JPH04252188A - 3−置換−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルの製造法 - Google Patents

3−置換−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルの製造法

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JPH04252188A
JPH04252188A JP41889090A JP41889090A JPH04252188A JP H04252188 A JPH04252188 A JP H04252188A JP 41889090 A JP41889090 A JP 41889090A JP 41889090 A JP41889090 A JP 41889090A JP H04252188 A JPH04252188 A JP H04252188A
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ester
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acid ester
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Naoki Mochizuki
直樹 望月
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】3−オキソペンタノエート等の3
−置換−3−オキソプロピオン酸エステルを立体選択的
に還元して、3位の置換基の炭素数が2以上の光学活性
3−置換−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルを製造
する方法に関するものである。得られた化合物は、不斉
炭素骨格を有する為、昆虫フェロモンや医薬品等の光学
活性物質合成中間体として、有用性が高い物質である。
【0002】
【従来の技術】エチル 3−オキソペンタノエート等の
3−置換−3−オキソプロピオン酸エステルを立体選択
的に還元して、置換炭素数2以上の光学活性の3−置換
−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルを製造する方法
として、化学的触媒を用いる方法と微生物による方法が
ある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】化学的触媒を用いる方
法としては、触媒にバイナップ(binap )触媒を
使用する方法があり、光学収率80%以上の高い立体選
択性を示すことが知られている。しかし、試薬が高価で
あること、反応条件が100 気圧と過酷であるという
問題点がある(特開平1−211551号)。
【0004】微生物による方法としては、パン酵母(上
面発酵酵母)を用いる報告がある。パン酵母による還元
反応は温和な条件で進行し、置換炭素数1の3−置換−
3−オキソプロピオン酸エステルであるエチル  アセ
トアセテートを原料として使用すると、エチル(S)−
3−ヒドロキシブタノエートが光学収率83%〜90%
で得られる(Tetrahedron  37, 13
41 (1981))。しかし、置換炭素数2の3−置
換−3−オキソプロピオン酸エステルであるエチル 3
−オキソペンタノエートの還元では、エチル(R)−3
−ヒドロキシペンタノエートを得るのに、光学収率が4
0%と低くなる(Helv. Chim. Acta 
62, 2829, (1979))という問題点があ
る。
【0005】さらに光学純度の高い(R)−3−ヒドロ
キシペンタノエートを得るには、3−オキソペンタノエ
ートの5位にフェニルチオ基のついた5−フェニルチオ
−3−オキソペンタノエートを、微生物(Pichia
 terricola (KI 0117)) により
還元し、得られた還元体をラネーニッケルを用いてフェ
ニルチオ基を脱離して得る方法(Tetrahedro
n  41, 919, (1985))があるが、反
応工程が長いという問題点がある。
【0006】本発明は、上述の背景のもとに、温和な反
応条件でエチル 3−オキソペンタノエート等の置換炭
素数2以上の3−置換−3−オキソプロピオン酸エステ
ルを1工程で、光学収率80%以上で立体選択的に還元
して、エチル(R)−3−ヒドロキシペンタノエート等
の置換炭素数2以上の3−置換−3−ヒドロキシプロピ
オン酸エステルの立体選択的製造法を開発することを目
的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、炭素数2〜4
の低級アルキル基、又はフェニル基で置換された3−置
換−3−オキソプロピオン酸エステルに、反応触媒とし
てビール酵母(下面発酵酵母)を用いて、ケトン基を不
斉還元し、光学活性3−置換−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸エステルを得ることを特徴とする。
【0008】本発明の概略は次の式で表される。
【0009】
【化3】
【0010】(式中、Rは炭素数2以上の低級アルキル
基、又はフェニル基であり、R1 は炭素数1〜3の低
級アルキル基である。)以下、本発明を詳細に説明する
。 本発明で基質として用いられる3−置換−3−オキソプ
ロピオン酸エステルの置換基Rとしては炭素数2〜4の
アルキル基(エチル基、n−プロピル基、iso−プロ
ピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−
ブチル基、sec−ブチル基)、フェニル基が用いられ
る。また、置換基R1 としては炭素数1〜3のメチル
基、エチル基、プロピル基が用いられる。炭素数が前記
よりも多いアルキル基を用いると生成物の光学純度が低
くなりやすい。
【0011】本発明で用いられる反応触媒としては、パ
ン酵母のような上面発酵酵母を用いず、下面発酵酵母で
ある醸造用実用ビール酵母、或いはIFO−0565等
のビール酵母を用いる。上面発酵酵母と下面発酵酵母は
メリビオース発酵性において分類される。つまり、上面
発酵酵母はメリビオース発酵性を示さないが、下面発酵
酵母はメリビオース発酵性を示すという発酵性の違いが
あることが知られている。本発明において上面発酵酵母
を用いると充分な光学純度の目的物を生成させることが
できない。
【0012】本発明の反応は、例えば上記ビール酵母を
基質0.1 〜10%を含む水溶液に圧搾酵母重量1〜
30%濃度で懸濁し、pH4〜8で3〜30℃の条件下
、2〜100 時間攪拌又は振盪することにより進行さ
せる。また、砂糖等のビール酵母の栄養源を添加するこ
とにより反応時間を短縮することができる。また、各種
栄養培地中でも本反応は進行できる。
【0013】反応後、生成した3−置換−3−ヒドロキ
シプロピオン酸エステルは、遠心分離又はセライト濾過
等による除菌後、反応液よりエチルエーテル、酢酸エチ
ルエステル、クロロホルム、ベンゼン、トルエン等の有
機溶媒を用い抽出した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーなど通常の分離操作を行い単離することができ
る。生成物の光学純度は(+)−α−メトキシ−α−ト
リフルオロメチルフェニル酢酸(MTPA)とのエステ
ル体を合成し、ジアステレオマー化合物とした後、ガス
クロマトグラフィーにより光学異性体を分離、定量して
容易に測定することができる。
【0014】
【実施例】以下、実施例に基づき本発明を説明する。本
発明はもとよりこれに限定されるものではない。 実施例1 IFO−0565圧搾酵母10g、砂糖15g、イオン
交換水150ml の混合物を25℃で1時間攪拌後、
基質エチル 3−オキソペンタノエート1.44g(0
.01mol)を投入し48時間攪拌した。反応液から
遠心分離により菌体を除去した上清を酢酸エチル100
mlで2回抽出し、水洗後、無水硫酸ソーダで乾燥し、
減圧下溶媒留去して油状残渣を得た。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、1.02g(
収率69.8%、比施光度−33.2°)のエチル 3
−ヒドロキシペンタノエートを得た。さらに 1H−N
MRのデータは文献(Helv. Chim. Act
a 62, 2829 (1976)) 値と一致した
【0015】なお、(+)−α−メトキシ−α−トリフ
ルオロメチルフェニル酢酸(MTPA)とのエステル体
を合成し、ジアステレオマー化合物とした。MTPA法
によりガスクロマトグラフィーを用いて分離定量したと
ころ、本品の光学純度は90.9%e.e.であった。 実施例2 実施例1の反応をIFO−0565圧搾酵母のかわりに
、実用ビール酵母(ビール醸造用)酵母を用いて行い、
収率65.5%、比施光度−29.0°、光学純度84
.5%e.e.でエチル 3−ヒドロキシペンタノエー
トを得た。
【0016】比較例1 実施例1の反応をIFO−0565圧搾酵母のかわりに
、パン酵母(オリエンタル酵母工業株式会社製)を用い
て行い、収率33.9%、比施光度−14.6°、光学
純度40.3%e.e.でエチル  3−ヒドロキシペ
ンタノエートを得た。 実施例3〜8、比較例2 実施例1及び2、比較例1の反応を基質をエチル 3−
オキソペンタノエートのかわりに下記の3−置換−3−
オキソプロピオン酸エステルを用いて行い、対応する3
−置換−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルを、下記
に示す収率、比施光度、光学収率で得た。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】
【表3】
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、置換炭素数2以上の3
−置換−3−オキソプロピオン酸エステルより、温和な
反応条件で、高い光学収率で光学活性3−置換−3−ヒ
ドロキシプロピオン酸エステルを製造することができる

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式(1): 【化1】 (式中、Rは炭素数2〜4の低級アルキル基、又はフェ
    ニル基であり、R1は炭素数1〜3の低級アルキル基で
    ある。)で示される3−置換−3−オキソプロピオン酸
    エステルに、反応触媒としてビール酵母(下面発酵酵母
    )を用いて、一般式(2): 【化2】 (式中、Rは炭素数2〜4の低級アルキル基、又はフェ
    ニル基であり、R1は炭素数1〜3の低級アルキル基で
    ある。)で示される光学活性3−置換−3−ヒドロキシ
    プロピオン酸エステルに不斉還元する事を特徴とする3
    −置換−3−ヒドロキシプロピオン酸エステルの製造法
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59175893A (ja) * 1983-03-25 1984-10-04 Suntory Ltd 3−ヒドロキシ酸類およびその製造法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59175893A (ja) * 1983-03-25 1984-10-04 Suntory Ltd 3−ヒドロキシ酸類およびその製造法

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