JPH0426658A - 含フッ素芳香族ジアミン - Google Patents

含フッ素芳香族ジアミン

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JPH0426658A
JPH0426658A JP13219990A JP13219990A JPH0426658A JP H0426658 A JPH0426658 A JP H0426658A JP 13219990 A JP13219990 A JP 13219990A JP 13219990 A JP13219990 A JP 13219990A JP H0426658 A JPH0426658 A JP H0426658A
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英幸 友田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は比較的長いフルオロカーボン鎖を有する新規な
含フツ素芳香族ジアミンおよびその製造方法に関する。
従来の技術 一般にフルオロカーボン鎖を有する化合物は特異的な物
理的・化学的特性を有するために含フツ素ポリマー、界
面活性剤、医薬品等のファインケミカル、農薬等種々の
分野において従来から注目されている。
特に、含フツ素ジアミン類には、含フツ素ポリマー、例
えば、含フツ素ポリウレタン、含フツ素ポリアミドおよ
び含フツ素ポリイミド等の合成原料をはじめ、撥水撥油
性、低誘電率および低屈折率等の緒特性を兼有する各種
の多機能性材料の原料等多様な用途が期待されている。
しかしながら、フルオロカーボン鎖を有するアミン類は
フ、素原子のために不安定なものか多く、十分な利用が
計られていないのが実情である。
発明が解決しようとする課題 この発明はこのような事情に鑑み、実用上十分な安定性
と多様な用途を有する含フツ素芳香族ジアミンを提供す
るためになされたものである。
課題を解決するための手段 即ち本発明は、一般式(■)。
で表わされる含フツ素芳香族ジアミンに関する。
アミノ基の置換位置は特に限定的ではないが、含フツ素
置換基に対して3−位および5−位が特に好ましい。
一般式(1)で表わされる含フツ素芳香族シアミンの製
造方法は特に限定的ではないが、好適な方法は、一般式
(■): (式中、Xはハロゲン原子を示す。) で表わされるジニトロベンゼン誘導体およびヘキサフル
オロプロペンの二量体C8F 12を、非水極性溶媒中
において、塩基性含フツ素塩の存在下において反応させ
て得られる式(III)で表わされる含フツ素ニトロベ
ンゼン誘導体を還元する方法である。
一般式(II)において、Xはハロゲン原子、好ましく
は塩素原子または臭素原子を示し、ニトロ基の置換位置
は前述のアミ7基の場合と同様である。
ヘキサフルオロプロペンの二量体C8F 12としては
次の構造式で表わされるものが例示される:CF3  
    F 一般式(II)で表わされるジニトロベンゼン誘導体と
C6F、、との反応に使用する非水極性溶媒としては、
ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリド
ンおよびアセトニトリル等が例示されるか、N、N−ジ
メチルホルムアミドまたはN、N−ジメチルアセトアミ
ドが特に好ましく、また、塩基性含フツ素塩としては、
フッ化ナトリウム、フッ化カリウムおよびフッ化セシウ
ム等が例示されるが、フッ化カリウムまたはフッ化セシ
ウムが特に好ましい。
上記のジニトロベンゼン誘導体とへキサフルオロプロペ
ンオリゴマーとの反応割合は、通常、前者1モルに対し
て後者1.0〜2.0モルである。
塩基性含フツ素塩の使用量は、通常、上記のジニトロベ
ンゼン誘導体1モルに対して1.0〜30モルである。
この場合、ヨウ化カリウム等の他のアルカリ金属ハロゲ
ン化物を反応促進剤として触媒量使用してもよい。
反応速度は通常、室温〜100℃、好ましくは50〜8
0°Cである。
一般式(I[I)で表わされる含フツ素ニトロベンゼン
誘導体の還元法は特に限定的ではなく、常法に従えばよ
いが、好適な方法は、]二記の方法をFeトHCf7の
存在下において80〜]、0O0Cでおこない、反応生
成物をアルカリ処理する方法、または、アルコール溶媒
(例えば、メタノール、エタ/−ル、フロパノールまた
はイソプロパツール等)中において、30〜100℃、
好ましくは、50〜100℃で活性炭に担持させたFe
Cρ3触媒の存在下、一般式(I)で表わされる含フツ
素ニトロベンセン誘導体と抱水ヒドラジンを30〜10
00C1好ましくは50〜100℃で反応させる方法で
ある。
以下、本発明を実施例によって説明する。
実施例1 温度計、撹拌機および冷却管をそなえた4つ口のフラス
コ(1の内へ、150°CでlmmHgの条件下で3時
間乾燥させたKF l 9.7g(0,34モル)およ
びK I 5.649(0,034モル)並びに3,5
ジニトロベンジルクロリド36.9g(0,17モル)
およびジメチルアセトアミド300Rσを入れ、撹拌下
において、反応系の温度を60°Cまで上昇させた後、
ヘキサフルオロプロペンの二量体(C8F +2)81
g(10,27モル)を徐々に滴下し、滴下終了後、反
応を60℃においてさらに6時間続行した。
反応混合物を室温まで冷却し、水洗処理に3回付した後
、メタノールを用いる再結晶処理に付すことによって、
化合物(+、)を739得た(収率86%)。
化合物(1)の物性を表−1に示す。
温度計、撹拌機および冷却管を備えた4つ口のフラスコ
(500111の内へ、上記の化合物(1)5009(
0,l 0モル)、FeC(ls・6H202,Og、
活性炭4.5gおよびエタノール200uf!を入れ、
70〜75°Cにおいて還流を1時間おこなった後、抱
水ヒドラジンN2H4・H2O209(0,40モル)
を徐々に滴下し、滴下終了後、反応を70°Cにおいて
撹拌下で15時時間待した。
反応混合物を室温まで冷却し、活性炭を痔去し、エタノ
ールを留去させて得られた油状物を、シリカケルカラム
(200メツシユ)を用いるカラムクロマトグラフィー
処理(溶離剤:95%CHCQ35%C2■150H)
に付すことによって、化合物(2)を39g調製した(
収率89%)。
化合物(2)の物性を表−1に示す。
(以下、余白) 発明の効果 この発明による含フツ素芳香族ジアミンは、含フツ素ポ
リウレタン、含フツ素ポリアミドまたは含フツ素ポリイ
ミド等の含フツ素ポリマーの合成原料として有用なだけ
でなく、撥水撥油性、低銹電率および低屈折率等の緒特
性を兼有する多機能性材料や含フツ素界面活性剤等の原
料としても利用できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる含フッ素芳香族ジアミン。 2、一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Xはハロゲン原子を示す。) で表わされるジニトロベンゼン誘導体およびヘキサフル
    オロプロペンの二量体C_6F_1_2を、非水極性溶
    媒中において、塩基性含フッ素塩の存在下において反応
    させて得られる式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で表わされる含フッ素ニトロベンゼン誘導体を還元する
    ことを特徴とする、請求項1記載の化合物の製法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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