JPH042669A - 超電導膜の接合方法及び補修方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は超電導膜の接合方法及び補修方法に関するもの
である。

［従来の技術］ 従来より水銀、すす、鉛等の金属や合金を夫々固有の臨
界温度以下に冷却すると電気抵抗が無くなる、即ち超電
導状態になることが知られている。

ところが最近、金属や合金たけではなく、酸化物系セラ
ミック類に超電導性を現すものがあることが発見された
。

上記超電導性を現すセラミックとして現在、イツトリウ
ム・バリウム・銅を１：２：３の組成比で作ったイツト
リウム系超電導体、ビスマス・ストロンチウム・カルシ
ウム・銅を２：２：２：３の組成比で作ったビスマス系
超電導体、タリウム争バリウム・カルシウム・銅を２：
２：２：３の組成比で作ったタリウム系超電導体等が知
られており、しかもこれらは従来の金属や合金の臨界温
度が絶対温度に近い極低温の領域であったのに対し、相
対的に高い臨界温度ををし、安価な液体窒素の温度（マ
イナス１９６度）でも超電導性を現す為、ＭＩＬＤ発電
やリニア・モター・カー等の実用化に向けて前記超電導
性を現すセラミックの研究か盛んになっている。

このような超電導性を現すセラミックの製作には各種方
法があるが、一般に組成の夫々を粉砕しその各粉末を組
成比に合うよう混合し焼き固める（焼結する）ことによ
り超電導膜として製作されるものが多い。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、現在の技術では小面積の超電導膜しか一
体成形することができない為、複数の超電導膜を接合し
て大面積の超電導膜を得ることが考えられている。

ところが、セラミックは溶融・凝固によるいわゆる溶接
が困難であるほか、前記超電導膜は溶融すると超電導性
を喪失する性質がある為、通常の金属のように溶接等の
接合方法を採用することができず、従来、超電導膜同士
を有効に接続する方法がなかった。

又、前記超電導膜は材質的に脆い欠点かあり、実用化を
図る上で超電導膜の欠損部を補修する方法の確立が望ま
れているか、従来、超電導膜の欠損部を有効に補修する
方法がなかった。

本発明は上述の実情に鑑みて成したもので、超電導性を
失うことなく超電導膜同士を接合し得る超電導膜の接合
方法、及び超電導膜の欠損部を確実に補修し得る超電導
膜の補修方法を提供することを目的としている。

［課題を解決するための手段］ 本発明は接合を行う各超電導膜の対向端面間に、前記各
超電導膜と同等の組成比で調合された組成粉末をバイン
ダでといて充填し、該充填部を前記組成粉末の融点より
低い温度で加熱して前記組成粉末を焼結し、次いで十分
な酸素吸収を行わせつつ徐冷して対向端面間に超電導体
による連続膜を形成することを特徴とする超電導膜の接
合方法、又は超電導膜の欠損部に、前記超電導膜と同等
の組成比で調合された組成粉末をバインダでといて充填
し、該充填部を前記組成粉末の融点より低い温度で加熱
して前記組成粉末を焼結し、次いで十分な酸素吸収を行
わせつつ徐冷して欠損部に超電導体による連続膜を形成
することを特徴とする超電導膜の補修方法にかかるもの
である。

［作　　　用］ 従って本発明の超電導膜の接合方法では、接合を行う各
超電導膜の対向端面間に、前記各超電導膜に接続する新
たな超電導体による連続膜が生成され、該連続膜を介し
て前記各超電導膜同士が接合される。

又、本発明の超電導膜の補修方法では、超電導膜の欠損
部に周囲の超電導膜と連続する新たな超電導体による連
続膜が生成され、該連続膜によって前記欠損部が補修さ
れる。

［実　施　例］ 以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。

第１図〜第５図は本発明の超電導膜の接合方法の一実施
例であり、長尺状の基板１．１上に焼結された各超電導
膜２，２を接合する場合を示している。

前記各基板１．１は、その上部の超電導膜２．２に対し
予め長手方向（図における左右方向）に僅かに延出する
よう形成されており、前記各超電導膜２．２の対向端面
３，３間に所要の隙間４を形成した状態で前記各基板１
．１間士か当接するように配置する。

次いで、第２図に示す如く、前記対向端面３３間の基板
１．１上に、前記超電導膜２．２と同等の組成比となる
よう調合された組成粉末５を、焼結時に容品に蒸発する
ような有機溶媒等のバインダにといて塗布することによ
り、前記隙間４に前記組成粉末５を充填し、これを充填
部５とする。

然る後、第３図に示すように、前記各超電導膜２．２を
管状炉６に入れて前記充填部５°を加熱したり、或いは
第４図に示すようにレーサービム７を集束レンズ８等を
介して前記充填部５に照射したりすることによって、前
記各超電導膜２．２間の隙間４に充填された組成粉末５
を該組成粉末５の融点より低い温度で所要時間保持（例
えばイツトリウム系では約９５０℃で約２時間保持）し
て焼結する。

尚、バインダは前記焼結の際に蒸発する。

更に前述の如くして焼結した組成粉末５を大気中又は酸
素分圧下で十分な酸素吸収を行わせつつ時間をかけて徐
冷することによって、第５図に示すように、各超電導膜
２．２の間に、前記各超電導膜２．２に接続する新たな
超電導膜２°が連続膜として生成される。

従って上記によれば、各超電導膜２，２の対向端面３．
３間に生成される超電導膜２°を介して各超電導膜２．
２を極めて容易且つ確実に接合することができ、上記接
合を繰り返すことにより複数の超電導膜を接合して大面
積の超電導膜を得ることができる。

第６図は本発明の超電導膜の接合方法の別の実施例であ
り、基板を用いないで超電導膜単体て生成されたテープ
状の超電導膜２ａ、２ａを接合する場合に、接合を行う
各超電導膜２ａ、２ａの接合端部９，９を、該合接合端
部９．９の対向端面３ａ。

３ａ間に所要の隙間４が形成されるよう裏当基板ｌＯ上
に並べおき、前記両対向端面３ａ、３ａ間の裏当基板Ｉ
Ｏ上にバインダでといた組成粉末５を塗布することより
前記隙間４に組成粉末５を充填して充填部５°とした他
は、前述した第１図〜第５図の実施例と同様であり、こ
のようにしても各超電導膜２ａ、２ａを接合することか
できる。

第７図及び第８図は、本発明の超電導膜の補修方法の実
施例であり、母材となる超電導膜２ｂに生じた欠損部１
１に、前記超電導膜２ｂと同等の組成比となるよう調合
された組成粉末５を、焼結時に容易に蒸発するような有
機溶媒等のバインダにといて塗布、充填して充填部５°
とじ、前述した第１図〜第５図、及び第６図の接合方法
の実施例と略同様の手段で前記充填部５°を加熱して前
記組成粉末５を焼結せしめ、大気中又は酸素分圧下で十
分な酸素吸収を行わせつつ時間をかけて徐冷することに
より、第８図に示す如く前記欠損部１１に周囲の超電導
膜２ｂと連続する新たな超電導膜２ｂ’を連続膜として
生成する。

従って上記によれば、超電導膜２鴨の欠損部１１を新た
に生成される超電導膜２ｂ“によって極めて容易且つ確
実に補修することができる。

尚、本発明の超電導膜の接合方法及び補修方法は、上述
の実施例にのみ限定されるものではなく、徐冷の際には
必要に応じてヒータ等の補助熱源を併用するようにして
も良いこと、その池水発明の要旨を逸脱しない範囲内に
おいて種々変更を加え得ることは勿論である。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の超電導膜の接合方法及び
補修方法によれば、下記の如き種々の優れた効果を奏し
得る。

■　超電導膜同士を極めて容易且つ確実に接合すること
ができる。

（の　上記（Ｄより複数の超電導膜を接続して大面積の
超電導膜を得ることかできる。

［相］　超電導膜の欠損部を極めて容易且つ確実に補修
することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の超電導膜の接合方法を行う場合の超電
導膜の配置状態の一実施例を示す側面図、第２図は第１
図に示す実施例においてバインダでといた組成粉末を塗
布充填した状態を示す図、第３図は管状炉を用いて焼結
する例を示す概略図、第４図はレーザービームを照射し
て焼結する例を示す概略図、第５図は超電導膜の接合状
態を示す側面図、第６図は本発明の超電導膜の接合方法
の別の実施例を示す側面図、第７図は本発明の超電導膜
の補修方法の実施例を示す斜視図、第８図は補修後の超
電導膜を示す斜視図である。 図中、２，２°、　２ａ　、　２ｂ　、　２ｂ　’は超
電導膜、３，３ａは対向端面、５はバインダでといた組
成粉末、５°は充填部、６は管状炉、７はレーザービー
ム、１１は欠ｔｉ部を示す。 第１ 図 第２図 第３図 第４図 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）接合を行う各超電導膜の対向端面間に、前記各超電
   導膜と同等の組成比で調合された組成粉末をバインダで
   といて充填し、該充填部を前記組成粉末の融点より低い
   温度で加熱して前記組成粉末を焼結し、次いで十分な酸
   素吸収を行わせつつ徐冷して対向端面間に超電導体によ
   る連続膜を形成することを特徴とする超電導膜の接合方
   法。 ２）超電導膜の欠損部に、前記超電導膜と同等の組成比
   で調合された組成粉末をバインダでといて充填し、該充
   填部を前記組成粉末の融点より低い温度で加熱して前記
   組成粉末を焼結し、次いで十分な酸素吸収を行わせつつ
   徐冷して欠損部に超電導体による連続膜を形成すること
   を特徴とする超電導膜の補修方法。