JPH04258395A - レーザ加工用ミラー - Google Patents
レーザ加工用ミラーInfo
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- JPH04258395A JPH04258395A JP3035564A JP3556491A JPH04258395A JP H04258395 A JPH04258395 A JP H04258395A JP 3035564 A JP3035564 A JP 3035564A JP 3556491 A JP3556491 A JP 3556491A JP H04258395 A JPH04258395 A JP H04258395A
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- laser processing
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- Pending
Links
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ発振器から発射さ
れるレーザビームを被加工物に照射するレーザ加工用ミ
ラーに関し、特にスパッタ等による汚染を防止するレー
ザ加工用ミラーに関する。
れるレーザビームを被加工物に照射するレーザ加工用ミ
ラーに関し、特にスパッタ等による汚染を防止するレー
ザ加工用ミラーに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザ加工機を用いた金属加工技
術が飛躍的に増加している。図３は従来から多く使用さ
れているレーザ加工機の概略構成図である。このレーザ
加工機では、レーザ発振器１より出射されたレーザビー
ム２が、導光路１２内のミラー３および４で反射し加工
ヘッド５内へ進む。そして放物面鏡６で集光され、焦点
である被加工物７の表面に照射される。一方、図示され
ていないガスボンベからは、補助ガス１０がガス配管８
を通じてガス供給部９に導かれる。補助ガス１０は、ガ
ス供給部９から出射され、ノズル１１で絞られ被加工物
７に照射される。被加工物７の表面は、レーザビーム２
と補助ガス１０との相互作用により溶融し、それにより
レーザ加工が達成される。
術が飛躍的に増加している。図３は従来から多く使用さ
れているレーザ加工機の概略構成図である。このレーザ
加工機では、レーザ発振器１より出射されたレーザビー
ム２が、導光路１２内のミラー３および４で反射し加工
ヘッド５内へ進む。そして放物面鏡６で集光され、焦点
である被加工物７の表面に照射される。一方、図示され
ていないガスボンベからは、補助ガス１０がガス配管８
を通じてガス供給部９に導かれる。補助ガス１０は、ガ
ス供給部９から出射され、ノズル１１で絞られ被加工物
７に照射される。被加工物７の表面は、レーザビーム２
と補助ガス１０との相互作用により溶融し、それにより
レーザ加工が達成される。
【０００３】しかし、図３のレーザ加工機では、被加工
物７からスパッタ、汚染ガス等の多量の汚染物質１３が
飛散し、加工ヘッド５内に侵入してしまう。したがって
、放物面鏡６を始めミラー３，４等の部品を頻繁に清浄
しなければならず、保守が困難になるという問題がある
。
物７からスパッタ、汚染ガス等の多量の汚染物質１３が
飛散し、加工ヘッド５内に侵入してしまう。したがって
、放物面鏡６を始めミラー３，４等の部品を頻繁に清浄
しなければならず、保守が困難になるという問題がある
。
【０００４】図４は、このような汚染物質１３を防ぐよ
うに工夫したレーザ加工機の加工ヘッドの概略構成図で
ある。このレーザ加工機では、放物面鏡６とノズル１１
との間に窓１４が設けられている。この窓１４は、例え
ばセレン化亜鉛のような透過性の材料であり、これによ
り汚染物質１３をカットしている。
うに工夫したレーザ加工機の加工ヘッドの概略構成図で
ある。このレーザ加工機では、放物面鏡６とノズル１１
との間に窓１４が設けられている。この窓１４は、例え
ばセレン化亜鉛のような透過性の材料であり、これによ
り汚染物質１３をカットしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、窓１４自体は
容易に汚染され劣化してしまうので、頻繁に交換する必
要がある。特に、透過性の材料は、スパッタ等が付着す
るとそこに熱が蓄積し、焼損しやすくなる。このように
、従来のレーザ加工機の加工ヘッドの構成では、図３の
ように加工ヘッド５内への汚染物質の侵入を全く防ぎ得
ないか、または図４のように透過性の光学部品の頻繁な
清浄を必要としていた。このため、保守が困難であると
いう問題点があった。
容易に汚染され劣化してしまうので、頻繁に交換する必
要がある。特に、透過性の材料は、スパッタ等が付着す
るとそこに熱が蓄積し、焼損しやすくなる。このように
、従来のレーザ加工機の加工ヘッドの構成では、図３の
ように加工ヘッド５内への汚染物質の侵入を全く防ぎ得
ないか、または図４のように透過性の光学部品の頻繁な
清浄を必要としていた。このため、保守が困難であると
いう問題点があった。
【０００６】特に、被加工物７の下側からの溶接加工等
のように、汚染物質１３が加工ヘッド５内に侵入しやす
い状態では、加工作業を十分に行うことができなかった
。このため、３次元加工が十分に行えない等、レーザ加
工のアプリケーションに大きな制限を受けていた。
のように、汚染物質１３が加工ヘッド５内に侵入しやす
い状態では、加工作業を十分に行うことができなかった
。このため、３次元加工が十分に行えない等、レーザ加
工のアプリケーションに大きな制限を受けていた。
【０００７】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、スパッタ等による汚染を防止することのでき
るレーザ加工用ミラーを提供することを目的とする。ま
た、本発明の他の目的は、レーザ加工のアプリケーショ
ンに制限を与えることのないレーザ加工用ミラーを提供
することである。
のであり、スパッタ等による汚染を防止することのでき
るレーザ加工用ミラーを提供することを目的とする。ま
た、本発明の他の目的は、レーザ加工のアプリケーショ
ンに制限を与えることのないレーザ加工用ミラーを提供
することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、レーザ発振器から発射されるレーザビー
ムを被加工物に照射するレーザ加工用ミラーにおいて、
清浄用ガスを充満させる気密室と、前記気密室に前記清
浄用ガスを導入するガス導入口と、前記気密室内の前記
清浄用ガスを反射面から噴出する複数の噴出孔と、を有
することを特徴とするレーザ加工用ミラーが、提供され
る。
決するために、レーザ発振器から発射されるレーザビー
ムを被加工物に照射するレーザ加工用ミラーにおいて、
清浄用ガスを充満させる気密室と、前記気密室に前記清
浄用ガスを導入するガス導入口と、前記気密室内の前記
清浄用ガスを反射面から噴出する複数の噴出孔と、を有
することを特徴とするレーザ加工用ミラーが、提供され
る。
【０００９】
【作用】ガス導入口を介して外部から気密室に導入され
た清浄用ガスは、気密室内で圧力が高められ、複数の噴
出孔を介して反射面から噴出される。これによって、被
加工物からの汚染物質を吹き飛ばすことができる。
た清浄用ガスは、気密室内で圧力が高められ、複数の噴
出孔を介して反射面から噴出される。これによって、被
加工物からの汚染物質を吹き飛ばすことができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図１は本発明の一実施例であるレーザ加工用ミ
ラーが適用される加工ヘッドの概略構成図である。図１
において図３と同じ構成のものには、それぞれ同一の符
号を付している。
明する。図１は本発明の一実施例であるレーザ加工用ミ
ラーが適用される加工ヘッドの概略構成図である。図１
において図３と同じ構成のものには、それぞれ同一の符
号を付している。
【００１１】本実施例では、放物面鏡６に代えて放物面
鏡１５が、レーザ加工用ミラーとして設けられている。 この放物面鏡１５内には、清浄ガス１７を充満させる気
密室１６が形成されている。放物面鏡１５には、気密室
１６に清浄ガス１７を供給するためのガス導入口１８が
形成されている。ガス導入口１８は、ガス配管１９を介
して図示されていないガスボンベと接続されている。こ
こで清浄ガス１７は、例えばチリ等が排除され清浄化さ
れた空気である。
鏡１５が、レーザ加工用ミラーとして設けられている。 この放物面鏡１５内には、清浄ガス１７を充満させる気
密室１６が形成されている。放物面鏡１５には、気密室
１６に清浄ガス１７を供給するためのガス導入口１８が
形成されている。ガス導入口１８は、ガス配管１９を介
して図示されていないガスボンベと接続されている。こ
こで清浄ガス１７は、例えばチリ等が排除され清浄化さ
れた空気である。
【００１２】また、放物面鏡１５には、清浄ガス１７を
反射面２０から噴出させるための噴出孔２１が複数個穿
設されている。この噴出孔２１は、直径が約１ｍｍの孔
であり、その総面積が反射面２０全体の約８％を占める
ように設けられている。この数字は、レーザ加工機を溶
接加工に用いる場合には、その出力に大きな影響を与え
るものではない。
反射面２０から噴出させるための噴出孔２１が複数個穿
設されている。この噴出孔２１は、直径が約１ｍｍの孔
であり、その総面積が反射面２０全体の約８％を占める
ように設けられている。この数字は、レーザ加工機を溶
接加工に用いる場合には、その出力に大きな影響を与え
るものではない。
【００１３】このような構成を有する本実施例の加工ヘ
ッドでは、被加工物７のレーザ加工を行う時、気密室１
６に清浄ガス１７が約１ｋｇ／ｃｍ２の圧力で供給され
る。 気密室１６内に充満した清浄ガス１７は、噴出孔２１か
ら外部に噴出される。この噴出された清浄ガス１７は、
被加工物７から飛散したスパッタ等の汚染物質１３を被
加工物７側に弾き飛ばす。これにより、反射面２０に汚
染物質１３が付着するのが防止される。
ッドでは、被加工物７のレーザ加工を行う時、気密室１
６に清浄ガス１７が約１ｋｇ／ｃｍ２の圧力で供給され
る。 気密室１６内に充満した清浄ガス１７は、噴出孔２１か
ら外部に噴出される。この噴出された清浄ガス１７は、
被加工物７から飛散したスパッタ等の汚染物質１３を被
加工物７側に弾き飛ばす。これにより、反射面２０に汚
染物質１３が付着するのが防止される。
【００１４】したがって、放物面鏡１５を頻繁に清浄す
る必要がなくなるので、保守が容易になる。また、清浄
ガス１７は冷却効果もあるので、常に正確なレーザ加工
が可能になる。さらに、上記構成によれば、被加工物７
の下側からの加工作業を行う場合でも、放物面鏡１５へ
の汚染物質１３の付着を防止することができる。よって
、３次元加工が可能になり、レーザ加工のアプリケーシ
ョンに制限を受けない。
る必要がなくなるので、保守が容易になる。また、清浄
ガス１７は冷却効果もあるので、常に正確なレーザ加工
が可能になる。さらに、上記構成によれば、被加工物７
の下側からの加工作業を行う場合でも、放物面鏡１５へ
の汚染物質１３の付着を防止することができる。よって
、３次元加工が可能になり、レーザ加工のアプリケーシ
ョンに制限を受けない。
【００１５】次に本発明の他の実施例を説明する。図２
は本発明の他の実施例であるレーザ加工用ミラーが適用
される加工ヘッドの概略構成図である。レーザビーム２
は、放物面鏡２２により上方に反射し、平面鏡２３によ
り集光されて被加工物７に照射される。
は本発明の他の実施例であるレーザ加工用ミラーが適用
される加工ヘッドの概略構成図である。レーザビーム２
は、放物面鏡２２により上方に反射し、平面鏡２３によ
り集光されて被加工物７に照射される。
【００１６】加工ヘッド５の壁部５ａには、凹部２４が
形成されている。この凹部２４の開口部には平面鏡２３
が嵌挿されており、この平面鏡２３と凹部２４とによっ
て気密室１６が形成されている。また、壁部５ａには、
気密室１６に清浄ガス１７を導入するガス導入口１８が
設けられている。このガス導入口１８は、ガス配管１９
を介して図示されていないガスボンベと接続されている
。
形成されている。この凹部２４の開口部には平面鏡２３
が嵌挿されており、この平面鏡２３と凹部２４とによっ
て気密室１６が形成されている。また、壁部５ａには、
気密室１６に清浄ガス１７を導入するガス導入口１８が
設けられている。このガス導入口１８は、ガス配管１９
を介して図示されていないガスボンベと接続されている
。
【００１７】平面鏡２３には噴出孔２１が複数個穿設さ
れており、ガスボンベから供給された清浄ガス１７がこ
の噴出孔２１より噴出される。したがって、図１の実施
例同様、被加工物７から飛散する汚染物質１３を被加工
物７側に吹き飛ばすことができ、平面鏡２３ひいては放
物面鏡２２への付着を防止することができる。特に本実
施例では、比較的加工の簡単な平面鏡２３に本発明を適
用したので、低コストによる実現が可能である。
れており、ガスボンベから供給された清浄ガス１７がこ
の噴出孔２１より噴出される。したがって、図１の実施
例同様、被加工物７から飛散する汚染物質１３を被加工
物７側に吹き飛ばすことができ、平面鏡２３ひいては放
物面鏡２２への付着を防止することができる。特に本実
施例では、比較的加工の簡単な平面鏡２３に本発明を適
用したので、低コストによる実現が可能である。
【００１８】なお、上記２つの実施例に使用した清浄ガ
ス１７には、レーザ加工用の補助ガスを使用してもよい
。これにより、汚染物質１３の排除と、加工品質の向上
との２つの効果が得られる。
ス１７には、レーザ加工用の補助ガスを使用してもよい
。これにより、汚染物質１３の排除と、加工品質の向上
との２つの効果が得られる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、レーザ
加工用ミラーに噴出孔を設け、その噴出孔から清浄用ガ
スを噴出するようにしたので、被加工物から飛散する汚
染物質を被加工物側に吹き飛ばし、汚染物質の付着を防
止することができる。このため、部品を頻繁に清浄する
必要がなくなるので、保守が容易になる。また、被加工
物の下側からレーザビームを当てるような悪条件でも、
汚染物質の付着の心配がないので、３次元加工等にも使
用でき、アプリケーションが増大する。
加工用ミラーに噴出孔を設け、その噴出孔から清浄用ガ
スを噴出するようにしたので、被加工物から飛散する汚
染物質を被加工物側に吹き飛ばし、汚染物質の付着を防
止することができる。このため、部品を頻繁に清浄する
必要がなくなるので、保守が容易になる。また、被加工
物の下側からレーザビームを当てるような悪条件でも、
汚染物質の付着の心配がないので、３次元加工等にも使
用でき、アプリケーションが増大する。
【図１】本発明の一実施例であるレーザ加工用ミラーが
適用される加工ヘッドの概略構成図である。
適用される加工ヘッドの概略構成図である。
【図２】本発明の他の実施例であるレーザ加工用ミラー
が適用される加工ヘッドの概略構成図である。
が適用される加工ヘッドの概略構成図である。
【図３】従来のレーザ加工機の概略構成図である。
【図４】従来のレーザ加工機の概略構成図である。
１ レーザ発振器
２ レーザビーム
５ 加工ヘッド
５ａ 壁部
７ 被加工物
１０ 補助ガス
１１ ノズル
１２ 導光路
１３ 汚染物質
１５ 放物面鏡
１６ 気密室
１７ 清浄ガス
１８ ガス導入口
１９ ガス配管
２１ 噴出孔
２２ 放物面鏡
２３ 平面鏡
２４ 凹部
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ発振器から発射されるレーザビ
ームを被加工物に照射するレーザ加工用ミラーにおいて
、清浄用ガスを充満させる気密室と、前記気密室に前記
清浄用ガスを導入するガス導入口と、前記気密室内の前
記清浄用ガスを反射面から噴出する複数の噴出孔と、を
有することを特徴とするレーザ加工用ミラー。 - 【請求項２】 前記気密室は前記レーザ加工用ミラー
本体内に形成されることを特徴とする請求項１記載のレ
ーザ加工用ミラー。 - 【請求項３】 前記気密室は加工ヘッドの壁部と前記
レーザ加工用ミラーとの間に形成されることを特徴とす
る請求項１記載のレーザ加工用ミラー。 - 【請求項４】 前記噴出孔の総面積は前記反射面の面
積の８％以下であることを特徴とする請求項１記載のレ
ーザ加工用ミラー。 - 【請求項５】 前記清浄用ガスはレーザ加工用の補助
ガスであることを特徴とする請求項１記載のレーザ加工
用ミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3035564A JPH04258395A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | レーザ加工用ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3035564A JPH04258395A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | レーザ加工用ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04258395A true JPH04258395A (ja) | 1992-09-14 |
Family
ID=12445248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3035564A Pending JPH04258395A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | レーザ加工用ミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04258395A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140046719A (ko) * | 2012-10-10 | 2014-04-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 가공장치 |
-
1991
- 1991-02-05 JP JP3035564A patent/JPH04258395A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140046719A (ko) * | 2012-10-10 | 2014-04-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 가공장치 |
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