JPH04246146A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPH04246146A JPH04246146A JP3237991A JP3237991A JPH04246146A JP H04246146 A JPH04246146 A JP H04246146A JP 3237991 A JP3237991 A JP 3237991A JP 3237991 A JP3237991 A JP 3237991A JP H04246146 A JPH04246146 A JP H04246146A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
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-
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- C03B2215/20—Oxide ceramics
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学ガラス素子等をプレ
ス成形により製造するのに用いる光学素子成形用型に関
するものである。
ス成形により製造するのに用いる光学素子成形用型に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学ガラス素子を直接プレス成形により
高精度に製造するには、優れた像形成品質を付与するこ
とが要求される。このため、型材料としては耐熱性、耐
熱衝撃性に優れ、加工性が良く超精密加工が可能なこと
が必要である。かかる性質を満足する型として、従来か
ら種々のものが提案されている。例えば、特開昭６２−
１７０２９号公報に記載されたように、Ｓｉ単結晶より
なる基材と、Ｓｉ単結晶と白金系合金との密着性に優れ
た材料よりなる中間層と、該中間層の上に形成した白金
系合金膜とからなるプレス成形用型が知られている。
高精度に製造するには、優れた像形成品質を付与するこ
とが要求される。このため、型材料としては耐熱性、耐
熱衝撃性に優れ、加工性が良く超精密加工が可能なこと
が必要である。かかる性質を満足する型として、従来か
ら種々のものが提案されている。例えば、特開昭６２−
１７０２９号公報に記載されたように、Ｓｉ単結晶より
なる基材と、Ｓｉ単結晶と白金系合金との密着性に優れ
た材料よりなる中間層と、該中間層の上に形成した白金
系合金膜とからなるプレス成形用型が知られている。
【０００３】この従来の型においては、Ｓｉ単結晶と白
金系合金膜との密着強度を中間層を介在させることによ
り高めて型寿命を延長させている。
金系合金膜との密着強度を中間層を介在させることによ
り高めて型寿命を延長させている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の成形用型では、白金合金膜が高温下での耐酸化性およ
び耐腐蝕性に劣り、光学ガラス素子成形時に微小ガラス
の付着蓄積、ガラスの変色、成形面の表面粗度の変化等
の問題を有していた。
の成形用型では、白金合金膜が高温下での耐酸化性およ
び耐腐蝕性に劣り、光学ガラス素子成形時に微小ガラス
の付着蓄積、ガラスの変色、成形面の表面粗度の変化等
の問題を有していた。
【０００５】また、白金系合金膜は白金を主成分とし、
これにイリジウム，パラジウム等の少なくとも１種類の
金属を添加して合金化することにより形成されているが
、次のような問題を有する。
これにイリジウム，パラジウム等の少なくとも１種類の
金属を添加して合金化することにより形成されているが
、次のような問題を有する。
【０００６】（１）スパッタ法により成膜する際、白金
と他の金属とのスパッタ率に大きな差があるため、再現
性の良い合金膜が常に一定して生成しにくい。従って、
合金膜の組成内に金属部分が残存し、結晶内欠陥の少な
い緻密な膜を得ることができず、その結果高温下での耐
酸化性および耐腐蝕性が不十分になる。
と他の金属とのスパッタ率に大きな差があるため、再現
性の良い合金膜が常に一定して生成しにくい。従って、
合金膜の組成内に金属部分が残存し、結晶内欠陥の少な
い緻密な膜を得ることができず、その結果高温下での耐
酸化性および耐腐蝕性が不十分になる。
【０００７】（２）合金膜を形成すべき中間層としてＴ
ｉＯ２ ，Ａｌ２ Ｏ３ 等の酸化物を用いるが、基材
に対する濡れ性が悪く、また中間層成形時にＳｉ単結晶
基材表面にＳｉの酸化物が生成し易く、中間層が基材界
面から剥離しがちである。
ｉＯ２ ，Ａｌ２ Ｏ３ 等の酸化物を用いるが、基材
に対する濡れ性が悪く、また中間層成形時にＳｉ単結晶
基材表面にＳｉの酸化物が生成し易く、中間層が基材界
面から剥離しがちである。
【０００８】本発明の目的は、上述した従来技術の問題
点を解決し、高温下での耐酸化性および耐腐蝕性に優れ
、微小ガラスの付着および表面粗度の変化のない耐久性
の良い光学素子成形用型を提供せんとするにある。
点を解決し、高温下での耐酸化性および耐腐蝕性に優れ
、微小ガラスの付着および表面粗度の変化のない耐久性
の良い光学素子成形用型を提供せんとするにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段および作用】すなわち、本
発明の光学素子用成形用型は、Ｎｉ：４０〜５０ｗｔ％
，Ｃｒ：２０〜２５ｗｔ％，Ｃｏ：１５〜２０ｗｔ％，
Ｔｉ：３〜４ｗｔ％，Ｗ：１．５〜２ｗｔ％，Ａｌ：１
．５〜２ｗｔ％，Ｔａ：１〜２ｗｔ％およびＺｒ：０．
１〜０．２ｗｔ％の化学組成を有するＮｉ基合金よりな
る型基材と、該型基材の表面に形成したＣｒ，Ｔｉ，Ｗ
，Ａｌ，ＴａおよびＺｒの混合酸化物層とからなること
を特徴とする。
発明の光学素子用成形用型は、Ｎｉ：４０〜５０ｗｔ％
，Ｃｒ：２０〜２５ｗｔ％，Ｃｏ：１５〜２０ｗｔ％，
Ｔｉ：３〜４ｗｔ％，Ｗ：１．５〜２ｗｔ％，Ａｌ：１
．５〜２ｗｔ％，Ｔａ：１〜２ｗｔ％およびＺｒ：０．
１〜０．２ｗｔ％の化学組成を有するＮｉ基合金よりな
る型基材と、該型基材の表面に形成したＣｒ，Ｔｉ，Ｗ
，Ａｌ，ＴａおよびＺｒの混合酸化物層とからなること
を特徴とする。
【０００９】本発明の成形用型においては、Ｎｉ−Ｃｒ
−Ｃｏの結合基を基本としているので、８００℃以上の
高温下でも結晶粒界に結晶欠陥を生じない。従って、生
成した型基材は融点、沸点が高く、耐腐蝕性が優れてい
る。また、Ｔｉ，Ｗ，Ｔａの添加成分は硬くて靱性が高
いので、これらは型基材の機械的強度、特に引張強さを
更に高めるよう作用している。
−Ｃｏの結合基を基本としているので、８００℃以上の
高温下でも結晶粒界に結晶欠陥を生じない。従って、生
成した型基材は融点、沸点が高く、耐腐蝕性が優れてい
る。また、Ｔｉ，Ｗ，Ｔａの添加成分は硬くて靱性が高
いので、これらは型基材の機械的強度、特に引張強さを
更に高めるよう作用している。
【００１０】また、型基材の表面にはＣｒ，Ｔｉ，Ｗ，
Ａｌ，ＴａおよびＺｒの混合酸化物層が形成されている
ので、型の耐酸化性が著しく向上する。また、緻密な酸
化物層が常に安定して形成されているので、溶融ガラス
中の酸素と共有反応をおこさず、ガラスの焼付きがない
。
Ａｌ，ＴａおよびＺｒの混合酸化物層が形成されている
ので、型の耐酸化性が著しく向上する。また、緻密な酸
化物層が常に安定して形成されているので、溶融ガラス
中の酸素と共有反応をおこさず、ガラスの焼付きがない
。
【００１１】次に、本発明の成形用型における各成分の
限定理由を述べる。
限定理由を述べる。
【００１２】Ｎｉ量が４０ｗｔ％未満の場合、高温での
酸化性が不十分になり、また５０ｗｔ％を越えると、耐
脆性が劣化し、硬度が低下する。Ｃｒ量が２０ｗｔ％未
満の場合、高温下での硬度および耐腐蝕性が不十分で、
また２５ｗｔ％を越えると、耐腐蝕性は向上するが結晶
粒径の増大により成形面の表面粗度が不所望に大きくな
る。Ｃｏ量が１５ｗｔ％未満の場合、靱性が低下し、２
０ｗｔ％を越えると、耐酸化性が不十分で高温下での酸
化劣化を防止することができない。Ｗ量が１．５ｗｔ％
未満の場合、硬度および耐酸化性が不十分になり、また
２ｗｔ％を越えると、硬く脆くなって加工が困難になる
。Ａｌ量が１．５ｗｔ％未満の場合、最適な酸化物分布
が得られず、２ｗｔ％を越えると、Ｎｉと同様に耐脆性
が劣化する。Ｔａ，Ｚ量は上記下限値未満になると、熱
膨張率が大きく変形し易くなり、一方上限値を越えると
、脆くなる。
酸化性が不十分になり、また５０ｗｔ％を越えると、耐
脆性が劣化し、硬度が低下する。Ｃｒ量が２０ｗｔ％未
満の場合、高温下での硬度および耐腐蝕性が不十分で、
また２５ｗｔ％を越えると、耐腐蝕性は向上するが結晶
粒径の増大により成形面の表面粗度が不所望に大きくな
る。Ｃｏ量が１５ｗｔ％未満の場合、靱性が低下し、２
０ｗｔ％を越えると、耐酸化性が不十分で高温下での酸
化劣化を防止することができない。Ｗ量が１．５ｗｔ％
未満の場合、硬度および耐酸化性が不十分になり、また
２ｗｔ％を越えると、硬く脆くなって加工が困難になる
。Ａｌ量が１．５ｗｔ％未満の場合、最適な酸化物分布
が得られず、２ｗｔ％を越えると、Ｎｉと同様に耐脆性
が劣化する。Ｔａ，Ｚ量は上記下限値未満になると、熱
膨張率が大きく変形し易くなり、一方上限値を越えると
、脆くなる。
【００１３】
【実施例１】Ｎｉ：４５ｗｔ％，Ｃｒ：２５ｗｔ％，Ｃ
ｏ：２０ｗｔ％，Ｔｉ：４ｗｔ％，Ｗ：２ｗｔ％，Ａｌ
：２ｗｔ％，Ｔａ：１．９ｗｔ％およびＺｒ：０．１ｗ
ｔ％の化学組成を有するＮｉ基合金を研削加工して図１
に示す型基材１を形成し、これを６００〜１０００℃の
炉内で２〜１０時間焼成してその表面にＣｒ，Ｔｉ，Ｗ
，Ａｌ，ＴａおよびＺｒの混合酸化物層２を形成した型
を得た。この型の成形面３をダイヤモンド粉末の研磨剤
により表面粗度Ｒｍａｘ＝０．０８μｍ以下になるよう
研磨仕上げした。
ｏ：２０ｗｔ％，Ｔｉ：４ｗｔ％，Ｗ：２ｗｔ％，Ａｌ
：２ｗｔ％，Ｔａ：１．９ｗｔ％およびＺｒ：０．１ｗ
ｔ％の化学組成を有するＮｉ基合金を研削加工して図１
に示す型基材１を形成し、これを６００〜１０００℃の
炉内で２〜１０時間焼成してその表面にＣｒ，Ｔｉ，Ｗ
，Ａｌ，ＴａおよびＺｒの混合酸化物層２を形成した型
を得た。この型の成形面３をダイヤモンド粉末の研磨剤
により表面粗度Ｒｍａｘ＝０．０８μｍ以下になるよう
研磨仕上げした。
【００１４】このようにして得た型を用いてＳＦ系ガラ
スを融解し、所望形状の光学ガラス素子に成形したとこ
ろ、６０００ショットの連続成形を行っても、得られた
成形品の品質ならびに型の成形面３には何等欠陥は生じ
なかった。
スを融解し、所望形状の光学ガラス素子に成形したとこ
ろ、６０００ショットの連続成形を行っても、得られた
成形品の品質ならびに型の成形面３には何等欠陥は生じ
なかった。
【００１５】これに対し、上述した白金合金膜を有する
従来の成形用型では、５００ショットの成形で成形面に
微小なガラスの焼付きが生じ、約１０００ショットで使
用不能になった。
従来の成形用型では、５００ショットの成形で成形面に
微小なガラスの焼付きが生じ、約１０００ショットで使
用不能になった。
【００１６】
【実施例２】Ｎｉ：５０ｗｔ％，Ｃｒ：２０ｗｔ％，Ｃ
ｏ：２０ｗｔ％，Ｔｉ：４ｗｔ％，Ｗ：２ｗｔ％，Ａｌ
：２ｗｔ％，Ｔａ：１．８ｗｔ％およびＺｒ：０．２ｗ
ｔ％の化学組成を有するＮｉ基合金から実施例１と同じ
方法により成形用型を形成した。この型の成形面は表面
粗度Ｒｍａｘ＝０．０７μｍ以下になるよう研磨仕上げ
した。
ｏ：２０ｗｔ％，Ｔｉ：４ｗｔ％，Ｗ：２ｗｔ％，Ａｌ
：２ｗｔ％，Ｔａ：１．８ｗｔ％およびＺｒ：０．２ｗ
ｔ％の化学組成を有するＮｉ基合金から実施例１と同じ
方法により成形用型を形成した。この型の成形面は表面
粗度Ｒｍａｘ＝０．０７μｍ以下になるよう研磨仕上げ
した。
【００１７】この型を用いてＳＫ系ガラスから光学ガラ
ス素子を成形したところ、実施例１とほぼ同じ結果が得
られた。特に、表面粗度が小さいため、より平滑な光学
素子が成形された。
ス素子を成形したところ、実施例１とほぼ同じ結果が得
られた。特に、表面粗度が小さいため、より平滑な光学
素子が成形された。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、離型性ならびに高温下
での耐酸化性および耐腐蝕性に優れ、ガラスの微小付着
による焼付きがなく極めて寿命の長い光学素子成形用型
を提供することができる。
での耐酸化性および耐腐蝕性に優れ、ガラスの微小付着
による焼付きがなく極めて寿命の長い光学素子成形用型
を提供することができる。
図１は本発明の光学素子成形用型の一例を示す説明図で
ある。
ある。
１ 型基材
２ 混合酸化物層
３ 成形面
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｎｉ：４０〜５０ｗｔ％，Ｃｒ：２０
〜２５ｗｔ％，Ｃｏ：１５〜２０ｗｔ％，Ｔｉ：３〜４
ｗｔ％，Ｗ：１．５〜２ｗｔ％，Ａｌ：１．５〜２ｗｔ
％，Ｔａ：１〜２ｗｔ％およびＺｒ：０．１〜０．２ｗ
ｔ％の化学組成を有するＮｉ基合金よりなる型基材と、
該型基材の表面に形成したＣｒ，Ｔｉ，Ｗ，Ａｌ，Ｔａ
およびＺｒの混合酸化物層とからなる光学素子成形用型
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3237991A JPH04246146A (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3237991A JPH04246146A (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04246146A true JPH04246146A (ja) | 1992-09-02 |
Family
ID=12357322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3237991A Withdrawn JPH04246146A (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04246146A (ja) |
-
1991
- 1991-01-31 JP JP3237991A patent/JPH04246146A/ja not_active Withdrawn
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