JPH04264090A - アルキルホスフェート溶液の浄化方法 - Google Patents

アルキルホスフェート溶液の浄化方法

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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアルキルホスフェート溶
液の浄化に関し、特に疎水性有機溶剤中に溶解されたア
ルキルホスフェートに関する。このような溶液はウラン
鉱石からのウランの製造に関与する溶剤抽出方法に使用
される。
【0002】
【従来技術】特に、主要な鉱石転換方法からの廃棄ウラ
ンの回収に使用される間に、アルキルホスフェートと溶
剤の両者は放射線分解および酸による浸食による化学変
化の結果として漸次にだんだんと劣化する。そのうちに
、分解生成物が溶剤抽出方法に干渉して、その溶液を取
り替えなければならない程度にまでなり、廃棄されるウ
ラン混入材料はかなりのコストで処理される。
【0003】まず初めに、不純なアルキルホスフェート
溶液から充分な量の錯体化した硝酸(及び、ウラン及び
鉄の他の錯体化種)を適当な試薬によって除去し、続い
て、前記の溶液をイオン交換処理することによって、再
利用性のための要求を満たすように溶液を製造すること
ができることが見出されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明によれば、疎水
性有機溶剤のアルキルホスフェート溶液を浄化するため
の方法を提供し、その方法は、前記溶液を硫酸水溶液で
洗浄し、及びその洗浄された溶液をイオン交換材料に接
触させる工程を含む。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は特に、アルキル
基がエチルからオクチルまでの範囲であり、特にブチル
、中でも特にn−ブチルであるトリアルキルホスフェー
トの溶液の処理に向けられている。そのトリアルキルホ
スフェートのための疎水性有機溶剤は、普通は炭化水素
液であり、通常は炭化水素の混合物であり、例えば石油
の蒸留、一般に180℃と290℃の間のケロシン沸点
から得られる無臭のケロシンがよく利用される。
【0006】疎水性有機溶剤中のアルキルホスフェート
の濃度は広範にわたり、その組成はアルキルホスフェー
トを濃縮するか、または非常に希釈するように処理され
る。一般的に、アルキルホスフェートは溶液中に約5〜
50%v/v で存在する。典型的には、核グレードの
ウランの製造に使用した後の処理のための溶液は、無臭
のケロシン中に約20〜40%v/v のトリブチルホ
スフェート(TBP)を含んでいる。
【0007】廃棄される炭化水素液のアルキルホスフェ
ート溶液は、すなわち、使用中に劣化してもはや使用で
きない程度にまでなった溶液は、かなりの量の主に有機
的な錯体の形にあるウラン及び硝酸を含む。そのアルキ
ルホスフェート溶液を洗浄するために使用される硫酸水
溶液の濃度は広範にわたり、一般的に30%v/v 〜
0.1%v/v H2SO4 、好ましくは5%v/v
 〜0.1%v/v H2SO4 の範囲内にある。使
用される一般的な濃度は、水中に約4%v/v H2S
O4 である。
【0008】この洗浄方法は有機相と水性相の間の効率
的な接触のために適当な方法のどれかであってもよく、
それは効率的な物質移動のために十分な接触時間を提供
する。向流方式が好ましく、接触させるために例えばボ
ックス−ミキサーセトラーまたは脈動カラムのような適
当な手段が利用されてもよい。洗浄中のアルキルホスフ
ェート溶液の容積と硫酸水溶液の容積との比は広範にわ
たり、通常は1容積のアルキルホスフェート溶液に対し
て20〜0.05容積の間の硫酸水溶液である。
【0009】一般的に、洗浄中では周囲温度またはそれ
以上が好ましく、15℃から60℃までの範囲の温度、
好ましくは18℃から25℃までの温度が適当である。 本発明の第1工程では、つまり硫酸水溶液での洗浄では
、主として有機的に錯体化した硝酸及び/または遊離の
硝酸をアルキルホスフェート溶液から除去することが重
要である。このような汚染物の除去は、本発明の方法で
の後続のイオン交換工程を容易にするものであり、この
ことは、アルキルホスフェート溶液から分解生成物を除
去するイオン交換材料の能力に大きな損失をもたらすイ
オン交換材料上への硝酸イオンの吸着を防ぐことによる
と思われる。
【0010】この洗浄工程はまた、アルキルホスフェー
ト溶液からウランを全体的にまたは部分的に除去するこ
とにおいて有利である。イオン交換容量の減少を避ける
こととは別に、イオン交換材料は放射性物質によって汚
染されず、そのことによってイオン交換樹脂を再生成す
るために使われる材料の安全な処理を容易にする。本発
明の方法の第2工程で使用されるイオン交換材料は、好
ましくは有機のまたは無機の陰イオン交換材料から選ば
れ、例えば、化学的タイプの、またはスチレンジビニル
ベンゼン共重合体と呼ばれる型の樹脂からが選ばれる。 弱塩基性の陰イオン樹脂が好ましい。混合された陰イオ
ン/陽イオン樹脂もまた有用であり、例えば、Diam
ond Shamrock (Polymers)Lt
d.から入手可能なDuolite MB5113が有
用である。イオン交換樹脂はまた巨大網状型であっても
また有利である。
【0011】本発明の方法に使用するための好ましいイ
オン交換樹脂の例は、Amberlyst A26 と
呼ばれる強塩基性の陰イオン樹脂及び特に弱塩基性の陰
イオン樹脂であるAmberlyst A21 を含み
、両者はRohm & Haas Co. から入手で
きる。Amberlyst A21 はアミノ官能基と
900−1300オングストロームの孔の平均径を有す
る巨大網状型の樹脂であって、一方Amberlyst
 A26 もまた巨大網状型の樹脂であり、四級アンモ
ニウム官能基と400−700オングストロームの孔径
を有する。
【0012】幾らか興味のあるイオン交換樹脂は、陰イ
オンDuolite A116(Diamond Sh
amrock (Polymers) Ltd. から
入手可能) である。使用において、これらのイオン交
換樹脂は、通常ヒドロキシルイオンの型である。本発明
の方法のイオン交換工程は、この技術分野で公知のいず
れかの慣用の方法によって実施される。洗浄された溶液
とイオン交換樹脂との接触は、好ましくはそのイオン交
換樹脂を詰めたカラム中で行われる。
【0013】イオン交換カラムでの操作は、好ましくは
その樹脂の再生成が必要になるまで連続的なベースで実
施される。カラムに注入する前に洗浄された溶液を濾過
することが望ましく、そうすれば樹脂の効力及び有効寿
命を減ずる、存在するいずれかの固形粒子による樹脂の
付着物を避けることができる。
【0014】処理されたアルキルホスフェート溶液の十
分な程度の精製を確実にするために、洗浄された溶液と
イオン交換樹脂の間の充分な接触時間を提供することを
確保することが重要である。一般的に、接触時間が長い
程、イオン交換工程がより効率的になる。充填したカラ
ム中の接触時間を、1時間当たりのカラムを通過する“
ベッド−ボリューム”(bed  volumes)の
数値( 通常、Bv/hr と省略される) によって
表すと便利である。実例として0.1Bv/hrと20
Bv/hr の間の接触時間が使用されるが、0.1−
1.0Bv/hrの接触時間が好ましい。
【0015】アルキルホスフェート溶液の浄化の進行は
都合のよいことに、本発明の方法を通じて溶液1ml当
たりのウランのμg ( μg U/ml) で表され
る溶液の保留ウラン(RU)値を測定することによって
追跡できる。この値は、その溶液のサンプルを硝酸ウラ
ンを添加することによってウランで飽和させ、希釈(0
.06%w/v)硝酸で5回抽出し、残存するウランの
量を標準の技術で測定する経験的な方法で最も容易に決
定される。
【0016】必須ではないが、ある場合にはアルキルホ
スフェート溶液を本発明の硫酸水溶液で洗浄する第1工
程の前に、例えば炭酸ナトリウム水溶液のような弱アル
カリで洗浄することが有用である。使用後、イオン交換
樹脂はこの技術分野で公知の適当な方法のどれかによっ
て再生成されてもよい。本発明者は再生剤として水酸化
ナトリウム水溶液を通常4%から10%w/v の濃度
で使用することを好む。再生剤の量は通常、イオン交換
樹脂の理論的容量の100%と500%の間である。
【0017】本発明は次の実施例によって説明されるが
、これらに限定はされない。
【0018】
【実施例】実施例1 600リットルの溶剤(120リットルのトリブチルホ
スフェート(TBP)及び480リットルの無臭ケロシ
ンを含む)を核グレードのウラン製造の溶剤抽出プラン
トの回収ラインから取り出し、ウランが無くなるまで、
4%硫酸水溶液で洗浄した。溶剤と水溶液の流れは向流
的にボックス−ミキサーセトラーの配列を通して送り込
み、2:1の溶剤と水溶液の比で洗浄を実施した。
【0019】溶剤をその後、1時間当たり1.5リット
ル(0.5Bv/hr )で3リットルのAmberl
yst A21 を含むイオン交換カラムに通過させた
。溶剤のRU値(前述されている)は、溶剤を1回だけ
イオン交換樹脂に通したことによって189μg U/
mlから11μgU/mlに減少した。 実施例2 溶剤抽出プラントの回収ラインからの900mlの溶剤
(180mlのTBP 及び720mlの無臭ケロシン
を含む)をボックス−ミキサーセトラーの配列の中でウ
ランが無くなるまで、実施例1のように2%硫酸水溶液
で繰り返し洗浄した。
【0020】その溶剤をその後、1.5ml/hr(0
.1Bv/hr )で15mlのAmberlyst 
A26 を含むイオン交換カラムに通過させた。イオン
交換処理の前後の溶剤のRU値は、それぞれ82μgU
/mlと25μg U/mlであった。 実施例3 溶剤抽出プラントの回収ラインからの1リットルの溶剤
(200mlのTBP 及び800mlの無臭ケロシン
を含む)をボックス−ミキサーセトラーの配列の中でウ
ランが無くなるまで、実施例1のように10%硫酸水溶
液で繰り返し洗浄した。
【0021】その溶剤をその後、150ml/hr(1
.0Bv/hr )で150mlのヒドロキシド型のD
uolite A116を含むイオン交換カラムに通過
させた。イオン交換処理の前後の溶剤のRU値は、それ
ぞれ275μg U/mlと6μg U/mlであった

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  疎水性有機溶剤のアルキルホスフェー
    ト溶液の浄化方法であって、前記溶液を硫酸水溶液で洗
    浄する工程、及びその洗浄された溶液をイオン交換材料
    に接触させる工程を特徴とする方法。
  2. 【請求項2】  該溶液がトリアルキルホスフェートを
    含む、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】  該アルキルがエチルからオクチルまで
    の範囲であるアルキル基から選ばれる、請求項2記載の
    方法。
  4. 【請求項4】  該アルキル基がブチルを含む、請求項
    3記載の方法。
  5. 【請求項5】  該アルキル基がn−ブチルを含む、請
    求項4記載の方法。
  6. 【請求項6】  該溶液中のアルキルホスフェートが約
    5容量%と50容量%の間の濃度を有する、前記特許請
    求の範囲のいずれか1項に記載の方法。
  7. 【請求項7】  該溶液中のアルキルホスフェートが約
    20容量%と40容量%の間の濃度のトリアルキルホス
    フェートを含む、請求項6記載の方法。
  8. 【請求項8】  硫酸水溶液の濃度が約30容量%と0
    .1容量%の間である、前記特許請求の範囲のいずれか
    1項に記載の方法。
  9. 【請求項9】  硫酸水溶液の濃度が10容量%と0.
    1容量%の間である、請求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】  硫酸水溶液の濃度が10容量%と2
    容量%の間である、請求項9記載の方法。
  11. 【請求項11】  前記硫酸水溶液と前記アルキルホス
    フェート溶液の容量の比が、1容量のアルキルホスフェ
    ート溶液に対して20容量と0.05容量の間の硫酸水
    溶液である、前記特許請求の範囲のいずれか1項に記載
    の方法。
  12. 【請求項12】  洗浄中の温度が15℃と60℃の間
    である、前記特許請求の範囲のいずれか1項に記載の方
    法。
  13. 【請求項13】  該温度が18℃と25℃の間である
    、請求項12記載の方法。
  14. 【請求項14】  イオン交換材料が陰イオン交換材料
    を含む、前記特許請求の範囲のいずれか1項に記載の方
    法。
  15. 【請求項15】  陰イオン交換材料がスチレンジビニ
    ルベンゼン共重合体を含有する樹脂を含む、請求項14
    記載の方法。
  16. 【請求項16】  該樹脂が弱塩基性である、請求項1
    5記載の方法。
  17. 【請求項17】  該樹脂が陽イオン及び陰イオン樹脂
    を含有する混合物を含む、請求項15記載の方法。
  18. 【請求項18】  該樹脂が巨大網状型の樹脂を含む、
    請求項15から請求項17のいずれか1項に記載の方法
  19. 【請求項19】  前記溶液と硫酸水溶液が向流の関係
    にある、前記特許請求の範囲のいずれか1項に記載の方
    法。
  20. 【請求項20】  該陰イオン交換材料がカラム内に充
    填され、洗浄された溶液と該陰イオン交換材料の接触時
    間が1時間当たり0.1〜20ベッドボリュームの間で
    ある、前記特許請求の範囲のいずれか1項に記載の方法
  21. 【請求項21】  前記接触時間が1時間当たり0.1
    〜1.0ベッドボリュームの間である、請求項20記載
    の方法。
  22. 【請求項22】  アルキルホスフェート溶液が硫酸水
    溶液で洗浄される前に、該アルキルホスフェート溶液を
    弱アルカリで洗浄する工程を含む、前記特許請求の範囲
    のいずれか1項に記載の方法。
  23. 【請求項23】  前記特許請求の範囲のいずれか1項
    に記載の方法によって浄化された疎水性有機溶剤のアル
    キルホスフェート溶液。
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