JPH04251986A - 太陽電池の製造方法 - Google Patents

太陽電池の製造方法

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JPH04251986A
JPH04251986A JP2408056A JP40805690A JPH04251986A JP H04251986 A JPH04251986 A JP H04251986A JP 2408056 A JP2408056 A JP 2408056A JP 40805690 A JP40805690 A JP 40805690A JP H04251986 A JPH04251986 A JP H04251986A
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JP
Japan
Prior art keywords
solder
electrode
forming
out portion
external lead
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Pending
Application number
JP2408056A
Other languages
English (en)
Inventor
Motoaki Andou
安藤 基朗
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Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH04251986A publication Critical patent/JPH04251986A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は太陽電池の製造方法に係
わり、より詳しくは太陽電池の表面電極の形成方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来の表面電極形成方法を図3を参照し
て説明すると、半導体にpn接合1を形成後、表面に反
射防止膜2を全面に形成し、この反射防止膜2をパター
ニングして表面電極形成部分を除去し、次いでこのパタ
ーニングされた部分に表面電極3を選択的に形成し(銀
ペーストを印刷し、焼き付ける)、それからハンダディ
ップして表面電極の全面にハンダ4を付着している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来方法では、
pn接合形成し反射防止膜(絶縁性)を製膜した後に表
面電極を形成するので、表面電極と半導体との接触を取
るために反射防止膜をパターニングする必要がある。そ
して、パターニング後の半導体上に表面電極を形成する
ためにも印刷の位置合わせが必要である。したがって、
このパターニング、位置合わせ等の工程が複雑であると
いう不都合がある。
【0004】さらに、表面電極形成後、ハンダディップ
して表面電極上にハンダを付着させるが、このとき表面
電極の全面にハンダが付着し、補助電極(フィンガー)
上にもハンダが付着するため、ハンダディップの条件が
厳しいという不都合がある。そこで、本発明はこれらの
不都合を解消した太陽電池の表面電極の形成方法を提供
することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、半導体にpn接合を形成後、半導体表面
に電極を焼付けて形成し、次いで該電極のうち外部取出
し部分にマスクをして残り全面に反射防止膜を製膜し、
マスク除去後、ハンダディップして前記電極外部取出し
部分に選択的にハンダを付着せしめ、よって該電極外部
取出し部分にリード線を接続可能にすることを特徴とす
る太陽電池の製造方法を提供する。
【0006】この方法では、反射防止膜のパターニング
および表面電極形成の位置合わせが不要になるとともに
、ハンダディップされるのは電極外部取出し部分(典型
的にはバスバー部分)だけで、例えば補助電極(フィン
ガー)のようにハンダ条件が厳しい部分はハンダディッ
プされないため、ハンダディップの条件が広くなり、プ
ロセスが大幅に簡素化される。なお、本発明において、
電極外部取出し部分にマスクを形成することは、電極外
部取出し部分(バスバーは例えば幅2mm位)の形状か
らして簡単にできる。
【0007】また、従来技術では、反射防止膜上から表
面電極を形成する方法として銀ペーストを高温で焼き付
ける方法も採用されるが、この場合には導電ペーストと
して高温型のものしか使用できない不都合がある。さら
に、本出願人は先に、pn接合形成後、表面電極を形成
し、ハンダディップしてから、ITO膜(反射防止膜)
を形成する方法を開示したが、ハンダディップ後、フラ
ックス洗浄するが、洗浄不良がITO/n層の接触不良
につながり、電池の特性を落とすおそれがあった。
【0008】
【実施例】図面を参照して説明する。図1において、典
型的にはシリコン半導体基板11にpn接合形成後、先
ず表面電極12を形成する(図1(ア))。表面電極は
、例えば、銀ペーストをスクリーン印刷し、焼成して形
成する。図2に太陽電池の平面図、すなわち表面電極パ
ターンを示す。表面電極12は幅約2mmのバスバー1
3とこのバスバー13から直角方向に延びる幅約0.2
mm のフィンガー14とからなる。銀ペーストの焼成
温度は 200℃である。
【0009】次いで、形成した表面電極のうち外部取出
し部分(バスバー)13に、幅2mm以下の紙製などの
テープを貼付して、ハンダディップ用のマスク15とす
る。この状態で、全面に反射防止膜、例えばITO(酸
化スズ鉛)膜16を製膜する。製膜法はスパッタ法等を
用いることができる。そして、製膜後、マスク15をそ
の上の反射防止膜16とともに除去して、外部取出し部
分(バスバー)13を露出せしめる。
【0010】それから、ハンダディップすると、外部取
出し部分(バスバー)13上にはハンダ17が付着する
が、フィンガー14部分は反射防止膜16で覆われてい
るためにハンダが付着しない。フィンガー14部分は太
陽電池の活性部分上にあり、かつ受光面積を上げるため
に幅が狭いので、ハンダディップする場合には条件が厳
しかったが、この実施例では外部取出し部分(バスバー
)13上だけにハンダが付着するので、ハンダディップ
の条件が厳しくなくてもよい。具体的には、ハンダ槽温
度190 〜200 ℃、浸漬時間10〜20秒である
【0011】
【発明の効果】本発明によれば、太陽電池の表面電極の
形成工程が簡素化される効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の太陽電池の製造工程を説明す
る模式図である。
【図2】太陽電池の平面図であり、表面電極にパターン
を示す。
【図3】従来の太陽電池の製造工程を説明する模式図で
ある。 1…半導体(pn接合) 2…反射防止膜 3…表面電極 4…ハンダ 11…シリコン半導体 12…表面電極 13…バスバー 14…フィンガー 15…マスク 16…反射防止膜 17…ハンダ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半導体にpn接合を形成後、半導体表
    面に電極を焼付けて形成し、次いで該電極のうち外部取
    出し部分にマスクをして残り全面に反射防止膜を製膜し
    、マスク除去後、ハンダディップして前記電極外部取出
    し部分に選択的にハンダを付着せしめ、よって該電極外
    部取出し部分にリード線を接続可能にすることを特徴と
    する太陽電池の製造方法。
JP2408056A 1990-12-27 1990-12-27 太陽電池の製造方法 Pending JPH04251986A (ja)

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Cited By (5)

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