール５０モル％とポリエチレングリコール
［分子量１０００］５０モル％との混合物を用いて得ら
れた高融点ポリエステル樹脂（極限粘度０．６６ｄｌ／
ｇ、融点１８０℃、ガラス転移温度６４℃）を用た以外
には、実施例２−２と同様の実験を行った。結果を表２
−１に示す。

【０１９８】実施例２−５ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分としてエ
チレングリコール４０モル％とポリエチレングリコール
［分子量１０００］６０モル％との混合物を用いて得ら
れた高融点ポリエステル樹脂（極限粘度０．６４ｄｌ／
ｇ、融点１６１℃、ガラス転移温度６０℃）を用い、さ
らに実施例１−５で用いたシリコーン系クシ型グラフト
ポリマー３部を添加した外には、実施例２−１と同様の
実験を行った。結果を表２−１に示す。

【０１９９】実施例２−６ 光硬化樹脂としてエポキシ樹脂［エポキシ当量１８４〜
１９４；ビスフェノール系；商品名：エピコート８２８
（油化シェルエポキシ社製）］を用いた以外には、実施
例２−５と同様の実験を行った。結果を表２−１に示す
。

【０２００】比較例２−１ 実施例２−１で用いた電荷輸送層の樹脂液の代わりにビ
スフェノール型ポリカーボネート１３０部とモノクロロ
ベンゼン９００部を用いて電荷輸送層を作成し、実施例
２−１と同様に耐久テストを行った。結果を表２−１に
示す。

【０２０１】比較例２−２ 比較例２−１で用いた感光体の耐久特性を向上させる為
に従来から知られているＰＴＦＥ微粉末を用いた保護層
を以下の様に設けて、耐久テストを行った。結果を表２
−１に示す。

【０２０２】ここで用いた保護層は上記ビスフェノール
Ｚ型ポリカーボネート４部とモノクロロベンゼン７０部
、ＰＴＦＥ粉末１部をサンドミルで１０時間混合分散し
て塗工液を作成した。この塗工液をスプレー法でＣＴＬ
上に膜厚１．０μｍになる様に塗布して保護層とした。

【０２０３】比較例２−３ 比較例２−２で用いた保護層の膜厚が１２．０μｍにな
る様に塗工液を再調合し、スプレーで塗布して膜厚１２
．０μｍの保護層を設け、耐久テストを行った。その結
果を表２−１に示す。

【０２０４】比較例２−４ 実施例２−１で用いた高融点ポリエチレンテレフタレー
トのかわりに軟化点１６３℃（非結晶性のため融点をも
たない）のポリエステル樹脂（バイロン２００：東洋紡
績株式会社製）を用いた以外は実施例２−１と同様の感
光体ドラムを作製し特性を評価した。結果を表２−１に
示す。

【０２０５】実施例２−７ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例２−１で用いたアルコキ
シメチル化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で塗
布し、膜厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。次に
、この中間層の上に下記構造式のスチリル化合物１０部
と

【０２０６】

【外４７】 ポリメチルメタクリレート１０部をＴＨＦ６５部に溶解
した。この溶液を浸漬法で塗布し、１２５℃で７０分間
の熱風乾燥させて膜厚１５μｍの電荷輸送層を作成した
。

【０２０７】次に、この電荷輸送層の上に下記構造式の
顔料１０部と実施例２−１で用いた電荷輸送層の樹脂分
７部に相当する樹脂液を加え、サンドミルで２０時間混
合分散し、塗工液とした。この塗工液を用いて膜厚０．
８μｍの電荷発生層を作成し、耐久テストを行った。結
果を表２−１に示す。

【０２０８】

【外４８】

【０２０９】実施例２−８ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例２−１で用いたアルコキシ
メチル化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で塗布
して膜厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。

【０２１０】次に電荷発生物質であるε型Ｃｕ−ＰＣ３
部と電荷輸送物質である実施例２−１で用いたヒドラゾ
ン化合物６部と実施例２−１で用いた電荷輸送層の樹脂
分１０部に相当する樹脂液を加え、サンドミルで３０時
間混合分散し塗工液を調製した。この塗工液を用いて膜
厚１８μｍの感光層を作成し、耐久テストを行った。そ
の結果を表２−１に示す。

【０２１１】実施例２−９ 実施例２−１で用いたエポキシ樹脂の量を１０部に変え
た以外には実施例２−１と同様の感光体を作製して耐久
テストを行った。結果を表２−１に示す。

【０２１２】実施例２−１０ 実施例２−１で用いた高圧水銀灯光を６秒間照射した以
外には実施例２−１と全く同様の感光体を作製して耐久
テストを行った。結果を表２−１に示す。

【０２１３】実施例２−１１ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例２−１のアルコキシメチル
化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で塗布し、膜
厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。

【０２１４】次に構造式２−（１）の顔料を１０部（重
量部、以下同様）及びポリビニルブチラール８部及びシ
クロヘキサノン５０部を直径１ｍｍのガラスビーズ１０
０部収容のサンドミル装置で２０時間混合分散した。こ
の分散液にメチルエチルケトン７０〜１２０（適宜）部
を加えて下引き層上に塗布し、１００℃で５分間乾燥し
て厚さ０．２μｍの電荷発生層（ＣＧＬ）を形成させた
。次に、この電荷発生層の上に実施例２−１で用いたヒ
ドラゾン１３０部を用いて以下の手法で、調製した樹脂
液に混合溶解し、塗工液とした。この塗工液をディッピ
ング法によって、電荷発生層上に塗布及び光照射して、
膜厚２０μｍの電荷発生層（ＣＴＬ）を作成した。

【０２１５】樹脂液は酸成分としてテレフタル酸及びグ
リコール成分として１，４−テトラメチレングリコール
（１，４−ブタンジオール）を用いて得られた高融点ポ
リブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）（Ａ）（極限粘度
０．７２ｄｌ／ｇ、融点２２４℃、ガラス転移点温度３
５℃）１００部と実施例２−１で用いたエポキシ樹脂（
Ｂ）３０部とをフェノールとテトラクロロエタン（１：
１）混合液１００ｍｌに溶解させた。

【０２１６】次いで、光重合開始剤としてトリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（Ｃ）３部
を添加し、さらに実施例１−１１で用いたシリコーン系
クシ型グラフトポリマー３部を添加して、樹脂組成物溶
液を調製した。

【０２１７】このようにして調製した塗工液をディッピ
ング法によって、電荷発生層上に塗布及び光照射して、
膜厚２０μｍの電荷輸送層（ＣＴＬ）を作成した。

【０２１８】光の照射条件としては、２ｋｗ高圧水銀灯
（３０ｗ／ｃｍ）を２０ｃｍ離した位置から１３０℃で
８秒間照射して硬化させた。

【０２１９】このようにして作製した感光体ドラムを複
写機［ＮＰ−３５２５（キヤノン（株）製）］に装着し
て、温度２４℃及び相対湿度５５％の環境で通紙６０万
枚の耐久テストを行った。結果を表２−２に示す。

【０２２０】実施例２−１２ 酸成分としてテレフタル酸を、グリコール成分としてシ
クロヘキサンジメチロールを用いて得られた高融点ポリ
シクロヘキサンジメチレンテレフタレート［（ＰＣＴ）
；極限粘度０．６６ｄｌ／ｇ；融点２９０℃、ガラス転
移温度８０℃］を用いた外には、実施例２−１１と同様
の実験を行った。その結果を表２−２に示す。

【０２２１】実施例２−１３ 酸成分として１，１０−ナフタレンジカロボン酸及びグ
リコール成分としてエチレングリコールを用いて得られ
た高融点ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）（極限粘
度０．６９ｄｌ／ｇ、融点２８０℃、ガラス転移温度８
５℃）を用いた外には、実施例２−１１と同様の実験を
行った。結果を表２−２に示す。

【０２２２】実施例２−１４ 酸成分としてテレフタル酸及びグリコール成分として１
，４−テトラメチレングリコール６３モル％とポリエチ
レングリコール（分子量１０００）２７モル％を用いて
得られた高融点ポリエステル樹脂（極限粘度０．６７ｄ
ｌ／ｇ、融点１９０℃、ガラス転移温度１５℃）を用い
た外には、実施例２−１１と同様の実験を行った。結果
を表２−２に示す。

【０２２３】実施例２−１５ 硬化樹脂として実施例２−６で用いたエポキシ樹脂を用
いた以外には実施例２−１１と同様の実験を行った。結
果を表２−２に示す。

【０２２４】実施例２−１６ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とした。これに実施例２−１１のアルコキシメ
チル化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で塗布し
、膜厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。次に、こ
の中間層の上に実施例２−７で用いたスチリル化合物１
０部と実施例２−７で用いたポリメチルメタクリレート
１０部をＴＨＦ６５部に溶解した。この溶液を浸漬法で
塗布し、１２５℃で７０分間の熱風乾燥させて膜厚１５
μｍの電荷輸送層を作成した。

【０２２５】次に、この電荷輸送層の上に実施例２−７
で用いた顔料１０部と実施例２−１１で用いた電荷輸送
層の樹脂分７部に相当する樹脂液を加え、サンドミルで
２０時間混合分散し、塗工液とした。この塗工液を用い
て膜厚０．８μｍの電荷発生層を作成し、耐久テストを
行った。結果を表２−２に示す。

【０２２６】実施例２−１７ 外径８０ｍｍ×長さ３６０ｍｍのアルミニウムシリンダ
ーを基体とし、これに実施例２−１１で用いたアルコキ
シメチル化ナイロンの５％メタノール溶液を浸漬法で塗
布して膜厚１μｍの下引き層（中間層）を設けた。

【０２２７】次に電荷発生物質であるε型Ｃｕ−ＰＣ３
部と電荷輸送物質である実施例２−１で用いたヒドラゾ
ン化合物６部と実施例２−１１で用いた電荷輸送層の樹
脂分１０部に相当する樹脂液とを加え、サンドミルで３
０時間混合分散し塗工液を調製した。この塗工液を用い
て膜厚１８μｍの感光層を作成し、耐久テストを行った
。その結果を表２−２に示す。

【０２２８】実施例２−１８ 実施例２−１１で用いたエポキシ樹脂の量を１０部にし
た以外には実施例２−１１と同様の感光体を作製して耐
久テストを行った。結果を表２−２に示す。

【０２２９】実施例２−１９ 実施例２−１１で用いた高圧水銀灯光を６秒間照射した
以外には実施例２−１１と同様の感光体を作製して耐久
テストを行った。結果を表２−２に示す。

【０２３０】実施例２−２０ 実施例２−１１で用いたフェノールとテロラクロロエタ
ン（１：１）混合液１００ｍｌの代わりにヘキサフルオ
ロイソプロパノール１００ｍｌを用いた以外には、実施
例２−１１と同様の感光体を作製し、同例と同様に耐久
テストを行った。結果を表２−２に示す。

【０２３１】実施例２−２１及び２−２２実施例２−１
１の感光体と実施例２−２０の感光体とを複写機［商品
名：ＮＰ−３５２５（キヤノン社製）］に装着し、温度
３０℃及び相対湿度８５％の環境において、通紙１０万
枚の耐久テストを行った。結果を表２−２に示す。

【０２３２】

【表３】

【０２３３】

【表４】

【０２３４】

【発明の効果】本発明による像保持部材は、高融点ポリ
エステル樹脂及び硬化樹脂及びシリコーン系クシ型グラ
フトポリマーを含有する表面層を有することにより、耐
久テストによる削れも殆ど無く、安定した電位特性を示
し、耐久使用後もキズによるスジ画像発生及び部分的な
削れによる濃度の傾きの無い像保持部材を得ることがで
き、その結果良好な複写画像を得ることが可能になった
。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の構成を備えた像保持部材の模式的断面
図である。

【図２】本発明の構成を備えた他の像保持部材の模式的
断面図である。

【図３】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。

【図４】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。

【図５】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。

【図６】本発明の構成を備えたさらに他の像保持部材の
模式的断面図である。

【図７】一般的なドラム型電子写真感光体を装着した転
写式電子写真装置の概略構成図である。

【図８】上記電子写真装置をプリンターとして使用した
ファクシミリ方式のブロック図である。

Claims (36)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　高融点ポリエステル樹脂及び硬化樹脂
   及び下記一般式（１）および（２）から選ばれるシリコ
   ーンと下記一般式（３）のシリコーンとの縮合反応生成
   物である変性シリコーンと重合性官能基を有する化合物
   とを共重合させて得られるシリコーン系クシ型グラフト
   ポリマーを含有することを特徴とする像保持部材。 【外１】 （Ｒ１〜Ｒ５はアルキル基およびアリール基から選ばれ
   る基、ｎは正の整数。） 【外２】 （Ｒ６およびＲ７はアルキル基およびアリール基から選
   ばれる基、ｎは正の整数。） 【外３】 （Ｒ８は水素原子、アルキル基、アリール基及びアラル
   キル基から選ばれる基、Ｒ９はアルキル基及びアリール
   基から選ばれる基、Ｘはハロゲン原子およびアルコキシ
   基から選ばれる基、ｍは０または１、ｌはｍ＝０の場合
   ０〜２の整数、ｍ＝１の場合２である。ｎは１〜３の整
   数である。）
2. 【請求項２】　　高融点ポリエステル樹脂が１６０℃以
   上の融点を有する請求項１の像保持部材。
3. 【請求項３】　　硬化樹脂が高融点ポリエステル樹脂１
   ００重量部に対して３〜５０重量部含まれていることを
   特徴とする請求項１に記載の像保持部材。
4. 【請求項４】　　高融点ポリエステル樹脂がポリエチレ
   ンテレフタレート樹脂であることを特徴とする請求項１
   に記載の像保持部材。
5. 【請求項５】　　高融点ポリエステル樹脂がポリブチレ
   ンテレフタレート樹脂であることを特徴とする請求項１
   に記載の像保持部材。
6. 【請求項６】　　高融点ポリエステル樹脂がポリシクロ
   ヘキサンジメチレンテレフタレート樹脂であることを特
   徴とする請求項１に記載の像保持部材。
7. 【請求項７】　　高融点ポリエステル樹脂がポリエチレ
   ンナフタレート樹脂であることを特徴とする請求項１に
   記載の像保持部材。
8. 【請求項８】　　硬化樹脂が光イオン硬化されたエポキ
   シ樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の像保持
   部材。
9. 【請求項９】　　硬化樹脂が光イオン硬化されたエポキ
   シ樹脂である請求項２の像保持部材。
10. 【請求項１０】　　グラフトポリマーの含有率が像保持
    部材表面層の重量分率で０．０１〜１０％である特許請
    求の範囲第１項の像保持部材。
11. 【請求項１１】　　表面層が保護層である請求項１の像
    保持部材。
12. 【請求項１２】　　上記保護層の膜厚が３．０μｍ以下
    であることを特徴とする請求項１１の像保持部材。
13. 【請求項１３】　　上記像保持部材が少なくとも前記保
    護層と光導電層とを有することを特徴とする請求項１１
    の像保持部材。
14. 【請求項１４】　　上記感光層として有機系光導電層を
    有することを特徴とする請求項１３の像保持部材。
15. 【請求項１５】　　上記有機系光導電層が電荷発生層と
    電荷輸送層の積層体であることを特徴とする請求項１４
    の像保持部材。
16. 【請求項１６】　　表面層が保護層であって、有機系光
    導電層を有する請求項２の像保持部材。
17. 【請求項１７】　　表面層が有機系光導電層である請求
    項１の像保持部材。
18. 【請求項１８】　　有機系光導電層が電荷輸送層である
    請求項１７の像保持部材。
19. 【請求項１９】　　有機系光導電層が電荷発生層である
    請求項１７の像保持部材。
20. 【請求項２０】　　表面層が有機系光導電層である請求
    項２の像保持部材。
21. 【請求項２１】　　表面層を有する像保持部材の製造方
    法において、該表面層を溶媒中に少なくとも高融点ポリ
    エステル樹脂及び光硬化性樹脂及び下記一般式（１）お
    よび（２）から選ばれるシリコーンと下記一般式（３）
    のシリコーンとの縮合反応生成物である変性シリコーン
    と重合性官能基を有する化合物とを共重合させて得られ
    るシリコーン系クシ型グラフトポリマー。 【外４】 （Ｒ１〜Ｒ５はアルキル基およびアリール基から選ばれ
    る基、ｎは正の整数。） 【外５】 （Ｒ６およびＲ７はアルキル基およびアリール基から選
    ばれる基、ｎは正の整数。） 【外６】 （Ｒ８は水素原子、アルキル基、アリール基及びアラル
    キル基から選ばれる基、Ｒ９はアルキル基及びアリール
    基から選ばれる基、Ｘはハロゲン原子およびアルコキシ
    基から選ばれる基、ｍは０または１、ｌはｍ＝０の場合
    ０〜２の整数、ｍ＝１の場合２である。ｎは１〜３の整
    数である。）が均一に溶解された塗工液を塗工し、次い
    で光硬化させ形成することを特徴とする像保持部材の製
    造方法。
22. 【請求項２２】　　高融点ポリエステル樹脂が１６０℃
    以上の融点を有する請求項２１の像保持部材の製造方法
    。
23. 【請求項２３】　　前記光硬化性樹脂がエポキシ樹脂で
    あることを特徴とする請求項２１に記載の像保持部材の
    製造方法。
24. 【請求項２４】　　前記グラフトポリマーの含有率が像
    保持部材表面層の重量分率で０．０１〜１０％である特
    許請求の範囲第２１項の像保持部材の製造方法。
25. 【請求項２５】　　前記塗工液中に、光照射によってル
    イス酸を遊離する光重合開始剤が存在することを特徴と
    する請求項２１の像保持部材の製造方法。
26. 【請求項２６】　　前記塗工液に用いた溶媒がフッ素含
    有アルコールを含有することを特徴とする請求項２１の
    像保持部材の製造方法。
27. 【請求項２７】　　帯電手段、現像手段およびクリーニ
    ング手段の少なくとも１つを、高融点ポリエステル樹脂
    及び光硬化樹脂及び下記一般式（１）および（２）から
    選ばれるシリコーンと下記一般式（３）のシリコーンと
    の縮合反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基
    を有する化合物とを共重合させて得られるシリコーン系
    クシ型グラフトポリマー。 【外７】 （Ｒ１〜Ｒ５はアルキル基およびアリール基から選ばれ
    る基、ｎは正の整数） 【外８】 Ｒ６およびＲ７はアルキル基およびアリール基から選ば
    れる基、ｎは正の整数） 【外９】 （Ｒ８は水素原子、アルキル基、アリール基及びアラル
    キル基から選ばれる基、Ｒ９はアルキル基及びアリール
    基から選ばれる基、Ｘはハロゲン原子およびアルコキシ
    基から選ばれる基、ｍは０または１、ｌはｍ＝０の場合
    ０〜２の整数、ｍ＝１の場合２である。ｎは１〜３の整
    数である。）を有する表面層を有する像保持部材ととも
    に一体に支持してユニットを形成し、装置本体に着脱自
    在の単一ユニットとしたことを特徴とする装置ユニット
    。
28. 【請求項２８】　　高融点ポリエステル樹脂が１６０℃
    以上の融点を有する請求項２７の装置ユニット。
29. 【請求項２９】　　表面層が保護層および有機光導電層
    から選ばれた層である請求項２８の装置ユニット。
30. 【請求項３０】　　上記グラフトポリマーの含有率が像
    保持部材表面層の重量分率で０．０１〜１０％である特
    許請求の範囲第２８項の装置ユニット。
31. 【請求項３１】　　高融点ポリエステル樹脂及び光硬化
    樹脂及び下記一般式（１）および（２）から選ばれるシ
    リコーンと下記一般式（３）のシリコーンとの縮合反応
    生成物である変性シリコーンと重合性官能基を有する化
    合物とを共重合させて得られるシリコーン系クシ型グラ
    フトポリマー。 【外１０】 （Ｒ１〜Ｒ５はアルキル基およびアリール基から選ばれ
    る基、ｎは正の整数。） 【外１１】 （Ｒ６およびＲ７はアルキル基およびアリール基から選
    ばれる基、ｎは正の整数。） 【外１２】 （Ｒ８は水素原子、アルキル基、アリール基及びアラル
    キル基から選ばれる基、Ｒ９はアルキル基及びアリール
    基から選ばれる基、Ｘはハロゲン原子およびアルコキシ
    基から選ばれる基、ｍは０または１、ｌはｍ＝０の場合
    ０〜２の整数、ｍ＝１の場合２である。ｎは１〜３の整
    数である。）を有する表面層を有する像保持部材、潜像
    形成手段、形成した潜像を現像する手段および現像した
    像を転写材に転写する手段を有することを特徴とする電
    子写真装置。
32. 【請求項３２】　　高融点ポリエステル樹脂が１６０℃
    以上の融点を有する請求項３１の電子写真装置。
33. 【請求項３３】　　上記グラフトポリマーの含有率が像
    保持部材表面層の重量分率で０．０１〜１０％である特
    許請求の範囲第３１項の電子写真装置。
34. 【請求項３４】　　高融点ポリエステル樹脂及び光硬化
    樹脂及び下記一般式（１）および（２）から選ばれるシ
    リコーンと下記一般式（３）のシリコーンとの縮合反応
    生成物である変性シリコーンと重合性官能基を有する化
    合物とを共重合させて得られるシリコーン系クシ型グラ
    フトポリマー。 【外１３】 （Ｒ１〜Ｒ５はアルキル基およびアリール基から選ばれ
    る基、ｎは正の整数。） 【外１４】 （Ｒ６およびＲ７はアルキル基およびアリール基から選
    ばれる基、ｎは正の整数。） 【外１５】 （Ｒ８は水素原子、アルキル基、アリール基及びアラル
    キル基から選ばれる基、Ｒ９はアルキル基及びアリール
    基から選ばれる基、Ｘはハロゲン原子およびアルコキシ
    基から選ばれる基、ｍは０または１、ｌはｍ＝０の場合
    ０〜２の整数、ｍ＝１の場合２である。ｎは１〜３の整
    数である。）を有する表面層を有する像保持部材、潜像
    形成手段、形成した潜像を現像する手段および現像した
    像を転写材に転写する手段を備えた電子写真装置および
    リモート端末からの画像情報を受信する受信手段を有す
    ることを特徴とするファクシミリ。
35. 【請求項３５】　　高融点ポリエステル樹脂が１６０℃
    以上の融点を有する請求項３４のファクシミリ。
36. 【請求項３６】　　上記グラフトポリマーの含有率が像
    保持部材表面層の重量分率で０．０１〜１０％である特
    許請求の範囲第３４項のファクシミリ。