JPH0425334A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
- Publication number
- JPH0425334A JPH0425334A JP2125379A JP12537990A JPH0425334A JP H0425334 A JPH0425334 A JP H0425334A JP 2125379 A JP2125379 A JP 2125379A JP 12537990 A JP12537990 A JP 12537990A JP H0425334 A JPH0425334 A JP H0425334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- driven body
- positioning device
- stage
- damper
- plane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は各種測定機又は半導体リソグラフィ工程で用い
る露光焼付装置において高速、高精度で物体の位置決め
をする位置決め装置に関するものである。
る露光焼付装置において高速、高精度で物体の位置決め
をする位置決め装置に関するものである。
［従来の技術］
従来、被駆動体を目標とする平面に対して上下方向およ
び傾斜方向に位置決めする装置の構成としては被駆動体
の案内方式としてころがり又は、すべりを用い、駆動源
としてパルスモータ等を用いたものがあった。またより
高精度な位置決めを目的として、案内方式として板ばね
等による弾性支持方式を用い、駆動源として圧電素子等
を用いたものがあった。
び傾斜方向に位置決めする装置の構成としては被駆動体
の案内方式としてころがり又は、すべりを用い、駆動源
としてパルスモータ等を用いたものがあった。またより
高精度な位置決めを目的として、案内方式として板ばね
等による弾性支持方式を用い、駆動源として圧電素子等
を用いたものがあった。
［発明が解決しようとするｎ題］
しかしながら、上記従来例では、その装置が水平方向又
は回転方向の位置決め手段である例えばＸ−Ｙステージ
等に搭載されて使用されるとき、Ｘ−Ｙステージの起動
、停止時の加速度により励起される被駆動体の振動によ
り位置決め時間が長くなるという欠点があった。また、
Ｘ−Ｙステージの姿勢精度の影響で、位置決め精度が劣
化するという欠点があった。
は回転方向の位置決め手段である例えばＸ−Ｙステージ
等に搭載されて使用されるとき、Ｘ−Ｙステージの起動
、停止時の加速度により励起される被駆動体の振動によ
り位置決め時間が長くなるという欠点があった。また、
Ｘ−Ｙステージの姿勢精度の影響で、位置決め精度が劣
化するという欠点があった。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであり
て、被駆動体への振動の影響を軽減した位置決め装置の
提供を目的とする。
て、被駆動体への振動の影響を軽減した位置決め装置の
提供を目的とする。
［課題を解決するための手段及び作用］本発明によれば
、上下および傾斜方向の位置決め装置における被駆動体
とこの装置が搭載される面との間で被駆動体を駆動する
複数のアクチュエータの配置と位相をずらした位置にダ
ンパを設けることにより、被駆動体の振動を効果的に減
衰させる。
、上下および傾斜方向の位置決め装置における被駆動体
とこの装置が搭載される面との間で被駆動体を駆動する
複数のアクチュエータの配置と位相をずらした位置にダ
ンパを設けることにより、被駆動体の振動を効果的に減
衰させる。
［実施例］
第１図は本発明の一実施例の平面図、第２図は第１図の
Ａ−Ａ断面図を示す、１は被駆動体、２はアクチュエー
タであるところの圧電素子、３は固定部材、４は弾性ヒ
ンジ部材である。圧電素子２は固定部材３、弾性ヒンジ
部材４に接着等の手段で固定される０弾性ヒンジ部材４
はボルト締結等の手段で被駆動体１に固定され固定部材
３はボルト締結等の手段でＸ−Ｙステージ９に固定され
、図に示すように、略３等分の位置に配置される。５は
被駆動体１に固定されたセンサホルダ、６は例えば渦電
流式、又は静電容量式等の非接触変位計で定盤１０のＸ
−Ｙステージ９が搭載される基準面１０ａに適当なすき
間を持って対向するように固定され、また図に示すよう
に略３等分の位置に配置される。７はＸ−Ｙステージ９
に固定された支持部材、８は板ばねで板ばね８の一端は
支持部材７に固定され、他端は被駆動体１に固定され図
に示すように略３等分の位置に配置され被駆動体１を弾
性支持する。１１は被駆動体１に固定された腕部材、１
２はダンパ用部材であるところの例えば制振ゴムで、腕
部材１１に接着等の手段により固定されＸ−Ｙステージ
９に対して適当なつぶし代を持って図に示すようにアク
チュエータである圧電素子２の位置と位相をずらした位
置に配置される。被駆動体１にはＸ−Ｙステージ９の位
置計測用のレーザ測長用参照ミラー（図示しない）が設
けられている。
Ａ−Ａ断面図を示す、１は被駆動体、２はアクチュエー
タであるところの圧電素子、３は固定部材、４は弾性ヒ
ンジ部材である。圧電素子２は固定部材３、弾性ヒンジ
部材４に接着等の手段で固定される０弾性ヒンジ部材４
はボルト締結等の手段で被駆動体１に固定され固定部材
３はボルト締結等の手段でＸ−Ｙステージ９に固定され
、図に示すように、略３等分の位置に配置される。５は
被駆動体１に固定されたセンサホルダ、６は例えば渦電
流式、又は静電容量式等の非接触変位計で定盤１０のＸ
−Ｙステージ９が搭載される基準面１０ａに適当なすき
間を持って対向するように固定され、また図に示すよう
に略３等分の位置に配置される。７はＸ−Ｙステージ９
に固定された支持部材、８は板ばねで板ばね８の一端は
支持部材７に固定され、他端は被駆動体１に固定され図
に示すように略３等分の位置に配置され被駆動体１を弾
性支持する。１１は被駆動体１に固定された腕部材、１
２はダンパ用部材であるところの例えば制振ゴムで、腕
部材１１に接着等の手段により固定されＸ−Ｙステージ
９に対して適当なつぶし代を持って図に示すようにアク
チュエータである圧電素子２の位置と位相をずらした位
置に配置される。被駆動体１にはＸ−Ｙステージ９の位
置計測用のレーザ測長用参照ミラー（図示しない）が設
けられている。
上記構成において、圧電素子２に外部のコントローラか
ら指令電圧が印加されると、被駆動体１は上下方向およ
び傾斜方向に位置決めされる。また、被駆動体１はＸ−
Ｙステージ９によりｘ−ｙ平面内の任意の位置に位置決
めされる。ここで、被駆動体１の上下方向および傾斜方
向の変位量は非接触変位計６により計測され、その出力
によって外部のコントローラからフィードバック制御さ
れるが、非接触変位計６は基準面１０ａに対向するよう
に配置されているため、Ｘ−Ｙステージ９の姿勢変化を
含めて被駆動体１の変位量が計測することができ、目標
とする平面に対して高精度な位置決めが可能となる。ま
たダンパ用部材である制振ゴム１２がＸ−Ｙステージ９
に対して適当なつぶし代を持って図のように配置されて
いるため、Ｘ−Ｙステージ９の起動、停止時の加速度に
より励起される、Ｗｘ、Ｗｙ方向およびこれらの連成し
た方向の振動、また圧電素子２によって駆動したときの
残留振動や外乱による振動を効果的に減衰することかで
籾高精度でかつ高速な位置決めが可能となる。
ら指令電圧が印加されると、被駆動体１は上下方向およ
び傾斜方向に位置決めされる。また、被駆動体１はＸ−
Ｙステージ９によりｘ−ｙ平面内の任意の位置に位置決
めされる。ここで、被駆動体１の上下方向および傾斜方
向の変位量は非接触変位計６により計測され、その出力
によって外部のコントローラからフィードバック制御さ
れるが、非接触変位計６は基準面１０ａに対向するよう
に配置されているため、Ｘ−Ｙステージ９の姿勢変化を
含めて被駆動体１の変位量が計測することができ、目標
とする平面に対して高精度な位置決めが可能となる。ま
たダンパ用部材である制振ゴム１２がＸ−Ｙステージ９
に対して適当なつぶし代を持って図のように配置されて
いるため、Ｘ−Ｙステージ９の起動、停止時の加速度に
より励起される、Ｗｘ、Ｗｙ方向およびこれらの連成し
た方向の振動、また圧電素子２によって駆動したときの
残留振動や外乱による振動を効果的に減衰することかで
籾高精度でかつ高速な位置決めが可能となる。
被駆動体１を駆動するアクチュエータとして圧電素子に
限らず例えばモータと送りねじ等を用いてもよくまたテ
コやクサビを介して駆動してもよい。
限らず例えばモータと送りねじ等を用いてもよくまたテ
コやクサビを介して駆動してもよい。
板ばね８は被駆動体１に一体的に形成した弾性ヒンジで
もよい。
もよい。
ダンパ用部材としては制振ゴムに限らず例えばシリコン
オイル等の粘性抵抗による方式でもよい。
オイル等の粘性抵抗による方式でもよい。
Ｘ−Ｙステージは、−軸のテーブルまたは回転テーブル
でもよい。
でもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、被駆動体を駆動するアクチュエー
タの配置と位相をずらした位置にダンパを配置すること
で、Ｘ−Ｙステージの起動、停止時の加速度により励起
される振動、アクチュエータによって駆動したときの残
留振動、外乱による振動を効果的に減衰することがで籾
高精度でかつ高速な位置決めができる。
タの配置と位相をずらした位置にダンパを配置すること
で、Ｘ−Ｙステージの起動、停止時の加速度により励起
される振動、アクチュエータによって駆動したときの残
留振動、外乱による振動を効果的に減衰することがで籾
高精度でかつ高速な位置決めができる。
第１図は本発明の一実施例の平面図、
第２図は第１図のＡ−Ａ断面図である。
１：被駆動体、
２：圧電素子、
９ ： Ｘ−Ｙステージ、
１２：制振ゴム。
特許
出
願人
Claims (5)
- （１）基準面に対する被駆動体の垂直方向の位置および
傾斜角度位置を制御する位置決め装置であって、該装置
設置面と前記被駆動体との間に制振用ダンパ手段を介装
したことを特徴とする位置決め装置。 - （２）前記被駆動体の中心から放射状の複数箇所の位置
に該被駆動体を前記垂直方向に駆動するアクチュエータ
を備え、該アクチュエータの位置と位相をずらせた放射
状の複数箇所の位置に前記ダンパ手段を設けたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の位置決め装置。 - （３）前記ダンパ手段は制振ゴムからなることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の位置決め装置。 - （４）前記ダンパ手段は流体の粘性抵抗を利用した構成
からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
位置決め装置。 - （５）基準面と平行な平面内を移動可能なテーブル上に
設置されたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の位置決め装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12537990A JP3027165B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 位置決め装置 |
| US08/029,956 US5280677A (en) | 1990-05-17 | 1993-03-09 | Positioning mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12537990A JP3027165B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0425334A true JPH0425334A (ja) | 1992-01-29 |
| JP3027165B2 JP3027165B2 (ja) | 2000-03-27 |
Family
ID=14908680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12537990A Expired - Fee Related JP3027165B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3027165B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002530880A (ja) * | 1998-11-20 | 2002-09-17 | ライカ マイクロシステムス リトグラフィー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板支持装置 |
| JP2006339263A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Ｚ軸調整機構及び微動ステージ装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62266490A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-19 | 株式会社東芝 | 精密位置決め装置 |
| JPH01193133A (ja) * | 1988-01-28 | 1989-08-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 微動ステージ |
-
1990
- 1990-05-17 JP JP12537990A patent/JP3027165B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62266490A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-19 | 株式会社東芝 | 精密位置決め装置 |
| JPH01193133A (ja) * | 1988-01-28 | 1989-08-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 微動ステージ |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002530880A (ja) * | 1998-11-20 | 2002-09-17 | ライカ マイクロシステムス リトグラフィー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板支持装置 |
| JP2006339263A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Ｚ軸調整機構及び微動ステージ装置 |
| JP4489639B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2010-06-23 | 住友重機械工業株式会社 | Ｚ軸調整機構及び微動ステージ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3027165B2 (ja) | 2000-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5280677A (en) | Positioning mechanism | |
| JP3265670B2 (ja) | ステージ装置、ステージ駆動方法、及び露光装置 | |
| JPH04181198A (ja) | ステージ装置 | |
| KR100478527B1 (ko) | 방진장치 | |
| JPH06183561A (ja) | 移動ステージ装置 | |
| US20080125015A1 (en) | Machining apparatus | |
| JPH10206714A (ja) | レンズ移動装置 | |
| EP0354639B1 (en) | A cutting apparatus for a noncircular cross section | |
| US20040041316A1 (en) | Method and damping device for absorbing an undesired vibration | |
| US20020170793A1 (en) | Nonlinear mass damper with active centerband control | |
| JPH0425334A (ja) | 位置決め装置 | |
| JP4377424B2 (ja) | 反力処理装置 | |
| JP2902225B2 (ja) | 位置決め装置 | |
| JP2003294434A (ja) | 接触式プローブ | |
| JP2686672B2 (ja) | 位置決め装置 | |
| JPH0434166B2 (ja) | ||
| JP2001194235A (ja) | 光干渉計用移動ミラー支持装置 | |
| JPS6224989A (ja) | 工業用ロボツトの揺動防止装置 | |
| JPS62124842A (ja) | テ−ブルの傾斜補正型工作機械 | |
| JP2002361546A (ja) | 研磨装置 | |
| JP2004191147A (ja) | 接触式プローブ | |
| JPH10144601A (ja) | 指令値の決定方法及びステージ装置 | |
| JPH021585A (ja) | 除振機能付ｘｙ移動台 | |
| US20050034551A1 (en) | Machine tool with machining head kept fixed by means of bars whose length is variable by magnetostriction | |
| JPH0976135A (ja) | 円筒体の加工装置およびその加工方法と支持方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |