JPH04247630A - 銅ボンディングワイヤ - Google Patents
銅ボンディングワイヤInfo
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- H01L2924/10253—Silicon [Si]
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ボンディングダメージ
を増加させることなく、安定したボンディング特性が得
られ、かつ、高い疲労寿命とループ特性が安定して確保
され、ボール形成時に添加元素は殆ど酸素と反応し、脱
酸生成物としてボール表面(ネック部近傍の)に浮上し
、ボール内部に於ける添加元素の残存は、実質的に零に
なり、非常に軟質のボールを得ることができる新規な銅
ボンディングワイヤに関するものである。
を増加させることなく、安定したボンディング特性が得
られ、かつ、高い疲労寿命とループ特性が安定して確保
され、ボール形成時に添加元素は殆ど酸素と反応し、脱
酸生成物としてボール表面(ネック部近傍の)に浮上し
、ボール内部に於ける添加元素の残存は、実質的に零に
なり、非常に軟質のボールを得ることができる新規な銅
ボンディングワイヤに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置用の銅ボンディングワイヤは
、金線に比較して安価でかつ強度が大きいところからボ
ンディング速度の高速化に対応することが容易である。 また、細線を適用でき、多ピン化対応を容易とするなど
の利点があるため、近年従来の金線に代えて採用される
ケースが増えている。
、金線に比較して安価でかつ強度が大きいところからボ
ンディング速度の高速化に対応することが容易である。 また、細線を適用でき、多ピン化対応を容易とするなど
の利点があるため、近年従来の金線に代えて採用される
ケースが増えている。
【0003】この場合、使用される銅材としては、電解
精製、帯溶精製などにより不純物を除去し、純度99.
999%以上とした高純度銅が用いられるが、このよう
に高純度化されると、ボール形成の際の熱影響によりボ
ールネック部の結晶粒が粗大化成長しやすくなることか
ら、樹脂封止後の温度サイクルにおいて疲労寿命の低下
がみられる。また結晶粒粗大によりセカンドボンティン
グにキャピラリイが移行する際にネック部が座屈変形し
、その結果ループ形状が損われるなどの問題もある。
精製、帯溶精製などにより不純物を除去し、純度99.
999%以上とした高純度銅が用いられるが、このよう
に高純度化されると、ボール形成の際の熱影響によりボ
ールネック部の結晶粒が粗大化成長しやすくなることか
ら、樹脂封止後の温度サイクルにおいて疲労寿命の低下
がみられる。また結晶粒粗大によりセカンドボンティン
グにキャピラリイが移行する際にネック部が座屈変形し
、その結果ループ形状が損われるなどの問題もある。
【0004】そこでボール硬さへの影響が少なく、加熱
時の結晶粒成長抑制効果の大きな合金元素を添加して、
この問題を打開しようとする方法があり、そり場合の元
素として希土類元素あるいは、Zrが好適であることが
知られている。
時の結晶粒成長抑制効果の大きな合金元素を添加して、
この問題を打開しようとする方法があり、そり場合の元
素として希土類元素あるいは、Zrが好適であることが
知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記したような合金元
素を添加した線材を実際に製造し、その性質を調査して
みると、確かに前記のような効果が確認されるが、溶製
ロットによりその効果にはばらつきが生じ易く、例えば
時によりボール硬さが増加したり、また結晶粒が粗大化
しその結果ループ特性が悪化するなどの現象が起きるこ
とが分かった。そこでその原因を詳細に検討したところ
、溶製に使用する銅素材中の不純物の影響によるもので
あること、特に希土類元素、Zrと相互作用の強いVI
B 族、VB 族、IVB 族の元素の影響によるもの
であること、これらにより希土類元素、Zrの前記した
ような作用効果が減じられるためであることが次第に判
明した。
素を添加した線材を実際に製造し、その性質を調査して
みると、確かに前記のような効果が確認されるが、溶製
ロットによりその効果にはばらつきが生じ易く、例えば
時によりボール硬さが増加したり、また結晶粒が粗大化
しその結果ループ特性が悪化するなどの現象が起きるこ
とが分かった。そこでその原因を詳細に検討したところ
、溶製に使用する銅素材中の不純物の影響によるもので
あること、特に希土類元素、Zrと相互作用の強いVI
B 族、VB 族、IVB 族の元素の影響によるもの
であること、これらにより希土類元素、Zrの前記した
ような作用効果が減じられるためであることが次第に判
明した。
【0006】本発明の目的は、ボンディングダメージを
増加させることなく、安定したボンディング特性が得ら
れ、かつ、高い疲労寿命とループ特性が安定して確保さ
れる新規な銅ボンディングワイヤを提供することにある
。
増加させることなく、安定したボンディング特性が得ら
れ、かつ、高い疲労寿命とループ特性が安定して確保さ
れる新規な銅ボンディングワイヤを提供することにある
。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、純度が99.
9999重量%以上の銅を基材とし、これに希土類元素
又は、Zrを0.0002〜0.002重量%含有させ
たことを特徴としたものであり、また上記において希土
類元素がCe、Nd、Y、Laのいずれかを含むもので
あることを特徴とするものである。
9999重量%以上の銅を基材とし、これに希土類元素
又は、Zrを0.0002〜0.002重量%含有させ
たことを特徴としたものであり、また上記において希土
類元素がCe、Nd、Y、Laのいずれかを含むもので
あることを特徴とするものである。
【0008】
【実施例】以下、本発明について実施例を参照し説明す
る。
る。
【0009】銅素材の純度として、前述のように99.
999重量%程度のものが標準的に使用されていた。し
かし、この場合最大10ppm の各種不純物が含まれ
ており、このうち前記したようにVIB 族、VB 族
、IVB 族の元素、具体的にはO、S、Se、Te、
As、Sbなどの元素により(即ちこれら元素の化合物
形成をしやすい相互作用により)希土類元素やZrの作
用効果が減じられる。一方純度99.9999重量%以
上の銅素材の場合は不純物量は、最大1ppm である
ため、仮にVIB 、VB 、IVB 族の元素が存在
しても、その影響は実質上無視しうるものである。
999重量%程度のものが標準的に使用されていた。し
かし、この場合最大10ppm の各種不純物が含まれ
ており、このうち前記したようにVIB 族、VB 族
、IVB 族の元素、具体的にはO、S、Se、Te、
As、Sbなどの元素により(即ちこれら元素の化合物
形成をしやすい相互作用により)希土類元素やZrの作
用効果が減じられる。一方純度99.9999重量%以
上の銅素材の場合は不純物量は、最大1ppm である
ため、仮にVIB 、VB 、IVB 族の元素が存在
しても、その影響は実質上無視しうるものである。
【0010】上記に対し、希土類元素、Zrの添加量が
0.0002%以下であると、ボール形成時に周囲雰囲
気より拡散してくる酸素の除去が十分でなく、ボールに
固溶する酸素量の増加によるボール硬さの増加が起こる
。又0.002%以上では、上記酸素と未反応の原子が
残存し、ボール硬さが増加する。
0.0002%以下であると、ボール形成時に周囲雰囲
気より拡散してくる酸素の除去が十分でなく、ボールに
固溶する酸素量の増加によるボール硬さの増加が起こる
。又0.002%以上では、上記酸素と未反応の原子が
残存し、ボール硬さが増加する。
【0011】希土類元素のうち、La、Ce、Nd、Y
は銅の固溶度が小さく、酸素との親和力が大きい。又酸
化物の比重が比較的小さく溶銅中で酸化物形成後表面に
浮上しやすい。
は銅の固溶度が小さく、酸素との親和力が大きい。又酸
化物の比重が比較的小さく溶銅中で酸化物形成後表面に
浮上しやすい。
【0012】つぎに、表1に示した従来例、比較例、本
発明を参照し、具体的に説明する。銅素材の純度は、も
99.999重量%、99.9999重量%のものを使
用した。これに希土類元素であるCeとZrを夫々、所
定量添加した材料を溶製し、それぞれの供試線材の性能
とボンディング性を調査した結果を表1の各欄に示す。 この結果より本発明線材料は、従来例や比較例に対比し
ていずれもボンディングの際Siクラックを発生せずに
良好なループ特性とネック部結晶粒の粗大化の防止がで
きることが明白となった。
発明を参照し、具体的に説明する。銅素材の純度は、も
99.999重量%、99.9999重量%のものを使
用した。これに希土類元素であるCeとZrを夫々、所
定量添加した材料を溶製し、それぞれの供試線材の性能
とボンディング性を調査した結果を表1の各欄に示す。 この結果より本発明線材料は、従来例や比較例に対比し
ていずれもボンディングの際Siクラックを発生せずに
良好なループ特性とネック部結晶粒の粗大化の防止がで
きることが明白となった。
【0013】一方、電解精製により得られた99.99
99重量%の電着板を母材とし、これを別途製造したC
u−2.1%Ce、Cu−2.3%Zr合金(この合金
を溶製する際も、銅素材は、99.9999%純度のも
のを使用)を表1の各組成となる様配合し、10 ̄6T
orrの真空度で真空溶解し、これを20mm径×30
0mm長さに真空鋳造した。得られたインゴットは表面
を面削後、直径1.0mmまで伸線し、300℃×1h
r焼鈍後直径0.03mmまで伸線し、最後に250℃
で10秒間焼鈍し、ボビン巻きした。
99重量%の電着板を母材とし、これを別途製造したC
u−2.1%Ce、Cu−2.3%Zr合金(この合金
を溶製する際も、銅素材は、99.9999%純度のも
のを使用)を表1の各組成となる様配合し、10 ̄6T
orrの真空度で真空溶解し、これを20mm径×30
0mm長さに真空鋳造した。得られたインゴットは表面
を面削後、直径1.0mmまで伸線し、300℃×1h
r焼鈍後直径0.03mmまで伸線し、最後に250℃
で10秒間焼鈍し、ボビン巻きした。
【0014】ボンディング試験:ボール形成はボンディ
ングマシンのキャピラリィ部にAr+5%H2 の混合
雰囲気を吹きつけ乍ら、アーク放電させて行った。
ングマシンのキャピラリィ部にAr+5%H2 の混合
雰囲気を吹きつけ乍ら、アーク放電させて行った。
【0015】ボールボンディングは、1.2μm厚さの
Al電極膜を有するSiチップを用い、基板温度300
℃で、Ar+5%H2 の雰囲気を吹きつけながら1.
23Nの荷重をかけつつ、超音波熱圧着させた。
Al電極膜を有するSiチップを用い、基板温度300
℃で、Ar+5%H2 の雰囲気を吹きつけながら1.
23Nの荷重をかけつつ、超音波熱圧着させた。
【0016】ボールボンディング後、Cuボールを硝酸
にて溶解して、接合部のSi面を走査型電子顕微鏡(S
EM)で観察し、クラックの有無を観察した。ループ特
性については、セカンドボンディング後のループ形状、
例えば、ボールネック部の座屈変形、ワイヤのたれ、横
ぶれ(隣接ワイヤとの接触の原因となる)などの状況を
チェツクしたボールネック部の結晶成長状況は、ボール
を含むワイヤの縦断面ミクロ組織を観察し、チェックし
た。
にて溶解して、接合部のSi面を走査型電子顕微鏡(S
EM)で観察し、クラックの有無を観察した。ループ特
性については、セカンドボンディング後のループ形状、
例えば、ボールネック部の座屈変形、ワイヤのたれ、横
ぶれ(隣接ワイヤとの接触の原因となる)などの状況を
チェツクしたボールネック部の結晶成長状況は、ボール
を含むワイヤの縦断面ミクロ組織を観察し、チェックし
た。
【0017】比較例1、3では、Ce、Zrが各々1.
4、1.3ppm であり、ボール硬さが高い。これは
、ボール形成時に周囲雰囲気より侵入する酸素を除去す
る上で必要なCe又はZr量が不足しボール内に酸素が
残存することによる。一方比較例2及び4は、Ce、Z
rが夫々32、27ppm と高く、それによってボー
ル硬さが高いのは、ボール形成時に周囲雰囲気より拡散
侵入する酸素を除去するのに必要な量以上にCe、Zr
を含有し、ボール形成後もCe、Zrが一部金属原子と
してボール内に残量するためである。
4、1.3ppm であり、ボール硬さが高い。これは
、ボール形成時に周囲雰囲気より侵入する酸素を除去す
る上で必要なCe又はZr量が不足しボール内に酸素が
残存することによる。一方比較例2及び4は、Ce、Z
rが夫々32、27ppm と高く、それによってボー
ル硬さが高いのは、ボール形成時に周囲雰囲気より拡散
侵入する酸素を除去するのに必要な量以上にCe、Zr
を含有し、ボール形成後もCe、Zrが一部金属原子と
してボール内に残量するためである。
【0018】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、安
定したボンディング特性が得られる。即ちボンディング
ダメージを増加させることなく、高い疲労寿命とループ
特性が安定して確保できる。
定したボンディング特性が得られる。即ちボンディング
ダメージを増加させることなく、高い疲労寿命とループ
特性が安定して確保できる。
【0019】また、ボール形成時に添加元素は殆ど酸素
と反応し、脱酸素生成物としてボール表面(ネック部近
傍の)浮上し、ボール内部に於ける添加元素の残存は、
実質的に零になり、非常に軟質のボールが得られる。
と反応し、脱酸素生成物としてボール表面(ネック部近
傍の)浮上し、ボール内部に於ける添加元素の残存は、
実質的に零になり、非常に軟質のボールが得られる。
【0020】
【表1】
Claims (2)
- 【請求項1】 純度99.9999重量%以上の銅を
基材とし、これに希土類元素又は、Zrを0.0002
〜0.002重量%含有させたことを特徴とする半導体
装置用銅ボンディングワイヤ。 - 【請求項2】 請求項1の希土類元素がCe、Nd、
Y、Laのいずれかを含むものであることを特徴とする
半導体装置用銅ボンディングワイヤ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3033673A JPH04247630A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 銅ボンディングワイヤ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3033673A JPH04247630A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 銅ボンディングワイヤ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04247630A true JPH04247630A (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=12392978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3033673A Pending JPH04247630A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 銅ボンディングワイヤ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04247630A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006134724A1 (ja) | 2005-06-15 | 2006-12-21 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 超高純度銅及びその製造方法並びに超高純度銅からなるボンディングワイヤ |
-
1991
- 1991-02-01 JP JP3033673A patent/JPH04247630A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006134724A1 (ja) | 2005-06-15 | 2006-12-21 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 超高純度銅及びその製造方法並びに超高純度銅からなるボンディングワイヤ |
EP2845915A1 (en) | 2005-06-15 | 2015-03-11 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Ultrahigh-purity copper bonding wire |
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