JPH04251816A - Raster scanner - Google Patents

Raster scanner

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Publication number
JPH04251816A
JPH04251816A JP2690691A JP2690691A JPH04251816A JP H04251816 A JPH04251816 A JP H04251816A JP 2690691 A JP2690691 A JP 2690691A JP 2690691 A JP2690691 A JP 2690691A JP H04251816 A JPH04251816 A JP H04251816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
mirror
deflection means
main scanning
photoreceptor
Prior art date
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Pending
Application number
JP2690691A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuyuki Yanagisawa
勝之 柳沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP2690691A priority Critical patent/JPH04251816A/en
Publication of JPH04251816A publication Critical patent/JPH04251816A/en
Priority to US08/447,961 priority patent/US5638189A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To surely evade cases wherein an image becomes unbalanced in width at both ends in a main scanning direction when the length of an optical path is adjusted. CONSTITUTION:This raster scanner is characterized by the structure where at least one reflecting mirror 5 is supported by a movable support mechanism 7 movably at a constant angle attitude to an optical axis of incidence or an optical subframe 6a, equipped with a beam generating means 1, a beam deflecting means 3, and an image forming lens 4, which is supported by a movable support mechanism 8 movably at a constant angle attitude to an optical axis of projection.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は、ビーム生成手段から
のビームを感光体の主走査方向に沿って移動走査するラ
スタ走査装置に係り、特に、ビーム生成手段と感光体と
の間のビーム経路長を調整するための機構が設けられて
いるラスタ走査装置の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a raster scanning device that moves and scans a beam from a beam generating means along a main scanning direction of a photoreceptor, and particularly relates to a beam path between the beam generating means and a photoreceptor. This invention relates to an improvement in a raster scanning device that is provided with a mechanism for adjusting the length.

【0002】0002

【従来の技術】一般に、ラスタ走査装置としてはレーザ
プリンタ等に用いられるレーザ走査装置を挙げることが
ことができる。これは、図20に示すように、画像信号
に応じたビームBmを照射する半導体レーザ201、こ
の半導体レーザ201からのビームBmを所定の走査範
囲に亘って振り分けるポリゴンミラー202、このポリ
ゴンミラー202からのビームBmを感光ドラム203
の主走査ラインに沿って適正に結像させる結像レンズ2
04及びポリゴンミラー202で振り分けられたビーム
Bmを感光ドラム203側へ導く反射ミラー205等の
各種部品からなるものであり、感光ドラム203上の走
査位置精度を良好に保つという観点から、前記各種部品
を光学サブフレーム206を介して若しくは直接的に図
示外の光学フレーム上に正確に位置決めするようにして
いる。
2. Description of the Related Art Generally, examples of raster scanning devices include laser scanning devices used in laser printers and the like. As shown in FIG. 20, this includes a semiconductor laser 201 that emits a beam Bm according to an image signal, a polygon mirror 202 that distributes the beam Bm from the semiconductor laser 201 over a predetermined scanning range, and a polygon mirror 202 that distributes the beam Bm from the semiconductor laser 201 over a predetermined scanning range. beam Bm to the photosensitive drum 203
An imaging lens 2 that properly forms an image along the main scanning line of
04 and a reflecting mirror 205 that guides the beam Bm distributed by the polygon mirror 202 to the photosensitive drum 203 side. is precisely positioned on an optical frame (not shown) via the optical subframe 206 or directly.

【0003】ところが、各種部品の製造精度や取付け精
度にはばらつきがあるため、各種部品精度のばらつきを
吸収するための様々な調整が必要になり、その一つとし
て光路長調整がある。これは、ポリゴンミラー202か
ら感光ドラム203までの距離、あるいは、結像レンズ
204から感光ドラム203までの距離を調整し、規定
の時間に対する露光幅(主走査方向の実質走査範囲)を
合せ込むものである。
However, since there are variations in the manufacturing precision and mounting precision of various parts, various adjustments are required to absorb variations in the precision of various parts, and one of these is optical path length adjustment. This is to adjust the distance from the polygon mirror 202 to the photosensitive drum 203 or the distance from the imaging lens 204 to the photosensitive drum 203 to match the exposure width (substantial scanning range in the main scanning direction) for a specified time. .

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の光路
長調整方法としては、例えば反射ミラー205の支持機
構として、反射ミラー205を可変調整可能な3つの支
持点で支持するタイプにあっては、各支持点の位置を夫
々可変調整することにより、反射ミラー205の反射面
位置を光軸方向へ移動させて光路長を可変調整するとい
うもの等が挙げられるが、この種の光路長調整方法によ
って光路長調整したレーザプリンタにおいて出力画像品
質を検査したところ、画像両端で主走査方向の画像幅に
アンバランスが発生し易いという技術的課題が見出され
た。
By the way, as a conventional optical path length adjustment method, for example, in a type of supporting mechanism for the reflecting mirror 205, the reflecting mirror 205 is supported by three variably adjustable support points. For example, by variably adjusting the position of each support point, the position of the reflecting surface of the reflecting mirror 205 is moved in the optical axis direction, and the optical path length is variably adjusted. When the output image quality of a laser printer with adjusted optical path length was inspected, a technical problem was found in that the image width in the main scanning direction tends to be unbalanced at both ends of the image.

【0005】本願発明者は、上述した技術的課題の発生
原因を考察し、反射ミラー205や結像レンズ204の
位置を変化させて光路長調整を行う際に、例えば図20
に点線で示すように、反射ミラー205等の移動方向が
光軸方向からずれてしまうことに起因するものとの結論
を得、光路長調整を行う際に、画像両端での主走査方向
の画像幅にアンバランスが発生する事態を確実に回避で
きるようにした本願発明を案出するに至ったのである。
The inventor of the present application considered the cause of the above-mentioned technical problem, and when adjusting the optical path length by changing the positions of the reflecting mirror 205 and the imaging lens 204, for example, the method shown in FIG.
As shown by the dotted line in , it was concluded that this was caused by the movement direction of the reflecting mirror 205 being deviated from the optical axis direction, and when adjusting the optical path length, the image in the main scanning direction at both ends of the image was The present invention has been devised to reliably avoid the situation where the width becomes unbalanced.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち、第一の発明は
、図1に示すように、画像信号に応じたビームBmを生
成するビーム生成手段1と、このビーム生成手段1から
のビームBmを感光体2の主走査方向に亘って偏向走査
するビーム偏向手段3と、このビーム偏向手段3にて偏
向されたビームBmを感光体2の主走査ライン位置Sに
結像させる結像レンズ4と、ビーム偏向手段3及び感光
体2間の光路を規制する少なくとも1枚の反射ミラー5
と、前記各部品を位置決めする光学フレーム6とを備え
たラスタ走査装置を前提とし、少なくとも一枚の反射ミ
ラー5が可動支持機構7にて一定の角度姿勢を保ちなが
ら入射光軸に対して移動自在に支持されていることを特
徴とするものである。
[Means for Solving the Problem] That is, the first invention, as shown in FIG. a beam deflection means 3 that deflects and scans the photoreceptor 2 in the main scanning direction; an imaging lens 4 that focuses the beam Bm deflected by the beam deflection means 3 on the main scanning line position S of the photoreceptor 2; , at least one reflective mirror 5 regulating the optical path between the beam deflecting means 3 and the photoreceptor 2.
and an optical frame 6 for positioning each of the components, at least one reflective mirror 5 is moved relative to the incident optical axis by a movable support mechanism 7 while maintaining a constant angular posture. It is characterized by being freely supported.

【0007】また、第二の発明は、図1に示すように、
ビーム生成手段1、ビーム偏向手段3、結像レンズ4、
少なくとも1枚の反射ミラー5及び光学フレーム6とを
備えたラスタ走査装置を前提とし、ビーム生成手段1、
ビーム偏向手段3及び結像レンズ4を装備してなる光学
サブフレーム6aが可動支持機構8にて一定の角度姿勢
を保ちながら出射光軸に対して移動自在に支持されてい
ることを特徴とするものである。
[0007] Furthermore, the second invention, as shown in FIG.
Beam generation means 1, beam deflection means 3, imaging lens 4,
Presuming a raster scanning device comprising at least one reflective mirror 5 and an optical frame 6, the beam generating means 1,
An optical subframe 6a equipped with a beam deflection means 3 and an imaging lens 4 is supported by a movable support mechanism 8 so as to be movable relative to the output optical axis while maintaining a constant angular posture. It is something.

【0008】更に、第三の発明は、同じく図1に示すよ
うに、ビーム生成手段1、ビーム偏向手段3、結像レン
ズ4、少なくとも1枚の反射ミラー5及び光学フレーム
6とを備えたラスタ走査装置を前提とし、少なくとも一
枚の反射ミラー5が可動支持機構7にて一定の角度姿勢
を保ちながら入射光軸に対して移動自在に支持されると
共に、ビーム生成手段1、ビーム偏向手段3及び結像レ
ンズ4を装備してなる光学サブフレーム6aが可動支持
機構8にて一定の角度姿勢を保ちながら出射光軸に対し
て移動自在に支持されていることを特徴とするものであ
る。
Furthermore, a third invention is a raster system comprising a beam generating means 1, a beam deflecting means 3, an imaging lens 4, at least one reflective mirror 5 and an optical frame 6, as also shown in FIG. Assuming a scanning device, at least one reflective mirror 5 is supported by a movable support mechanism 7 so as to be movable with respect to the incident optical axis while maintaining a fixed angular posture, and also includes a beam generating means 1 and a beam deflecting means 3. The optical sub-frame 6a equipped with the imaging lens 4 is supported by a movable support mechanism 8 so as to be movable with respect to the output optical axis while maintaining a constant angular posture.

【0009】このような技術的手段において、ビーム生
成手段1としては、画像信号に応じたビームBmを生成
できるものであればレーザ、液晶シャッタ、LED等適
宜選定することができる。この場合において、画像部に
対応してビームBmを照射するものであってもよいし、
また、画像部以外の背景部に対応してビームBmを照射
するものであってもよい。
In such a technical means, the beam generating means 1 can be appropriately selected from a laser, a liquid crystal shutter, an LED, etc. as long as it can generate a beam Bm according to an image signal. In this case, the beam Bm may be irradiated corresponding to the image area, or
Alternatively, the beam Bm may be applied to a background area other than the image area.

【0010】また、ビーム偏向手段3としては、感光体
2の主走査方向に沿ってビーム生成手段1からのビーム
Bmを偏向するものであれば、ポリゴンミラー、ガルバ
ノミラー等適宜選定することができ、また、結像レンズ
4についても、所定の結像特性が得られるものであれば
、レンズ構成、レンズ数等適宜設計変更して差し支えな
い。
The beam deflecting means 3 may be appropriately selected from a polygon mirror, a galvano mirror, etc. as long as it deflects the beam Bm from the beam generating means 1 along the main scanning direction of the photoreceptor 2. Also, regarding the imaging lens 4, the design of the lens configuration, number of lenses, etc. may be changed as appropriate as long as predetermined imaging characteristics can be obtained.

【0011】更に、反射ミラー5の構成、数、レイアウ
ト等については所定の光路長を得ることができる範囲で
適宜設計変更して差し支えない。この場合において、上
記ビーム偏向手段3の偏向面の倒れによってビームBm
の走査位置がずれる虞れがあるため、これを防止する観
点からすれば、ビームBmの経路中に上記ビーム偏向手
段3の偏向面の倒れ補正手段(例えば反射ミラー5の一
つとしてシリンドリカルミラーやシリンドリカルレンズ
等)を設けるように設計することが好ましい。
Furthermore, the configuration, number, layout, etc. of the reflecting mirror 5 may be modified as appropriate within the range in which a predetermined optical path length can be obtained. In this case, due to the tilting of the deflection surface of the beam deflection means 3, the beam Bm
Since there is a possibility that the scanning position of the beam Bm may shift, from the viewpoint of preventing this, it is necessary to install a tilt correcting means for the deflection surface of the beam deflecting means 3 (for example, a cylindrical mirror as one of the reflecting mirrors 5) in the path of the beam Bm. It is preferable to design the lens to include a cylindrical lens (cylindrical lens, etc.).

【0012】更にまた、光学フレーム6や光学サブフレ
ーム6aの構成については、装備される各種部品に対す
る位置決め部を有し、各位置決め部に対して各種部品を
固定し得るものであれば適宜設計変更して差し支えない
Furthermore, the structure of the optical frame 6 and the optical sub-frame 6a may be modified as appropriate as long as they have positioning parts for the various parts to be installed and the various parts can be fixed to each positioning part. It's okay to do that.

【0013】また、反射ミラー5の可動支持機構7とし
ては、反射ミラー5を入射光軸方向に沿って移動させ得
るものであれば適宜設計変更して差し支えないが、通常
、反射ミラー5が入射光軸方向に直交する方向に長尺で
あることを考慮すると、上記可動支持機構7としては、
反射ミラー5の両側に入射光軸方向に延びる一対の位置
決め部材を設ける等、反射ミラー5の移動方向を確実に
規制するように設計することが好ましい。また、反射ミ
ラー5の移動量の調整を容易に行うという観点からすれ
ば、例えば位置決めピンの位置に応じて反射ミラー5の
移動量が一義的に設定されるような構成を採用すること
が好ましい。
The design of the movable support mechanism 7 for the reflecting mirror 5 may be modified as long as it is capable of moving the reflecting mirror 5 along the direction of the incident optical axis; Considering that it is long in the direction perpendicular to the optical axis direction, the movable support mechanism 7 is as follows.
It is preferable to design the reflective mirror 5 so that the moving direction of the reflective mirror 5 can be reliably regulated, such as by providing a pair of positioning members extending in the direction of the incident optical axis on both sides of the reflective mirror 5. Furthermore, from the viewpoint of easily adjusting the amount of movement of the reflecting mirror 5, it is preferable to adopt a configuration in which the amount of movement of the reflecting mirror 5 is uniquely set depending on the position of the positioning pin, for example. .

【0014】また、光学サブフレーム6aの可動支持機
構8としては、光学サブフレーム6aを出射光軸方向に
沿って移動させ得るものであれば適宜設計変更して差し
支えないが、出射光軸方向に正確に移動させることを考
慮すると、例えば、光学サブフレーム6aの方向を決定
する二本の位置決めピンの間隔をできる限り長くとるよ
うに設計することが好ましい。
The movable support mechanism 8 for the optical sub-frame 6a may be modified in design as long as it can move the optical sub-frame 6a along the output optical axis direction. In consideration of accurate movement, for example, it is preferable to design the optical subframe 6a so that the distance between two positioning pins that determine the direction of the optical subframe 6a is as long as possible.

【0015】[0015]

【作用】上述したような技術的手段によれば、上記可動
支持機構7は、反射ミラー5の角度姿勢を保ったまま反
射ミラー5を入射光軸に沿って移動させるため、反射ミ
ラー5による反射ビームBm方向が変化することなく、
ビーム偏向手段3若しくは結像レンズ4から感光体2ま
での光路長が変化する。但し、反射ミラー5の入射光軸
に沿う移動量及び設定角度によっては、感光体2への入
射位置を適正な位置に保つ上で反射ミラー5の角度調整
が必要になる場合がある。
[Operation] According to the above-mentioned technical means, the movable support mechanism 7 moves the reflecting mirror 5 along the incident optical axis while maintaining the angular posture of the reflecting mirror 5. Without changing the beam Bm direction,
The optical path length from the beam deflection means 3 or the imaging lens 4 to the photoreceptor 2 changes. However, depending on the amount of movement of the reflecting mirror 5 along the incident optical axis and the set angle, it may be necessary to adjust the angle of the reflecting mirror 5 in order to maintain the incident position on the photoreceptor 2 at an appropriate position.

【0016】また、上記可動支持機構8は、光学サブフ
レーム6aの角度姿勢を保ったまま光学サブフレーム6
aを出射光軸に沿って移動させるため、光学サブフレー
ム6a内からの出射ビームBm方向が変化することなく
、ビーム偏向手段3若しくは結像レンズ4から感光体2
までの光路長が変化する。調整が行われる。
The movable support mechanism 8 also supports the optical subframe 6a while maintaining the angular posture of the optical subframe 6a.
Since the beam a is moved along the output optical axis, the direction of the output beam Bm from within the optical subframe 6a does not change, and the direction of the output beam Bm from within the optical subframe 6a remains unchanged.
The optical path length up to the point changes. Adjustments will be made.

【0017】[0017]

【実施例】以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの
発明を詳細に説明する。図2,図3はこの発明が適用さ
れたレーザ走査装置の一実施例を示す。同図において、
符号20は光学フレーム30の所定部位に取り付けられ
る光学サブアッセンブリであり、この光学サブアッセン
ブリ20は、画像信号に応じたビームBmを照射する半
導体レーザ21と、この半導体レーザ21からのビーム
Bmを平行光に整形するコリメータレンズ22と、この
コリメータレンズ22からのビームBmを所定の走査範
囲に亘って偏向するポリゴンミラー23と、コリメータ
レンズ22からのビームBmをポリゴンミラー23へ向
けて反射させる反射ミラー24と、ポリゴンミラー23
にて偏向されたビームBmを感光ドラム26の主走査ラ
インS上に適正に結像させる結像レンズ25とを光学サ
ブフレーム31内に所定の位置関係で配設したものであ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below based on embodiments shown in the accompanying drawings. 2 and 3 show an embodiment of a laser scanning device to which the present invention is applied. In the same figure,
Reference numeral 20 denotes an optical subassembly attached to a predetermined portion of the optical frame 30, and this optical subassembly 20 includes a semiconductor laser 21 that irradiates a beam Bm according to an image signal, and a beam Bm from this semiconductor laser 21 that is parallel to each other. A collimator lens 22 that shapes the light, a polygon mirror 23 that deflects the beam Bm from the collimator lens 22 over a predetermined scanning range, and a reflecting mirror that reflects the beam Bm from the collimator lens 22 toward the polygon mirror 23. 24 and polygon mirror 23
An imaging lens 25 that properly forms an image of the beam Bm deflected by on the main scanning line S of the photosensitive drum 26 is disposed within the optical subframe 31 in a predetermined positional relationship.

【0018】また、上記光学サブアッセンブリ20の近
傍には感光ドラム26の実質走査範囲の画像書込み開始
位置を検出するための同期信号検出器ユニット27が配
設されており、この同期信号検出器ユニット27は図3
中矢印二方向に移動可能であり、一平面内で感光ドラム
26の主走査方向及び副走査方向の位置調整が可能にな
っている。より具体的には、同期信号検出器ユニット2
7は、図4に示すように、ユニットフレーム35の上方
部位には受光センサ36を配設すると共に、ユニットフ
レーム35の下方部位には反射ミラー37を配設し、光
学サブアッセンブリ20からのビームBmを反射ミラー
37を介して受光センサ36へ導くようにしたものであ
り、光学フレーム30に対するユニットフレーム35の
位置を感光ドラム26の副走査方向に相当する方向にて
実線から点線へ移動すれば、受光センサ36へのビーム
Bmの副走査方向の位置を調整することができる。尚、
光学フレーム30に対するユニットフレーム35の位置
を副走査方向と直交する主走査方向にて適宜移動させれ
ば、受光センサ36へのビームBmの主走査方向の位置
を調整することができる。
Further, a synchronizing signal detector unit 27 is disposed near the optical subassembly 20 for detecting the image writing start position in the substantial scanning range of the photosensitive drum 26. 27 is Figure 3
It is movable in the two directions indicated by the middle arrow, and the position of the photosensitive drum 26 can be adjusted in the main scanning direction and the sub-scanning direction within one plane. More specifically, the synchronization signal detector unit 2
7, as shown in FIG. 4, a light receiving sensor 36 is disposed above the unit frame 35, and a reflection mirror 37 is disposed below the unit frame 35, so that the beam from the optical subassembly 20 is Bm is guided to the light receiving sensor 36 via the reflecting mirror 37, and if the position of the unit frame 35 with respect to the optical frame 30 is moved from the solid line to the dotted line in the direction corresponding to the sub-scanning direction of the photosensitive drum 26, , the position of the beam Bm to the light receiving sensor 36 in the sub-scanning direction can be adjusted. still,
By appropriately moving the position of the unit frame 35 with respect to the optical frame 30 in the main scanning direction perpendicular to the sub-scanning direction, the position of the beam Bm to the light receiving sensor 36 in the main scanning direction can be adjusted.

【0019】更に、この実施例にあっては、上記光学フ
レーム30上には上記ポリゴンミラー23のミラー面の
倒れを補正するためのシリンドリカルミラーサブアッセ
ンブリ28が配設されており、このシリンドリカルミラ
ーサブアッセンブリ28からのビームBmは、光学フレ
ーム30に開設された開口部(図示せず)を通じて光学
フレーム30外に照射され、光学フレーム30の裏面側
に配設された反射ミラー29を介して感光ドラム26の
主走査ラインS上に導かれるようになっている。
Furthermore, in this embodiment, a cylindrical mirror subassembly 28 for correcting the inclination of the mirror surface of the polygon mirror 23 is disposed on the optical frame 30. The beam Bm from the assembly 28 is irradiated to the outside of the optical frame 30 through an opening (not shown) formed in the optical frame 30, and is transmitted to the photosensitive drum through a reflection mirror 29 disposed on the back side of the optical frame 30. 26 main scanning lines S.

【0020】この実施例において、上記シリンドリカル
ミラーサブアッセンブリ(以下、実施例の欄中ではミラ
ーサブアッセンブリという)28の具体的構成を図5〜
図6を中心に示す。同図において、ミラーサブアッセン
ブリ28は、シリンドリカルミラー41と、このシリン
ドリカルミラー41への入射ビーム方向へ移動自在な可
動ベース42と、この可動ベース42上に設けられてシ
リンドリカルミラー41を角度調整自在に支持するミラ
ーサポート50とで構成されている。
In this embodiment, the specific structure of the cylindrical mirror subassembly (hereinafter referred to as mirror subassembly in the embodiment section) 28 is shown in FIGS.
Mainly shown in FIG. In the figure, the mirror subassembly 28 includes a cylindrical mirror 41, a movable base 42 that is movable in the direction of the beam incident on the cylindrical mirror 41, and a movable base 42 that is provided on the movable base 42 so that the angle of the cylindrical mirror 41 can be adjusted freely. It is composed of a mirror support 50 that supports the mirror.

【0021】より具体的に述べると、上記可動ベース4
2は剛性の高い断面略ハット状のチャンネル材43の両
側に位置決めプレート44,44を固着したものであり
、各位置決めプレート44には、特に図7に示すように
、シリンドリカルミラー41の入射ビーム方向に沿って
複数(この実施例では5個)の位置決め孔45a〜45
eが例えばL−X(mm)間隔毎に開設され、一方、各
位置決めプレート44に対応した光学フレーム30部位
には、シリンドリカルミラー41の入射ビーム方向に沿
って複数(この実施例では5個)のフレーム側位置決め
孔46a〜46eが例えばL(mm)間隔毎に開設され
ている。
More specifically, the movable base 4
2 has positioning plates 44, 44 fixed to both sides of a highly rigid channel member 43 having a substantially hat-shaped cross section, and each positioning plate 44 has a cylindrical mirror 41 whose incident beam direction is fixed as shown in FIG. A plurality of (five in this embodiment) positioning holes 45a to 45 are formed along the
e are provided at intervals of, for example, L-X (mm), and on the other hand, a plurality (5 in this embodiment) of the optical frame 30 corresponding to each positioning plate 44 are provided along the direction of the incident beam of the cylindrical mirror 41. The frame side positioning holes 46a to 46e are opened at intervals of, for example, L (mm).

【0022】そして、位置決めプレート44の所定の位
置決め孔45a〜45eと所定のフレーム側位置決め孔
46a〜46eとに位置決めピン47を挿入することに
より、図8に示すように、可動ベース42の位置がシリ
ンドリカルミラー41の入射ビーム方向に沿って段階的
に移動するようになっている。この実施例では、位置決
め孔45cとフレーム側位置決め孔46cとに位置決め
ピン47を挿入すると、図8(c)のような状態になり
、位置決め孔45a,45eとフレーム側位置決め孔4
6a,46eとに位置決めピン47を挿入すると、可動
ベース42は図8(a),(e)のように図8(c)の
状態に比べて2Xだけ前後に移動し、また、位置決め孔
45b,45dとフレーム側位置決め孔46b,46d
とに位置決めピン47を挿入すると、可動ベース42は
図8(b),(d)のように図8(c)の状態に比べて
Xだけ前後に移動することになる。このとき、可動ベー
ス42の両側は同じ量だけ移動するので、可動ベース4
2の移動方向がシリンドリカルレンズ41の入射ビーム
方向からずれることはない。尚、位置決めピン47の挿
入位置としては左右両側の位置決めプレート44で対称
位置を選択しなくてはならないのは当然である。
Then, by inserting the positioning pins 47 into the predetermined positioning holes 45a to 45e of the positioning plate 44 and the predetermined frame side positioning holes 46a to 46e, the position of the movable base 42 is adjusted as shown in FIG. It moves stepwise along the direction of the incident beam on the cylindrical mirror 41. In this embodiment, when the positioning pin 47 is inserted into the positioning hole 45c and the frame side positioning hole 46c, the state shown in FIG.
6a and 46e, the movable base 42 moves back and forth by 2X as shown in FIGS. 8(a) and 8(e) compared to the state in FIG. , 45d and frame side positioning holes 46b, 46d
When the positioning pin 47 is inserted into the position, the movable base 42 moves back and forth by X as shown in FIGS. 8(b) and 8(d) compared to the state shown in FIG. 8(c). At this time, both sides of the movable base 42 move by the same amount, so the movable base 42
2 does not deviate from the direction of the incident beam of the cylindrical lens 41. It goes without saying that the inserting position of the positioning pin 47 must be selected symmetrically between the left and right positioning plates 44.

【0023】また、上記ミラーサポート50は、図5及
び図9に示すように、上記可動ベース42の長手方向両
側に固着される一対の固定プレート51,52と、この
固定プレート51,52の相対向する内側に回転自在に
装着されてシリンドリカルミラー41を支持する回転支
持プレート61,62とを備えている。
Further, as shown in FIGS. 5 and 9, the mirror support 50 includes a pair of fixed plates 51 and 52 fixed to both sides of the movable base 42 in the longitudinal direction, and Rotation support plates 61 and 62 are rotatably mounted on the inner sides facing each other and support the cylindrical mirror 41.

【0024】より具体的に述べると、上記固定プレート
51,52の中央にはシリンドリカルミラー41の両端
部を挿入配置するミラー挿入口53が開設され、また、
各ミラー挿入口53の近傍部位には回転支持軸としての
回転用ボス54が形成されており、この回転用ボス54
はシリンドリカルミラー41の母線と平行な回転中心を
与えるようになっている。更に、各固定プレート51,
52のミラー挿入口53を挟んだ両側には固定用ねじ5
5,56よりも大径な一対のねじ挿入孔57が夫々開設
されている。
More specifically, a mirror insertion opening 53 into which both ends of the cylindrical mirror 41 are inserted is provided in the center of the fixed plates 51 and 52, and
A rotation boss 54 as a rotation support shaft is formed in the vicinity of each mirror insertion opening 53.
is designed to provide a rotation center parallel to the generatrix of the cylindrical mirror 41. Furthermore, each fixed plate 51,
There are fixing screws 5 on both sides of the mirror insertion slot 53 of 52.
A pair of screw insertion holes 57 each having a larger diameter than those 5 and 56 are provided.

【0025】一方、上記各回転支持プレート61,62
の中央にはシリンドリカルミラー41の両端部を挿入配
置するミラー挿入口63が開設され、また、上記回転用
ボス54に対応した箇所には回転用ボス54を回転自在
に係合させる係合孔64が開設されている。更に、各回
転支持プレート61,62のミラー挿入口63を挟んだ
両側には固定用ねじ55,56が螺合する一対のねじ孔
67が夫々形成されている。更にまた、上記回転支持プ
レート61,62の回転中心から離れた側の下端部には
下方側に出没自在な調整ねじ68が設けられており、こ
の調整ねじ68の先端側が上記可動ベース42面に当接
配置されている。このため、調整ねじ68を適宜出没さ
せることにより、調整ねじ68の押し込み量に応じて回
転支持プレート61,62が回転中心回りに微小回転す
るようになっている。
On the other hand, each of the rotation support plates 61 and 62
A mirror insertion opening 63 into which both ends of the cylindrical mirror 41 are inserted is provided at the center of the cylindrical mirror 41, and an engagement hole 64 into which the rotation boss 54 is rotatably engaged is provided at a location corresponding to the rotation boss 54. has been established. Furthermore, a pair of screw holes 67 into which the fixing screws 55 and 56 are screwed are formed on both sides of the mirror insertion opening 63 of each rotation support plate 61 and 62, respectively. Furthermore, an adjustment screw 68 that can freely protrude and retract downward is provided at the lower end of the rotation support plates 61 and 62 on the side away from the center of rotation, and the tip side of this adjustment screw 68 is attached to the surface of the movable base 42. They are placed in contact with each other. Therefore, by appropriately moving the adjustment screw 68 in and out, the rotation support plates 61 and 62 are slightly rotated around the center of rotation according to the amount by which the adjustment screw 68 is pushed.

【0026】そして、上記一方の回転支持プレート61
のミラー挿入口63縁のうち、シリンドリカルミラー4
1の反射面41aに対応した箇所には、反射面41を2
点で支持する支持突起71,72が形成されると共に、
シリンドリカルミラー41の反射面41aと直交する下
側面41bに対応した箇所には、下側面41bを1点で
支持する支持突起73が形成されている。また、他方の
回転支持プレート62のミラー挿入口63縁のうち、シ
リンドリカルミラー41の反射面41aに対応した箇所
には、反射面41を1点で支持する支持突起74が形成
されると共に、シリンドリカルミラー41の反射面41
aと直交する下側面41bに対応した箇所には、下側面
41bを1点で支持する支持突起75が形成されている
。更に、図6(a)(b),図9(a)(図5中A方向
から見た矢視図に相当)(b)(図5中B方向から見た
矢視図に相当)に示すように、各回転支持プレート61
,62のミラー挿入口63縁には、夫々シリンドリカル
ミラー41を各支持突起71〜75側へ付勢する板バネ
76〜79が装着されている。
[0026]The one rotational support plate 61
Of the mirror insertion slot 63 edge, the cylindrical mirror 4
At the location corresponding to the reflective surface 41a of 1, there is a reflective surface 41 of 2.
Support protrusions 71 and 72 are formed to support at points, and
A support protrusion 73 that supports the lower side surface 41b at one point is formed at a location corresponding to the lower side surface 41b orthogonal to the reflective surface 41a of the cylindrical mirror 41. Further, a support protrusion 74 that supports the reflective surface 41 at one point is formed at a location corresponding to the reflective surface 41a of the cylindrical mirror 41 on the edge of the mirror insertion opening 63 of the other rotational support plate 62, and a support protrusion 74 that supports the reflective surface 41 at one point Reflective surface 41 of mirror 41
A support protrusion 75 that supports the lower side surface 41b at one point is formed at a location corresponding to the lower side surface 41b orthogonal to a. Furthermore, in FIGS. 6(a) and 9(b), FIG. 9(a) (corresponding to the view seen from the direction A in FIG. 5) and (b) (corresponding to the view seen from the direction B in FIG. 5). As shown, each rotation support plate 61
, 62 are fitted with leaf springs 76 to 79, respectively, for biasing the cylindrical mirror 41 toward the respective support protrusions 71 to 75.

【0027】次に、ミラーサポート50によるシリンド
リカルミラー41の角度調整方法について説明する。 今、図9(a)(b)に示すように、シリンドリカルミ
ラー41の角度をθだけ変化させる場合を想定すると、
先ず、各固定ねじ55,56を一旦緩めることにより、
回転支持プレート61,62が回転し得る状態にしてお
く。
Next, a method of adjusting the angle of the cylindrical mirror 41 using the mirror support 50 will be explained. Now, assuming that the angle of the cylindrical mirror 41 is changed by θ, as shown in FIGS. 9(a) and 9(b),
First, by loosening each fixing screw 55, 56,
The rotation support plates 61 and 62 are kept in a rotatable state.

【0028】この状態において、図9(a)に示すよう
に、回転支持プレート61側の調整ねじ68を適宜回す
ことにより、上記回転支持プレート61側をθだけ回転
させると、図10(a)に示すように、シリンドリカル
ミラー41の一端側は回転支持プレート61に追従して
点線の状態から実線の状態へと回転移動する。このとき
、図10(b)に示すように、回転支持プレート62も
回転自在の状態になっているので、上記シリンドリカル
ミラー41の他端側もシリンドリカルミラー41の一端
側の回転移動に追従して回転支持プレート62と一体と
なってθだけ回転移動する。
In this state, as shown in FIG. 9(a), by appropriately turning the adjustment screw 68 on the rotary support plate 61 side, the rotary support plate 61 side is rotated by θ, as shown in FIG. 10(a). As shown in , one end side of the cylindrical mirror 41 follows the rotational support plate 61 and rotates from the state shown by the dotted line to the state shown by the solid line. At this time, as shown in FIG. 10(b), since the rotation support plate 62 is also in a freely rotatable state, the other end side of the cylindrical mirror 41 also follows the rotational movement of the one end side of the cylindrical mirror 41. It rotates by θ together with the rotation support plate 62.

【0029】この段階において、固定ねじ55,56を
締め付けるようにすれば、上記シリンドリカルミラー4
1は全体的にθだけ回転移動した位置に設定されること
になる。
At this stage, if the fixing screws 55 and 56 are tightened, the cylindrical mirror 4
1 will be set at a position rotated by θ as a whole.

【0030】この実施例に係るシリンドリカルミラー4
1の角度調整性能を評価する上で、図13(a)(b)
に示すように、ミラーサポート50の一方の構成(回転
支持プレート61側)については実施例のものと共通で
、他方の構成(回転支持プレート62側)については回
転支持プレート62をなくし、固定プレート52のミラ
ー挿入口53に夫々支持突起74,75及び板バネ78
,79を設けるようにしたものを比較例とし、この比較
例に対し実施例と同様なミラーの角度調整を行った。
Cylindrical mirror 4 according to this embodiment
In evaluating the angle adjustment performance of No. 1, Fig. 13(a)(b)
As shown in FIG. 2, one configuration (rotation support plate 61 side) of the mirror support 50 is the same as that of the embodiment, and the other configuration (rotation support plate 62 side) eliminates the rotation support plate 62 and replaces the fixed plate with Support protrusions 74, 75 and plate springs 78 are provided in the mirror insertion slot 53 of 52, respectively.
, 79 was used as a comparative example, and the same mirror angle adjustment as in the example was performed for this comparative example.

【0031】上述した比較例にあっては、図14(a)
に示すように、一方の回転支持プレート61を適宜回転
させてシリンドリカルミラー41の一端側を点線から実
線で示す状態へ回転移動させたところ、図14(b)に
示すように、最初シリンドリカルミラー41の他端側も
一端側の回転移動に追従して点線で示す状態から実線で
示す状態へ回転移動する。このとき、上記シリンドリカ
ルミラー41の他端側下側面41bが支持突起75から
Δだけ浮いてしまうと想定すると、図14(c)に示す
ように、板バネ79の付勢力によりシリンドリカルミラ
ー41の他側側下側へ付勢され、シリンドリカルミラー
41の他端側の下側面41bが支持突起75に当接する
までシリンドリカルミラー41の他端側が下方へ移動し
、シリンドリカルミラー41の他端側の母線がΔだけ下
方へ偏位してしまう。このことはシリンドリカルミラー
41の母線が傾くということを意味しており、比較例に
よるミラーの角度調整性能が好ましくなく、実施例のも
のが優れていることを裏付けている。
In the above-mentioned comparative example, FIG. 14(a)
As shown in FIG. 14(b), when one end of the cylindrical mirror 41 was rotated and moved from the dotted line to the state shown by the solid line by appropriately rotating one rotational support plate 61, the cylindrical mirror 41 was initially The other end side follows the rotational movement of the one end side and rotates from the state shown by the dotted line to the state shown by the solid line. At this time, assuming that the lower side surface 41b on the other end side of the cylindrical mirror 41 is lifted off the support protrusion 75 by an amount Δ, the biasing force of the plate spring 79 will cause the cylindrical mirror 41 to rise as shown in FIG. 14(c). The other end of the cylindrical mirror 41 moves downward until the lower side surface 41b of the other end of the cylindrical mirror 41 comes into contact with the support protrusion 75, and the generatrix of the other end of the cylindrical mirror 41 moves downward. It deviates downward by Δ. This means that the generatrix of the cylindrical mirror 41 is tilted, which confirms that the angle adjustment performance of the mirror according to the comparative example is unfavorable, and that the mirror according to the example is superior.

【0032】また、この実施例にあっては、シリンドリ
カルミラー41の製造精度により、シリンドリカルミラ
ー41自体の母線が傾いていたとしても、この母線の傾
きを補正することが可能であり、以下にその具体的な補
正手順を述べる。
Furthermore, in this embodiment, even if the generatrix of the cylindrical mirror 41 itself is tilted, it is possible to correct the inclination of the generatrix due to the manufacturing precision of the cylindrical mirror 41. The specific correction procedure will be described.

【0033】今、上述したようなミラーの角度調整を行
った時点で、シリンドリカルミラー41の母線が傾いて
いることが判明したと仮定すると、図11(b)に示す
ように、一方の固定ねじ56のみを緩め、回転支持プレ
ート62を回転移動し得る状態にした後、調整ねじ68
を適宜調整して回転支持プレート62を傾き補正分だけ
回転させ、シリンドリカルミラー41の母線の傾きを補
正する。
Now, assuming that it is found that the generatrix of the cylindrical mirror 41 is tilted at the time when the angle of the mirror is adjusted as described above, as shown in FIG. 11(b), one of the fixing screws is After loosening only the adjusting screw 56 and making the rotary support plate 62 rotatable, loosen the adjusting screw 68.
is adjusted appropriately to rotate the rotary support plate 62 by the amount of inclination correction, thereby correcting the inclination of the generatrix of the cylindrical mirror 41.

【0034】このとき、図11(a)に示すように、上
記ミラーサポート50の一方側(回転支持プレート61
側)においては、固定ねじ55により回転支持プレート
61が固定プレート51に固定された状態にあり、しか
も、上記シリンドリカルミラー41の反射面が2つの支
持突起71,72に当接した状態でシリンドリカルミラ
ー41の回転方向の移動が拘束されている。従って、母
線の傾き補正のような微量な回転移動をミラーサポート
50の他方側で行ったとしても、シリンドリカルミラー
41の一端側が他端側の移動に追従して移動することは
なく、シリンドリカルミラー41の母線の傾きは確実に
補正される。
At this time, as shown in FIG. 11(a), one side of the mirror support 50 (rotation support plate 61
side), the rotary support plate 61 is fixed to the fixed plate 51 by the fixing screw 55, and the cylindrical mirror 41 is in a state in which the reflective surface of the cylindrical mirror 41 is in contact with the two support protrusions 71 and 72. 41 is restricted from moving in the rotational direction. Therefore, even if slight rotational movement such as correction of the inclination of the generatrix is performed on the other side of the mirror support 50, one end of the cylindrical mirror 41 will not follow the movement of the other end, and the cylindrical mirror 41 will not move following the movement of the other end. The slope of the generatrix is reliably corrected.

【0035】尚、厳密な意味では、図12図(a)(b
)に示すように、2点支持構成の回転支持プレート61
側ではシリンドリカルミラー41の反射面41aの角度
は変化するが、通常レーザプリンタ等で使用されるシリ
ンドリカルミラー41の曲率半径は充分大きく、2点支
持スパンに対して回転支持プレート61,62間のスパ
ンは充分長く、しかも、母線の傾き補正量は微量である
ので、反射面41aの誤差δは極めて微小であり、実際
の調整では全く支障はない。
Incidentally, in a strict sense, FIGS. 12(a) and (b)
), a rotary support plate 61 with a two-point support configuration
Although the angle of the reflective surface 41a of the cylindrical mirror 41 changes on the side, the radius of curvature of the cylindrical mirror 41 normally used in laser printers etc. is sufficiently large, and the span between the rotation support plates 61 and 62 is smaller than the two-point support span. is sufficiently long, and the amount of correction of the inclination of the generatrix is very small, so the error δ of the reflecting surface 41a is extremely small and causes no problem in actual adjustment.

【0036】従って、この実施例においては、図15(
a)(b)に示すように、上述した手順にて可動ベース
42の位置を変化させることにより、シリンドリカルミ
ラー41の入射ビーム方向に沿った位置を変化させるこ
とができ、これにより、出射ビーム方向を変化させるこ
となく、ポリゴンミラー23若しくは結像レンズ25か
ら感光ドラム26までの光路長が可変調整される。
Therefore, in this embodiment, FIG.
As shown in a) and (b), by changing the position of the movable base 42 in the above-described procedure, the position of the cylindrical mirror 41 along the incident beam direction can be changed, thereby changing the output beam direction. The optical path length from the polygon mirror 23 or the imaging lens 25 to the photosensitive drum 26 is variably adjusted without changing.

【0037】また、図15(a)(b)に示すように、
上述した手順にてミラーサポート50を調整することに
より、シリンドリカルミラー41の角度調整及び母線の
補正を行うことができるので、感光ドラム26上の主走
査ラインS上に潜像が適正に書込まれる。
Furthermore, as shown in FIGS. 15(a) and 15(b),
By adjusting the mirror support 50 according to the above-described procedure, the angle of the cylindrical mirror 41 can be adjusted and the generatrix can be corrected, so that the latent image is properly written on the main scanning line S on the photosensitive drum 26. .

【0038】更に、この実施例では、光学サブアッセン
ブリ20が出射ビーム方向に沿って移動調整されるよう
になっている。より具体的に述べると、図16〜図18
に示すように、光学サブアッセンブリ20の光学サブフ
レーム31の裏面一側には出射ビーム方向に対する位置
規制用ピン101が突設され、この位置規制用ピン10
1は光学フレーム30において出射ビーム方向に延びる
長孔102に摺動自在に係合している。また、光学サブ
フレーム31の裏面他側には出射ビーム方向に並ぶ二つ
の位置規制用ピン103が突設されると共に、この位置
規制用ピン103と並んで仮止めねじ104を挿入する
ためのねじ挿入孔105が開設されている。
Furthermore, in this embodiment, the optical subassembly 20 is adapted to be moved and adjusted along the direction of the output beam. To be more specific, FIGS. 16 to 18
As shown in FIG. 2, a position regulating pin 101 with respect to the output beam direction is provided on one side of the back surface of the optical sub-frame 31 of the optical sub-assembly 20, and this position regulating pin 10
1 is slidably engaged with a long hole 102 extending in the direction of the output beam in the optical frame 30. Further, on the other side of the back surface of the optical sub-frame 31, two position regulating pins 103 arranged in the direction of the output beam are protruded, and a screw for inserting a temporary set screw 104 in line with the position regulating pins 103 is provided. An insertion hole 105 is opened.

【0039】また、上記光学サブフレーム31と光学フ
レーム30との間には位置調整用プレート106が介在
されており、この位置調整用プレート106は水平部1
07が長いL字状に形成されており、水平部107には
上記位置規制用ピン103と係合する出射ビーム方向に
延びる長孔108が形成されると共に、上記ねじ挿入孔
105に対応して仮止めねじ104を螺合させるねじ孔
109が形成され、更に、水平部107の裏面側には位
置決めピン110が突設され、光学フレーム30には上
記位置決めピン110と係合する位置決め孔111が開
設されている。一方、上記位置調整用プレート106の
垂直部112には調整ねじ114を螺合させるためのね
じ孔113が形成されている。尚、光学サブフレーム3
1には上記垂直部112に対向し且つ調整ねじ114の
先端が衝合するストッパ壁115が形成されている。
Further, a position adjustment plate 106 is interposed between the optical sub-frame 31 and the optical frame 30, and this position adjustment plate 106 is connected to the horizontal portion 1.
07 is formed in a long L-shape, and a long hole 108 extending in the direction of the output beam that engages with the position regulating pin 103 is formed in the horizontal portion 107, and also corresponds to the screw insertion hole 105. A screw hole 109 is formed into which a temporary set screw 104 is screwed, and a positioning pin 110 is protruded from the back side of the horizontal portion 107, and a positioning hole 111 that engages with the positioning pin 110 is formed in the optical frame 30. It has been established. On the other hand, a screw hole 113 for screwing an adjustment screw 114 is formed in the vertical portion 112 of the position adjustment plate 106. In addition, optical subframe 3
1 is formed with a stopper wall 115 that faces the vertical portion 112 and against which the tip of the adjustment screw 114 abuts.

【0040】次に、上記光学サブフレーム31の取付け
状態を説明すると、光学サブフレーム31に上記位置調
整用プレート106を仮止めねじ104にて仮組付けし
、この状態で、光学フレーム30の長孔102に上記光
学サブフレーム31の位置規制用ピン101を係合させ
ると共に、光学フレーム30の位置決め孔111に位置
調整用プレート106の位置決めピン110を係合させ
る。
Next, the installation state of the optical sub-frame 31 will be explained. The position adjustment plate 106 is temporarily assembled to the optical sub-frame 31 using the temporary set screws 104, and in this state, the length of the optical frame 30 is adjusted. The position regulating pin 101 of the optical sub-frame 31 is engaged with the hole 102, and the positioning pin 110 of the position adjustment plate 106 is engaged with the positioning hole 111 of the optical frame 30.

【0041】この段階において、上記調整ねじ114を
適宜回転させると、調整ねじ114がストッパ壁115
に当接しているため、上記調整ねじ114を順次押し込
んでいくと、光学サブフレーム31がビーム照射方向に
対して位置規制された状態で移動し、光学サブフレーム
31が所定の位置に達した段階で、上記仮止めねじ10
4を確実に締め付けることにより、光学サブフレーム3
1が所定位置に位置決めされる。そして、図示外の固定
ねじを用いて光学サブフレーム31を光学フレーム30
に固定すれば、光学サブフレーム31の取付けが終了す
る。
At this stage, if the adjusting screw 114 is rotated appropriately, the adjusting screw 114 will be moved to the stopper wall 115.
When the adjusting screws 114 are pushed in sequentially, the optical sub-frame 31 moves with its position regulated relative to the beam irradiation direction, and when the optical sub-frame 31 reaches a predetermined position. And the above temporary set screw 10
4, securely tighten the optical subframe 3.
1 is positioned at a predetermined position. Then, the optical subframe 31 is attached to the optical frame 30 using fixing screws (not shown).
Once the optical subframe 31 is fixed, the installation of the optical subframe 31 is completed.

【0042】従って、この実施例においては、図19(
a)(b)に示すように、上記調整ねじ114を適宜回
転操作することにより、光学サブフレーム31をビーム
出射方向mに沿って移動させることができ、これによつ
て、ポリゴンミラー23若しくは結像レンズ25から感
光ドラム26までの光路長を可変設定することが可能に
なる。
Therefore, in this embodiment, FIG.
As shown in a) and (b), by appropriately rotating the adjusting screw 114, the optical sub-frame 31 can be moved along the beam emission direction m, and thereby the polygon mirror 23 or the It becomes possible to variably set the optical path length from the image lens 25 to the photosensitive drum 26.

【0043】[0043]

【発明の効果】請求項1〜3記載の発明によれば、反射
ミラー若しくは光学サブフレームの角度姿勢を一定に保
つた状態で反射ミラー若しくは光学サブフレームをビー
ム入射方向若しくはビーム出射方向に沿って移動させる
ようにしたので、光路長を調整する上で、ビーム経路の
ずれを確実に回避しながら、ビーム偏向手段若しくは結
像レンズから感光体までの光路長を可変設定することが
できる。
According to the invention as set forth in claims 1 to 3, the reflecting mirror or the optical subframe can be moved along the beam incident direction or the beam exiting direction while keeping the angular posture of the reflecting mirror or the optical subframe constant. Since it is moved, the optical path length from the beam deflection means or the imaging lens to the photoreceptor can be variably set while adjusting the optical path length while reliably avoiding deviation of the beam path.

【0044】また、請求項2記載の発明によれば、光学
サブフレームをビーム出射方向に沿って移動させたとし
ても、感光体へのビーム入射位置が変化することはない
ので、光学サブフレームの角度調整を全く必要とせず光
路長調整を簡単に行うことができる。
Further, according to the second aspect of the invention, even if the optical sub-frame is moved along the beam emission direction, the position of the beam incident on the photoreceptor does not change, so that the optical sub-frame can be moved. The optical path length can be easily adjusted without requiring any angle adjustment.

【0045】更に、請求項3記載の発明によれば、反射
ミラー及び光学サブフレームの角度姿勢を一定に保つた
状態で反射ミラー及び光学サブフレームを夫々ビーム入
射方向若しくはビーム出射方向に沿って移動させるよう
にしたので、組立て時に反射ミラーサブアッセンブリ及
び光学サブアッセンブリに対して各サブアッセンブリ単
位で光路長調整を行っておけば、各サブアッセンブリを
夫々独立に交換したとしても、部品交換時において光路
長の調整を省略することができる。
Furthermore, according to the third aspect of the invention, the reflecting mirror and the optical subframe are moved along the beam incident direction or the beam exiting direction, respectively, while keeping the angular postures of the reflecting mirror and the optical subframe constant. Therefore, if the optical path length is adjusted for each subassembly for the reflective mirror subassembly and optical subassembly during assembly, even if each subassembly is replaced independently, the optical path length will be adjusted when replacing the parts. Length adjustment can be omitted.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】この発明に係るラスタ走査装置の概要を示す説
明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an overview of a raster scanning device according to the present invention.

【図2】この発明が適用されたレーザ走査装置の一実施
例を示す正面説明図である。
FIG. 2 is an explanatory front view showing an embodiment of a laser scanning device to which the present invention is applied.

【図3】図2の平面図である。FIG. 3 is a plan view of FIG. 2;

【図4】同期信号検出器ユニットの構成例を示す説明図
である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a configuration example of a synchronization signal detector unit.

【図5】シリンドリカルミラーサブアッセンブリの分解
斜視図である。
FIG. 5 is an exploded perspective view of the cylindrical mirror subassembly.

【図6】シリンドリカルミラーサブアッセンブリの正面
図(a)及び平面図(b)である。
FIG. 6 is a front view (a) and a plan view (b) of a cylindrical mirror subassembly.

【図7】可動ベースの位置決め構造を示す説明図である
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a positioning structure of a movable base.

【図8】可動ベースの位置決め状態を示す説明図である
FIG. 8 is an explanatory diagram showing the positioning state of the movable base.

【図9】ミラーサポートを示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing a mirror support.

【図10】ミラーサポートによるシリンドリカルミラー
の角度調整状態を示す説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing the angle adjustment state of the cylindrical mirror by the mirror support.

【図11】ミラーサポートによるシリンドリカルミラー
の母線の傾き補正状態を示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a state in which the inclination of the generating line of the cylindrical mirror is corrected by the mirror support.

【図12】ミラーサポートによるシリンドリカルミラー
の母線の傾き補正時におけるミラー面の変化状態を示す
説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing how the mirror surface changes when the inclination of the generatrix of the cylindrical mirror is corrected by the mirror support.

【図13】比較例に係るミラーサポートの一例を示す説
明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram showing an example of a mirror support according to a comparative example.

【図14】比較例に係るラーサポートによるシリンドリ
カルミラーの角度調整状態を示す説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing the angle adjustment state of the cylindrical mirror by the lar support according to the comparative example.

【図15】実施例に係るシリンドリカルミラーによる光
路長及び角度調整状態を模式的に示す説明図である。
FIG. 15 is an explanatory diagram schematically showing the optical path length and angle adjustment state by the cylindrical mirror according to the example.

【図16】光学サブフレームの位置調整機構を示す説明
図である。
FIG. 16 is an explanatory diagram showing a position adjustment mechanism of the optical subframe.

【図17】その要部説明図である。FIG. 17 is an explanatory diagram of the main part thereof.

【図18】図17を下側から見た矢視図である。FIG. 18 is a view taken from below in FIG. 17;

【図19】実施例に係る光学サブフレームによる光路長
調整状態を模式的に示す説明図である。
FIG. 19 is an explanatory diagram schematically showing an optical path length adjustment state by the optical subframe according to the example.

【図20】従来のラスタ走査装置の一例を示す説明図で
ある。
FIG. 20 is an explanatory diagram showing an example of a conventional raster scanning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  ビーム生成手段 2  感光体 3  ビーム偏向手段 4  結像レンズ 5  反射ミラー 6  光学フレーム 6a  光学サブフレーム 7  可動支持手段 8  可動支持手段 1 Beam generation means 2 Photoreceptor 3 Beam deflection means 4 Imaging lens 5 Reflection mirror 6. Optical frame 6a Optical subframe 7 Movable support means 8 Movable support means

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  画像信号に応じたビーム(Bm)を生
成するビーム生成手段(1)と、このビーム生成手段(
1)からのビーム(Bm)を感光体(2)の主走査方向
に亘って偏向走査するビーム偏向手段(3)と、このビ
ーム偏向手段(3)にて偏向されたビーム(Bm)を感
光体(2)の主走査ライン位置(S)に結像させる結像
レンズ(4)と、ビーム偏向手段(3)及び感光体(2
)間の光路を規制する少なくとも1枚の反射ミラー(5
)と、前記各部品を位置決めする光学フレーム(6)と
を備えたラスタ走査装置において、少なくとも一枚の反
射ミラー(5)は可動支持機構(7)にて一定の角度姿
勢を保ちながら入射光軸に対して移動自在に支持されて
いることを特徴とするラスタ走査装置。
1. Beam generating means (1) for generating a beam (Bm) according to an image signal;
A beam deflection means (3) deflects and scans the beam (Bm) from 1) over the main scanning direction of the photoreceptor (2), and a beam (Bm) deflected by the beam deflection means (3) is exposed to light. An imaging lens (4) for forming an image on the main scanning line position (S) of the body (2), a beam deflection means (3) and a photoreceptor (2).
) at least one reflective mirror (5) regulating the optical path between
) and an optical frame (6) for positioning each of the components, at least one reflective mirror (5) is moved by a movable support mechanism (7) to reflect the incident light while maintaining a constant angular attitude. A raster scanning device characterized in that it is supported movably about an axis.
【請求項2】  画像信号に応じたビーム(Bm)を生
成するビーム生成手段(1)と、このビーム生成手段(
1)からのビーム(Bm)を感光体(2)の主走査方向
に亘って偏向走査するビーム偏向手段(3)と、このビ
ーム偏向手段(3)にて偏向されたビーム(Bm)を感
光体(2)の主走査ライン位置(S)に結像させる結像
レンズ(4)と、ビーム偏向手段(4)及び感光体(2
)間の光路を規制する少なくとも1枚の反射ミラー(5
)と、前記各部品を位置決めする光学フレーム(6)と
を備えたラスタ走査装置において、ビーム生成手段(1
)、ビーム偏向手段(3)及び結像レンズ(4)が装備
される光学サブフレーム(6a)は可動支持機構(8)
にて一定の角度姿勢を保ちながら出射光軸に対して移動
自在に支持されていることを特徴とするラスタ走査装置
2. Beam generating means (1) for generating a beam (Bm) according to an image signal;
A beam deflection means (3) deflects and scans the beam (Bm) from 1) over the main scanning direction of the photoreceptor (2), and a beam (Bm) deflected by the beam deflection means (3) is exposed to light. An imaging lens (4) for forming an image on the main scanning line position (S) of the body (2), a beam deflection means (4) and a photoreceptor (2).
) at least one reflective mirror (5) regulating the optical path between
) and an optical frame (6) for positioning each of the components, the beam generating means (1
), an optical subframe (6a) equipped with beam deflection means (3) and an imaging lens (4) is a movable support mechanism (8)
A raster scanning device characterized in that it is supported movably with respect to an output optical axis while maintaining a constant angular posture.
【請求項3】  画像信号に応じたビーム(Bm)を生
成するビーム生成手段(1)と、このビーム生成手段(
1)からのビーム(Bm)を感光体(2)の主走査方向
に亘って偏向走査するビーム偏向手段(3)と、このビ
ーム偏向手段(3)にて偏向されたビーム(Bm)を感
光体(2)の主走査ライン位置(S)に結像させる結像
レンズ(4)と、ビーム偏向手段(3)及び感光体(2
)間の光路を規制する少なくとも1枚の反射ミラー(5
)と、前記各部品を位置決めする光学フレーム(6)と
を備えたラスタ走査装置において、少なくとも一枚の反
射ミラー(5)は可動支持機構(7)にて一定の角度姿
勢を保ちながら入射光軸に対して移動自在に支持される
と共に、ビーム生成手段(1)、ビーム偏向手段(3)
及び結像レンズ(4)が装備される光学サブフレーム(
6a)は可動支持機構(8)にて一定の角度姿勢を保ち
ながら出射光軸に対して移動自在に支持されていること
を特徴とするラスタ走査装置。
3. Beam generating means (1) for generating a beam (Bm) according to an image signal;
A beam deflection means (3) deflects and scans the beam (Bm) from 1) over the main scanning direction of the photoreceptor (2), and a beam (Bm) deflected by the beam deflection means (3) is exposed to light. An imaging lens (4) for forming an image on the main scanning line position (S) of the body (2), a beam deflection means (3) and a photoreceptor (2).
) at least one reflective mirror (5) regulating the optical path between
) and an optical frame (6) for positioning each of the components, at least one reflective mirror (5) is moved by a movable support mechanism (7) to reflect the incident light while maintaining a constant angular attitude. The beam generating means (1) and the beam deflecting means (3) are supported movably with respect to the axis.
and an optical subframe (
6a) is a raster scanning device characterized in that it is supported by a movable support mechanism (8) so as to be movable with respect to the output optical axis while maintaining a constant angular posture.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008003307A (en) * 2006-06-22 2008-01-10 Canon Inc Optical scanner

Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6223014A (en) * 1985-07-24 1987-01-31 Minolta Camera Co Ltd Optical adjusting mechanism
JPS6437525A (en) * 1987-08-03 1989-02-08 Copal Electronics Optical scanning device

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