JPH04251816A - ラスタ走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、ビーム生成手段から
のビームを感光体の主走査方向に沿って移動走査するラ
スタ走査装置に係り、特に、ビーム生成手段と感光体と
の間のビーム経路長を調整するための機構が設けられて
いるラスタ走査装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ラスタ走査装置としてはレーザ
プリンタ等に用いられるレーザ走査装置を挙げることが
ことができる。これは、図２０に示すように、画像信号
に応じたビームＢｍを照射する半導体レーザ２０１、こ
の半導体レーザ２０１からのビームＢｍを所定の走査範
囲に亘って振り分けるポリゴンミラー２０２、このポリ
ゴンミラー２０２からのビームＢｍを感光ドラム２０３
の主走査ラインに沿って適正に結像させる結像レンズ２
０４及びポリゴンミラー２０２で振り分けられたビーム
Ｂｍを感光ドラム２０３側へ導く反射ミラー２０５等の
各種部品からなるものであり、感光ドラム２０３上の走
査位置精度を良好に保つという観点から、前記各種部品
を光学サブフレーム２０６を介して若しくは直接的に図
示外の光学フレーム上に正確に位置決めするようにして
いる。

【０００３】ところが、各種部品の製造精度や取付け精
度にはばらつきがあるため、各種部品精度のばらつきを
吸収するための様々な調整が必要になり、その一つとし
て光路長調整がある。これは、ポリゴンミラー２０２か
ら感光ドラム２０３までの距離、あるいは、結像レンズ
２０４から感光ドラム２０３までの距離を調整し、規定
の時間に対する露光幅（主走査方向の実質走査範囲）を
合せ込むものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の光路
長調整方法としては、例えば反射ミラー２０５の支持機
構として、反射ミラー２０５を可変調整可能な３つの支
持点で支持するタイプにあっては、各支持点の位置を夫
々可変調整することにより、反射ミラー２０５の反射面
位置を光軸方向へ移動させて光路長を可変調整するとい
うもの等が挙げられるが、この種の光路長調整方法によ
って光路長調整したレーザプリンタにおいて出力画像品
質を検査したところ、画像両端で主走査方向の画像幅に
アンバランスが発生し易いという技術的課題が見出され
た。

【０００５】本願発明者は、上述した技術的課題の発生
原因を考察し、反射ミラー２０５や結像レンズ２０４の
位置を変化させて光路長調整を行う際に、例えば図２０
に点線で示すように、反射ミラー２０５等の移動方向が
光軸方向からずれてしまうことに起因するものとの結論
を得、光路長調整を行う際に、画像両端での主走査方向
の画像幅にアンバランスが発生する事態を確実に回避で
きるようにした本願発明を案出するに至ったのである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち、第一の発明は
、図１に示すように、画像信号に応じたビームＢｍを生
成するビーム生成手段１と、このビーム生成手段１から
のビームＢｍを感光体２の主走査方向に亘って偏向走査
するビーム偏向手段３と、このビーム偏向手段３にて偏
向されたビームＢｍを感光体２の主走査ライン位置Ｓに
結像させる結像レンズ４と、ビーム偏向手段３及び感光
体２間の光路を規制する少なくとも１枚の反射ミラー５
と、前記各部品を位置決めする光学フレーム６とを備え
たラスタ走査装置を前提とし、少なくとも一枚の反射ミ
ラー５が可動支持機構７にて一定の角度姿勢を保ちなが
ら入射光軸に対して移動自在に支持されていることを特
徴とするものである。

【０００７】また、第二の発明は、図１に示すように、
ビーム生成手段１、ビーム偏向手段３、結像レンズ４、
少なくとも１枚の反射ミラー５及び光学フレーム６とを
備えたラスタ走査装置を前提とし、ビーム生成手段１、
ビーム偏向手段３及び結像レンズ４を装備してなる光学
サブフレーム６ａが可動支持機構８にて一定の角度姿勢
を保ちながら出射光軸に対して移動自在に支持されてい
ることを特徴とするものである。

【０００８】更に、第三の発明は、同じく図１に示すよ
うに、ビーム生成手段１、ビーム偏向手段３、結像レン
ズ４、少なくとも１枚の反射ミラー５及び光学フレーム
６とを備えたラスタ走査装置を前提とし、少なくとも一
枚の反射ミラー５が可動支持機構７にて一定の角度姿勢
を保ちながら入射光軸に対して移動自在に支持されると
共に、ビーム生成手段１、ビーム偏向手段３及び結像レ
ンズ４を装備してなる光学サブフレーム６ａが可動支持
機構８にて一定の角度姿勢を保ちながら出射光軸に対し
て移動自在に支持されていることを特徴とするものであ
る。

【０００９】このような技術的手段において、ビーム生
成手段１としては、画像信号に応じたビームＢｍを生成
できるものであればレーザ、液晶シャッタ、ＬＥＤ等適
宜選定することができる。この場合において、画像部に
対応してビームＢｍを照射するものであってもよいし、
また、画像部以外の背景部に対応してビームＢｍを照射
するものであってもよい。

【００１０】また、ビーム偏向手段３としては、感光体
２の主走査方向に沿ってビーム生成手段１からのビーム
Ｂｍを偏向するものであれば、ポリゴンミラー、ガルバ
ノミラー等適宜選定することができ、また、結像レンズ
４についても、所定の結像特性が得られるものであれば
、レンズ構成、レンズ数等適宜設計変更して差し支えな
い。

【００１１】更に、反射ミラー５の構成、数、レイアウ
ト等については所定の光路長を得ることができる範囲で
適宜設計変更して差し支えない。この場合において、上
記ビーム偏向手段３の偏向面の倒れによってビームＢｍ
の走査位置がずれる虞れがあるため、これを防止する観
点からすれば、ビームＢｍの経路中に上記ビーム偏向手
段３の偏向面の倒れ補正手段（例えば反射ミラー５の一
つとしてシリンドリカルミラーやシリンドリカルレンズ
等）を設けるように設計することが好ましい。

【００１２】更にまた、光学フレーム６や光学サブフレ
ーム６ａの構成については、装備される各種部品に対す
る位置決め部を有し、各位置決め部に対して各種部品を
固定し得るものであれば適宜設計変更して差し支えない
。

【００１３】また、反射ミラー５の可動支持機構７とし
ては、反射ミラー５を入射光軸方向に沿って移動させ得
るものであれば適宜設計変更して差し支えないが、通常
、反射ミラー５が入射光軸方向に直交する方向に長尺で
あることを考慮すると、上記可動支持機構７としては、
反射ミラー５の両側に入射光軸方向に延びる一対の位置
決め部材を設ける等、反射ミラー５の移動方向を確実に
規制するように設計することが好ましい。また、反射ミ
ラー５の移動量の調整を容易に行うという観点からすれ
ば、例えば位置決めピンの位置に応じて反射ミラー５の
移動量が一義的に設定されるような構成を採用すること
が好ましい。

【００１４】また、光学サブフレーム６ａの可動支持機
構８としては、光学サブフレーム６ａを出射光軸方向に
沿って移動させ得るものであれば適宜設計変更して差し
支えないが、出射光軸方向に正確に移動させることを考
慮すると、例えば、光学サブフレーム６ａの方向を決定
する二本の位置決めピンの間隔をできる限り長くとるよ
うに設計することが好ましい。

【００１５】

【作用】上述したような技術的手段によれば、上記可動
支持機構７は、反射ミラー５の角度姿勢を保ったまま反
射ミラー５を入射光軸に沿って移動させるため、反射ミ
ラー５による反射ビームＢｍ方向が変化することなく、
ビーム偏向手段３若しくは結像レンズ４から感光体２ま
での光路長が変化する。但し、反射ミラー５の入射光軸
に沿う移動量及び設定角度によっては、感光体２への入
射位置を適正な位置に保つ上で反射ミラー５の角度調整
が必要になる場合がある。

【００１６】また、上記可動支持機構８は、光学サブフ
レーム６ａの角度姿勢を保ったまま光学サブフレーム６
ａを出射光軸に沿って移動させるため、光学サブフレー
ム６ａ内からの出射ビームＢｍ方向が変化することなく
、ビーム偏向手段３若しくは結像レンズ４から感光体２
までの光路長が変化する。調整が行われる。

【００１７】

【実施例】以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの
発明を詳細に説明する。図２，図３はこの発明が適用さ
れたレーザ走査装置の一実施例を示す。同図において、
符号２０は光学フレーム３０の所定部位に取り付けられ
る光学サブアッセンブリであり、この光学サブアッセン
ブリ２０は、画像信号に応じたビームＢｍを照射する半
導体レーザ２１と、この半導体レーザ２１からのビーム
Ｂｍを平行光に整形するコリメータレンズ２２と、この
コリメータレンズ２２からのビームＢｍを所定の走査範
囲に亘って偏向するポリゴンミラー２３と、コリメータ
レンズ２２からのビームＢｍをポリゴンミラー２３へ向
けて反射させる反射ミラー２４と、ポリゴンミラー２３
にて偏向されたビームＢｍを感光ドラム２６の主走査ラ
インＳ上に適正に結像させる結像レンズ２５とを光学サ
ブフレーム３１内に所定の位置関係で配設したものであ
る。

【００１８】また、上記光学サブアッセンブリ２０の近
傍には感光ドラム２６の実質走査範囲の画像書込み開始
位置を検出するための同期信号検出器ユニット２７が配
設されており、この同期信号検出器ユニット２７は図３
中矢印二方向に移動可能であり、一平面内で感光ドラム
２６の主走査方向及び副走査方向の位置調整が可能にな
っている。より具体的には、同期信号検出器ユニット２
７は、図４に示すように、ユニットフレーム３５の上方
部位には受光センサ３６を配設すると共に、ユニットフ
レーム３５の下方部位には反射ミラー３７を配設し、光
学サブアッセンブリ２０からのビームＢｍを反射ミラー
３７を介して受光センサ３６へ導くようにしたものであ
り、光学フレーム３０に対するユニットフレーム３５の
位置を感光ドラム２６の副走査方向に相当する方向にて
実線から点線へ移動すれば、受光センサ３６へのビーム
Ｂｍの副走査方向の位置を調整することができる。尚、
光学フレーム３０に対するユニットフレーム３５の位置
を副走査方向と直交する主走査方向にて適宜移動させれ
ば、受光センサ３６へのビームＢｍの主走査方向の位置
を調整することができる。

【００１９】更に、この実施例にあっては、上記光学フ
レーム３０上には上記ポリゴンミラー２３のミラー面の
倒れを補正するためのシリンドリカルミラーサブアッセ
ンブリ２８が配設されており、このシリンドリカルミラ
ーサブアッセンブリ２８からのビームＢｍは、光学フレ
ーム３０に開設された開口部（図示せず）を通じて光学
フレーム３０外に照射され、光学フレーム３０の裏面側
に配設された反射ミラー２９を介して感光ドラム２６の
主走査ラインＳ上に導かれるようになっている。

【００２０】この実施例において、上記シリンドリカル
ミラーサブアッセンブリ（以下、実施例の欄中ではミラ
ーサブアッセンブリという）２８の具体的構成を図５〜
図６を中心に示す。同図において、ミラーサブアッセン
ブリ２８は、シリンドリカルミラー４１と、このシリン
ドリカルミラー４１への入射ビーム方向へ移動自在な可
動ベース４２と、この可動ベース４２上に設けられてシ
リンドリカルミラー４１を角度調整自在に支持するミラ
ーサポート５０とで構成されている。

【００２１】より具体的に述べると、上記可動ベース４
２は剛性の高い断面略ハット状のチャンネル材４３の両
側に位置決めプレート４４，４４を固着したものであり
、各位置決めプレート４４には、特に図７に示すように
、シリンドリカルミラー４１の入射ビーム方向に沿って
複数（この実施例では５個）の位置決め孔４５ａ〜４５
ｅが例えばＬ−Ｘ（ｍｍ）間隔毎に開設され、一方、各
位置決めプレート４４に対応した光学フレーム３０部位
には、シリンドリカルミラー４１の入射ビーム方向に沿
って複数（この実施例では５個）のフレーム側位置決め
孔４６ａ〜４６ｅが例えばＬ（ｍｍ）間隔毎に開設され
ている。

【００２２】そして、位置決めプレート４４の所定の位
置決め孔４５ａ〜４５ｅと所定のフレーム側位置決め孔
４６ａ〜４６ｅとに位置決めピン４７を挿入することに
より、図８に示すように、可動ベース４２の位置がシリ
ンドリカルミラー４１の入射ビーム方向に沿って段階的
に移動するようになっている。この実施例では、位置決
め孔４５ｃとフレーム側位置決め孔４６ｃとに位置決め
ピン４７を挿入すると、図８（ｃ）のような状態になり
、位置決め孔４５ａ，４５ｅとフレーム側位置決め孔４
６ａ，４６ｅとに位置決めピン４７を挿入すると、可動
ベース４２は図８（ａ），（ｅ）のように図８（ｃ）の
状態に比べて２Ｘだけ前後に移動し、また、位置決め孔
４５ｂ，４５ｄとフレーム側位置決め孔４６ｂ，４６ｄ
とに位置決めピン４７を挿入すると、可動ベース４２は
図８（ｂ），（ｄ）のように図８（ｃ）の状態に比べて
Ｘだけ前後に移動することになる。このとき、可動ベー
ス４２の両側は同じ量だけ移動するので、可動ベース４
２の移動方向がシリンドリカルレンズ４１の入射ビーム
方向からずれることはない。尚、位置決めピン４７の挿
入位置としては左右両側の位置決めプレート４４で対称
位置を選択しなくてはならないのは当然である。

【００２３】また、上記ミラーサポート５０は、図５及
び図９に示すように、上記可動ベース４２の長手方向両
側に固着される一対の固定プレート５１，５２と、この
固定プレート５１，５２の相対向する内側に回転自在に
装着されてシリンドリカルミラー４１を支持する回転支
持プレート６１，６２とを備えている。

【００２４】より具体的に述べると、上記固定プレート
５１，５２の中央にはシリンドリカルミラー４１の両端
部を挿入配置するミラー挿入口５３が開設され、また、
各ミラー挿入口５３の近傍部位には回転支持軸としての
回転用ボス５４が形成されており、この回転用ボス５４
はシリンドリカルミラー４１の母線と平行な回転中心を
与えるようになっている。更に、各固定プレート５１，
５２のミラー挿入口５３を挟んだ両側には固定用ねじ５
５，５６よりも大径な一対のねじ挿入孔５７が夫々開設
されている。

【００２５】一方、上記各回転支持プレート６１，６２
の中央にはシリンドリカルミラー４１の両端部を挿入配
置するミラー挿入口６３が開設され、また、上記回転用
ボス５４に対応した箇所には回転用ボス５４を回転自在
に係合させる係合孔６４が開設されている。更に、各回
転支持プレート６１，６２のミラー挿入口６３を挟んだ
両側には固定用ねじ５５，５６が螺合する一対のねじ孔
６７が夫々形成されている。更にまた、上記回転支持プ
レート６１，６２の回転中心から離れた側の下端部には
下方側に出没自在な調整ねじ６８が設けられており、こ
の調整ねじ６８の先端側が上記可動ベース４２面に当接
配置されている。このため、調整ねじ６８を適宜出没さ
せることにより、調整ねじ６８の押し込み量に応じて回
転支持プレート６１，６２が回転中心回りに微小回転す
るようになっている。

【００２６】そして、上記一方の回転支持プレート６１
のミラー挿入口６３縁のうち、シリンドリカルミラー４
１の反射面４１ａに対応した箇所には、反射面４１を２
点で支持する支持突起７１，７２が形成されると共に、
シリンドリカルミラー４１の反射面４１ａと直交する下
側面４１ｂに対応した箇所には、下側面４１ｂを１点で
支持する支持突起７３が形成されている。また、他方の
回転支持プレート６２のミラー挿入口６３縁のうち、シ
リンドリカルミラー４１の反射面４１ａに対応した箇所
には、反射面４１を１点で支持する支持突起７４が形成
されると共に、シリンドリカルミラー４１の反射面４１
ａと直交する下側面４１ｂに対応した箇所には、下側面
４１ｂを１点で支持する支持突起７５が形成されている
。更に、図６（ａ）（ｂ），図９（ａ）（図５中Ａ方向
から見た矢視図に相当）（ｂ）（図５中Ｂ方向から見た
矢視図に相当）に示すように、各回転支持プレート６１
，６２のミラー挿入口６３縁には、夫々シリンドリカル
ミラー４１を各支持突起７１〜７５側へ付勢する板バネ
７６〜７９が装着されている。

【００２７】次に、ミラーサポート５０によるシリンド
リカルミラー４１の角度調整方法について説明する。 今、図９（ａ）（ｂ）に示すように、シリンドリカルミ
ラー４１の角度をθだけ変化させる場合を想定すると、
先ず、各固定ねじ５５，５６を一旦緩めることにより、
回転支持プレート６１，６２が回転し得る状態にしてお
く。

【００２８】この状態において、図９（ａ）に示すよう
に、回転支持プレート６１側の調整ねじ６８を適宜回す
ことにより、上記回転支持プレート６１側をθだけ回転
させると、図１０（ａ）に示すように、シリンドリカル
ミラー４１の一端側は回転支持プレート６１に追従して
点線の状態から実線の状態へと回転移動する。このとき
、図１０（ｂ）に示すように、回転支持プレート６２も
回転自在の状態になっているので、上記シリンドリカル
ミラー４１の他端側もシリンドリカルミラー４１の一端
側の回転移動に追従して回転支持プレート６２と一体と
なってθだけ回転移動する。

【００２９】この段階において、固定ねじ５５，５６を
締め付けるようにすれば、上記シリンドリカルミラー４
１は全体的にθだけ回転移動した位置に設定されること
になる。

【００３０】この実施例に係るシリンドリカルミラー４
１の角度調整性能を評価する上で、図１３（ａ）（ｂ）
に示すように、ミラーサポート５０の一方の構成（回転
支持プレート６１側）については実施例のものと共通で
、他方の構成（回転支持プレート６２側）については回
転支持プレート６２をなくし、固定プレート５２のミラ
ー挿入口５３に夫々支持突起７４，７５及び板バネ７８
，７９を設けるようにしたものを比較例とし、この比較
例に対し実施例と同様なミラーの角度調整を行った。

【００３１】上述した比較例にあっては、図１４（ａ）
に示すように、一方の回転支持プレート６１を適宜回転
させてシリンドリカルミラー４１の一端側を点線から実
線で示す状態へ回転移動させたところ、図１４（ｂ）に
示すように、最初シリンドリカルミラー４１の他端側も
一端側の回転移動に追従して点線で示す状態から実線で
示す状態へ回転移動する。このとき、上記シリンドリカ
ルミラー４１の他端側下側面４１ｂが支持突起７５から
Δだけ浮いてしまうと想定すると、図１４（ｃ）に示す
ように、板バネ７９の付勢力によりシリンドリカルミラ
ー４１の他側側下側へ付勢され、シリンドリカルミラー
４１の他端側の下側面４１ｂが支持突起７５に当接する
までシリンドリカルミラー４１の他端側が下方へ移動し
、シリンドリカルミラー４１の他端側の母線がΔだけ下
方へ偏位してしまう。このことはシリンドリカルミラー
４１の母線が傾くということを意味しており、比較例に
よるミラーの角度調整性能が好ましくなく、実施例のも
のが優れていることを裏付けている。

【００３２】また、この実施例にあっては、シリンドリ
カルミラー４１の製造精度により、シリンドリカルミラ
ー４１自体の母線が傾いていたとしても、この母線の傾
きを補正することが可能であり、以下にその具体的な補
正手順を述べる。

【００３３】今、上述したようなミラーの角度調整を行
った時点で、シリンドリカルミラー４１の母線が傾いて
いることが判明したと仮定すると、図１１（ｂ）に示す
ように、一方の固定ねじ５６のみを緩め、回転支持プレ
ート６２を回転移動し得る状態にした後、調整ねじ６８
を適宜調整して回転支持プレート６２を傾き補正分だけ
回転させ、シリンドリカルミラー４１の母線の傾きを補
正する。

【００３４】このとき、図１１（ａ）に示すように、上
記ミラーサポート５０の一方側（回転支持プレート６１
側）においては、固定ねじ５５により回転支持プレート
６１が固定プレート５１に固定された状態にあり、しか
も、上記シリンドリカルミラー４１の反射面が２つの支
持突起７１，７２に当接した状態でシリンドリカルミラ
ー４１の回転方向の移動が拘束されている。従って、母
線の傾き補正のような微量な回転移動をミラーサポート
５０の他方側で行ったとしても、シリンドリカルミラー
４１の一端側が他端側の移動に追従して移動することは
なく、シリンドリカルミラー４１の母線の傾きは確実に
補正される。

【００３５】尚、厳密な意味では、図１２図（ａ）（ｂ
）に示すように、２点支持構成の回転支持プレート６１
側ではシリンドリカルミラー４１の反射面４１ａの角度
は変化するが、通常レーザプリンタ等で使用されるシリ
ンドリカルミラー４１の曲率半径は充分大きく、２点支
持スパンに対して回転支持プレート６１，６２間のスパ
ンは充分長く、しかも、母線の傾き補正量は微量である
ので、反射面４１ａの誤差δは極めて微小であり、実際
の調整では全く支障はない。

【００３６】従って、この実施例においては、図１５（
ａ）（ｂ）に示すように、上述した手順にて可動ベース
４２の位置を変化させることにより、シリンドリカルミ
ラー４１の入射ビーム方向に沿った位置を変化させるこ
とができ、これにより、出射ビーム方向を変化させるこ
となく、ポリゴンミラー２３若しくは結像レンズ２５か
ら感光ドラム２６までの光路長が可変調整される。

【００３７】また、図１５（ａ）（ｂ）に示すように、
上述した手順にてミラーサポート５０を調整することに
より、シリンドリカルミラー４１の角度調整及び母線の
補正を行うことができるので、感光ドラム２６上の主走
査ラインＳ上に潜像が適正に書込まれる。

【００３８】更に、この実施例では、光学サブアッセン
ブリ２０が出射ビーム方向に沿って移動調整されるよう
になっている。より具体的に述べると、図１６〜図１８
に示すように、光学サブアッセンブリ２０の光学サブフ
レーム３１の裏面一側には出射ビーム方向に対する位置
規制用ピン１０１が突設され、この位置規制用ピン１０
１は光学フレーム３０において出射ビーム方向に延びる
長孔１０２に摺動自在に係合している。また、光学サブ
フレーム３１の裏面他側には出射ビーム方向に並ぶ二つ
の位置規制用ピン１０３が突設されると共に、この位置
規制用ピン１０３と並んで仮止めねじ１０４を挿入する
ためのねじ挿入孔１０５が開設されている。

【００３９】また、上記光学サブフレーム３１と光学フ
レーム３０との間には位置調整用プレート１０６が介在
されており、この位置調整用プレート１０６は水平部１
０７が長いＬ字状に形成されており、水平部１０７には
上記位置規制用ピン１０３と係合する出射ビーム方向に
延びる長孔１０８が形成されると共に、上記ねじ挿入孔
１０５に対応して仮止めねじ１０４を螺合させるねじ孔
１０９が形成され、更に、水平部１０７の裏面側には位
置決めピン１１０が突設され、光学フレーム３０には上
記位置決めピン１１０と係合する位置決め孔１１１が開
設されている。一方、上記位置調整用プレート１０６の
垂直部１１２には調整ねじ１１４を螺合させるためのね
じ孔１１３が形成されている。尚、光学サブフレーム３
１には上記垂直部１１２に対向し且つ調整ねじ１１４の
先端が衝合するストッパ壁１１５が形成されている。

【００４０】次に、上記光学サブフレーム３１の取付け
状態を説明すると、光学サブフレーム３１に上記位置調
整用プレート１０６を仮止めねじ１０４にて仮組付けし
、この状態で、光学フレーム３０の長孔１０２に上記光
学サブフレーム３１の位置規制用ピン１０１を係合させ
ると共に、光学フレーム３０の位置決め孔１１１に位置
調整用プレート１０６の位置決めピン１１０を係合させ
る。

【００４１】この段階において、上記調整ねじ１１４を
適宜回転させると、調整ねじ１１４がストッパ壁１１５
に当接しているため、上記調整ねじ１１４を順次押し込
んでいくと、光学サブフレーム３１がビーム照射方向に
対して位置規制された状態で移動し、光学サブフレーム
３１が所定の位置に達した段階で、上記仮止めねじ１０
４を確実に締め付けることにより、光学サブフレーム３
１が所定位置に位置決めされる。そして、図示外の固定
ねじを用いて光学サブフレーム３１を光学フレーム３０
に固定すれば、光学サブフレーム３１の取付けが終了す
る。

【００４２】従って、この実施例においては、図１９（
ａ）（ｂ）に示すように、上記調整ねじ１１４を適宜回
転操作することにより、光学サブフレーム３１をビーム
出射方向ｍに沿って移動させることができ、これによつ
て、ポリゴンミラー２３若しくは結像レンズ２５から感
光ドラム２６までの光路長を可変設定することが可能に
なる。

【００４３】

【発明の効果】請求項１〜３記載の発明によれば、反射
ミラー若しくは光学サブフレームの角度姿勢を一定に保
つた状態で反射ミラー若しくは光学サブフレームをビー
ム入射方向若しくはビーム出射方向に沿って移動させる
ようにしたので、光路長を調整する上で、ビーム経路の
ずれを確実に回避しながら、ビーム偏向手段若しくは結
像レンズから感光体までの光路長を可変設定することが
できる。

【００４４】また、請求項２記載の発明によれば、光学
サブフレームをビーム出射方向に沿って移動させたとし
ても、感光体へのビーム入射位置が変化することはない
ので、光学サブフレームの角度調整を全く必要とせず光
路長調整を簡単に行うことができる。

【００４５】更に、請求項３記載の発明によれば、反射
ミラー及び光学サブフレームの角度姿勢を一定に保つた
状態で反射ミラー及び光学サブフレームを夫々ビーム入
射方向若しくはビーム出射方向に沿って移動させるよう
にしたので、組立て時に反射ミラーサブアッセンブリ及
び光学サブアッセンブリに対して各サブアッセンブリ単
位で光路長調整を行っておけば、各サブアッセンブリを
夫々独立に交換したとしても、部品交換時において光路
長の調整を省略することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係るラスタ走査装置の概要を示す説
明図である。

【図２】この発明が適用されたレーザ走査装置の一実施
例を示す正面説明図である。

【図３】図２の平面図である。

【図４】同期信号検出器ユニットの構成例を示す説明図
である。

【図５】シリンドリカルミラーサブアッセンブリの分解
斜視図である。

【図６】シリンドリカルミラーサブアッセンブリの正面
図（ａ）及び平面図（ｂ）である。

【図７】可動ベースの位置決め構造を示す説明図である
。

【図８】可動ベースの位置決め状態を示す説明図である
。

【図９】ミラーサポートを示す説明図である。

【図１０】ミラーサポートによるシリンドリカルミラー
の角度調整状態を示す説明図である。

【図１１】ミラーサポートによるシリンドリカルミラー
の母線の傾き補正状態を示す説明図である。

【図１２】ミラーサポートによるシリンドリカルミラー
の母線の傾き補正時におけるミラー面の変化状態を示す
説明図である。

【図１３】比較例に係るミラーサポートの一例を示す説
明図である。

【図１４】比較例に係るラーサポートによるシリンドリ
カルミラーの角度調整状態を示す説明図である。

【図１５】実施例に係るシリンドリカルミラーによる光
路長及び角度調整状態を模式的に示す説明図である。

【図１６】光学サブフレームの位置調整機構を示す説明
図である。

【図１７】その要部説明図である。

【図１８】図１７を下側から見た矢視図である。

【図１９】実施例に係る光学サブフレームによる光路長
調整状態を模式的に示す説明図である。

【図２０】従来のラスタ走査装置の一例を示す説明図で
ある。

【符号の説明】

１　　ビーム生成手段 ２　　感光体 ３　　ビーム偏向手段 ４　　結像レンズ ５　　反射ミラー ６　　光学フレーム ６ａ　　光学サブフレーム ７　　可動支持手段 ８　　可動支持手段

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　画像信号に応じたビーム（Ｂｍ）を生
   成するビーム生成手段（１）と、このビーム生成手段（
   １）からのビーム（Ｂｍ）を感光体（２）の主走査方向
   に亘って偏向走査するビーム偏向手段（３）と、このビ
   ーム偏向手段（３）にて偏向されたビーム（Ｂｍ）を感
   光体（２）の主走査ライン位置（Ｓ）に結像させる結像
   レンズ（４）と、ビーム偏向手段（３）及び感光体（２
   ）間の光路を規制する少なくとも１枚の反射ミラー（５
   ）と、前記各部品を位置決めする光学フレーム（６）と
   を備えたラスタ走査装置において、少なくとも一枚の反
   射ミラー（５）は可動支持機構（７）にて一定の角度姿
   勢を保ちながら入射光軸に対して移動自在に支持されて
   いることを特徴とするラスタ走査装置。
2. 【請求項２】　　画像信号に応じたビーム（Ｂｍ）を生
   成するビーム生成手段（１）と、このビーム生成手段（
   １）からのビーム（Ｂｍ）を感光体（２）の主走査方向
   に亘って偏向走査するビーム偏向手段（３）と、このビ
   ーム偏向手段（３）にて偏向されたビーム（Ｂｍ）を感
   光体（２）の主走査ライン位置（Ｓ）に結像させる結像
   レンズ（４）と、ビーム偏向手段（４）及び感光体（２
   ）間の光路を規制する少なくとも１枚の反射ミラー（５
   ）と、前記各部品を位置決めする光学フレーム（６）と
   を備えたラスタ走査装置において、ビーム生成手段（１
   ）、ビーム偏向手段（３）及び結像レンズ（４）が装備
   される光学サブフレーム（６ａ）は可動支持機構（８）
   にて一定の角度姿勢を保ちながら出射光軸に対して移動
   自在に支持されていることを特徴とするラスタ走査装置
   。
3. 【請求項３】　　画像信号に応じたビーム（Ｂｍ）を生
   成するビーム生成手段（１）と、このビーム生成手段（
   １）からのビーム（Ｂｍ）を感光体（２）の主走査方向
   に亘って偏向走査するビーム偏向手段（３）と、このビ
   ーム偏向手段（３）にて偏向されたビーム（Ｂｍ）を感
   光体（２）の主走査ライン位置（Ｓ）に結像させる結像
   レンズ（４）と、ビーム偏向手段（３）及び感光体（２
   ）間の光路を規制する少なくとも１枚の反射ミラー（５
   ）と、前記各部品を位置決めする光学フレーム（６）と
   を備えたラスタ走査装置において、少なくとも一枚の反
   射ミラー（５）は可動支持機構（７）にて一定の角度姿
   勢を保ちながら入射光軸に対して移動自在に支持される
   と共に、ビーム生成手段（１）、ビーム偏向手段（３）
   及び結像レンズ（４）が装備される光学サブフレーム（
   ６ａ）は可動支持機構（８）にて一定の角度姿勢を保ち
   ながら出射光軸に対して移動自在に支持されていること
   を特徴とするラスタ走査装置。