JPH04244075A - 液晶性化合物、これを含む液晶組成物、およびその使用方法、それを使用した液晶素子、表示装置 - Google Patents

液晶性化合物、これを含む液晶組成物、およびその使用方法、それを使用した液晶素子、表示装置

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JPH04244075A
JPH04244075A JP1101791A JP1101791A JPH04244075A JP H04244075 A JPH04244075 A JP H04244075A JP 1101791 A JP1101791 A JP 1101791A JP 1101791 A JP1101791 A JP 1101791A JP H04244075 A JPH04244075 A JP H04244075A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal composition
outside
compound
general formula
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JP1101791A
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English (en)
Inventor
Shinichi Nakamura
真一 中村
Takao Takiguchi
隆雄 滝口
Takashi Iwaki
孝志 岩城
Gouji Tokanou
門叶 剛司
Yoko Yamada
容子 山田
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[発明の属する技術分野]本発明は、新規な液晶性化合
物、それを含有する液晶組成物およびそれを使用した液
晶素子並びに表示装置に関し、さらに詳しくは電界に対
する応答特性が改善された新規な液晶組成物、およびそ
れを使用した液晶表示素子や液晶−光シャッター等に利
用される液晶素子並びに該液晶素子を表示に使用した表
示装置に関するものである。
【0001】
【従来の技術】従来より、液晶は電気光学素子として種
々の分野で応用されている。現在実用化されている液晶
素子はほとんどが、例えばエム  シャット(M.Sc
hadt)とダブリュ  ヘルフリッヒ(W.Helf
rich)著“アプライド  フィジックス  レター
ズ”(“Applied  Physics  Let
ters”)Vo.18,  No.4(1971.2
.15)P.127〜128の“Voltage  D
ependent  Optical  Activi
ty  of  aTwisted  Nematic
  liquid  Crystal”に示されたTN
(Twisted  Nematic)型の液晶を用い
たものである。
【0002】これらは、液晶の誘電的配列効果に基づい
ており、液晶分子の誘電異方性のために平均分子軸方向
が、加えられた電場により特定の方向に向く効果を利用
している。これらの素子の光学的な応答速度の限界はミ
リ秒であるといわれ、多くの応用のためには遅すぎる。
【0003】一方、大型平面ディスプレイへの応用では
、価格、生産性などを考え合せると単純マトリクス方式
による駆動が最も有力である。単純マトリクス方式にお
いては、走査電極群と信号電極群をマトリクス状に構成
した電極構成が採用され、その駆動のためには、走査電
極群に順次周期的にアドレス信号を選択印加し、信号電
極群には所定の情報信号をアドレス信号と同期させて並
列的に選択印加する時分割駆動方式が採用されている。
【0004】しかし、この様な駆動方式の素子に前述し
たTN型の液晶を採用すると走査電極が選択され、信号
電極が選択されない領域、或いは走査電極が選択されず
、信号電極が選択される領域(所謂“半選択点”)にも
有限に電界がかかってしまう。
【0005】選択点にかかる電圧と、半選択点にかかる
電圧の差が充分に大きく、液晶分子を電界に垂直に配列
させるのに要する電圧閾値がこの中間の電圧値に設定さ
れるならば、表示素子は正常に動作するわけであるが、
走査線数(N)を増加して行った場合、画面全体(1フ
レーム)を走査する間に一つの選択点に有効な電界がか
かっている時間(duty比)が1/Nの割合で減少し
てしまう。
【0006】このために、くり返し走査を行った場合の
選択点と非選択点にかかる実効値としての電圧差は、走
査線数が増えれば増える程小さくなり、結果的には画像
コントラストの低下やクロストークが避け難い欠点とな
っている。
【0007】この様な現象は、双安定性を有さない液晶
(電極面に対し、液晶分子が水平に配向しているのが安
定状態であり、電界が有効に印加されている間のみ垂直
に配向する)を時間的蓄積効果を利用して駆動する(即
ち、繰り返し走査する)ときに生ずる本質的には避け難
い問題点である。
【0008】この点を改良するために、電圧平均化法、
2周波駆動法や、多重マトリクス法等が既に提案されて
いるが、いずれの方法でも不充分であり、表示素子の大
画面化や高密度化は、走査線数が充分に増やせないこと
によって頭打ちになっているのが現状である。
【0009】この様な従来型の液晶素子の欠点を改善す
るものとして、双安定性を有する液晶素子の使用がクラ
ーク(Clark)およびラガウェル(Lagerwa
ll)により提案されている(特開昭56−10721
6号公報、米国特許第4367924号明細書等)。
【0010】双安定性液晶としては、一般にカイラルス
メクティックC相(SmC*相)又はH相(SmH*相
)を有する強誘電性液晶が用いられる。
【0011】この強誘電性液晶は電界に対して第1の光
学的安定状態と第2の光学的安定状態からなる双安定状
態を有し、従って前述のTN型の液晶で用いられた光学
変調素子とは異なり、例えば一方の電界ベクトルに対し
て第1の光学的安定状態に液晶が配向し、他方の電界ベ
クトルに対しては第2の光学的安定状態に液晶が配向さ
れている。また、この型の液晶は、加えられる電界に応
答して、上記2つの安定状態のいずれかを取り、且つ電
界の印加のないときはその状態を維持する性質(双安定
性)を有する。
【0012】以上の様な双安定性を有する特徴に加えて
、強誘電性液晶は高速応答性であるという優れた特徴を
持つ。それは強誘電性液晶の持つ自発分極と印加電場が
直接作用して配向状態の転移を誘起するためであり、誘
電率異方性と電場の作用による応答速度より3〜4オー
ダー速い。
【0013】この様に強誘電性液晶はきわめて優れた特
性を潜在的に有しており、このような性質を利用するこ
とにより、上述した従来のTN型素子の問題点の多くに
対して、かなり本質的な改善が得られる。特に、高速光
学光シャッターや高密度,大画面ディスプレイへの応用
が期待される。このため強誘電性を持つ液晶材料に関し
ては広く研究がなされているが、現在までに開発された
強誘電性液晶材料は、低温作動特性、高速応答性等を含
めて液晶素子に用いる十分な特性を備えているとは言い
難い。
【0014】応答時間τと自発分極の大きさPsおよび
粘度ηの間には、下記の式[II]
【0015】
【外12】 (ただし、Eは印加電界である)の関係が存在する。し
たがって応答速度を速くするには、 (ア)自発分極の大きさPsを大きくする(イ)粘度η
を小さくする (ウ)印加電界Eを大きくする 方法がある。しかし印加電界は、IC等で駆動するため
上限があり、出来るだけ低い方が望ましい。よって、実
際には粘度ηを小さくするか、自発分極の大きさPsの
値を大きくする必要がある。
【0016】一般的に自発分極の大きい強誘電性カイラ
ルスメクチック液晶化合物においては、自発分極のもた
らすセルの内部電界も大きく、双安定状態をとり得る素
子構成への制約が多くなる傾向にある。又、いたずらに
自発分極を大きくしても、それにつれて粘度も大きくな
る傾向にあり、結果的には応答速度はあまり速くならな
いことが考えられる。
【0017】また、実際のディスプレイとしての使用温
度範囲が例えば5〜40℃程度とした場合、応答速度の
変化が一般に20倍程もあり、駆動電圧および周波数に
よる調節の限界を越えているのが現状である。
【0018】以上述べたように、強誘電性液晶素子を実
用化するためには、大きな自発分極と低い粘性による高
速応答性を有し、かつ応答速度の温度依存性の小さなカ
イラルスメクチック相を示す液晶組成物が要求される。
【0019】
【発明が解決しようとする問題点】本発明の目的は、前
述の強誘電性液晶素子を実用できるようにするために、
応答速度を速くさせるのに効果的な液晶性化合物、これ
を含む液晶組成物、特に強誘電性カイラルスメクチツク
相を示す液晶組成物、および該液晶組成物を使用する液
晶素子,表示装置を提供することにある。
【0020】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記一般式(I)で示される液晶性化合物である。
【0021】
【外13】
【0022】また、本発明は、該液晶性化合物の少なく
とも1種を含有する液晶組成物、および該液晶組成物を
1対の電極基板間に配置してなる液晶素子ならびに表示
装置を提供するものである。
【0023】
【外14】
【0024】本発明の化合物は、ラセミ体及び光学活性
体の両方の化合物を含むが、光学活性化合物であると、
それ自体でカイラルスメクチック相を示すので、より好
ましい。
【0025】本発明者等は、上記の液晶組成物およびそ
れを使用した液晶素子を用いることにより、高速応答性
、応答速度の温度依存性の軽減等の諸特性の改良がなさ
れ、良好な表示特性が得られることを見いだしたもので
ある。
【0026】前記一般式(I)で表わされる液晶性化合
物の合成法の一例を以下に示す。
【0027】
【外15】 R1、A、B、D、eは前記一般式に準ずる。また、こ
こで用いるテトラヒドロフラン−2−カルボン酸は光学
活性であってもよい。前記一般式(I)で表わされる液
晶性化合物の具体的な構造式を以下に示す。なお、C*
は不斉炭素原子を表わし、その化合物が光学活性である
ことを示す。
【0028】
【外16】
【0029】
【外17】
【0030】
【外18】
【0031】
【外19】
【0032】
【外20】
【0033】
【外21】
【0034】
【外22】
【0035】
【外23】
【0036】
【外24】
【0037】
【外25】
【0038】
【外26】
【0039】
【外27】
【0040】
【外28】
【0041】
【外29】
【0042】
【外30】
【0043】
【外31】
【0044】
【外32】
【0045】本発明の液晶組成物は前記一般式(I)で
示される液晶性化合物の少なくとも1種を有する。
【0046】また、本発明による液晶性化合物はカイラ
ルスメクチック相を示す液晶組成物が好ましい。
【0047】本発明で用いる他の液晶性化合物を一般式
(III)〜(XII)で次に示す。
【0048】
【外33】
【0049】
【外34】
【0050】
【外35】
【0051】
【外36】
【0052】
【外37】
【0053】
【外38】
【0054】
【外39】
【0055】
【外40】
【0056】
【外41】
【0057】
【外42】
【0058】
【外43】
【0059】
【外44】
【0060】
【外45】
【0061】
【外46】
【0062】
【外47】
【0063】
【外48】
【0064】
【外49】
【0065】液晶組成物中に占める本発明の液晶性化合
物の割合は1重量%〜80重量%、好ましくは1重量%
〜60重量%、さらに好ましくは1重量%〜40重量%
とすることが望ましい。
【0066】また、本発明の液晶性化合物を2種以上用
いる場合は、混合して得られた液晶組成物中に占める本
発明の液晶性化合物2種以上の混合物の割合は1重量%
〜80重量%、好ましくは1重量%〜60重量%、さら
に好ましくは1重量%〜40重量%とすることが望まし
い。
【0067】さらに、本発明による強誘電性液晶素子に
おける強誘電性を示す液晶層は、先に示したようにして
作成したカイラルスメクチック相を示す液晶組成物を真
空中、等方性液体温度まで加熱し、素子セル中に封入し
、徐々に冷却して液晶層を形成させ常圧に戻すことが好
ましい。
【0068】図1は強誘電性を利用した結晶素子の構成
の説明のために、本発明のカイラルスメクチック液晶層
を有する液晶素子の一例を示す断面概略図である。
【0069】図1において符号1はカイラルスメクチッ
ク液晶層、2はガラス基板、3は透明電極、4は絶縁性
配向制御層、5はスペーサー、6はリード線、7は電源
、8は偏向板、9は光源を示している。
【0070】2枚のガラス基板2には、それぞれIn2
O3、SnO2あるいはITO(インジウム  チン 
 オキサイド;Indium  Tin  Oxide
)等の薄膜から成る透明電極3が被覆されている。その
上にポリイミドの様な高分子の薄膜をガーゼやアセテー
ト植毛布等でラビングして、液晶をラビング方向に並べ
る絶縁性配向制御層4が形成されている。また、絶縁物
質として、例えばシリコン窒化物、水素を含有するシリ
コン炭化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有
する硼素窒化物、セリウム酸化物、アルミニウム酸化物
、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシ
ウムなどの無機物質絶縁層を形成し、その上にポリビニ
ルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエ
ステルイミド、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル
、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロ
ース樹脂、メラミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂や
フォトレジスト樹脂などの有機絶縁物質を配向制御層と
して、2層で絶縁性配向制御層4が形成されていてもよ
く、また無機物質絶縁性配向制御層あるいは有機物質絶
縁性配向制御層単層であっても良い。この絶縁性配向制
御層が無機系ならば蒸着法などで形成でき、有機系なら
ば有機絶縁物質を溶解させた溶液、またはその前駆体溶
液(溶剤に0.1〜20重量%、好ましくは0.2〜1
0重量%)を用いて、スピンナー塗布法、浸漬塗布法、
スクリーン印刷法、スプレー塗布法、ロール塗布法等で
塗布し、所定の硬化条件下(例えば加熱下)で硬化させ
形成させることができる。
【0071】絶縁性配向制御層4の層厚は通常50Å〜
1μm、好ましくは10Å〜3000Å、さらに好まし
くは10Å〜1000Åが適している。
【0072】この2枚のガラス基板2はスペーサー5に
よって任意の間隔に保たれている。例えば所定の直径を
持つシリカビーズ、アルミナビーズをスペーサーとして
ガラス基板2枚で挟持し、周囲をシール材、例えばエポ
キシ系接着材を用いて密封する方法がある。その他スぺ
ーサーとして高分子フィルムやガラスファイバーを使用
しても良い。この2枚ガラス基板の間に強誘電性を示す
液晶が封入されている。
【0073】カイラルスメクチック液晶が封入されたカ
イラルスメクチック液晶層1は、一般には0.5〜20
μm、好ましくは1〜5μmである。
【0074】透明電極3からはリード線によって外部の
電源7に接続されている。
【0075】またガラス基板2の外側には偏光板8が貼
り合わせてある。
【0076】図1は透過型なので光源9を備えている。
【0077】図2は強誘電性を利用した液晶素子の動作
説明のために、セルの例を模式的に描いたものである。 21aと21bはそれぞれIn2O3;SnO2あるい
はITO(Indium  Tin  Oxide)等
の薄膜からなる透明電極で被覆された基板(ガラス板)
であり、その間に液晶分子層22がガラス面に垂直に成
るように配向したSmC*相又はSmH*相の液晶が封
入されている。太線で示した線23が液晶分子を表わし
ており、この液晶分子23はその分子に直交した方向に
双極子モーメント(P⊥)24を有している。基板21
aと21b上の電極間に一定の閾値以上の電圧を印加す
ると、液晶分子23のらせん構造がほどけ、双極子モー
メント(P⊥)24がすべて電界方向に向くよう、液晶
分子23は配向方向を変えることができる。液晶分子2
3は細長い形状を有しており、その長軸方向と短軸方向
で屈折率異方性を示し、従って例えばガラス面の上下に
互いにクロスニコルの偏光子を置けば、電圧印加極性に
よって光学特性が変わる液晶光学変調素子となることは
、容易に理解される。
【0078】本発明における光学変調素子で、好ましく
用いられる液晶セルは、その厚さを充分に薄く(例えば
10μ以下)することができる。このように液晶層が薄
くなるにしたがい、図3に示すように電界を印加してい
ない状態でも液晶分子のらせん構造がほどけ、その双極
子モーメントPaまたはPbは上向き(34a)又は下
向き(34b)のどちらかの状態をとる。このようなセ
ルに、図3に示す如く一定の閾値以上の極性の異なる電
界Ea又はEbを電圧印加手段31aと31bにより付
与すると、双極子モーメントは電界Ea又はEbの電界
ベクトルに対応して上向き34a又は下向き34bと向
きを変え、それに応じて液晶分子は、第1の安定状態3
3aかあるいは第2の安定状態33bの何れか一方に配
向する。
【0079】このような強誘電性液晶素子を光学変調素
子として用いることの利点は先にも述べたが2つある。
【0080】その第1は応答速度が極めて速いことであ
り、第2は液晶分子の配向が双安定性を有することであ
る。第2の点を例えば図3によって更に説明すると、電
界Eaを印加すると液晶分子は第1の安定状態33aに
配向するが、この状態は、電界を切っても安定である。 又、逆向きの電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の
安定状態33bに配向してその分子の向きを変えるが、
やはり電界を切ってもこの状態に留っている。又、与え
る電界EaあるいはEbが一定の閾値を越えない限り、
それぞれ前の配向状態にやはり維持されている。
【0081】本発明の液晶素子を表示パネル部に使用し
、図4及び図5に示した走査線アドレス情報をもつ画像
情報なるデータフォーマット及びSYNC信号による通
信同期手段をとることにより、液晶表示装置を実現する
【0082】図中、符号はそれぞれ以下の通りである。 101  強誘電性液晶表示装置 102  グラフィックコントローラ 103  表示パネル 104  走査線駆動回路 105  情報線駆動回路 106  デコーダ 107  走査信号発生回路 108  シフトレジスタ 109  ラインメモリ 110  情報信号発生回路 111  駆動制御回路 112  GCPU 113  ホストCPU 114  VRAM
【0083】画像情報の発生は、本体装置側のグラフィ
ックスコントローラ102にて行われ、図4及び図5に
示した信号転送手段にしたがって表示パネル103に転
送される。グラフィックスコントローラ102は、CP
U(中央演算処理装置、以下GCPU112と略す)及
びVRAM(画像情報格納用メモリ)114を核に、ホ
ストCPU113と液晶表示装置101間の画像情報の
管理や通信をつかさどっており、本発明の制御方法は主
にこのグラフィックスコントローラ102上で実現され
るものである。
【0084】なお、該表示パネルの裏面には、光源が配
置されている。
【0085】以下実施例により本発明について更に詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。下記の例において、「部」はいずれも「重
量部」を示す。
【0086】
【実施例】以下、実施例により本発明についてさらに詳
細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
【0087】実施例1 光学活性4−(5−デシル−2−ピリミジニル)フェニ
ルメチル−テトラヒドロフラン−2−カルボキシレート
(例示化合物11)の製造 下記の工程に従い、4−(5−n−デシル−2−ピリミ
ジニル)フェニルメチル−テトラヒドロフラン−2−カ
ルボキシレートを製造した。
【0088】
【外50】
【0089】工程1)  2−[4−(ヒドロキシメチ
ル)フェニル]−5−デシルピリミジンの製造氷冷下、
乾燥テトラヒドロフラン(THF)49mlとリチウム
アルミニウムハイドライド2.36gの懸濁液に4−(
5−デシル−2−ピリミジル)安息香酸20g(58.
8mmol)と乾燥THF200mlの混合液を滴下し
た。滴下後、室温で一晩撹拌した。反応終了後、6M−
塩酸を加えTHFで抽出した後、無水硫酸ナトリウムを
加え乾燥した。溶媒留去後、得られた粗結晶をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)及び再結
晶(エタノール)にて精製し、目的物8.3g(25.
5mmol)を得た。収率43%。
【0090】工程2)  4−(5−デシル−2−ピリ
ミジニル)フェニルメチル−テトラヒドロフラン−2−
カルボキシレートの製造 ジクロロメタンに2−[4−(ヒドロキシメチル)フェ
ニル]−5−デシルピリミジン1.0g(3.1mmo
l)と(R)−テトラヒドロフラン−2−カルボン酸0
.36g(3.1mmol)、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド0.60g(2.9mmol)を溶解させ、室
温で12時間撹拌した。反応終了後、濾過して結晶を取
り除いた後、濾液を濃縮して粗生成物を得た。シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=
8/1)、再結晶(酢酸エチル/メタノール)にて精製
を行ない、目的物0.97g(2.3mmol)を得た
。収率79%、mp29.6℃。
【0091】実施例2 光学活性4−[5−(4−ヘプチルシクロヘキシル)−
2−ピリミジニル]フェニルメチル−テトラヒドロフラ
ン−2−カルボキシリレート(例示化合物47)を実施
例1と同様に下記工程に従い製造した。
【0092】
【外51】
【0093】実施例3 下記化合物を下記の重量部で混合し、液晶組成物Aを作
成した。
【0094】
【外52】
【0095】さらに、この液晶組成物Aに対して、例示
化合物11を以下に示す重量部で混合し、液晶組成物B
を作成した。
【0096】
【外53】
【0097】実施例4 2枚の0.7mm厚のガラス板を用意し、それぞれのガ
ラス板上にITO膜を形成し、電圧印加電極を作成し、
さらにこの上にSiO2を蒸着させ絶縁層とした。ガラ
ス板上にシランカップリング剤[信越化学(株)製KB
M−602]0.2%イソプロピルアルコール溶液を回
転数2000r.p.mのスピードで15秒間塗布し、
表面処理を施した。この後120℃にて20分間加熱乾
燥処理を施した。
【0098】さらに表面処理を行なったITO膜付きの
ガラス板上にポリイミド樹脂前駆体[東レ(株)SP−
510]1.5%ジメチルアセトアミド溶液を、回転数
2000r.p.mのスピンナーで15秒間塗布した。 成膜後、60分間、300℃で加熱縮合焼成処理を施し
た。この時の塗膜の膜厚は約250Åであった。
【0099】この焼成後の被膜にはアセテート植毛布に
よるラビング処理がなされ、その後、イソプロピルアル
コール液で洗浄し、平均粒径2μmのアルミナビーズを
一方のガラス板上に散布した後、それぞれのラビング処
理軸が互いに平行となる様にし、接着シール剤[リクソ
ンボンド(チッソ(株))]を用いてガラス板をはり合
わせ、60分間、100℃にて加熱乾燥しセルを作成し
た。
【0100】このセルに実施例3で混合した液晶組成物
Bを等方性液体状態で注入し、等方相から20℃/hで
25℃まで徐冷することにより、強誘電性液晶素子を作
成した。このセルのセル厚をベレツク位相板によって測
定したところ、約2μmであった。
【0101】この強誘電性液晶素子を使って、自発分極
の大きさPsとピーク・トゥ・ピーク電圧Vpp=20
Vの電圧印加により直交ニコル下での光学的な応答(透
過光量変化0〜90%)を検知して応答速度(以後光学
応答速度という)を測定した。その結果を次に示す。
【0102】応答速度  512μsec(20℃)P
s      1.0nC/cm2(20℃)
【010
3】実施例5 実施例3で使用した例示化合物11のかわりに以下に示
す例示化合物を以下に示す重量部で混合し、液晶組成物
Cを作成した。
【0104】
【外54】
【0105】この液晶組成物を用いた以外は全く実施例
4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例4
と同様の方法で自発分極Psの大きさと光学応答速度を
測定した。測定結果を次に示す。
【0106】応答速度  534μsec(20℃)P
s      0.8nC/cm2(20℃)
【010
7】実施例6 下記化合物を下記の重量部で混合し、液晶組成物Dを作
成した。
【0108】
【外55】
【0109】
【外56】
【0110】さらに、この液晶組成物Dに対して、以下
に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し、液
晶組成物Eを作成した。
【0111】
【外57】
【0112】液晶組成物Eをセル内に注入する以外は全
く実施例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、
光学応答速度を測定した。その結果を次に示す。
【0113】
【外58】
【0114】比較例1 実施例6で混合した液晶組成物Dをセル内に注入する以
外は全く実施例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、光学応答速度を測定した。その結果を次に示す。
【0115】
【外59】
【0116】実施例7 実施例6で使用した例示化合物4,16のかわりに以下
に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し、液
晶組成物Fを作成した。
【0117】
【外60】
【0118】この液晶組成物を用いた以外は全く実施例
4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例4
と同様の方法で光学応答速度を測定した。測定結果を次
に示す。
【0119】
【外61】
【0120】実施例8 実施例6で使用した例示化合物4,16のかわりに以下
に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し、液
晶組成物Gを作成した。
【0121】
【外62】
【0122】この液晶組成物を用いた以外は全く実施例
4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例4
と同様の方法で光学応答速度を測定した。測定結果を次
に示す。
【0123】
【外63】
【0124】実施例9 下記化合物を下記の重量部で混合し、液晶組成物Hを作
成した。
【0125】
【外64】
【0126】
【外65】
【0127】さらに、この液晶組成物Hに対して、以下
に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し、液
晶組成物Iを作成した。
【0128】
【外66】
【0129】液晶組成物Iをセル内に注入する以外は、
全く実施例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し
、光学応答速度を測定し、スイッチング状態等を観察し
た。
【0130】この液晶素子内の均一配向性は良好であり
、モノドメイン状態が得られた。測定結果を次に示す。
【0131】
【外67】
【0132】また、駆動時には明瞭なスイッチング動作
が観察され、電圧印加を止めた際の双安定性も良好であ
った。
【0133】比較例2 実施例9で混合した液晶組成物Hをセル内に注入する以
外は全く実施例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作
成し、光学応答速度を測定した。その結果を次に示す。
【0134】
【外68】
【0135】実施例10 実施例9で使用した例示化合物23,29,66のかわ
りに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混
合し、液晶組成物Jを作成した。
【0136】
【外69】
【0137】この液晶組成物を用いた以外は、全く実施
例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応
答速度を測定し、スイッチング状態等を観察した。
【0138】この液晶素子内の均一配向性は良好であり
、モノドメイン状態が得られた。測定結果を次に示す。
【0139】
【外70】
【0140】実施例11 実施例9で使用した例示化合物23,29,66のかわ
りに以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混
合し、液晶組成物Kを作成した。
【0141】
【外71】
【0142】この液晶組成物を用いた以外は、全く実施
例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応
答速度を測定し、スイッチング状態等を観察した。
【0143】この液晶素子内の均一配向性は良好であり
、モノドメイン状態が得られた。測定結果を次に示す。
【0144】
【外72】
【0145】実施例12 下記化合物を下記の重量部で混合し、液晶組成物Lを作
成した。
【0146】
【外73】
【0147】
【外74】
【0148】さらに、この液晶組成物Lに対して、以下
に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し、液
晶組成物Mを作成した。
【0149】
【外75】
【0150】この液晶組成物を用いた以外は、全く実施
例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、光学応
答速度を測定し、スイッチング状態等を観察した。
【0151】この液晶素子内の均一配向性は良好であり
、モノドメイン状態が得られた。測定結果を次に示す。
【0152】
【外76】
【0153】比較例3 実施例12で混合した液晶組成物Lをセル内に注入する
以外は全く実施例4と同様の方法で強誘電性液晶素子を
作成し、光学応答速度を測定した。その結果を次に示す
【0154】
【外77】
【0155】実施例13 実施例12で使用した例示化合物15,57のかわりに
以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し
、液晶組成物Nを作成した。
【0156】
【外78】
【0157】この液晶組成物を用いた以外は全く実施例
4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例4
と同様の方法で光学応答速度を測定した。測定結果を次
に示す。
【0158】
【外79】
【0159】実施例14 実施例12で使用した例示化合物15,57のかわりに
以下に示す例示化合物を各々以下に示す重量部で混合し
、液晶組成物Oを作成した。
【0160】
【外80】
【0161】この液晶組成物を用いた以外は全く実施例
4と同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例4
と同様の方法で光学応答速度を測定した。測定結果を次
に示す。
【0162】
【外81】
【0163】実施例6〜14より明らかなように、本発
明による液晶組成物E〜G、I〜KおよびM〜Oを含有
する強誘電性液晶素子は、低温における作動特性、高速
応答性が改善され、また応答速度の温度依存性も軽減さ
れたものとなっている。
【0164】実施例15 実施例4で使用したポリイミド樹脂前駆体1.5%ジメ
チルアセトアミド溶液に代えて、ポリビニルアルコール
樹脂[クラレ(株)製PUA−117」2%水溶液を用
い、また実施例6で作成した液晶組成物Eをセルに注入
する他は全く同様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、
実施例4と同様の方法で光学応答速度を測定した。その
結果を次に示す。
【0165】
【外82】
【0166】実施例16 実施例4で使用したSiO2を用いずに、ポリイミド樹
脂だけで配向制御層を作成し、また実施例6で作成した
液晶組成物Eをセルに注入する以外は全く実施例4と同
様の方法で強誘電性液晶素子を作成し、実施例4と同様
の方法で光学応答速度を測定した。その結果を次に示す
【0167】
【外83】
【0168】実施例15、16より明らかな様に、素子
構成を変えた場合でも本発明に係わる強誘電性液晶組成
物を含有する素子は、実施例6と同様に、低温作動特性
が非常に改善され、かつ、応答速度の温度依存性の軽減
されたものとなっている。
【0169】
【発明の効果】本発明の化合物はそれ自体でカイラルス
メクチック相を示せば、強誘電性を利用した素子に有効
に適用できる材料となる。また、本発明の化合物を有し
た液晶組成物がカイラルスメクチック相を示す場合は、
該液晶組成物を含有する素子は、該液晶組成物が示す強
誘電性を利用して動作させることができる。このように
して利用されうる強誘電性液晶素子は、スイッチング特
性が良好で、低温作動特性の改善された液晶素子、及び
応答速度の温度依存性の軽減された液晶素子とすること
ができる。
【0170】なお、本発明の液晶素子を表示素子として
光源、駆動回路等と組み合わせた表示装置は良好な装置
となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】カイラルスメクチック相を示す液晶を用いた液
晶素子の一例の断面概略図である。
【図2】液晶のもつ強誘電性を利用した液晶素子の動作
説明のために素子セルの一例を模式的に表わす斜視図で
ある。
【図3】液晶のもつ強誘電性を利用した液晶素子の動作
説明のために素子セルの一例を模式的に表わす斜視図で
ある。
【図4】強誘電性を利用した液晶素子を有する液晶表示
装置とグラフィックスコントローラを示すブロック構成
図である。
【図5】液晶表示装置とグラフィックスコントローラと
の間の画像情報通信タイミングチャート図である。
【符号の説明】
1  カイラルスメクチック相を有する液晶層2  ガ
ラス基板 3  透明電極 4  絶縁性配向制御層 5  スぺーサー 6  リード線 7  電源 8  偏光板 9  光源 Io  入射光 I  透過光 21a  基板 21b  基板 22  カイラルスメクチック相を有する液晶層23 
 液晶分子 24  双極子モーメント(P⊥) 31a  電圧印加手段 31b  電圧印加手段 33a  第1の安定状態 33b  第2の安定状態 34a  上向きの双極子モーメント 34b  下向きの双極子モーメント Ea  上向きの電界 Eb  下向きの電界 101  強誘電性液晶表示装置 102  グラフィックスコントローラ103  表示
パネル 104  走査線駆動回路 105  情報線駆動回路 106  デコーダ 107  走査信号発生回路 108  シフトレジスタ 109  ラインメモリ 110  情報信号発生回路 111  駆動制御回路 112  GCPU 113  ホストCPU 114  VRAM

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式(I) 【外1】
  2. 【請求項2】 【外2】
  3. 【請求項3】  前記一般式(I)に示される化合物に
    おいて、R1が以下の(i)〜(iv)のいずれかであ
    る請求項1記載の液晶性化合物。 【外3】
  4. 【請求項4】 【外4】
  5. 【請求項5】 【外5】
  6. 【請求項6】  前記一般式(I)の化合物が光学活性
    な化合物である請求項1記載の液晶性化合物。
  7. 【請求項7】  前記一般式(I)の化合物がカイラル
    スメクチック相を示す化合物である請求項1記載の液晶
    性化合物。
  8. 【請求項8】  請求項1記載の液晶性化合物の少なく
    とも1種を含有することを特徴とする液晶組成物。
  9. 【請求項9】  一般式(I)で示される液晶性化合物
    を前記液晶組成物に対し、1〜80重量%含有する請求
    項8記載の液晶組成物。
  10. 【請求項10】  一般式(I)で示される液晶性化合
    物を前記液晶組成物に対し、1〜60重量%含有する請
    求項8記載の液晶組成物。
  11. 【請求項11】  一般式(I)で示される液晶性化合
    物を前記液晶組成物に対し、1〜40重量%含有する請
    求項8記載の液晶組成物。
  12. 【請求項12】  前記液晶組成物がカイラルスメクチ
    ック相を有する請求項8記載の液晶組成物。
  13. 【請求項13】  請求項8記載の液晶組成物を1対の
    電極基板間に配置してなることを特徴とする液晶素子。
  14. 【請求項14】  前記電極基板上にさらに配向制御層
    が設けられている請求項13記載の液晶素子。
  15. 【請求項15】  前記配向制御層がラビング処理され
    た層である請求項14記載の液晶素子。
  16. 【請求項16】  液晶分子のらせんが解除された膜厚
    で前記1対の電極基板を配置する請求項13記載の液晶
    素子。
  17. 【請求項17】  請求項13記載の液晶素子を有する
    表示装置。
  18. 【請求項18】  液晶組成物が示す強誘電性を利用し
    て液晶分子をスイッチングさせて表示を行なう請求項1
    7記載の表示装置。
  19. 【請求項19】  さらに光源を有する請求項17記載
    の表示装置。
  20. 【請求項20】  下記一般式(I)で表わされる液晶
    性化合物の少なくとも1種を含有する液晶組成物を表示
    に使用する使用方法。 【外6】
  21. 【請求項21】 【外7】
  22. 【請求項22】  前記一般式(I)に示される化合物
    において、R1が以下の(i)〜(iv)のいずれかで
    ある請求項20記載の使用方法。 【外8】
  23. 【請求項23】 【外9】
  24. 【請求項24】 【外10】
  25. 【請求項25】  前記一般式(I)の化合物が光学活
    性な化合物である請求項20記載の使用方法。
  26. 【請求項26】  前記一般式(I)の化合物がカイラ
    ルスメクチック相を示す化合物である請求項20記載の
    使用方法。
  27. 【請求項27】  一般式(I)で示される液晶性化合
    物を前記液晶組成物に対し、1〜80重量%含有する請
    求項20記載の使用方法。
  28. 【請求項28】  一般式(I)で示される液晶性化合
    物を前記液晶組成物に対し、1〜60重量%含有する請
    求項20記載の使用方法。
  29. 【請求項29】  一般式(I)で示される液晶性化合
    物を前記液晶組成物に対し、1〜40重量%含有する請
    求項20記載の使用方法。
  30. 【請求項30】  前記液晶組成物がカイラルスメクチ
    ック相を有する請求項20記載の使用方法。
  31. 【請求項31】  下記一般式(I)で表わされる液晶
    性化合物の少なくとも1種を含有する液晶組成物を1対
    の電極基板間に配置した液晶素子を表示に使用する使用
    方法。 【外11】
  32. 【請求項32】  前記電極基板上にさらに配向制御層
    が設けられている請求項31記載の使用方法。
  33. 【請求項33】  前記配向制御層がラビング処理され
    た層である請求項32記載の使用方法。
  34. 【請求項34】  液晶分子のらせんが解除された膜厚
    で前記1対の電極基板を配置する請求項31記載の使用
    方法。
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