JPH04240818A - カラーフィルター基板の製造方法 - Google Patents
カラーフィルター基板の製造方法Info
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- JPH04240818A JPH04240818A JP3007856A JP785691A JPH04240818A JP H04240818 A JPH04240818 A JP H04240818A JP 3007856 A JP3007856 A JP 3007856A JP 785691 A JP785691 A JP 785691A JP H04240818 A JPH04240818 A JP H04240818A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶カラーテレビ、コ
ンピューターカラー画像表示装置、液晶プロジェクショ
ンテレビ等のカラー表示装置に使用される、カラーフィ
ルター基板の製造方法に関する。
ンピューターカラー画像表示装置、液晶プロジェクショ
ンテレビ等のカラー表示装置に使用される、カラーフィ
ルター基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図２に示すように、印刷や染色法
によって作られるカラーフィルター基板のフィルター間
隙部の遮光方法は、絶縁基板２１上に金属膜である遮光
層２２をフォトエッチング工程により遮光部を形成した
後、カラーフィルター２３を作成する方法が知られてい
る。
によって作られるカラーフィルター基板のフィルター間
隙部の遮光方法は、絶縁基板２１上に金属膜である遮光
層２２をフォトエッチング工程により遮光部を形成した
後、カラーフィルター２３を作成する方法が知られてい
る。
【０００３】一方、電着法によって作られるカラーフィ
ルター基板のフィルター間隙部の遮光方法は、図３に示
すように、絶縁基板３１上に、電着用導電膜３２、電着
カラーフィルター３３を形成した後、感光性絶縁材料３
４中に黒色染料３５を添加することにより遮光性機能を
持たせていた。３６は透明導電膜で、信号電極として用
いられる。
ルター基板のフィルター間隙部の遮光方法は、図３に示
すように、絶縁基板３１上に、電着用導電膜３２、電着
カラーフィルター３３を形成した後、感光性絶縁材料３
４中に黒色染料３５を添加することにより遮光性機能を
持たせていた。３６は透明導電膜で、信号電極として用
いられる。
【０００４】例えば、特開平１−２３９５２３号公報に
このような構造が開示されている。
このような構造が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、電着法によっ
て作られるカラーフィルター基板の場合、カラーフィル
ターの下層に電着用導電膜パターンがあるため、図２の
方法、つまりカラーフィルタの下層に金属膜による遮光
を行う方法は、使うことができなかった。一方、図３の
方法では、黒色染料の添加が完全に行われず、十分な遮
光性機能を得ることができない。この為、カラーフィル
ターの間隙から光が漏れ、カラー表示装置の表示品質を
著しく悪化させていた。
て作られるカラーフィルター基板の場合、カラーフィル
ターの下層に電着用導電膜パターンがあるため、図２の
方法、つまりカラーフィルタの下層に金属膜による遮光
を行う方法は、使うことができなかった。一方、図３の
方法では、黒色染料の添加が完全に行われず、十分な遮
光性機能を得ることができない。この為、カラーフィル
ターの間隙から光が漏れ、カラー表示装置の表示品質を
著しく悪化させていた。
【０００６】そこで本発明の目的は、従来のこのような
課題を解決するために、電着カラーフィルターを形成す
る前に、遮光膜である金属薄膜を形成した後、金属薄膜
表面を電気的に絶縁処理する事により、カラーフィルタ
ー間隙の遮光を完全に行い、カラー表示装置の表示品質
を良くする事を目的としたものである。
課題を解決するために、電着カラーフィルターを形成す
る前に、遮光膜である金属薄膜を形成した後、金属薄膜
表面を電気的に絶縁処理する事により、カラーフィルタ
ー間隙の遮光を完全に行い、カラー表示装置の表示品質
を良くする事を目的としたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明は、カラーフィルター基板の製造工程におい
て、始めに金属膜を遮光部に選択的に形成した後、熱処
理、陽極酸化処理、透明絶縁膜形成等による金属膜の絶
縁処理を行い、その後、電着用導電膜および電着カラー
フィルターを形成し、カラーフィルター間隙の完全な遮
光性が図れるようにした。
めに本発明は、カラーフィルター基板の製造工程におい
て、始めに金属膜を遮光部に選択的に形成した後、熱処
理、陽極酸化処理、透明絶縁膜形成等による金属膜の絶
縁処理を行い、その後、電着用導電膜および電着カラー
フィルターを形成し、カラーフィルター間隙の完全な遮
光性が図れるようにした。
【０００８】
【作用】上記のように構成されたカラーフィルター基板
の製造方法においては、遮光膜である金属膜が電気的に
絶縁処理される為、電着用の導電膜が、下層の金属膜に
よりショートする事がなく、電着カラーフィルターが形
成できる。このため金属膜による完全な遮光が可能とな
り、カラー表示装置の表示品質が著しく向上する。
の製造方法においては、遮光膜である金属膜が電気的に
絶縁処理される為、電着用の導電膜が、下層の金属膜に
よりショートする事がなく、電着カラーフィルターが形
成できる。このため金属膜による完全な遮光が可能とな
り、カラー表示装置の表示品質が著しく向上する。
【０００９】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１（Ａ）〜（Ｅ）は、本発明によるカラーフィ
ルター基板の製造方法の第１の実施例の工程順縦断面図
を示している。１は絶縁基板で、一般にガラス基板が用
いられる。２は遮光層で、絶縁基板１上に、スパッター
法あるいは、蒸着法等によって金属薄膜を堆積した後、
フォトエッチング工程により、画素部以外に形成した。 電気絶縁薄膜で、遮光率の高い材料は少なく、ＣＶＤ等
の複雑な製造方法を用いる必要がある為、ここでは、製
造方法が簡単で、十分な遮光性が得られる金属薄膜（ク
ロム）を用いている。金属薄膜はクロム以外に、タンタ
ル、ニッケル、アルミ、チタン等を用いても問題無い（
図１（Ａ））。
する。図１（Ａ）〜（Ｅ）は、本発明によるカラーフィ
ルター基板の製造方法の第１の実施例の工程順縦断面図
を示している。１は絶縁基板で、一般にガラス基板が用
いられる。２は遮光層で、絶縁基板１上に、スパッター
法あるいは、蒸着法等によって金属薄膜を堆積した後、
フォトエッチング工程により、画素部以外に形成した。 電気絶縁薄膜で、遮光率の高い材料は少なく、ＣＶＤ等
の複雑な製造方法を用いる必要がある為、ここでは、製
造方法が簡単で、十分な遮光性が得られる金属薄膜（ク
ロム）を用いている。金属薄膜はクロム以外に、タンタ
ル、ニッケル、アルミ、チタン等を用いても問題無い（
図１（Ａ））。
【００１０】遮光層２を形成した後、絶縁膜３を堆積す
る。絶縁膜３は酸化シリコン、窒化シリコン、炭化シリ
コン等で、スピンコート法、印刷法、常温ＣＶＤ法、ス
パッター法等によって堆積する（図１（Ｂ））。この工
程は、この後形成する電着用導電膜の電気的短絡を防止
するためのものである。図１（Ｃ）から図１（Ｅ）は一
般に知られている電着フィルターの工程図で、電着用導
電膜４を形成した後（図１（Ｃ））、カラーフィルター
５を電着法によって堆積する（図１（Ｄ））。電着用導
電膜のパターンは、遮光層のパターンと一部で重なるよ
うに配置し、カラーフィルター以外からは、光が透過し
ないように配置されている。
る。絶縁膜３は酸化シリコン、窒化シリコン、炭化シリ
コン等で、スピンコート法、印刷法、常温ＣＶＤ法、ス
パッター法等によって堆積する（図１（Ｂ））。この工
程は、この後形成する電着用導電膜の電気的短絡を防止
するためのものである。図１（Ｃ）から図１（Ｅ）は一
般に知られている電着フィルターの工程図で、電着用導
電膜４を形成した後（図１（Ｃ））、カラーフィルター
５を電着法によって堆積する（図１（Ｄ））。電着用導
電膜のパターンは、遮光層のパターンと一部で重なるよ
うに配置し、カラーフィルター以外からは、光が透過し
ないように配置されている。
【００１１】したがって、光は画素上のカラーフィルタ
ーからのみ透過し、カラーフィルターの間隙を含めた画
素以外の部分以外の光は完全に遮断され事となる。電着
用導電膜４を信号電極として用いることも可能だが、カ
ラーフィルターによる電圧降下のため、最近ではフィル
ター上に信号電極用の透明導電膜７が、層間絶縁膜６を
介して作られる（図１（Ｅ））。カラーフィルター基板
を薄膜トランジスタ等のアクティブマトリックス液晶デ
ィスプレーに用いる場合は、透明導電膜７のパターニン
グは不要だが、ＴＮ型液晶、２端子アクティブマトリッ
クス液晶ディスプレーに用いる場合は、信号電極のパタ
ーニングを行う。
ーからのみ透過し、カラーフィルターの間隙を含めた画
素以外の部分以外の光は完全に遮断され事となる。電着
用導電膜４を信号電極として用いることも可能だが、カ
ラーフィルターによる電圧降下のため、最近ではフィル
ター上に信号電極用の透明導電膜７が、層間絶縁膜６を
介して作られる（図１（Ｅ））。カラーフィルター基板
を薄膜トランジスタ等のアクティブマトリックス液晶デ
ィスプレーに用いる場合は、透明導電膜７のパターニン
グは不要だが、ＴＮ型液晶、２端子アクティブマトリッ
クス液晶ディスプレーに用いる場合は、信号電極のパタ
ーニングを行う。
【００１２】図４（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明によるカラ
ーフィルター基板の製造方法の第２の実施例の工程順縦
断面図を示している。絶縁基板４１上に、金属薄膜４２
を形成する工程（図４（Ａ））は、第１の実施例と同じ
である。第１の実施例では、電着用導電膜の短絡防止に
絶縁膜を用いたが、ここでは金属薄膜４２の表面を酸化
処理して、金属酸化物４３を形成することにより、短絡
防止を行っている（図４（Ｂ））。酸化処理の方法は、
摂氏１００度以上の加熱処理、陽極酸化法等が可能であ
る。その後電着用導電膜４４（図４（Ｃ））、電着カラ
ーフィルタ４５（図４（Ｄ））を形成する。
ーフィルター基板の製造方法の第２の実施例の工程順縦
断面図を示している。絶縁基板４１上に、金属薄膜４２
を形成する工程（図４（Ａ））は、第１の実施例と同じ
である。第１の実施例では、電着用導電膜の短絡防止に
絶縁膜を用いたが、ここでは金属薄膜４２の表面を酸化
処理して、金属酸化物４３を形成することにより、短絡
防止を行っている（図４（Ｂ））。酸化処理の方法は、
摂氏１００度以上の加熱処理、陽極酸化法等が可能であ
る。その後電着用導電膜４４（図４（Ｃ））、電着カラ
ーフィルタ４５（図４（Ｄ））を形成する。
【００１３】
【発明の効果】以上述べてきたように本発明は、電着カ
ラーフィルターの間隙部を、金属薄膜で遮光できるよう
に、金属薄膜表面を絶縁する構成としたので、フィルタ
ー間隙部からの光の漏れがなくなり、カラー表示装置の
表示品質をよくする効果がある。
ラーフィルターの間隙部を、金属薄膜で遮光できるよう
に、金属薄膜表面を絶縁する構成としたので、フィルタ
ー間隙部からの光の漏れがなくなり、カラー表示装置の
表示品質をよくする効果がある。
【図１】（Ａ）〜（Ｅ）は、本発明によるカラーフィル
ター基板の製造方法の第１の実施例の工程順縦断面図で
ある。
ター基板の製造方法の第１の実施例の工程順縦断面図で
ある。
【図２】従来の方法による、印刷カラーフィルター基板
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図３】従来の方法による、電着カラーフィルター基板
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明によるカラーフィル
ター基板の製造方法の第２の実施例の工程順縦断面図で
ある。
ター基板の製造方法の第２の実施例の工程順縦断面図で
ある。
１、２１、３１、４１ 絶縁基板
２、２２、３５、４２ 遮光層
３、６、３４、４３ 絶縁膜
４、３２、４４ 電着用導電膜
５、２３、３３、４５ カラーフィルタ−７、３６
透明導電膜
透明導電膜
Claims (3)
- 【請求項１】 遮光膜付きカラーフィルター基板の製
造方法において、少なくとも基板上に任意のパターンを
有する遮光膜を形成する第１工程、前記遮光膜上に絶縁
膜を形成する第２工程、前記絶縁膜上に導電膜を形成し
た後に、電着法により高分子カラーフィルターを選択的
に形成する第３工程からなることを特徴とするカラーフ
ィルター基板の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の遮光膜は、クロム、ア
ルミニウム、タンタル、ニッケル、チタンのいずれか１
つ、または複合材料からなる金属膜であり、絶縁膜は前
記金属膜を加熱処理、あるいは陽極酸化等によって得ら
れる金属酸化膜である事を特徴とするカラーフィルター
基板の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の遮光膜は、クロム、ア
ルミニウム、タンタル、ニッケル、チタンのいずれか１
つ、または複合材料からなる金属膜であり、絶縁膜は真
空蒸着法、またはＣＶＤ（ケミカルベーパーデポジショ
ン）法、またはスピンコート法によって形成される透明
絶縁膜である事を特徴とするカラーフィルター基板の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3007856A JPH04240818A (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | カラーフィルター基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3007856A JPH04240818A (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | カラーフィルター基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04240818A true JPH04240818A (ja) | 1992-08-28 |
Family
ID=11677279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3007856A Pending JPH04240818A (ja) | 1991-01-25 | 1991-01-25 | カラーフィルター基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04240818A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997031290A1 (fr) * | 1996-02-26 | 1997-08-28 | Kuramoto Seisakusho Co., Ltd. | Substrat support de film avec facteur de reflexion bas |
-
1991
- 1991-01-25 JP JP3007856A patent/JPH04240818A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997031290A1 (fr) * | 1996-02-26 | 1997-08-28 | Kuramoto Seisakusho Co., Ltd. | Substrat support de film avec facteur de reflexion bas |
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