JPH021585A - 除振機能付xy移動台 - Google Patents

除振機能付xy移動台

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JPH021585A
JPH021585A JP63095611A JP9561188A JPH021585A JP H021585 A JPH021585 A JP H021585A JP 63095611 A JP63095611 A JP 63095611A JP 9561188 A JP9561188 A JP 9561188A JP H021585 A JPH021585 A JP H021585A
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JP
Japan
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thrust
surface plate
drive device
moving table
control device
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Application number
JP63095611A
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English (en)
Inventor
Isao Kobayashi
功 小林
Yosuke Hamada
浜田 洋介
Hirotake Hirai
洋武 平井
Hiroshi Ota
太田 啓
Hideyuki Sakaizawa
堺沢 秀行
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

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  • Atmospheric Sciences (AREA)
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は除振機能付xy移動台に係り、特に移動台の移
動時に定盤の運動が少ない除振機能付xy移動台に関す
る。
〔従来の技術〕
縮小投影露光装置等において、試料用等の精密なxyX
移動台組み込んだ機器は、床面の振動等の外乱により精
度が劣化することを防止するため。
除振装置上に定盤が搭載され、この定盤上に設置される
。除振装置としては、剛性の低い空気ばね。
ゴム、あるいはまた粘性減衰器等が用いられるのが通例
である。
上記の除振装置は、床面からの微振動等を効果的に絶縁
できるが、一方1機器の内部において発生する力に対し
ては当然のことながら絶縁効果はない。このため、内部
の機器は低振動化を図る必要があるが、宿命的に完全に
なくすことが出来ない力もある。例えば、xy8’1l
jJ台が駆動装置により駆動されると、駆動装置が発生
する推力の反力により、剛性の低い除振装置上に搭載さ
れた定盤が運動してしまうのが通例である。このため、
定盤上に設置される機器の剛性を十分高く設計し、定盤
の運動に起因する機器の精度劣化を防止する必要がある
ところが、機器の高剛性化には限界があり、近年、機器
に対する要求精度が高まるにつれて機器の剛性不足が顕
在化する例が増えつつある。この問題を解決するために
は、移動台の移動時の定盤の運動を能動的に抑制する必
要がある。能動的な制振方法は、以下に示す甲、乙の2
方式に大別される。
甲方式:移動台の駆動時に、移動台の駆動装置に加える
入力に応じて外部から推力発生装置により定盤に力を加
え、駆動装置が発生する反力を相殺する。例えば、特開
昭58−68118号公報に示された装置は、この原理
を用いたものである。
乙方式:定盤に設けられたセンサにより定盤に加えられ
た力を検知し、この方を相殺するような力を定盤に印加
する0例えば、特開昭61−224015号公報に示さ
れた装置は、この原理を用いたものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記のいずれかの原理を用いれば定盤の能動的な割振を
図ることが可能であるが、実際の機器にこれらの原理を
適用するに際しは以下に示すような問題があり、これら
が機器の高精度化を阻む要因となっていた。
(a)上記生方式によれば、原理が簡単なため比較的安
価な装置で能動的な制御が可能である。しかしながら、
駆動装置と推力発生装置の力の作用する方向を特定して
もその作用線が常に一致するとは限らないため、特に移
動台が直交二方向(x、y)に移動し、しかもその移動
量が大きい場合には制振効果が低かった。
(b)上記6方式によれば、あらゆる外力に対して能動
的な制振効果が得られる。しかしながら、系が複雑化す
ることは避けられず、高価なセンサや制御装置が必要で
あるため、有効性は認められつつも価格的に採用できな
い場合が多々あった。
本発明の目的は、上記の不具合を解消した除振機能付x
yX移動台安価に提供し、機器の高精度化に寄与するこ
とにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、固定部と、固定部上に設けられた除振装置
と、除振装置上に搭載された定盤と、定盤上に設けられ
、X方向に移動可能に形成されたX移動台と、X移動台
を駆動するために定盤に設けられたyN駆動装置、X移
動台上にX方向と直交するX方向に移動可能に設けられ
たX移動台と、X移動台を駆動するためにX移動台上に
設けられたX駆動装置と、X移動台の位置を検出するた
めに定盤上に設けられた測長器と、X駆動装置及びX駆
動装置の推力を制御するための移動台制御装置により構
成された従来の除振機能付xyX移動台、以下に示す諸
手段を講することにより達成される。
(a)固定部と定盤との間に、カの作用線が前記X駆動
装置のそれと一致するように取付部材を介してy推力発
生装置を設ける。
(b)固定部と定盤との間に、カの作用線がX駆動装置
のそれと平行になり、かつ三者が同一平面内に含まれる
ように取付部材を介してX1推力発生装置及びx2推力
発生装置を設ける。
(c)移動台制御装置の出力を入力信号とし、y推力発
生装置の推力を制御するためのX推力制御装置を設ける
(d)移動台制御装置の出力及び測長器の出力を入力信
号とし、Xl推力発生装置及びX2推力発生装置の推力
を制御するためのX推力制御装置を設ける。
【作用〕
上記各装置は、以下のように作用する。
(a)移動台制御装置から、X駆動装置に対してX移動
台を駆動するための信号が発信されると、その信号は同
時にX推力制御装置に入力される。
この入力信号を演算処理した結果の信号を基にy推力発
生装置の推力が制御される。X駆動装置と、y推力発生
装置は、その力の作用線が一致しているため、X駆動装
置が発生する推力の反力は、y推力発生装置によりほぼ
完全に相殺される。
(b)移動台制御装置から、X駆動装置に対してX移動
台を駆動するための信号が発信されると。
その信号は同時にX推力制御装置に入力される。
X推力制御装置にはまた、測長器からX移動台の位置信
号が入力される。これらの入力信号を演算処理した結果
を基にXl推力発生装置及びx22推力生装置の推力が
制御される。X駆動装置、Xl推力発生装置、X2推力
発生装置の三者は、その力の作用線が同一平面内にあり
、またX駆動装置が搭載されるX移動台の位置に応じて
Xl推力発生装置とx22推力生装置の推力が変化する
ため、X駆動装置が発生する推力の反力は、Xl推力発
生装置とx22推力生装置によりほぼ完全に相殺される
また、床面からの微振動等は従来からの除振装置によっ
て効果的に絶縁される0以上の作用により、xyX移動
台組み込んだ機器の精度を劣化させる力の大部分を取り
除くことができる。しかも、これらの作用は従来の装置
に推力発生装置と簡単な制御装置を付加するだけで得る
ことができ、高価なセンサや制御装置を必要としない。
〔実施例〕
以下1本発明の一実施例を図面により説明する。
第1図は、本発明の除振機能付xyX移動台一実施例を
示した図である。同図において、固定部1上には除振装
置2が設けられており、除振装置2上には定盤3が搭載
されている。定盤3上には、X移動台4が、案内機構5
によりX方向に移動可能なように搭載されており、X移
動台4上には、X移動台6が、X方向に移動可能なよう
に搭載されている。X移動台4は、定盤3上に設けられ
たX駆動装置7により駆動され、X移動台6は、X移動
台4に設けられたX駆動装置8により駆動される。固定
部1と定盤3の間には、取付部材9を介してy推力発生
装置10.xz推力発生装置11、x22推力生装置1
2が設けられている。
X駆動装置7の推力と、y推力発生装置10の推力は、
その力の作用線が同軸上にある。また、X駆動装置8、
Xl推力発生装置11、Xt推力発生装置12の三者は
その作用線が平行であり、かつ同一平面内にある。さら
に、定盤3上には測長器13が設けられており、これに
よってX移動台6のX及びX方向の位置、及びX移動台
4のX方向の位置を検出することが可能である。なお、
高精度なxyX移動台は通常移動台の位置決め制御用の
フィードバックセンサが設けられているため、このフィ
ードバックセンサを測長器として利用すれば良い。
第2図は、第1図に示した除振機能付xyX移動台運転
する方法の一実施例を示した図であり、第1図と同一部
分は同一符号で示す、第2図において、移動台制御装置
14がらのy移動台駆動信号YDはyドライバ15に入
力され、yドライバ15によりX駆動装置7が駆動され
る。YDはまたX推力制御装置16に入力され、y推力
制御装置16によりy推力発生装置1oが駆動される。
X推力制御装置16は、y演算装置16aとy増幅装置
16bから構成される。y演算装置16aは、入力信号
の絶対値からある設定値Ycを減算し、その演算結果が
正の値ならばその演算結果を入力信号と同符号にして出
力し、演算結果が負の値ならば零を出力する演算装置で
ある。またy増幅装[16bは、入力信号を定数倍する
増幅装置である。このような構成において、X移動台4
を駆動するためのy移動台駆動信号YDが発信されると
、X駆動装置7とy推力発生装置10の両者が駆動され
る。この両者の力の作用線は一致しているため、X駆動
装置7が発生する推力の反力をy推力発生装置10によ
り相殺することができる。
ここで、設定値YCは、X移動台4の移動時の摩擦抵抗
に相当する値に設定すれば良く、摩擦抵抗が小さい場合
にはy演算装置16aを省略しても良い。
また、移動台制御装置14からのX移動台駆動信号XD
はXドライバ17に入力され、Xドライバ17によりX
W動表装置8駆動される。XDはまたX推力制御装置1
8に入力され、X推力制御装置18によりx1推力発生
装置11、及びx2推力発生装置12が駆動される。X
推力制#装置18は、X演算装ffl 18 a 、分
配装置18b、xt増幅装置18QIX2増幅装置18
bから構成される。X演算装置18aは、入力信号の絶
縁値からある設定値XCを減算し、その演算結果が正の
値ならばその演算結果を入力信号と同符号にして出力し
、演算結果が負の値ならば零を出力する演算装置である
。分配装置18bは、測長器13からのy移動台の位置
信号YPを基に、x1推力発生装v111とx2推力発
生装置12の推力の合力がX移動台の受ける推力と等価
となるようにXl増幅装置18c及びx2増幅装置18
dへの出力を分配する。またx1増幅装置18C,X2
増幅装置18dは、それぞれ入力信号を定数倍する増幅
装置である。このような構成において、X移動台6を駆
動するためのX移動台駆動信号XDが発信されると、X
駆動装置17.Xi推力発生装置11゜x2推力発生装
置12の三者が駆動される。この三者はその作用線が平
行であり、かつ同一平面内にあるため、X駆動装置8が
発生する推力の反力をx1推力発生装置11及びx2推
力発生装置12により相殺することができる。ここで、
設定値XCは、X移動台6の移動時の摩擦抵抗に相当す
る値に設定すれば良く、摩擦抵抗が小さい場合にはX演
算装置18aを省略しても良い。
以上の作用により、本実施例ではX移動台4及びX移動
台6がy及びX方向に運動する際に定盤3の運動が抑制
されるという効果がある。
y推力発生装置10.xt推力発生装置11゜x2推力
発生装置12には、ボイスコイルモータが好適である。
ボイスコイルモータの固定側と可動側には通常すきまが
存在し、固定側と可動側との間では推力以外の力の授受
は行なわれないため。
床等からの外乱が固定部1に伝達されても、この外乱が
ボイスコイルモータを介して定盤3に伝達されることは
ほとんどない、特に、X移動台4゜X移動台6が運動し
ていないときにはボイスコイルモータへの給電を遮断す
れば、ボイスコイルモータの固定側と可動側との間では
力の授受がほとんど全く行なわれないため、床等からの
外乱がボイスコイルモータを介して定盤3に上達される
ことをほぼ完全に防止することができる。しかし、推力
発生機構8はボイスコイルモータに限定されるものでは
ないのは勿論で、要は外乱が直接定盤3に伝達されない
ような機構を有するアクチュエータであればよい。
除振装置2は、高分子材料やゴムを用いたものが好適で
あるが、空気ばね、金属製のばね、粘性減衰器等を用い
てもよいのは勿論である。
X駆動装置7.X駆動装置8は、回転形モータと送りね
じ機構を組み合わせたものが一般的であるが、リニアモ
ータ、空気圧シリンダ、油圧シリンダ等を用いても良い
第3図は1本発明の他の実施例を示した図であり、第1
図と同一部分は同一符号で示す。本実施例は、第1図に
示した装置に、定盤3の傾斜を検出するための傾斜計1
9と、定盤3の傾斜を変化させるための定盤傾斜装置2
0を付加したものであり、第1図と同一部分については
記述を省略する。
傾斜計19は、4個の変位センサ19a、19b。
19c、19dから構成されており、また定盤傾斜装置
20はそれぞれ4個の変位センサ19a。
19b、19c、19dの近くに設けられた4個のボイ
スコイルモータ20a、20b、20c。
20dにより構成されている。第4図はこれらの要素の
接続状態を示した図であり、第3図と同一部分は同一符
号で示す。
第4図において、2個の変位センサ19a。
19bの出力は減算回路21に入力される。減算回路2
1は、2つの入力信号の差を出力し、これがサーボ増幅
22に入力される。2個のボイスコイルモータ20a、
20bは互いに逆相に接続されており、サーボ増幅器2
2の出力により2個の変位センサ19a、19bの出力
の差が小さくなるように2個のボイスコイルモータ20
a、20bが駆動される。変位センサ19c、19d、
及びボイスコイルモータ20c、20dについても上記
と同様な構成により接続が行なわれている。
第3図及び第4図の実施例においては、X移動台4.X
移動台6の移動にともない、定盤3上で重心移動が起き
ても、定盤3の傾斜変化を小さく抑えることが可能であ
る。
なお、移動台制御装置14から信号が発信された際に、
X駆動装置7とy推力発生装置10の応答が著しく異な
る場合、又はX駆動装置8とx1推力発生装置11.x
2推力発生装置12の応答が著しく異なる場合には、X
ドライバ15.y推力制御装置16.xドライバ17.
x推力制御装置18の回者のうちのいずれか1つ又は2
つ以上に位相遅れ回路を付加するのが望ましい。
第5図は位相遅れ回路の付加方法の一実施例を示した図
であり、第2図と同一部分は同一符号で示す。第5図は
、y推力発生装置10に比べてX駆動装置7の応答が遅
い場合に、y演算装置16aとy増幅装置16bにより
構成されるy推力制御装置16に位相遅れ回路23を付
加して制振効果の低下を防止した例である6本実施例に
示した手法を用いれば、移動台の駆動装置と、推力発生
装置の応答性が異なる場合でも確実な割振が可能である
。なお、位相遅れ回路23は電気回路により実現できる
ことはもちろんであるが、ディジタル演算装置を用いて
演算処理により実現しても良い。
〔発明の効果〕
本発明によれば、xy移動台が駆動される際に除振装置
上に搭載された定盤がその反力で運動することを簡単な
構造め装置で防止できる。このため除振機能付X’/移
動台自身の精度、及び除振機能付xy移動台が組み込ま
れた機器の精度が飛踊的に向上するという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す除振機能付Xy移動台
の斜視図、第2図は第1図の装置の運転方式の一実施例
を示した説明図、第3図は本発明の他の実施例を示した
斜視図、第4図は第3図の装置の運転方式の一実施例を
示した説明図、第5図は位相遅れ回路の付加方式の一例
を示した説明図である。 1・・・固定部、2・・・除振装置、3・・・定盤、4
・・・y移動台、5・・・案内機構、6・・・X移動台
、7・・・X駆動装置、8・・・X駆動装置、9・・・
取付部材、10・・・y推力発生装置、11・・・x1
推力発生装置、12・・・x2推力発生装置、13・・
・測長器、14・・・移動台制御装置、15・・・Xド
ライバ、16・・・y推力制御装置、17・・・Xドラ
イバ、18・・・X推力制御装置、19・・・傾斜計、
20・・・定盤傾斜装置、21・・・減算回路、22・
・・サーボ増幅器、23・・・位相遅れ回路。 ot 20c 目 / A締勤行制御旋量 ん−・・X↑1力#lII台装置 18 X檀力制を奸装漫 口 ztA算回絡 22  サーボ増唱器

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、固定部と、前記固定部上に設けられた除振装置と、
    前記除振装置上に搭載された定盤と、前記定盤上に設け
    られy方向に移動可能に形成されたy移動台と、前記y
    移動台を駆動するために前記定盤に設けられたy駆動装
    置と、前記y移動台上に、前記y方向と直交するx方向
    に移動可能に設けられたx移動台と、前記x移動台を駆
    動するために前記y移動台上に設けられたx駆動装置と
    、前記y移動台の位置を検出するための測長器と、前記
    y駆動装置及びx駆動装置の推力を制御するための移動
    台制御装置により構成された除振機能付xy移動台にお
    いて、(a)前記固定部と前記定盤との間に、力の作用
    線が前記y駆動装置のそれと一致するように取付部材を
    介して設けられたy推力発生装置と、 (b)前記固定部と前記定盤との間に、力の作用線が前
    記x駆動装置のそれと平行になり、かつ三者の力の作用
    線が同一平面内に含まれるように取付部材を介して設け
    られたx_1推力発生装置及びx_2推力発生装置と、 (c)前記移動台制御装置の出力を入力信号とし、前記
    y推力発生装置の推力を制御するためのy推力制御装置
    と、 (d)前記移動台制御装置の出力及び前記測長器の出力
    を入力信号とし、前記x_1推力発生装置及び前記x_
    2推力発生装置の推力を制御するためのx推力制御装置
    と、 が具備されることを特徴とする除振機能付xy移動台。
JP63095611A 1988-04-20 1988-04-20 除振機能付xy移動台 Pending JPH021585A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6272763B1 (en) 1993-01-21 2001-08-14 Nikon Corporation Staging apparatus and method, and method for manufacturing the staging apparatus, and exposing apparatus using the staging apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6272763B1 (en) 1993-01-21 2001-08-14 Nikon Corporation Staging apparatus and method, and method for manufacturing the staging apparatus, and exposing apparatus using the staging apparatus

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