JPH0424607A - ビーム整形装置 - Google Patents
ビーム整形装置Info
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- JPH0424607A JPH0424607A JP12872890A JP12872890A JPH0424607A JP H0424607 A JPH0424607 A JP H0424607A JP 12872890 A JP12872890 A JP 12872890A JP 12872890 A JP12872890 A JP 12872890A JP H0424607 A JPH0424607 A JP H0424607A
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- Japan
- Prior art keywords
- astigmatism
- beam shaping
- cylindrical
- lens
- shaping device
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims abstract description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Head (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はシリンドリカルレンズを使用したビーム整形
装置に関するものである。
装置に関するものである。
[従来の技術]
第3図は従来のビーム整形装置を示す。
図において、(1)は半導体レーザ等の光源からの光線
、(2)はシリンドリカル凸レンズ、(3)はシリンド
リカル凹レンズ、(4)は上記シリンドリカル凸レンズ
(2)及びシリンドリカル凹レンズ(3)を固定するた
めのホルダである。
、(2)はシリンドリカル凸レンズ、(3)はシリンド
リカル凹レンズ、(4)は上記シリンドリカル凸レンズ
(2)及びシリンドリカル凹レンズ(3)を固定するた
めのホルダである。
次に動作について説明する。半導体レーザ等のビーム強
度分布に異方性を持つ光源からの光(平行光)(1)は
シリンドリカル凸レンズ(2)に入射し、異方性の長径
方向のみ収束光となる。次に、その光はシリンドリカル
凹レンズに入射し、等方性の光となって再び平行光にも
どる(第2図参照)。
度分布に異方性を持つ光源からの光(平行光)(1)は
シリンドリカル凸レンズ(2)に入射し、異方性の長径
方向のみ収束光となる。次に、その光はシリンドリカル
凹レンズに入射し、等方性の光となって再び平行光にも
どる(第2図参照)。
[発明が解決しようとする課題]
従来のビーム整形装置は、以上のように2枚のシリンド
リカルレンズは固定されており、単に異方性を持つビー
ムを等方性へ改善するだけの機能しか果していなかった
。このため、半導体レーザ等の異方性の他に非点収差も
合せ持つような光源を使用したときは、別に平行平板等
により非点収差を補正しなければならないという問題点
かあった。
リカルレンズは固定されており、単に異方性を持つビー
ムを等方性へ改善するだけの機能しか果していなかった
。このため、半導体レーザ等の異方性の他に非点収差も
合せ持つような光源を使用したときは、別に平行平板等
により非点収差を補正しなければならないという問題点
かあった。
この発明は、上記のような問題点を解消する事を課題と
してなされたもので、ビームの異方性を整形すると共に
光源の持つ非点収差を補正することができるビーム整形
装置を得ることを目的とする。
してなされたもので、ビームの異方性を整形すると共に
光源の持つ非点収差を補正することができるビーム整形
装置を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
この発明に係るビーム整形装置は、2枚のシリンドリカ
ルレンズを使用し、少なくともその一方の位置を調整す
ることによりビームの異方性を取り除くと共に光源の持
つ非点収差を補正するものである。
ルレンズを使用し、少なくともその一方の位置を調整す
ることによりビームの異方性を取り除くと共に光源の持
つ非点収差を補正するものである。
[作用]
この発明におけるビーム整形装置は、2枚のシリンドリ
カルレンズのみでビーム整形するか、方のシリンドリカ
ルレンズの位置を移動して微調整することができる。そ
こで、ビーム整形効果と非点収差補正効果かあるので、
別に非点収差補正装置を設ける必要がない。このため、
部品数削減、コスト低減につながるうえ、個々の光源に
よって、持っている非点収差の量か変わっても対応でき
るというメリットがある。
カルレンズのみでビーム整形するか、方のシリンドリカ
ルレンズの位置を移動して微調整することができる。そ
こで、ビーム整形効果と非点収差補正効果かあるので、
別に非点収差補正装置を設ける必要がない。このため、
部品数削減、コスト低減につながるうえ、個々の光源に
よって、持っている非点収差の量か変わっても対応でき
るというメリットがある。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、(1)は半導体レーザ等の異方性と非点収
差を持つ光源からの光線、(2)は異方性の長径方向を
縮小するだめのシリンドリカル凸レンズ、(3)はシリ
ンドリカル凸レンズ(2)によって収束された光線の長
径方向を平行光に戻すためのシリンドリカル凹レンズ、
(4)はシリンドリカル凸レンズ(3)を保持するだめ
のホルダ、(5)はシリンドリカル凹レンズ(3)を保
持するためのホルダであり、ホルダ(4)の内部に収め
られ可動となっている。
図において、(1)は半導体レーザ等の異方性と非点収
差を持つ光源からの光線、(2)は異方性の長径方向を
縮小するだめのシリンドリカル凸レンズ、(3)はシリ
ンドリカル凸レンズ(2)によって収束された光線の長
径方向を平行光に戻すためのシリンドリカル凹レンズ、
(4)はシリンドリカル凸レンズ(3)を保持するだめ
のホルダ、(5)はシリンドリカル凹レンズ(3)を保
持するためのホルダであり、ホルダ(4)の内部に収め
られ可動となっている。
第2図において、半導体レーザ等のビームに異方性と非
点収差を併せもつ光源からの光(1)は、平行光の状態
でシリンドリカル凸レンズ(2)に入射し、異方性の長
径方向(第2図の垂直方向)を収束させるが、異方性の
短径方向(第2図の水平方向)は、入射状態のまま透過
する。次に、光はシリンドリカル凹レンズ(3)に入射
し、垂直方向は平行光に戻される。このとき異方性か取
り除かれ、等方性の平行光としてシリンドリカル凹レン
ズから出射される。たたし、ビーム形状は楕円形となる
か、強度分布形状は等方性の円形状となる。
点収差を併せもつ光源からの光(1)は、平行光の状態
でシリンドリカル凸レンズ(2)に入射し、異方性の長
径方向(第2図の垂直方向)を収束させるが、異方性の
短径方向(第2図の水平方向)は、入射状態のまま透過
する。次に、光はシリンドリカル凹レンズ(3)に入射
し、垂直方向は平行光に戻される。このとき異方性か取
り除かれ、等方性の平行光としてシリンドリカル凹レン
ズから出射される。たたし、ビーム形状は楕円形となる
か、強度分布形状は等方性の円形状となる。
バーコードリーダ等の機器に使用する場合、般に平行光
を焦点距離の長い収束レンズで集光して使用するか、光
源が非点収差をもっていると第4図に示すように垂直方
向と水平方向とではビームウェスト位置かずれる。この
シリンドリカルレンズを使用したビーム整形位置は一方
のシリンドリカルレンズを光軸方向に動かすことにより
ビーム整形方向(第2図の垂直方向)のみ平行度を変え
ることができる。このため、収束レンズを通した後のビ
ームウェストの位置をビーム整形方向たけ変えることが
でき、他方のビームウェスト位置に合せることにより非
点収差をキャンセルすることができる。
を焦点距離の長い収束レンズで集光して使用するか、光
源が非点収差をもっていると第4図に示すように垂直方
向と水平方向とではビームウェスト位置かずれる。この
シリンドリカルレンズを使用したビーム整形位置は一方
のシリンドリカルレンズを光軸方向に動かすことにより
ビーム整形方向(第2図の垂直方向)のみ平行度を変え
ることができる。このため、収束レンズを通した後のビ
ームウェストの位置をビーム整形方向たけ変えることが
でき、他方のビームウェスト位置に合せることにより非
点収差をキャンセルすることができる。
なお、上記実施例ではビーム異方性の長径方向を縮小し
、出射側のシリンドリカルレンズを光軸方向に微調整す
る方法を示したが、ビーム異方性の短径方向を拡大して
もよく、入射側のシリンドリカルレンズを光軸方向に微
調整する方法でもよい。
、出射側のシリンドリカルレンズを光軸方向に微調整す
る方法を示したが、ビーム異方性の短径方向を拡大して
もよく、入射側のシリンドリカルレンズを光軸方向に微
調整する方法でもよい。
[発明の効果]
以上のようにこの発明によれば、ビーム整形に必要なシ
リンドリカルレンズ2枚(凹、凸)のみで光源の持つ非
点収差も同時にキャンセルできるため、別に非点収差キ
ャンセル用の機構を必要とせず、部品数削減、低価格化
ができ、構造も簡単することができる。
リンドリカルレンズ2枚(凹、凸)のみで光源の持つ非
点収差も同時にキャンセルできるため、別に非点収差キ
ャンセル用の機構を必要とせず、部品数削減、低価格化
ができ、構造も簡単することができる。
第1図はこの発明の一実施例によるビーム整形装置を示
す断面図、第2図はビーム整形の概念を示す図、第3図
は従来のビーム整形装置を示す断面図、第4図は非点収
差の概念を示す図である。 図において、(1)は光線、(2)はシリンドリカル凸
レンズ、(3)はシリンドリカル凹レンズ、(4)、
(5)はホルダである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 吉 1)研 二 (外2名) 第 図 第 区
す断面図、第2図はビーム整形の概念を示す図、第3図
は従来のビーム整形装置を示す断面図、第4図は非点収
差の概念を示す図である。 図において、(1)は光線、(2)はシリンドリカル凸
レンズ、(3)はシリンドリカル凹レンズ、(4)、
(5)はホルダである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 弁理士 吉 1)研 二 (外2名) 第 図 第 区
Claims (1)
- 2枚のシリンドリカルレンズを使用して、強度に異方性
を持つ光線を等方性の光線に整形するビーム整形装置に
おいて、少なくとも1つのシリンドリカルレンズの位置
を光軸方向に移動可能とし、光線の持つ非点収差を補正
することを特徴とするビーム整形装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12872890A JPH0424607A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | ビーム整形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12872890A JPH0424607A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | ビーム整形装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0424607A true JPH0424607A (ja) | 1992-01-28 |
Family
ID=14991980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12872890A Pending JPH0424607A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | ビーム整形装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0424607A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0660152A2 (en) * | 1993-12-22 | 1995-06-28 | Hughes Aircraft Company | Dynamic aberration corrector for conformal windows |
WO1999053488A1 (fr) * | 1998-04-08 | 1999-10-21 | Seiko Epson Corporation | Procede et appareil pour exposer un disque original de disque optique |
-
1990
- 1990-05-18 JP JP12872890A patent/JPH0424607A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0660152A2 (en) * | 1993-12-22 | 1995-06-28 | Hughes Aircraft Company | Dynamic aberration corrector for conformal windows |
EP0660152A3 (en) * | 1993-12-22 | 1995-09-20 | Hughes Aircraft Co | Dynamic aberration correction device for conformable windows. |
WO1999053488A1 (fr) * | 1998-04-08 | 1999-10-21 | Seiko Epson Corporation | Procede et appareil pour exposer un disque original de disque optique |
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