JPH04245406A - 位置に依存しない電磁支持 - Google Patents
位置に依存しない電磁支持Info
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- JPH04245406A JPH04245406A JP3240554A JP24055491A JPH04245406A JP H04245406 A JPH04245406 A JP H04245406A JP 3240554 A JP3240554 A JP 3240554A JP 24055491 A JP24055491 A JP 24055491A JP H04245406 A JPH04245406 A JP H04245406A
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- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 12
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 101100341170 Caenorhabditis elegans irg-7 gene Proteins 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 2
- 101000582320 Homo sapiens Neurogenic differentiation factor 6 Proteins 0.000 description 1
- 102100030589 Neurogenic differentiation factor 6 Human genes 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 239000010438 granite Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/04—Bearings not otherwise provided for using magnetic or electric supporting means
- F16C32/0406—Magnetic bearings
- F16C32/044—Active magnetic bearings
- F16C32/0444—Details of devices to control the actuation of the electromagnets
- F16C32/0451—Details of controllers, i.e. the units determining the power to be supplied, e.g. comparing elements, feedback arrangements with P.I.D. control
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
- F16C32/0614—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion the gas being supplied under pressure, e.g. aerostatic bearings
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- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
-
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- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は、少なくとも1個の電磁石と少な
くとも1個の位置センサーとによって少なくとも1個の
支持方向に物体を位置決めする装置であって、前記位置
決めセンサーの電気出力が、前記電磁石内の電流を前記
位置センサーによって測定される前記電磁石に対する前
記物体の位置と所望の位置との差の函数として制御する
事が可能である電子制御ユニットの一電気入力端に接続
されている装置に関する。
くとも1個の位置センサーとによって少なくとも1個の
支持方向に物体を位置決めする装置であって、前記位置
決めセンサーの電気出力が、前記電磁石内の電流を前記
位置センサーによって測定される前記電磁石に対する前
記物体の位置と所望の位置との差の函数として制御する
事が可能である電子制御ユニットの一電気入力端に接続
されている装置に関する。
【0002】Philips Technical R
eview, vol. 41, no. 11/12
, 1983/84, pp. 348−361は、シ
ャフトが、五対の電磁石によってシャフトの中心線に関
してのみ回転可能となるように支持されている第一パラ
グラフで述べた種類の装置を開示している。シャフトに
対する電磁石の力は、電磁石を流れる電流値の二乗に実
質上正比例しかつ電磁石とシャフトの間の空気間隙のサ
イズの二乗に実質上反比例する。電磁力と空気間隙のサ
イズとの間にこの様な関係がある結果、電磁石に対する
シャフトの位置は追加の手段を採用しない限り不安定で
ある。既知の装置の場合シャフトを所望の位置に対して
安定に維持するために、電磁石の各対に対するシャフト
の位置を位置センサーにより測定し、かつ測定された位
置と所望の位置との差から決められる制御電流を当該対
の二個の電磁石に流している。そのために制御電流の値
は、比例、微分及び積分動作を有する制御ユニット(P
IDコントローラ)によって決定される。安定した支持
はPIDコントローラによって制御されている電磁石に
よって得られる。
eview, vol. 41, no. 11/12
, 1983/84, pp. 348−361は、シ
ャフトが、五対の電磁石によってシャフトの中心線に関
してのみ回転可能となるように支持されている第一パラ
グラフで述べた種類の装置を開示している。シャフトに
対する電磁石の力は、電磁石を流れる電流値の二乗に実
質上正比例しかつ電磁石とシャフトの間の空気間隙のサ
イズの二乗に実質上反比例する。電磁力と空気間隙のサ
イズとの間にこの様な関係がある結果、電磁石に対する
シャフトの位置は追加の手段を採用しない限り不安定で
ある。既知の装置の場合シャフトを所望の位置に対して
安定に維持するために、電磁石の各対に対するシャフト
の位置を位置センサーにより測定し、かつ測定された位
置と所望の位置との差から決められる制御電流を当該対
の二個の電磁石に流している。そのために制御電流の値
は、比例、微分及び積分動作を有する制御ユニット(P
IDコントローラ)によって決定される。安定した支持
はPIDコントローラによって制御されている電磁石に
よって得られる。
【0003】電磁力と空気間隙のサイズとの間には非線
形の関係があるので、既知の装置の電流値は非線形系を
構成する。使用されるPIDコントローラは、既知の装
置の場合空気間隙の所望のサイズhoと電磁石を流れる
基本電流ioによって決定される動作点に対し適正化さ
れる線形制御ユニットである。しかしながら、支持体の
安定性を決定する事にもなる支持体の剛性とかバンド幅
と言うような数多くの特性が電磁石に対するシャフトの
位置に依存するので、使用されるPIDコントローラは
シャフトの変位が所望の位置から相対的に小さな場合に
しか適切に機能しない。従ってシャフトの一個の位置し
か適切に安定にさせる事が出来ず、シャフトの他の位置
においてはより安定させにくく又は不安定にさえなり得
ることが、既知の装置の欠点である。この様にして安定
性の問題は、特に支持装置をスイッチオンさせた時に発
生し得る。
形の関係があるので、既知の装置の電流値は非線形系を
構成する。使用されるPIDコントローラは、既知の装
置の場合空気間隙の所望のサイズhoと電磁石を流れる
基本電流ioによって決定される動作点に対し適正化さ
れる線形制御ユニットである。しかしながら、支持体の
安定性を決定する事にもなる支持体の剛性とかバンド幅
と言うような数多くの特性が電磁石に対するシャフトの
位置に依存するので、使用されるPIDコントローラは
シャフトの変位が所望の位置から相対的に小さな場合に
しか適切に機能しない。従ってシャフトの一個の位置し
か適切に安定にさせる事が出来ず、シャフトの他の位置
においてはより安定させにくく又は不安定にさえなり得
ることが、既知の装置の欠点である。この様にして安定
性の問題は、特に支持装置をスイッチオンさせた時に発
生し得る。
【0004】本発明の目的は、剛性とバンド幅が電磁石
に対する物体の位置に依存しない、前述した欠点を除去
した物体の位置決め装置を提供することである。
に対する物体の位置に依存しない、前述した欠点を除去
した物体の位置決め装置を提供することである。
【0005】この目的を達成するために本発明が特徴と
する点は、前記制御ユニットの電気出力端と前記制御ユ
ニットにより制御される電磁石との間に当該電磁石に固
有な電気マルチプライアが接続されていて、前記マルチ
プライアの出力信号が前記制御ユニットの制御信号と前
記位置センサーの出力信号との積によって決定されてい
る点である。
する点は、前記制御ユニットの電気出力端と前記制御ユ
ニットにより制御される電磁石との間に当該電磁石に固
有な電気マルチプライアが接続されていて、前記マルチ
プライアの出力信号が前記制御ユニットの制御信号と前
記位置センサーの出力信号との積によって決定されてい
る点である。
【0006】制御ユニットと制御ユニットにより制御さ
れる電磁石との間に電子マルチプライアを使用する事に
より、当該電磁石を流れる電流が制御ユニットの制御信
号と電磁石の空気間隙サイズとの両方に比例することが
達成される。この結果当該電磁石によって発生される力
は、制御ユニットの制御信号の二乗にのみ比例しかつ当
該電磁石の空気間隙のサイズに実質上依存しないので、
装置の剛性とバンド幅は物体の位置に無関係となりかつ
制御ユニットは物体の如何なる位置においても適切に機
能することが可能となる(制御の位置に対する独立性)
。本発明によると支持されるべき物体を装置によって電
磁石に対し正確に変位させることも出来る。
れる電磁石との間に電子マルチプライアを使用する事に
より、当該電磁石を流れる電流が制御ユニットの制御信
号と電磁石の空気間隙サイズとの両方に比例することが
達成される。この結果当該電磁石によって発生される力
は、制御ユニットの制御信号の二乗にのみ比例しかつ当
該電磁石の空気間隙のサイズに実質上依存しないので、
装置の剛性とバンド幅は物体の位置に無関係となりかつ
制御ユニットは物体の如何なる位置においても適切に機
能することが可能となる(制御の位置に対する独立性)
。本発明によると支持されるべき物体を装置によって電
磁石に対し正確に変位させることも出来る。
【0007】動作点(h0, i0)に対して適切化さ
れた制御ユニットを有する第一パラグラフで記載した様
な装置の場合、剛性もバンド幅も基本電流i0の値に依
存し、一方制御ユニットは物体に対する負荷が小さいと
きのみ、つまり電磁石を流れる制御電流が基本電流に対
して小さい場合のみ適切に機能する。本発明の装置の特
定な実施例が特徴とする点は、電子ルートエクストラク
タ(root extractor)が、前記制御ユニ
ットと前記制御ユニットに接続されている前記マルチプ
ライアとの間に接続されている点である。電子ルートエ
クストラクタの使用により、制御ユニットにより制御さ
れている電磁石を流れる電流は制御ユニットの制御信号
の平方根に比例する。この方法に於いて当該電磁石によ
って生じる力は制御信号の値に比例するので、装置の剛
性とバンド幅は電磁石を流れる電流の値に依存せずかつ
制御ユニットは支持されるべき物体に全ての負荷に対し
て適切に機能する(制御の電流に対する独立性)。
れた制御ユニットを有する第一パラグラフで記載した様
な装置の場合、剛性もバンド幅も基本電流i0の値に依
存し、一方制御ユニットは物体に対する負荷が小さいと
きのみ、つまり電磁石を流れる制御電流が基本電流に対
して小さい場合のみ適切に機能する。本発明の装置の特
定な実施例が特徴とする点は、電子ルートエクストラク
タ(root extractor)が、前記制御ユニ
ットと前記制御ユニットに接続されている前記マルチプ
ライアとの間に接続されている点である。電子ルートエ
クストラクタの使用により、制御ユニットにより制御さ
れている電磁石を流れる電流は制御ユニットの制御信号
の平方根に比例する。この方法に於いて当該電磁石によ
って生じる力は制御信号の値に比例するので、装置の剛
性とバンド幅は電磁石を流れる電流の値に依存せずかつ
制御ユニットは支持されるべき物体に全ての負荷に対し
て適切に機能する(制御の電流に対する独立性)。
【0008】作動中、前記物体が、前記支持方向で見て
互いに反対側に位置している一対の電磁石によって前記
支持方向に支持され、前記対の2個の電磁石を通る電流
が前記対の2個の電磁石に共通である制御ユニットによ
って制御されている本発明の別の実施例が特徴とする点
は、前記制御ユニットと前記制御ユニットに接続されて
いる2個のマルチプライアの各々との間に当該マルチプ
ライアに固有な電子ルートエクストラクタが接続されて
いる点である。この実施例は、その空気間隙が静的負荷
による所望の位置からの物体の変位の結果として増大す
るその電磁石に基本電流のそれに等しい方向を有する制
御電流が与えられ、他方の電磁石には基本電流のそれと
は反対の方向を有する制御電流が与えられている高負荷
能力を有する物体の両方向支持を提供する。位置に依存
しない制御に加え、電流に依存しない制御も又当該固有
のルートエクストラクタの使用により達成される。
互いに反対側に位置している一対の電磁石によって前記
支持方向に支持され、前記対の2個の電磁石を通る電流
が前記対の2個の電磁石に共通である制御ユニットによ
って制御されている本発明の別の実施例が特徴とする点
は、前記制御ユニットと前記制御ユニットに接続されて
いる2個のマルチプライアの各々との間に当該マルチプ
ライアに固有な電子ルートエクストラクタが接続されて
いる点である。この実施例は、その空気間隙が静的負荷
による所望の位置からの物体の変位の結果として増大す
るその電磁石に基本電流のそれに等しい方向を有する制
御電流が与えられ、他方の電磁石には基本電流のそれと
は反対の方向を有する制御電流が与えられている高負荷
能力を有する物体の両方向支持を提供する。位置に依存
しない制御に加え、電流に依存しない制御も又当該固有
のルートエクストラクタの使用により達成される。
【0009】一対の電磁石とこの対に共通な制御ユニッ
トも使用されている本発明の装置の更に別の実施例が特
徴とする点は、前記制御ユニットと前記制御ユニットに
接続されている2個のマルチプライアの各々との間に前
記当該マルチプライアに固有な電子整流器が接続されて
いて、前記2個の整流器が電気的に反対方向に接続され
ている点である。この実施例の場合電磁石には制御電流
のみが与えられ、基本電流は与えられない。前記物体に
対する静的負荷により所望の位置から物体が変位する場
合、その電磁石のみにこの変位の結果としてその空気間
隙が増大した電流が供給されることが当該整流器の使用
によって達成される。電磁石の電気抵抗の損失はこの様
にして低く保たれる。
トも使用されている本発明の装置の更に別の実施例が特
徴とする点は、前記制御ユニットと前記制御ユニットに
接続されている2個のマルチプライアの各々との間に前
記当該マルチプライアに固有な電子整流器が接続されて
いて、前記2個の整流器が電気的に反対方向に接続され
ている点である。この実施例の場合電磁石には制御電流
のみが与えられ、基本電流は与えられない。前記物体に
対する静的負荷により所望の位置から物体が変位する場
合、その電磁石のみにこの変位の結果としてその空気間
隙が増大した電流が供給されることが当該整流器の使用
によって達成される。電磁石の電気抵抗の損失はこの様
にして低く保たれる。
【0010】整流器が、マルチプライアに対し効率的な
方法で接続されている本発明の装置の別の実施例が特徴
とする点は、前記整流器が、前記制御ユニットと前記制
御ユニットに接続されている前記マルチプライアの各々
との間に接続されている点である。マルチプライアの各
々の入力信号が常に同じ極性を有していることがこれに
よって達成されるので、入力信号の零交叉の周りのマル
チプライアの不安定動作が防止される。
方法で接続されている本発明の装置の別の実施例が特徴
とする点は、前記整流器が、前記制御ユニットと前記制
御ユニットに接続されている前記マルチプライアの各々
との間に接続されている点である。マルチプライアの各
々の入力信号が常に同じ極性を有していることがこれに
よって達成されるので、入力信号の零交叉の周りのマル
チプライアの不安定動作が防止される。
【0011】電流値に依存しない電磁石の制御が得られ
、前述した整流器が使用されている本発明の特別な実施
例が特徴とする点は、前記制御ユニットと前記制御ユニ
ットに接続されている前記2個のマルチプライアの各々
との間に前記当該マルチプライアに固有な電子ルートエ
クストラクタが接続されている点である。有限の剛性が
又ルートエクストラクタの使用により物体に何の負荷を
与えない条件で得られる。
、前述した整流器が使用されている本発明の特別な実施
例が特徴とする点は、前記制御ユニットと前記制御ユニ
ットに接続されている前記2個のマルチプライアの各々
との間に前記当該マルチプライアに固有な電子ルートエ
クストラクタが接続されている点である。有限の剛性が
又ルートエクストラクタの使用により物体に何の負荷を
与えない条件で得られる。
【0012】単純な構成を有する電流値に独立な制御を
与え、当該整流器が使用されている本発明発明の装置の
別の実施例が特徴とする点は、前記制御ユニットと前記
制御ユニットに接続されている前記2個のマルチプライ
アとの間に電子ルートエクストラクタが前記2個のマル
チプライアに共通に接続されている点である。
与え、当該整流器が使用されている本発明発明の装置の
別の実施例が特徴とする点は、前記制御ユニットと前記
制御ユニットに接続されている前記2個のマルチプライ
アとの間に電子ルートエクストラクタが前記2個のマル
チプライアに共通に接続されている点である。
【0013】本発明の装置の更に別の実施例が特徴とす
る点は、前記マルチプライアの各々と前記当該マルチプ
ライアに接続されている前記位置センサーとの間にデジ
タルメモリが接続されている点である。位置センサーと
前記マルチプライアとの間にデジタルメモリを使用する
事により、前記位置センサーの出力信号を、物体と当該
マルチプライアに接続されている電磁石との間の空気間
隙のサイズに比例する信号に効率的に変換させることが
出来る。加えて位置センサーの出力信号は、例えば電磁
石の磁気飽和または支持されるべき物体のような非線形
効果に対しデジタルメモリによって補正することが出来
る。
る点は、前記マルチプライアの各々と前記当該マルチプ
ライアに接続されている前記位置センサーとの間にデジ
タルメモリが接続されている点である。位置センサーと
前記マルチプライアとの間にデジタルメモリを使用する
事により、前記位置センサーの出力信号を、物体と当該
マルチプライアに接続されている電磁石との間の空気間
隙のサイズに比例する信号に効率的に変換させることが
出来る。加えて位置センサーの出力信号は、例えば電磁
石の磁気飽和または支持されるべき物体のような非線形
効果に対しデジタルメモリによって補正することが出来
る。
【0014】
【実施例】本発明を更に詳細に図に基づいて説明する。
【0015】図1〜図5に示された装置は、図1でx方
向として示されている方向に平行な水平方向に延在し、
かつその両端の近傍でフレーム3にマウントされている
スチールガイドビーム1を有する直線状のガイドを有し
、テーブル5はガイドビーム1に沿ったx方向に変位可
能である。テーブル5に固定されている目的物7は、図
1〜5で詳細に示されていない駆動手段によってx方向
に位置決めさせることが出来る。
向として示されている方向に平行な水平方向に延在し、
かつその両端の近傍でフレーム3にマウントされている
スチールガイドビーム1を有する直線状のガイドを有し
、テーブル5はガイドビーム1に沿ったx方向に変位可
能である。テーブル5に固定されている目的物7は、図
1〜5で詳細に示されていない駆動手段によってx方向
に位置決めさせることが出来る。
【0016】テーブル5には、オランダ国特許出願第8
902472号により知られている種類の空気力学的に
支持されている丸い脚部9が設けられている。操作中、
脚9は、予め減圧されているそれ自身は知られている型
のスタティックガスベアリングによって、x方向に平行
な水平面に延在しかつx方向に垂直な水平y方向に延在
している(図2参照)花崗岩の基体表面11に支持され
ている。基体表面11と共に空気力学的に支持された脚
9を使用することによって、テーブル5がベース表面1
1に垂直なz方向に移動し又テーブル5がx方向又はy
方向に延在する回転軸について回転することが防止され
る。
902472号により知られている種類の空気力学的に
支持されている丸い脚部9が設けられている。操作中、
脚9は、予め減圧されているそれ自身は知られている型
のスタティックガスベアリングによって、x方向に平行
な水平面に延在しかつx方向に垂直な水平y方向に延在
している(図2参照)花崗岩の基体表面11に支持され
ている。基体表面11と共に空気力学的に支持された脚
9を使用することによって、テーブル5がベース表面1
1に垂直なz方向に移動し又テーブル5がx方向又はy
方向に延在する回転軸について回転することが防止され
る。
【0017】y方向に平行なテーブル5の移動及びz軸
に平行な回転軸についてのテーブル5の回転は、テーブ
ル5と脚9の間に設けられているベアリングブロック2
1内で互いにある距離で固定されていてかつガイドビー
ム1を囲んでいる(図1と図2参照)二対の電磁石(1
3, 15)と(17, 19)の使用により防止され
る。図2から明らかなように二個の各対の電磁石(13
, 15)と(17, 19)は、y方向で見てガイド
ビームの何れかの側で互いに反対側に位置している。
に平行な回転軸についてのテーブル5の回転は、テーブ
ル5と脚9の間に設けられているベアリングブロック2
1内で互いにある距離で固定されていてかつガイドビー
ム1を囲んでいる(図1と図2参照)二対の電磁石(1
3, 15)と(17, 19)の使用により防止され
る。図2から明らかなように二個の各対の電磁石(13
, 15)と(17, 19)は、y方向で見てガイド
ビームの何れかの側で互いに反対側に位置している。
【0018】電流が電磁石13, 15, 17, 1
9を流れると、電磁石13, 15, 17, 19の
各々は引っ張る電磁力をスチールガイドビーム1に与え
る。この力の大きさは、関係する電磁石13, 15,
17, 19を通る電流の値の二乗に実質上正比例し
かつ関係する電磁石13, 15, 17, 19(図
2参照)とガイドビーム1との間の空気間隙23のサイ
ズの二乗に実質上反比例する。電磁力と空気間隙23の
サイズとの間に当該関係がある結果、各対(13, 1
5)及び(17,19)の二個の電磁石の引っ張り合う
力が等しい平衡状態は、電磁石13,15, 17,
19を流れる電流が一定で非制御電流である場合には不
安定となるであろう。テーブル5がy方向に平行に平衡
位置から小さな距離変位した場合には、それらの空気間
隙23が変位によってより小さくなるような電磁石の引
っ張り合う力は増大し、変位によってそれらの空気間隙
23がより広くなるような電磁石の引っ張り合う力は減
少するであろう。変位の方向に力が働く結果、その変位
はさらに増大するであろう。
9を流れると、電磁石13, 15, 17, 19の
各々は引っ張る電磁力をスチールガイドビーム1に与え
る。この力の大きさは、関係する電磁石13, 15,
17, 19を通る電流の値の二乗に実質上正比例し
かつ関係する電磁石13, 15, 17, 19(図
2参照)とガイドビーム1との間の空気間隙23のサイ
ズの二乗に実質上反比例する。電磁力と空気間隙23の
サイズとの間に当該関係がある結果、各対(13, 1
5)及び(17,19)の二個の電磁石の引っ張り合う
力が等しい平衡状態は、電磁石13,15, 17,
19を流れる電流が一定で非制御電流である場合には不
安定となるであろう。テーブル5がy方向に平行に平衡
位置から小さな距離変位した場合には、それらの空気間
隙23が変位によってより小さくなるような電磁石の引
っ張り合う力は増大し、変位によってそれらの空気間隙
23がより広くなるような電磁石の引っ張り合う力は減
少するであろう。変位の方向に力が働く結果、その変位
はさらに増大するであろう。
【0019】y方向の支持を安定にするために対(13
, 15)及び(17, 19)の電磁石を流れる電流
は、各々の電子制御回路25aと25bによって制御さ
れる(図2参照)。 制御回路25aと25bは同一である。二組の電磁石(
13, 15)及び(17, 19)の各々には当該対
(13, 15), (17, 19)の二個の電磁石
の一個に合うそれ自身公知の非接触容量性位置センサー
29, 31が設けられている(図2参照)。動作中位
置センサー29, 31の各々は、当該位置センサー2
9, 31がフィットされている電磁石13, 17と
ガイドビーム1との間の空気間隙23のサイズを測定す
る。制御回路25a, 25bは、2個の空気間隙23
の測定されたサイズを所望のサイズと比較しそれらの値
が所望のサイズと測定されたサイズとの差に依存する電
磁石13, 15, 17, 19を通る制御電流を流
す。この結果、測定されたサイズは、ガイドビーム1に
作用する電磁力により所望のサイズに等しくなる。制御
回路25a, 25bの動作と特性を以下に詳細に説明
する。
, 15)及び(17, 19)の電磁石を流れる電流
は、各々の電子制御回路25aと25bによって制御さ
れる(図2参照)。 制御回路25aと25bは同一である。二組の電磁石(
13, 15)及び(17, 19)の各々には当該対
(13, 15), (17, 19)の二個の電磁石
の一個に合うそれ自身公知の非接触容量性位置センサー
29, 31が設けられている(図2参照)。動作中位
置センサー29, 31の各々は、当該位置センサー2
9, 31がフィットされている電磁石13, 17と
ガイドビーム1との間の空気間隙23のサイズを測定す
る。制御回路25a, 25bは、2個の空気間隙23
の測定されたサイズを所望のサイズと比較しそれらの値
が所望のサイズと測定されたサイズとの差に依存する電
磁石13, 15, 17, 19を通る制御電流を流
す。この結果、測定されたサイズは、ガイドビーム1に
作用する電磁力により所望のサイズに等しくなる。制御
回路25a, 25bの動作と特性を以下に詳細に説明
する。
【0020】図4は線図的に電子制御回路25a, 2
5bの第一実施例を示す。各制御回路25a, 25b
内の当該位置センサー29, 31の電気出力は、コン
パレータ33として機能するサンメンション回路の第一
電気入力端に接続される。 空気間隙23のサイズに依存する値となる位置センサー
29, 31の出力信号upos(電圧信号)は、空気
間隙23の所望のサイズに依存するコンパレータ33の
第二電気入力端の入力信号usetとコンパレータ33
によって比較される。 コンパレータ33の出力信号ucomはコンパレータ3
3の二個の入力信号の差uset−uposとなる。信
号ucomは電子制御ユニット35に対する入力信号を
形成する。公知の制御ユニット35は、比例、積分及び
微分制御機能を有し、信号ucomを制御信号upid
(電圧信号)に変換する通常の型で、電磁石13と15
を通る電流の値を決めるPIDコントローラとなる。
5bの第一実施例を示す。各制御回路25a, 25b
内の当該位置センサー29, 31の電気出力は、コン
パレータ33として機能するサンメンション回路の第一
電気入力端に接続される。 空気間隙23のサイズに依存する値となる位置センサー
29, 31の出力信号upos(電圧信号)は、空気
間隙23の所望のサイズに依存するコンパレータ33の
第二電気入力端の入力信号usetとコンパレータ33
によって比較される。 コンパレータ33の出力信号ucomはコンパレータ3
3の二個の入力信号の差uset−uposとなる。信
号ucomは電子制御ユニット35に対する入力信号を
形成する。公知の制御ユニット35は、比例、積分及び
微分制御機能を有し、信号ucomを制御信号upid
(電圧信号)に変換する通常の型で、電磁石13と15
を通る電流の値を決めるPIDコントローラとなる。
【0021】この様なPID制御ユニットは、線形制御
ユニットであるので線形系内の使用に特に適している。 上述したように電磁力は非線形力であるので、電磁石1
3, 15,17, 19によるテーブル5の支持は非
線形系を形成する。本願明細書の第一パラグラフで述べ
た既知の装置は同様な理由で非線形系を形成していて、
PIDコントローラを使用することにより非線形系を空
気間隙の所望のサイズh0と電磁石を流れる基本電流i
0とによって決まる動作点の周りに線形化する事が可能
である。しかしながらこの場合剛性、ダンピング及びバ
ンド幅の様な支持体の特性はh0とioに依存する。従
ってPIDコントローラによる適切な位置制御は、変位
Δhがh0に関して小さくてかつ制御電流Δiがi0に
比較して小さい場合にのみ得られる。
ユニットであるので線形系内の使用に特に適している。 上述したように電磁力は非線形力であるので、電磁石1
3, 15,17, 19によるテーブル5の支持は非
線形系を形成する。本願明細書の第一パラグラフで述べ
た既知の装置は同様な理由で非線形系を形成していて、
PIDコントローラを使用することにより非線形系を空
気間隙の所望のサイズh0と電磁石を流れる基本電流i
0とによって決まる動作点の周りに線形化する事が可能
である。しかしながらこの場合剛性、ダンピング及びバ
ンド幅の様な支持体の特性はh0とioに依存する。従
ってPIDコントローラによる適切な位置制御は、変位
Δhがh0に関して小さくてかつ制御電流Δiがi0に
比較して小さい場合にのみ得られる。
【0022】図4に示される制御回路25aと25bに
おいて制御信号upidは、それ自身公知の型の電子ル
ートエクストラクタ37に与えられる。ルートエクスト
ラクタ37の出力信号usqrは、次式に示されるよう
に信号upidの平方根に等しい値を有し、信号usq
rの符号(極性)は信号upidのそれに等しい。
おいて制御信号upidは、それ自身公知の型の電子ル
ートエクストラクタ37に与えられる。ルートエクスト
ラクタ37の出力信号usqrは、次式に示されるよう
に信号upidの平方根に等しい値を有し、信号usq
rの符号(極性)は信号upidのそれに等しい。
【数1】
【0023】ルートエクストラクタ37の電気出力端は
、制御回路25の第一ブランチ39を介して電磁石15
に接続されていて且つ制御回路25の第二ブランチ41
を介して電磁石13に接続されている。ブランチ39と
41には各々電子整流器43と電子整流器45が設けら
れている。両者ともダイオードとして機能する整流器4
3と45は通常の型であり、かつアナログ設計(半波整
流機能を有するコンパレータ回路)、又はデジタル設計
(論理回路)であっても良い。図4に示されるように整
流器43と45は信号usqrに対して電気的に逆に向
いているので、それらは信号usqrを各々異なった方
向に導通させる。制御回路25内の整流器43, 45
の機能は後に詳細に説明する。
、制御回路25の第一ブランチ39を介して電磁石15
に接続されていて且つ制御回路25の第二ブランチ41
を介して電磁石13に接続されている。ブランチ39と
41には各々電子整流器43と電子整流器45が設けら
れている。両者ともダイオードとして機能する整流器4
3と45は通常の型であり、かつアナログ設計(半波整
流機能を有するコンパレータ回路)、又はデジタル設計
(論理回路)であっても良い。図4に示されるように整
流器43と45は信号usqrに対して電気的に逆に向
いているので、それらは信号usqrを各々異なった方
向に導通させる。制御回路25内の整流器43, 45
の機能は後に詳細に説明する。
【0024】図4は第一ブランチ39が通常の型の電子
マルチプライア47を有していることも示している。マ
ルチプライア47の第一入力端は整流器43を介してル
ートエクストラクタ37の出力端に接続されていて、マ
ルチプライア47の第二入力端は制御回路25のフィー
ドバックライン49を介して位置センサー29, 31
の出力端に接続されている。減算器回路51は、一定入
力信号uhlを受ける第一電気入力端と位置センサー2
9, 31から信号uposを受ける第二電気入力端と
を有するフィードバックライン49内にある。この場合
の信号uhlは、ガイドビーム1と電磁石15との間の
空気間隙53の平均サイズに比例する参照信号ulと、
電磁石15に使用される別の磁化率及び使用される磁気
鉄回路の長さのような電磁石15の数多くの特性によっ
て決定される補正信号uc1との和ul+uc1に等し
い。減算器回路51の出力信号udifは、減算器回路
51の二個の入力信号uh1とuposの差uh1−u
posでありかつ空気間隙53のサイズh1によって決
定される。信号udifはマルチプライア47内で信号
usqrに乗算されるので、マルチプライア47の出力
信号upr1は積usqr×udifとなる。
マルチプライア47を有していることも示している。マ
ルチプライア47の第一入力端は整流器43を介してル
ートエクストラクタ37の出力端に接続されていて、マ
ルチプライア47の第二入力端は制御回路25のフィー
ドバックライン49を介して位置センサー29, 31
の出力端に接続されている。減算器回路51は、一定入
力信号uhlを受ける第一電気入力端と位置センサー2
9, 31から信号uposを受ける第二電気入力端と
を有するフィードバックライン49内にある。この場合
の信号uhlは、ガイドビーム1と電磁石15との間の
空気間隙53の平均サイズに比例する参照信号ulと、
電磁石15に使用される別の磁化率及び使用される磁気
鉄回路の長さのような電磁石15の数多くの特性によっ
て決定される補正信号uc1との和ul+uc1に等し
い。減算器回路51の出力信号udifは、減算器回路
51の二個の入力信号uh1とuposの差uh1−u
posでありかつ空気間隙53のサイズh1によって決
定される。信号udifはマルチプライア47内で信号
usqrに乗算されるので、マルチプライア47の出力
信号upr1は積usqr×udifとなる。
【0025】マルチプライア47の出力信号upr1は
、演算増幅器57が設けられているそれ自身公知の型の
増幅器ユニット55に対する入力信号を形成する。電圧
信号upr1は増幅器ユニット55により増幅され、電
磁石15を通る制御電流i1となる。
、演算増幅器57が設けられているそれ自身公知の型の
増幅器ユニット55に対する入力信号を形成する。電圧
信号upr1は増幅器ユニット55により増幅され、電
磁石15を通る制御電流i1となる。
【0026】制御回路25の第二ブランチ41は、整流
器45を介してルートエクストラクタ37に接続されて
いる第一入力端と、制御回路25のフィードバックライ
ン61を介して位置センサー29, 31に接続されて
いる第二入力端とを有する電子マルチプライア59を有
している。フィードバックライン61は、一定入力信号
uh2を受ける第一電子入力端と位置センサー29,
31からの信号uposを受ける第二電子入力端とを有
する加算回路63を含む。信号uh2は、前述の信号u
h1と同等でかつ電磁石13内に使用される磁気鉄の磁
化率とか使用される磁気鉄回路の長さと言うような電磁
石13の数多くの特性に依存する値を有する補正信号で
ある。加算回路63の出力信号usumは、加算回路6
3の二個の入力信号uh2とuposの和uh2+up
osに等しくかつ空気間隙23のサイズh2によって決
定される。信号usumはマルチプライア59内の信号
usqrに乗算されるので、マルチプライア59の出力
信号upr2はusqr×usumの乗算の結果となる
。
器45を介してルートエクストラクタ37に接続されて
いる第一入力端と、制御回路25のフィードバックライ
ン61を介して位置センサー29, 31に接続されて
いる第二入力端とを有する電子マルチプライア59を有
している。フィードバックライン61は、一定入力信号
uh2を受ける第一電子入力端と位置センサー29,
31からの信号uposを受ける第二電子入力端とを有
する加算回路63を含む。信号uh2は、前述の信号u
h1と同等でかつ電磁石13内に使用される磁気鉄の磁
化率とか使用される磁気鉄回路の長さと言うような電磁
石13の数多くの特性に依存する値を有する補正信号で
ある。加算回路63の出力信号usumは、加算回路6
3の二個の入力信号uh2とuposの和uh2+up
osに等しくかつ空気間隙23のサイズh2によって決
定される。信号usumはマルチプライア59内の信号
usqrに乗算されるので、マルチプライア59の出力
信号upr2はusqr×usumの乗算の結果となる
。
【0027】マルチプライア59の出力信号upr2は
、前記増幅器ユニット55と同様な型であってかつ演算
増幅器67が設けられている増幅器ユニット65に対す
る入力信号を形成する。電圧信号upr2は、増幅器ユ
ニット65によって電磁石13を通る制御電流i2に増
幅される。
、前記増幅器ユニット55と同様な型であってかつ演算
増幅器67が設けられている増幅器ユニット65に対す
る入力信号を形成する。電圧信号upr2は、増幅器ユ
ニット65によって電磁石13を通る制御電流i2に増
幅される。
【0028】ガイドビーム1に対する電磁石15及び1
3によって与えられる力F1とF2の近似値は次のよう
に書くことが出来る。
3によって与えられる力F1とF2の近似値は次のよう
に書くことが出来る。
【数2】
【0029】空気間隙h1とh2のサイズと制御電流i
1とi2に対しては、次の関係式が成立する。 i1〜usqr×udif 及び h1〜udif
i2〜usqr×usum 及び h2〜usum
従って力F1及びF2に対しては、 F1〜u2sqr〜upid 及び F2〜u2s
qr〜upidとなる。
1とi2に対しては、次の関係式が成立する。 i1〜usqr×udif 及び h1〜udif
i2〜usqr×usum 及び h2〜usum
従って力F1及びF2に対しては、 F1〜u2sqr〜upid 及び F2〜u2s
qr〜upidとなる。
【0030】マルチプライア47と59の使用は、力F
1とF2の値が空気間隙h1とh2のサイズに依存せず
制御信号upidの値のみに依存するようにさせること
を可能にする。この結果最適位置制御を空気間隙23の
如何なるサイズについても制御ユニット35によって達
成させることが可能となるので、電磁石13, 15に
対するガイドビーム1の如何なる位置に対しても適切な
安定性を達成させることが出来る。この制御が位置に依
存しないと言う利点は、装置を何の問題も発生させずに
開始させることが出来る点である。これに加えこの制御
により、突然の相対的に高いピークの負荷がテーブル5
に加えられる場合においても装置を常に適切に安定に動
作させる事が出来る。
1とF2の値が空気間隙h1とh2のサイズに依存せず
制御信号upidの値のみに依存するようにさせること
を可能にする。この結果最適位置制御を空気間隙23の
如何なるサイズについても制御ユニット35によって達
成させることが可能となるので、電磁石13, 15に
対するガイドビーム1の如何なる位置に対しても適切な
安定性を達成させることが出来る。この制御が位置に依
存しないと言う利点は、装置を何の問題も発生させずに
開始させることが出来る点である。これに加えこの制御
により、突然の相対的に高いピークの負荷がテーブル5
に加えられる場合においても装置を常に適切に安定に動
作させる事が出来る。
【0031】マルチプライア47と59と共にルートエ
クストラクタ37を使用することにより、力F1とF2
の値を制御信号upidの値に比例するようにさせるこ
とが出来るので、制御ユニット35が現実に線形系を支
配し、電磁石13と15を流れる制御電流i1とi2の
如何なる値に於いても制御ユニット35によって適切な
位置制御を達成する事が可能となった。この制御の利点
は、電磁石13, 15を流れる基本電流が不必要とな
る点である。図4に示される制御回路25aと25bは
、当該整流器43と45の使用により現実には電磁石1
3, 15を流れる制御電流のみをパスさせる。事実二
個の電磁石13, 15の一個によってガイドビーム1
に与えられる力は当該電磁石を流れる制御電流の方向に
かかわらず常に引っ張る力であるので、整流器43,
45を使用しない場合の二個の電磁石13, 15の力
は恒常的に等しくなり位置制御は不可能となろう。整流
器43, 45の使用により電磁石13には、テーブル
5に静的な負荷が与えられる場合に図4に示されるよう
な方向を有する制御電流i2が与えられるのみで、i1
は空気間隙23の測定されたサイズが所望のサイズより
も大きいときには0となる。その様な負荷に対し、空気
間隙23の測定されたサイズが所望のサイズよりも小さ
い場合には、電磁石15のみに図4に示される方向を有
する制御電流i1が与えられ、i2は0となる。電磁石
13, 15を通る基本電流が存在せずかつ電磁石13
, 15の一個のみが制御電流を受け取るので、電磁石
13, 15の電気抵抗の損失は低い。テーブル5に負
荷が与えられていない状態での抵抗損失は無視できる程
に小さい。
クストラクタ37を使用することにより、力F1とF2
の値を制御信号upidの値に比例するようにさせるこ
とが出来るので、制御ユニット35が現実に線形系を支
配し、電磁石13と15を流れる制御電流i1とi2の
如何なる値に於いても制御ユニット35によって適切な
位置制御を達成する事が可能となった。この制御の利点
は、電磁石13, 15を流れる基本電流が不必要とな
る点である。図4に示される制御回路25aと25bは
、当該整流器43と45の使用により現実には電磁石1
3, 15を流れる制御電流のみをパスさせる。事実二
個の電磁石13, 15の一個によってガイドビーム1
に与えられる力は当該電磁石を流れる制御電流の方向に
かかわらず常に引っ張る力であるので、整流器43,
45を使用しない場合の二個の電磁石13, 15の力
は恒常的に等しくなり位置制御は不可能となろう。整流
器43, 45の使用により電磁石13には、テーブル
5に静的な負荷が与えられる場合に図4に示されるよう
な方向を有する制御電流i2が与えられるのみで、i1
は空気間隙23の測定されたサイズが所望のサイズより
も大きいときには0となる。その様な負荷に対し、空気
間隙23の測定されたサイズが所望のサイズよりも小さ
い場合には、電磁石15のみに図4に示される方向を有
する制御電流i1が与えられ、i2は0となる。電磁石
13, 15を通る基本電流が存在せずかつ電磁石13
, 15の一個のみが制御電流を受け取るので、電磁石
13, 15の電気抵抗の損失は低い。テーブル5に負
荷が与えられていない状態での抵抗損失は無視できる程
に小さい。
【0032】図5は制御回路25aと25bの第二実施
例を線図的に示す。図5の各制御回路25a,25bに
おいて、減算器回路51と加算回路63は各々第一デジ
タルメモリ69と第二デジタルメモリ71によって置換
されている。信号uposと信号udifとusumと
の関係は、ステップサイズΔupos異なる数多くの順
次のuposの値に対して、各々メモリ69と71に表
の形態でストアされる。ステップサイズΔuposが充
分小さい場合には、図5の制御回路のデジタルメモリ6
9, 71の函数は減算器回路51と図4の制御回路の
加算回路63との函数に各々近似する。更に信号udi
fとusumとが、各々デジタルメモリ69, 71に
よって、例えば磁気飽和のような電磁石13, 15及
びガイドビーム1の非線形特性に対して補正される。
例を線図的に示す。図5の各制御回路25a,25bに
おいて、減算器回路51と加算回路63は各々第一デジ
タルメモリ69と第二デジタルメモリ71によって置換
されている。信号uposと信号udifとusumと
の関係は、ステップサイズΔupos異なる数多くの順
次のuposの値に対して、各々メモリ69と71に表
の形態でストアされる。ステップサイズΔuposが充
分小さい場合には、図5の制御回路のデジタルメモリ6
9, 71の函数は減算器回路51と図4の制御回路の
加算回路63との函数に各々近似する。更に信号udi
fとusumとが、各々デジタルメモリ69, 71に
よって、例えば磁気飽和のような電磁石13, 15及
びガイドビーム1の非線形特性に対して補正される。
【0033】図4または図5の制御回路25a, 25
bを有する図1、図2及び図3に示される装置は、集積
回路の製造に使用されるマスクの製造に於ける光学リソ
グラフィック位置決めの応用に特に適していることに注
意すべきである。電磁石内の発生熱の結果、このような
位置決め装置と電磁石支持を有する他の精密マシーンと
に於いてディメンジョンの不正確さが発生する可能性が
ある。この様な不正確さは図4または図5の装置を使用
する事によって除去させることが出来る。さらに、非常
に小さな空気間隙を、正確さと剛性やバンド幅のような
当該装置の正確さと位置に依存しない特性とによって使
用することが出来るので、所望の制御電流の値とそれに
伴う抵抗損失とを減少させる事が可能となる。
bを有する図1、図2及び図3に示される装置は、集積
回路の製造に使用されるマスクの製造に於ける光学リソ
グラフィック位置決めの応用に特に適していることに注
意すべきである。電磁石内の発生熱の結果、このような
位置決め装置と電磁石支持を有する他の精密マシーンと
に於いてディメンジョンの不正確さが発生する可能性が
ある。この様な不正確さは図4または図5の装置を使用
する事によって除去させることが出来る。さらに、非常
に小さな空気間隙を、正確さと剛性やバンド幅のような
当該装置の正確さと位置に依存しない特性とによって使
用することが出来るので、所望の制御電流の値とそれに
伴う抵抗損失とを減少させる事が可能となる。
【0034】何等の特定な要求が電磁石の発生熱に課さ
れない場合には、電子ルートエクストラクタ37と整流
器43と45とを制御回路25a, 25bから省略す
ることも可能であることに注意すべきである。この場合
には、位置に依存しない制御が可能となり、重畳された
制御電流を有する基本電流が電磁石を流れる。剛性とバ
ンド幅はこの場合基本電流の強さに依存する。
れない場合には、電子ルートエクストラクタ37と整流
器43と45とを制御回路25a, 25bから省略す
ることも可能であることに注意すべきである。この場合
には、位置に依存しない制御が可能となり、重畳された
制御電流を有する基本電流が電磁石を流れる。剛性とバ
ンド幅はこの場合基本電流の強さに依存する。
【0035】制御回路25a, 25bから整流器43
, 45のみを省略することが更に別の実施例で得られ
る。この実施例の場合、電磁石には基本電流も供給され
、一方電流値に依存しない制御を得るためにルートエク
ストラクタは各ブランチ39, 41内で当該マルチプ
ライア47, 59の前に含まれるべきである。電磁石
13, 15を流れる制御電流を決める制御信号upi
dは基本信号u0に加えられ、かつそれから減算される
べきで、これにより各々ブランチ39, 41内の当該
ルートエクストラクタの前の、電磁石を通る基本電流が
決まる。このようにして位置に依存せずかつ電流に依存
しない特性を有する両方向支持が当該支持方向内におい
て得られる。
, 45のみを省略することが更に別の実施例で得られ
る。この実施例の場合、電磁石には基本電流も供給され
、一方電流値に依存しない制御を得るためにルートエク
ストラクタは各ブランチ39, 41内で当該マルチプ
ライア47, 59の前に含まれるべきである。電磁石
13, 15を流れる制御電流を決める制御信号upi
dは基本信号u0に加えられ、かつそれから減算される
べきで、これにより各々ブランチ39, 41内の当該
ルートエクストラクタの前の、電磁石を通る基本電流が
決まる。このようにして位置に依存せずかつ電流に依存
しない特性を有する両方向支持が当該支持方向内におい
て得られる。
【0036】図4及び図5に示される各電子部品を対応
する動作を有するデジタル回路によって各々置き換える
ことも可能であることに注意すべきである。例えば、制
御ユニット35、ルートエクストラクタ37及び二個の
整流器43, 45を、制御ユニット35、ルートエク
ストラクタ37及び整流器43, 45の機能が一体化
されている電子制御ユニットによって置き換えても良い
。
する動作を有するデジタル回路によって各々置き換える
ことも可能であることに注意すべきである。例えば、制
御ユニット35、ルートエクストラクタ37及び二個の
整流器43, 45を、制御ユニット35、ルートエク
ストラクタ37及び整流器43, 45の機能が一体化
されている電子制御ユニットによって置き換えても良い
。
【0037】図4または図5の制御回路25a, 25
bを有する装置は特にマイクロマニュプレータ内の使用
に適していて、これにより支持される物体を小さな距離
(数ミクロン/10)に渡って正確に変位させることが
出来る。その様な装置は位置に依存しない制御を有して
いるので、適切な安定性を支持されるべき物体の各位置
に実施させることが出来る。
bを有する装置は特にマイクロマニュプレータ内の使用
に適していて、これにより支持される物体を小さな距離
(数ミクロン/10)に渡って正確に変位させることが
出来る。その様な装置は位置に依存しない制御を有して
いるので、適切な安定性を支持されるべき物体の各位置
に実施させることが出来る。
【0038】本装置の単純な実施例が、基本電流と共に
二個の電磁石13, 15の一方のみを制御することに
よって得られることにも注目すべきである。この実施例
に於ける他方の電磁石には基本電流のみが与えられかつ
これはカウンターバランスする磁石としてのみ機能する
。カウンターバランスする力は、例えば真空、永久磁石
、ガススプリングまたは機械スプリングのような他の手
段によって達成しても良い。支持される物体に作用する
重力をカウンターバランスする力として使用しても良い
。これらの場合当該支持方向には一個の電磁石しか使用
されない。
二個の電磁石13, 15の一方のみを制御することに
よって得られることにも注目すべきである。この実施例
に於ける他方の電磁石には基本電流のみが与えられかつ
これはカウンターバランスする磁石としてのみ機能する
。カウンターバランスする力は、例えば真空、永久磁石
、ガススプリングまたは機械スプリングのような他の手
段によって達成しても良い。支持される物体に作用する
重力をカウンターバランスする力として使用しても良い
。これらの場合当該支持方向には一個の電磁石しか使用
されない。
【0039】図1〜5の装置の場合、電磁石13, 1
5はガイドビーム1の何れかの側に互いに反対に配置さ
れている。電磁石13, 15は、互いに反対を向いて
いるU字形状のサイドに位置させると言う別の態様に配
置させても良い事に注意すべきである。後者の場合対1
3, 15は、ガイドビームの平行な第一及び第二部分
の間に位置している。
5はガイドビーム1の何れかの側に互いに反対に配置さ
れている。電磁石13, 15は、互いに反対を向いて
いるU字形状のサイドに位置させると言う別の態様に配
置させても良い事に注意すべきである。後者の場合対1
3, 15は、ガイドビームの平行な第一及び第二部分
の間に位置している。
【0040】最後に、テーブル5の自由度の二個の程度
、つまりy方向に平行な移動とz軸に平行に伸びる軸に
ついての回転とは、図1、2及び3の装置内の電磁石(
13, 15)と(17, 19)の二個の対によって
制限出来ることに注意すべきである。より多くの対の電
磁石をこのような装置で使用する場合には支持されるべ
き物体の自由度の二個以上の程度を更に制限することも
可能である。装置の構造を更にコンパクトにする必要が
ある場合には、支持体に使用される電磁石の数を減少さ
せても良い。このことは、例えば、当該方向に垂直な面
内で互いに120゜の角度で位置している三個の電磁石
によって二方向に物体を支持することによって行える。 電磁石の適切な制御が、インターリンクされた制御回路
と共にこれに対して必要である。
、つまりy方向に平行な移動とz軸に平行に伸びる軸に
ついての回転とは、図1、2及び3の装置内の電磁石(
13, 15)と(17, 19)の二個の対によって
制限出来ることに注意すべきである。より多くの対の電
磁石をこのような装置で使用する場合には支持されるべ
き物体の自由度の二個以上の程度を更に制限することも
可能である。装置の構造を更にコンパクトにする必要が
ある場合には、支持体に使用される電磁石の数を減少さ
せても良い。このことは、例えば、当該方向に垂直な面
内で互いに120゜の角度で位置している三個の電磁石
によって二方向に物体を支持することによって行える。 電磁石の適切な制御が、インターリンクされた制御回路
と共にこれに対して必要である。
【図1】 本発明の第一及び第二実施例の共通部分の
側面図を示す。
側面図を示す。
【図2】 図1の共通部分の平面図を示す。
【図3】 図2の線III−IIIについての共通部
分の断面図を示す。
分の断面図を示す。
【図4】 第一電子制御回路を有する本発明の装置の
第一実施例を線図的に示す。
第一実施例を線図的に示す。
【図5】 第二電子制御回路を有する本発明の装置の
第二実施例を線図的に示す。
第二実施例を線図的に示す。
1:スチールガイドビーム 3:フレ
ーム5:テーブル
7:目的物9:脚
11:基体表面13,
15, 17, 19:電磁石 2
1:ベアリングブロック 23:空気間隙
25a, 25b:電子制御回路 29, 31:位置センサー
33:コンパレータ35:電子制御ユニット
37:ルートエクストラクタ 39:第一ブランチ
41:第二ブランチ43, 45:電子整流器
47, 59:マルチプライア 49, 61:フィードバックライン 51:減
算器回路53:空気間隙
55, 65:増幅器ユニット
ーム5:テーブル
7:目的物9:脚
11:基体表面13,
15, 17, 19:電磁石 2
1:ベアリングブロック 23:空気間隙
25a, 25b:電子制御回路 29, 31:位置センサー
33:コンパレータ35:電子制御ユニット
37:ルートエクストラクタ 39:第一ブランチ
41:第二ブランチ43, 45:電子整流器
47, 59:マルチプライア 49, 61:フィードバックライン 51:減
算器回路53:空気間隙
55, 65:増幅器ユニット
Claims (8)
- 【請求項1】 少なくとも1個の電磁石と少なくとも
1個の位置センサーとによって少なくとも1個の支持方
向に物体を位置決めする装置であって、前記位置決めセ
ンサーの電気出力が、前記電磁石内の電流を前記位置セ
ンサーによって測定される前記電磁石に対する前記物体
の位置と所望の位置との差の函数として制御する事が可
能である電子制御ユニットの一電気入力端に接続されて
いる装置に於て、前記制御ユニットの電気出力端と前記
制御ユニットにより制御される前記電磁石との間に当該
電磁石に固有な電気マルチプライアが接続されていて、
前記マルチプライアの出力信号が前記制御ユニットの制
御信号と前記位置センサーの出力信号との積によって決
定されている事を特徴とする物体を位置決めする装置。 - 【請求項2】 電子ルートエクストラクタが、前記制
御ユニットと前記制御ユニットに接続されている前記マ
ルチプライアとの間に接続されている事を特徴とする請
求項1記載の装置。 - 【請求項3】 作動中、前記物体が、前記支持方向で
見て互いに反対側に位置している一対の電磁石によって
前記支持方向に支持され、前記対の2個の電磁石を通る
電流が前記対の2個の電磁石に共通である制御ユニット
によって制御されている請求項2記載の装置に於て、前
記制御ユニットと前記制御ユニットに接続されている2
個のマルチプライアの各々との間に当該マルチプライア
に固有な電子ルートエクストラクタが接続されている事
を特徴とする装置。 - 【請求項4】 操作の間、物体が一対の電磁石によっ
て支持方向に支持されている本発明の装置の別の実施例
であって、支持方向で見て一対の電磁石がその対の2個
の電磁石を通る電流がその対の2個の電磁石に共通であ
る制御ユニットによって制御される間、支持方向で見て
互いに反対側に位置していて、前記制御ユニットと前記
制御ユニットに接続されている2個のマルチプライアの
各々との間に当該マルチプライアに固有な電子整流器が
接続されていて、前記2個の整流器が電気的に反対方向
に配置されている事を特徴とする請求項1記載の装置。 - 【請求項5】 前記整流器が、前記制御ユニットと前
記制御ユニットに接続されている前記マルチプライアの
各々との間に接続されている事を特徴とする請求項4記
載の装置。 - 【請求項6】 前記制御ユニットと前記制御ユニット
に接続されている前記2個のマルチプライアの各々との
間に前記当該マルチプライアに固有な電子ルートエクス
トラクタが接続されている事を特徴とする請求項4また
は5記載の装置。 - 【請求項7】 前記制御ユニットと前記制御ユニット
に接続されている前記2個のマルチプライアとの間に前
記2個のマルチプライアに共通の電子ルートエクストラ
クタが接続されている事を特徴とする請求項4または5
記載の装置。 - 【請求項8】 デジタルメモリが、前記マルチプライ
アの各々と当該マルチプライアに接続されている前記位
置センサとの間に接続されている事を特徴とする前記請
求項の何れかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9001908A NL9001908A (nl) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | Elektromagnetische ondersteuning met positie-onafhankelijke eigenschappen. |
NL9001908 | 1990-08-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04245406A true JPH04245406A (ja) | 1992-09-02 |
Family
ID=19857602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3240554A Withdrawn JPH04245406A (ja) | 1990-08-30 | 1991-08-27 | 位置に依存しない電磁支持 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5227948A (ja) |
EP (1) | EP0473232A1 (ja) |
JP (1) | JPH04245406A (ja) |
NL (1) | NL9001908A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7345865B2 (en) | 2003-05-15 | 2008-03-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic guiding apparatus |
Families Citing this family (20)
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---|---|---|---|---|
EP0549912B1 (en) * | 1992-01-03 | 1997-11-05 | British Nuclear Fuels PLC | Apparatus for the electromagnetic control of the suspension of an object |
US5696412A (en) * | 1993-10-20 | 1997-12-09 | Iannello; Victor | Sensor-less position detector for an active magnetic bearing |
FR2716700B1 (fr) * | 1994-02-28 | 1996-05-15 | Mecanique Magnetique Sa | Palier magnétique actif à auto-détection de position. |
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EP2886889B1 (en) * | 2013-12-17 | 2016-04-27 | Skf Magnetic Mechatronics | Digital nonlinear corrector for active magnetic bearings |
US10208760B2 (en) | 2016-07-28 | 2019-02-19 | General Electric Company | Rotary machine including active magnetic bearing |
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FR2501314A1 (fr) * | 1981-03-09 | 1982-09-10 | Europ Propulsion | Palier electromagnetique actif redondant |
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-
1990
- 1990-08-30 NL NL9001908A patent/NL9001908A/nl not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-03-04 US US07/664,162 patent/US5227948A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-22 EP EP91202147A patent/EP0473232A1/en not_active Withdrawn
- 1991-08-27 JP JP3240554A patent/JPH04245406A/ja not_active Withdrawn
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Also Published As
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---|---|
NL9001908A (nl) | 1992-03-16 |
EP0473232A1 (en) | 1992-03-04 |
US5227948A (en) | 1993-07-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |