JPH04235516A - リレーレンズ - Google Patents
リレーレンズInfo
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- JPH04235516A JPH04235516A JP3138835A JP13883591A JPH04235516A JP H04235516 A JPH04235516 A JP H04235516A JP 3138835 A JP3138835 A JP 3138835A JP 13883591 A JP13883591 A JP 13883591A JP H04235516 A JPH04235516 A JP H04235516A
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- 230000009467 reduction Effects 0.000 title abstract description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 76
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 241000588731 Hafnia Species 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 26
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 5
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910018404 Al2 O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】(関連出願の引照)A. E. Ro
senbluthによる「像形成レンズ機構に使用され
る薄膜ビーム分割光学要素(Thin Film
Beam Splitter Optical
Element For Use InAn
Image−Forming Lens Syst
em)」と題された米国特願第07/185,187号
(1988年4月22日出願)にはビーム分割光学要素
が記載されており、これは三角形状基板としてのプリズ
ムを含み、このプリズムは該プリズムの斜面に対応する
平面を有し、該平面には各光ビームを反射部分と透過部
分とに分割できる物質で厚みを有する薄膜構造のコーテ
ィングがなされているために、該ビームはその薄膜構造
中での多重の反射の結果として正味の収差を受けること
がなく、更にはこのビーム分割光学要素は第2の三角形
状基板としてのプリズムを含み、前記第1のプリズムの
斜辺に設けられた薄膜構造に光学的に結着された斜辺と
しての平面を有する。
senbluthによる「像形成レンズ機構に使用され
る薄膜ビーム分割光学要素(Thin Film
Beam Splitter Optical
Element For Use InAn
Image−Forming Lens Syst
em)」と題された米国特願第07/185,187号
(1988年4月22日出願)にはビーム分割光学要素
が記載されており、これは三角形状基板としてのプリズ
ムを含み、このプリズムは該プリズムの斜面に対応する
平面を有し、該平面には各光ビームを反射部分と透過部
分とに分割できる物質で厚みを有する薄膜構造のコーテ
ィングがなされているために、該ビームはその薄膜構造
中での多重の反射の結果として正味の収差を受けること
がなく、更にはこのビーム分割光学要素は第2の三角形
状基板としてのプリズムを含み、前記第1のプリズムの
斜辺に設けられた薄膜構造に光学的に結着された斜辺と
しての平面を有する。
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は反射屈折リレーレンズに
関し、特にビーム分割面と湾曲反射面とを備える高分解
能縮小用の反射屈折リレーレンズであり、更には紫外線
波長域でサブミクロン単位の分解能を有する4×及び5
×の縮小用反射屈折リレーレンズに関する。
関し、特にビーム分割面と湾曲反射面とを備える高分解
能縮小用の反射屈折リレーレンズであり、更には紫外線
波長域でサブミクロン単位の分解能を有する4×及び5
×の縮小用反射屈折リレーレンズに関する。
【0003】
【従来の技術】マイクロエレクトロニクス部品(電子部
品)、例えば、半導体チップや半導体チップ実装基板の
製造において、機能の増大は、一般に、チップ上の電子
装置の像サイズの縮小や、半導体チップ及び半導体チッ
プ実装基板の配線平面における電気的導体の幅及び間隔
等の縮小によって達成されている。像サイズ及び間隔の
縮小化はより高い分解能像を投影する改善された光学シ
ステムによって達成することができる。
品)、例えば、半導体チップや半導体チップ実装基板の
製造において、機能の増大は、一般に、チップ上の電子
装置の像サイズの縮小や、半導体チップ及び半導体チッ
プ実装基板の配線平面における電気的導体の幅及び間隔
等の縮小によって達成されている。像サイズ及び間隔の
縮小化はより高い分解能像を投影する改善された光学シ
ステムによって達成することができる。
【0004】一般に、電子部品製造のための光学システ
ムは、その入力部を介して予め選択された周波数の光を
通過させている当該光学システムの入力部に、パターン
を有するマスクを設けている。この光学システムは典型
的には、レンズ部品を有し、該レンズは電子部品の表面
上に縮小像として投影されるマスク・パターンのサイズ
を縮小することになる。マスクのパターンの幅や間隔を
縮小するために縮小機構が使用されている。こうした像
は、一般に、前記電子部品表面上のレジスト材上に投影
される。レジスト材上に投影された光はそこにおいて化
学変化を生じさせて、そのレジストの露光領域を未露光
領域に対して、可溶性にするか不溶性にする。可溶性領
域は溶剤に曝されることによって除去され、縮小サイズ
のマスクのポジティブ像或はネガティブ像としてのパタ
ーンを残すことになる。
ムは、その入力部を介して予め選択された周波数の光を
通過させている当該光学システムの入力部に、パターン
を有するマスクを設けている。この光学システムは典型
的には、レンズ部品を有し、該レンズは電子部品の表面
上に縮小像として投影されるマスク・パターンのサイズ
を縮小することになる。マスクのパターンの幅や間隔を
縮小するために縮小機構が使用されている。こうした像
は、一般に、前記電子部品表面上のレジスト材上に投影
される。レジスト材上に投影された光はそこにおいて化
学変化を生じさせて、そのレジストの露光領域を未露光
領域に対して、可溶性にするか不溶性にする。可溶性領
域は溶剤に曝されることによって除去され、縮小サイズ
のマスクのポジティブ像或はネガティブ像としてのパタ
ーンを残すことになる。
【0005】前記縮小機構はこうしたマスク上のパター
ンのサイズを縮小したり、その構造における欠陥を縮小
している。縮小マスク像を作り出すために光学システム
を使用すると、こうした機構の光学部品に内在する収差
と称する歪みを導入することになる。
ンのサイズを縮小したり、その構造における欠陥を縮小
している。縮小マスク像を作り出すために光学システム
を使用すると、こうした機構の光学部品に内在する収差
と称する歪みを導入することになる。
【0006】ステッパー(Stepper)として知ら
れる装置に用いられる先行技術に係る縮小機構では一連
のレンズ群を使用して、マスク像を縮小したり、光学シ
ステムにおいて一般に知られている種々の収差を修正し
ている。然しながら本出願人は、光学システムの縮小能
力の卓越した部分を提供するために湾曲ミラーを使用す
ることによって、その内在する複数の収差がより効率的
に且つより少ない光学部品で修正され得ることを発見し
た。
れる装置に用いられる先行技術に係る縮小機構では一連
のレンズ群を使用して、マスク像を縮小したり、光学シ
ステムにおいて一般に知られている種々の収差を修正し
ている。然しながら本出願人は、光学システムの縮小能
力の卓越した部分を提供するために湾曲ミラーを使用す
ることによって、その内在する複数の収差がより効率的
に且つより少ない光学部品で修正され得ることを発見し
た。
【0007】より好ましい湾曲面は凹球状ミラーである
。マスク像を縮小するためにレンズの代わりに球状ミラ
ーを用いることで生じるの問題は、マスクの投影像がそ
のミラーからマスクへ向かって反射されることである。 このような像は容易に使用することができないのは、そ
の像が投影されることになる基板はその球面上に入射す
る光ビームの通路内に置かなければならないからである
。これは有効像のミラーの全幅又は全視野を使用して形
成することを実効的に妨げることになる。よって、この
ような機構では、一般的に、複数の反射面を使用して、
ミラーの視野を分割又はスプリットして、物体が焦点合
わせ(ピント合わせ)させられるための視野と物体の像
のピントが合わせられる基板のための視野とにしている
。このような機構においては、物体及び像だけで焦点合
わせ(ピント合わせ)用ミラーの全視野の1/2を占め
ることができるので、物体が結像されることになる基板
のサイズ又は大きさが制約を受けることなる。 この焦点合わせミラーの視野は、ミラーが光学システム
の残りと共に適正に像を形成することになる物体又は像
の視野の領域である。
。マスク像を縮小するためにレンズの代わりに球状ミラ
ーを用いることで生じるの問題は、マスクの投影像がそ
のミラーからマスクへ向かって反射されることである。 このような像は容易に使用することができないのは、そ
の像が投影されることになる基板はその球面上に入射す
る光ビームの通路内に置かなければならないからである
。これは有効像のミラーの全幅又は全視野を使用して形
成することを実効的に妨げることになる。よって、この
ような機構では、一般的に、複数の反射面を使用して、
ミラーの視野を分割又はスプリットして、物体が焦点合
わせ(ピント合わせ)させられるための視野と物体の像
のピントが合わせられる基板のための視野とにしている
。このような機構においては、物体及び像だけで焦点合
わせ(ピント合わせ)用ミラーの全視野の1/2を占め
ることができるので、物体が結像されることになる基板
のサイズ又は大きさが制約を受けることなる。 この焦点合わせミラーの視野は、ミラーが光学システム
の残りと共に適正に像を形成することになる物体又は像
の視野の領域である。
【0008】本出願人は、適切なビーム分割面を使用す
ることによって、出力ビームが入力ビームから遠ざかる
ように指向され得て、その出力ビームが1つの基板上に
像を投影すべく使用され得ることを発見した。
ることによって、出力ビームが入力ビームから遠ざかる
ように指向され得て、その出力ビームが1つの基板上に
像を投影すべく使用され得ることを発見した。
【0009】ビーム分割面に関して透過及び反射を経た
ビームは、そのビーム分割面を透過するか又は反射する
ことの結果として、歪み、収差及びアポダイゼーション
から略々解放されるはずである。本発明の光学システム
に適切なビーム分割面は、A.E. Rosenbl
uthによる「像形成レンズ機構に使用される薄膜ビー
ム分割光学要素(Thin Film Beam
Splitter Optical Eleme
nt For Use In An Ima
ge−Forming Lens System)
」と題された米国特願第07/185,187号(19
88年4月22日出願)に記載されており、その教示は
ここにおいて参照用として組み入れられている。
ビームは、そのビーム分割面を透過するか又は反射する
ことの結果として、歪み、収差及びアポダイゼーション
から略々解放されるはずである。本発明の光学システム
に適切なビーム分割面は、A.E. Rosenbl
uthによる「像形成レンズ機構に使用される薄膜ビー
ム分割光学要素(Thin Film Beam
Splitter Optical Eleme
nt For Use In An Ima
ge−Forming Lens System)
」と題された米国特願第07/185,187号(19
88年4月22日出願)に記載されており、その教示は
ここにおいて参照用として組み入れられている。
【0010】Minottの米国特許第4,444,4
64号には、2つの対称的に整合させられた軸逸脱型の
シュミット光学対物レンズを有する反射屈折型光学シス
テムが記載されている。入射光はその入射光の軸を逸脱
した2つの一次球状ミラーから反射することになる。各
ミラーからの光は光を複数のスペクトル帯に分割又は分
離するビームスプリッタから反射させられることになる
。
64号には、2つの対称的に整合させられた軸逸脱型の
シュミット光学対物レンズを有する反射屈折型光学シス
テムが記載されている。入射光はその入射光の軸を逸脱
した2つの一次球状ミラーから反射することになる。各
ミラーからの光は光を複数のスペクトル帯に分割又は分
離するビームスプリッタから反射させられることになる
。
【0011】米国特許第4,694,151号には、ミ
ラーなしのオートフォーカス機構が記載されており、レ
ンズ機構の前方レンズ群と後方レンズ群との間に挿入さ
れた半ミラープリズムとこれと組み合わされて光を検出
することができるセンサとを備える。
ラーなしのオートフォーカス機構が記載されており、レ
ンズ機構の前方レンズ群と後方レンズ群との間に挿入さ
れた半ミラープリズムとこれと組み合わされて光を検出
することができるセンサとを備える。
【0012】米国特許第4,311,366号には、複
写カメラ用である湾曲ミラーなしの像焦点合わせ機構が
記載されており、入力ビームを折り畳む平坦ミラー又は
プリズム又はルーフプリズムを有する。入出力ビームは
レンズ組み合わせを通過して焦点及び収差の修正がなさ
れる。
写カメラ用である湾曲ミラーなしの像焦点合わせ機構が
記載されており、入力ビームを折り畳む平坦ミラー又は
プリズム又はルーフプリズムを有する。入出力ビームは
レンズ組み合わせを通過して焦点及び収差の修正がなさ
れる。
【0013】米国特許第4,265,529号には、カ
メラ用のファイダーが記載されており、入力レンズ、平
坦反射ミラー、ルーフ型五角形ミラー、及び接眼レンズ
を備えている。
メラ用のファイダーが記載されており、入力レンズ、平
坦反射ミラー、ルーフ型五角形ミラー、及び接眼レンズ
を備えている。
【0014】米国特許第3,536,380号には、半
導体チップのフォトリソグラフィ技術適用方面用の4×
の反射屈折型投影機構が記載されている。光はレンズを
介して指向され、マスクを通って半銀めっきミラーに向
かい、そこをからレンズを介して凹状ミラーに反射し、
そこからターゲット基板上に反射することになる。
導体チップのフォトリソグラフィ技術適用方面用の4×
の反射屈折型投影機構が記載されている。光はレンズを
介して指向され、マスクを通って半銀めっきミラーに向
かい、そこをからレンズを介して凹状ミラーに反射し、
そこからターゲット基板上に反射することになる。
【0015】米国特許第4,387,969号には、対
物レンズ群と光を直角に偏向しレンズを通してフィルム
上に像を結ばせるビーム分割プリズムとを有する光学シ
ステムが記載されている。
物レンズ群と光を直角に偏向しレンズを通してフィルム
上に像を結ばせるビーム分割プリズムとを有する光学シ
ステムが記載されている。
【0016】米国特許第2,166,102号には、対
物レンズを有する望遠鏡が記載されており、プリズム又
は平坦ミラーを用いて光を凹状ミラー方向へ反射させて
いる。
物レンズを有する望遠鏡が記載されており、プリズム又
は平坦ミラーを用いて光を凹状ミラー方向へ反射させて
いる。
【0017】米国特許第3,001,448号には、浅
いドームによって生じる非点収差を回転プリズムを用い
ることによる正の無非点収差を導入することによって修
正するビーム分割器を使用した機構が記載されている。
いドームによって生じる非点収差を回転プリズムを用い
ることによる正の無非点収差を導入することによって修
正するビーム分割器を使用した機構が記載されている。
【0018】米国特許第4,742,376号には、D
yson−Wynneの反射屈折型投影機構を用いてい
るステップ及びリピート型機構が記載されている。
yson−Wynneの反射屈折型投影機構を用いてい
るステップ及びリピート型機構が記載されている。
【0019】米国特許第4,743,103号には、プ
リンターレンズにおいて必要とされる反転を実行するこ
となく、像を90°回転させる写真プリンター用のレン
ズ機構が記載されている。
リンターレンズにおいて必要とされる反転を実行するこ
となく、像を90°回転させる写真プリンター用のレン
ズ機構が記載されている。
【0020】本発明の目的は、大きな基板エリア上にサ
ブミクロン大の幾何学模様を忠実に再生することになる
拡張された視野を有する光学的投影機構を提供すること
である。
ブミクロン大の幾何学模様を忠実に再生することになる
拡張された視野を有する光学的投影機構を提供すること
である。
【0021】本発明の他の目的は、紫外線の帯域幅、最
も好ましくはエキシマーレーザの帯域幅に亙って回折制
限された能力を有する、実質的に遠中心的な縮小用反射
屈折型リレーレンズを提供することである。
も好ましくはエキシマーレーザの帯域幅に亙って回折制
限された能力を有する、実質的に遠中心的な縮小用反射
屈折型リレーレンズを提供することである。
【0022】本発明の他の目的は、許容可能で有用な像
を形成するためにビーム分割技術を採用する結果として
光学システムの正味の透過率を犠牲にすることによって
、超小型電子工学的な集積回路用として、非常に高感度
な深紫外線レジストと光学的なマイクロリソグラフィ技
術のための非常に強烈なエキシマーレーザビームとを利
用することである。
を形成するためにビーム分割技術を採用する結果として
光学システムの正味の透過率を犠牲にすることによって
、超小型電子工学的な集積回路用として、非常に高感度
な深紫外線レジストと光学的なマイクロリソグラフィ技
術のための非常に強烈なエキシマーレーザビームとを利
用することである。
【0023】本発明の更なる目的は、光学的なマイクロ
リソグラフィ技術の限界をクォータミクロン程度の分解
能にまで拡張することであり、これは高い開口数に加え
てマスクの部分的なコヒーレント照射を伴わせて採用す
ることによって達成されており、開口数0.6で収差無
しの焦点合わせさせられたレンズの場合の非コヒーレン
ト照射の48%の限界を越えて高められたコントラスト
の結果によって像の記録能力を改善することになる。
リソグラフィ技術の限界をクォータミクロン程度の分解
能にまで拡張することであり、これは高い開口数に加え
てマスクの部分的なコヒーレント照射を伴わせて採用す
ることによって達成されており、開口数0.6で収差無
しの焦点合わせさせられたレンズの場合の非コヒーレン
ト照射の48%の限界を越えて高められたコントラスト
の結果によって像の記録能力を改善することになる。
【0024】上記及びその他の目的、特徴、及び長所は
、以下の好適実施例のより特殊な説明や添付図によって
明白となるであろう。
、以下の好適実施例のより特殊な説明や添付図によって
明白となるであろう。
【0025】
【課題を解決するための手段】最も広い意味において、
本発明は反射屈折リレーレンズ機構に関連する。本発明
のより特殊な局面として、このレンズ機構は縮小機構で
あることである。
本発明は反射屈折リレーレンズ機構に関連する。本発明
のより特殊な局面として、このレンズ機構は縮小機構で
あることである。
【0026】本発明の他のより特殊な局面としては、輻
射線から成る像形成ビームの伝播を維持することができ
る物質から形成された光学要素を含む光学システムにあ
る。この光学要素は少なくとも1つの略々平坦面を有す
る。複数の薄い塗膜がこの略々平坦面上に設けられてお
り、該面から反射又は該面を透過して、該面に関する反
射及び透過により収差、歪み及びアポダイゼーションが
ないビームを提供している。この機構は更に凹状反射面
を備え、前記略々平坦面に関して反射されるか透過され
たビームを受けている。また、この機構は入力及び出力
レンズ群を備え、前記凹状反射面での反射から生じる収
差を略々修正している。
射線から成る像形成ビームの伝播を維持することができ
る物質から形成された光学要素を含む光学システムにあ
る。この光学要素は少なくとも1つの略々平坦面を有す
る。複数の薄い塗膜がこの略々平坦面上に設けられてお
り、該面から反射又は該面を透過して、該面に関する反
射及び透過により収差、歪み及びアポダイゼーションが
ないビームを提供している。この機構は更に凹状反射面
を備え、前記略々平坦面に関して反射されるか透過され
たビームを受けている。また、この機構は入力及び出力
レンズ群を備え、前記凹状反射面での反射から生じる収
差を略々修正している。
【0027】本発明の他のより特殊な局面において、入
力ビームは前記略々平坦面で反射され凹状反射面に向か
い、そこから反射されて前記略々平坦面を通過して前記
出力側でターゲット上に結像される。
力ビームは前記略々平坦面で反射され凹状反射面に向か
い、そこから反射されて前記略々平坦面を通過して前記
出力側でターゲット上に結像される。
【0028】本発明の他のより特殊な局面において、前
記入力ビームは略々平坦面を通過して凹状反射面上に向
かい、そこで略々平坦面に向かって反射され、そしてそ
こで入力ビームの軸を逸れて反射されて出力側でターゲ
ット上に結像される。
記入力ビームは略々平坦面を通過して凹状反射面上に向
かい、そこで略々平坦面に向かって反射され、そしてそ
こで入力ビームの軸を逸れて反射されて出力側でターゲ
ット上に結像される。
【0029】本発明の他のより特殊な局面において、前
記光学システムはN×の縮小機構であり、Nは1よりも
大きい。
記光学システムはN×の縮小機構であり、Nは1よりも
大きい。
【0030】本発明の他のより特殊な局面において、前
記光学システムはマスク投影機構であり、該マスクの所
定パターンをターゲット基板上に投影縮小している。
記光学システムはマスク投影機構であり、該マスクの所
定パターンをターゲット基板上に投影縮小している。
【0031】本発明の他のより特殊な局面において、光
学システムは紫外線の全帯域幅、特にエキシマーレーザ
の紫外線帯域幅に亙ってサブミクロンの分解能を有する
。
学システムは紫外線の全帯域幅、特にエキシマーレーザ
の紫外線帯域幅に亙ってサブミクロンの分解能を有する
。
【0032】本発明の他のより特殊な局面において、前
記複数の薄い塗膜は前記略々平坦面に亙って略々均一な
厚みを有する物質から構成されており、略々平坦面から
反射されたビーム中と略々平坦面を透過したビーム中に
おける位相分布の自己補償と振幅分布の自己補償とをな
すことになり、その結果としての反射ビーム及び透過ビ
ームの位相分布及び振幅分布はそれで歪み、収差及びア
ポダイゼーションから略々解放されることになる。
記複数の薄い塗膜は前記略々平坦面に亙って略々均一な
厚みを有する物質から構成されており、略々平坦面から
反射されたビーム中と略々平坦面を透過したビーム中に
おける位相分布の自己補償と振幅分布の自己補償とをな
すことになり、その結果としての反射ビーム及び透過ビ
ームの位相分布及び振幅分布はそれで歪み、収差及びア
ポダイゼーションから略々解放されることになる。
【0033】こうした事柄、他の目的、特徴及び長所は
次の好適実施例のより詳細な説明及び添付図面から明ら
かになるであろう。
次の好適実施例のより詳細な説明及び添付図面から明ら
かになるであろう。
【0034】
【実施例】図1は本発明に係る光学システムの概略図で
ある。
ある。
【0035】図1の装置は相互には線形的ではない入力
軸2及び出力軸4を有しており、この好適実施例では両
軸2及び4は直交している。輻射線は入力軸2に沿って
ターゲット8に結像されることになる物体6に指向させ
られている。輻射線は好ましくは紫外線光であり、最も
好ましいくは248nmの波長で作動するKrFエキシ
マーレーザ出力である。本発明の好適実施例において、
結像される物体6は入力軸2に沿っての輻射線の入射に
対して透明な領域と不透明で且つ予め決定されたパター
ン状となった領域とを有する。物体6を通過した輻射線
10は略々平坦な面12上に入射することになり、この
平坦面12はその入射光を部分的に透過させると共に、
その入射光をこの光学システムの開口絞り(アパーチャ
)となる凹状反射面16に向けて14で示すように部分
的に反射する。ビーム14は面16で出力軸4に沿う輻
射線18として反射してターゲット8上にピントが合わ
されることなる。この好適実施例のターゲット8は電子
部品、例えばレジスト材がその上に設けられた半導体チ
ップ或は半導体チップ実装基板である。マスク6の像は
ターゲット8のレジスト材上にピントが合わされてこの
レジスト材中に露出パターン又は露光パターンを形成す
る。このレジスト材がポジティブレジストかネガティブ
レジストかに依存して、露光領域が未露光領域に対して
溶解性になるか不溶解性になる。この好適実施例での露
光領域又はマスクの像はミクロン以下の分解能、好まし
くは半ミクロン以下の範囲内、最も好ましくは0.25
ミクロン程度内の分解能を有する。このような微細分解
能を投影像中において達成するために、面12から反射
されたビーム14中並びに面12を透過したビーム18
中に導入された歪み、収差、アポダイゼーションを実質
的に削除しなければないらない。これは面12上に設け
られた薄い塗膜20を用いることによって可能である。 薄い塗膜が設けられた面が本発明を実施するに有効であ
ることは、Rosenbluthの米国特願第07/1
85,187号に記載されており、その教示内容をここ
で参照用として取り入れる。Rosenbluthが提
供する薄膜構造は、入射ビームをその薄膜構造から反射
されるビームと透過されるビームに分割して、像視野に
収差、アポダイゼーション又は照度不均一性を導入する
ことがない。この好適実施例におけるビームスプリッタ
面12はビーム分割キューブ22内に含まれて、入力軸
2はキューブ22の面24に略々直交し且つ出力軸4は
キューブ22の面26に略々直交することになる。 実際的適用には、248nm又はそれ以下の短い波長で
作動するリソグラフィ技術レンズが必要である。しかし
、300nm以下の波長で、唯一の要素が通常透明レン
ズであるリソグラフィ技術的な結像機構を設計するこは
材料面の制約が起因してより困難になる。
軸2及び出力軸4を有しており、この好適実施例では両
軸2及び4は直交している。輻射線は入力軸2に沿って
ターゲット8に結像されることになる物体6に指向させ
られている。輻射線は好ましくは紫外線光であり、最も
好ましいくは248nmの波長で作動するKrFエキシ
マーレーザ出力である。本発明の好適実施例において、
結像される物体6は入力軸2に沿っての輻射線の入射に
対して透明な領域と不透明で且つ予め決定されたパター
ン状となった領域とを有する。物体6を通過した輻射線
10は略々平坦な面12上に入射することになり、この
平坦面12はその入射光を部分的に透過させると共に、
その入射光をこの光学システムの開口絞り(アパーチャ
)となる凹状反射面16に向けて14で示すように部分
的に反射する。ビーム14は面16で出力軸4に沿う輻
射線18として反射してターゲット8上にピントが合わ
されることなる。この好適実施例のターゲット8は電子
部品、例えばレジスト材がその上に設けられた半導体チ
ップ或は半導体チップ実装基板である。マスク6の像は
ターゲット8のレジスト材上にピントが合わされてこの
レジスト材中に露出パターン又は露光パターンを形成す
る。このレジスト材がポジティブレジストかネガティブ
レジストかに依存して、露光領域が未露光領域に対して
溶解性になるか不溶解性になる。この好適実施例での露
光領域又はマスクの像はミクロン以下の分解能、好まし
くは半ミクロン以下の範囲内、最も好ましくは0.25
ミクロン程度内の分解能を有する。このような微細分解
能を投影像中において達成するために、面12から反射
されたビーム14中並びに面12を透過したビーム18
中に導入された歪み、収差、アポダイゼーションを実質
的に削除しなければないらない。これは面12上に設け
られた薄い塗膜20を用いることによって可能である。 薄い塗膜が設けられた面が本発明を実施するに有効であ
ることは、Rosenbluthの米国特願第07/1
85,187号に記載されており、その教示内容をここ
で参照用として取り入れる。Rosenbluthが提
供する薄膜構造は、入射ビームをその薄膜構造から反射
されるビームと透過されるビームに分割して、像視野に
収差、アポダイゼーション又は照度不均一性を導入する
ことがない。この好適実施例におけるビームスプリッタ
面12はビーム分割キューブ22内に含まれて、入力軸
2はキューブ22の面24に略々直交し且つ出力軸4は
キューブ22の面26に略々直交することになる。 実際的適用には、248nm又はそれ以下の短い波長で
作動するリソグラフィ技術レンズが必要である。しかし
、300nm以下の波長で、唯一の要素が通常透明レン
ズであるリソグラフィ技術的な結像機構を設計するこは
材料面の制約が起因してより困難になる。
【0036】ビーム分割光学要素22はプリズム26を
含んでおり、その斜辺面30には通常の方法によって薄
膜構造がコーティングされており、その薄膜構造は上記
に参照用として挙げたRosenbluthの米国出願
に開示されている手段によって決定された厚みの材料を
有しており、これは10で示すような各光ビームの所望
の分割、即ち反射部分14及び透過部分18と云う所望
の分割に影響して、ビームはその薄膜構造中における多
重反射の結果として正味の収差を被ることがない。第2
の基板、即ちプリズム28の斜辺に対応する面32はプ
リズム26の斜辺上に設けられた薄膜構造に通常の手段
を介して結着されて、ビーム分割光学要素22を形成し
ている。
含んでおり、その斜辺面30には通常の方法によって薄
膜構造がコーティングされており、その薄膜構造は上記
に参照用として挙げたRosenbluthの米国出願
に開示されている手段によって決定された厚みの材料を
有しており、これは10で示すような各光ビームの所望
の分割、即ち反射部分14及び透過部分18と云う所望
の分割に影響して、ビームはその薄膜構造中における多
重反射の結果として正味の収差を被ることがない。第2
の基板、即ちプリズム28の斜辺に対応する面32はプ
リズム26の斜辺上に設けられた薄膜構造に通常の手段
を介して結着されて、ビーム分割光学要素22を形成し
ている。
【0037】殆どの分割膜は、薄膜の光学的特性である
固有の角度的な依存性によって、10で示すようなビー
ムの角度的な分散に接触して相当な変動を導入すること
になる。この角度的な依存性は膜がビームの中心軸2に
対して回転された際に最も顕著である。ビーム10は物
体6からプリズム面32に投影される。そして、ビーム
10の反射部分はミラー面16に伝播される。この通路
で反射されたビームの小部分は第1通路ビーム分割能力
と称される。
固有の角度的な依存性によって、10で示すようなビー
ムの角度的な分散に接触して相当な変動を導入すること
になる。この角度的な依存性は膜がビームの中心軸2に
対して回転された際に最も顕著である。ビーム10は物
体6からプリズム面32に投影される。そして、ビーム
10の反射部分はミラー面16に伝播される。この通路
で反射されたビームの小部分は第1通路ビーム分割能力
と称される。
【0038】焦点合わせさせられた後、ビーム10はま
たプリズム面32上の薄い塗膜で第2の通路に入射する
。そして、この第2通路中を伝達される入射ビーム10
の部分は基板8上の像34としてピントが合わせられる
。この通路の能力は透過部分と同等である。基板8は、
先行技術の装置における反射ミラー系の視野の半分と云
うよりも、反射面16の視野を全体占める程に十分に大
きい。
たプリズム面32上の薄い塗膜で第2の通路に入射する
。そして、この第2通路中を伝達される入射ビーム10
の部分は基板8上の像34としてピントが合わせられる
。この通路の能力は透過部分と同等である。基板8は、
先行技術の装置における反射ミラー系の視野の半分と云
うよりも、反射面16の視野を全体占める程に十分に大
きい。
【0039】ビーム分割面を形成している薄膜構造20
は入力軸2からの入射ビーム10を出力軸4に沿って逸
らすように傾斜させなければならない。然しながら、ビ
ーム分割要素22の入口面24又は出口面26における
如何なる傾斜も結像ビーム中に収差を導入することにな
る。こうして、この好適実施例においては、面24と面
26とは結像される物体6とその像が投影される基板8
とにそれぞれ平行しているので、このビーム分割要素2
2は、この好適実施例では、1つの立方体形状としての
統一構造を形成している。
は入力軸2からの入射ビーム10を出力軸4に沿って逸
らすように傾斜させなければならない。然しながら、ビ
ーム分割要素22の入口面24又は出口面26における
如何なる傾斜も結像ビーム中に収差を導入することにな
る。こうして、この好適実施例においては、面24と面
26とは結像される物体6とその像が投影される基板8
とにそれぞれ平行しているので、このビーム分割要素2
2は、この好適実施例では、1つの立方体形状としての
統一構造を形成している。
【0040】図1に概略的に示された装置の入力側は物
体平面から湾曲反射面16である。一方、この装置の出
力側は、上記面16から像平面8である。図1の長方形
7は光学要素、即ち複数レンズ等を表しており、入力側
のどこにでも配置してよく、長方形9も光学要素を表し
ており、出力側のどこにでも配置してよい。7及び9で
表される此等光学要素は他の光学要素、湾曲面16及び
ビーム分割要素22によって導入された収差の修正をな
す。
体平面から湾曲反射面16である。一方、この装置の出
力側は、上記面16から像平面8である。図1の長方形
7は光学要素、即ち複数レンズ等を表しており、入力側
のどこにでも配置してよく、長方形9も光学要素を表し
ており、出力側のどこにでも配置してよい。7及び9で
表される此等光学要素は他の光学要素、湾曲面16及び
ビーム分割要素22によって導入された収差の修正をな
す。
【0041】図2は5Xの光学的縮小用の反射屈折リレ
ーレンズの光学系の特殊な実施例を示し、エキシマーレ
ーザの全紫外線帯域幅に亙ってミクロン以下(サブミク
ロン)の分解能(解像能)を有している。ミラー部にお
いて絞りを有する球状一次ミラーは略々所望の縮小率と
略々所望の高分解能を提供するに十分な高開口数とで作
動すべく使用されている。適切なコーティングを有する
溶融シリカから成るビーム分割キューブはマスクを表す
物体の使用し易い像を形成しており、像面に配置される
ウェハーにパターンを形成することになる。ミラーへの
スロー(低速)入射ビームの通路中とミラーからのファ
ースト(高速)反射ビームの通路中との屈折修正器はミ
ラーによって形成される像の収差を整えるように設計さ
れている。
ーレンズの光学系の特殊な実施例を示し、エキシマーレ
ーザの全紫外線帯域幅に亙ってミクロン以下(サブミク
ロン)の分解能(解像能)を有している。ミラー部にお
いて絞りを有する球状一次ミラーは略々所望の縮小率と
略々所望の高分解能を提供するに十分な高開口数とで作
動すべく使用されている。適切なコーティングを有する
溶融シリカから成るビーム分割キューブはマスクを表す
物体の使用し易い像を形成しており、像面に配置される
ウェハーにパターンを形成することになる。ミラーへの
スロー(低速)入射ビームの通路中とミラーからのファ
ースト(高速)反射ビームの通路中との屈折修正器はミ
ラーによって形成される像の収差を整えるように設計さ
れている。
【0042】凹球状ミラー50は5×の所望の縮小率を
実質的に与える共役部に使用され、物体平面52及び像
平面54の付近に置かされる分離した屈折修正器によっ
て提供される視野平坦化を伴う。レンズ56,58,6
0,62及び64はミラー50の長い共役部側68にお
ける空間屈折グループ66を形成している。空間屈折グ
ループ66はミラー50の短い共役部側72のコンパク
トな組み合わせ視野修正器グループ70によって補足さ
れる。視野修正器グループ70はレンズ74及び76か
ら構成されている。入力軸における組み合わせレンズ群
66と出力軸における組み合わせレンズ群70はミラー
50の視野湾曲又はまがりを修正する。ミラー50にお
ける反射で生じる球面収差は入力軸68及び出力軸72
における相互に分離した複合修正器78及び80によっ
て修正されている。修正器78はレンズ82及び84か
ら構成されている。修正器80はレンズ86及び88か
ら構成されている。
実質的に与える共役部に使用され、物体平面52及び像
平面54の付近に置かされる分離した屈折修正器によっ
て提供される視野平坦化を伴う。レンズ56,58,6
0,62及び64はミラー50の長い共役部側68にお
ける空間屈折グループ66を形成している。空間屈折グ
ループ66はミラー50の短い共役部側72のコンパク
トな組み合わせ視野修正器グループ70によって補足さ
れる。視野修正器グループ70はレンズ74及び76か
ら構成されている。入力軸における組み合わせレンズ群
66と出力軸における組み合わせレンズ群70はミラー
50の視野湾曲又はまがりを修正する。ミラー50にお
ける反射で生じる球面収差は入力軸68及び出力軸72
における相互に分離した複合修正器78及び80によっ
て修正されている。修正器78はレンズ82及び84か
ら構成されている。修正器80はレンズ86及び88か
ら構成されている。
【0043】絞りとしても用いられているミラー50に
関しての入力軸68側の修正器66,78と出力軸72
側の修正器70,80の略々対称的配置はこの光学シス
テムにおいて優れたコマ修正をなしている。この光学シ
ステムはビーム分割キューブを伴って設計されており、
このビーム分割キューブはその通路内において光の像形
成ビームにミラーへ入射するビームを解放すること許容
しており、これによってビーム分割キューブのガラス中
の光路に2つの通過使用を要求している。この構成なく
しては、シリコンウェハー上への不均一な露光線量に至
ることになる視野に伴う障害物の大きさの変化を主に考
慮した場合、マイクロリソグラフィ技術において使用さ
れることが推奨されない瞳中における障害物が常に現れ
ることになる。
関しての入力軸68側の修正器66,78と出力軸72
側の修正器70,80の略々対称的配置はこの光学シス
テムにおいて優れたコマ修正をなしている。この光学シ
ステムはビーム分割キューブを伴って設計されており、
このビーム分割キューブはその通路内において光の像形
成ビームにミラーへ入射するビームを解放すること許容
しており、これによってビーム分割キューブのガラス中
の光路に2つの通過使用を要求している。この構成なく
しては、シリコンウェハー上への不均一な露光線量に至
ることになる視野に伴う障害物の大きさの変化を主に考
慮した場合、マイクロリソグラフィ技術において使用さ
れることが推奨されない瞳中における障害物が常に現れ
ることになる。
【0044】図2の構成は約0.6の高い開口数を有す
る。これはクォータミクロンの分解能に至る高解像能を
可能にしている。しかし、物体52が覆う視野はビーム
分割キューブ90とビーム分割面92上の薄層コーティ
ングとが首尾よく製作され得る規模に依存している。
る。これはクォータミクロンの分解能に至る高解像能を
可能にしている。しかし、物体52が覆う視野はビーム
分割キューブ90とビーム分割面92上の薄層コーティ
ングとが首尾よく製作され得る規模に依存している。
【0045】表1は図2の実施例の好適な構造的パラメ
ータを列挙しており、この実施例は5Xの反射屈折リレ
ーレンズ用であり、出力側での0.6の開口数と1平方
センチメートルの面積をカバーするに十分な14.4ミ
リメートル径の像側52の円形視界とを有する。表1は
図2に示される各種の面、即ち各面の曲率半径をミリメ
ートル単位で列挙している。此等の面間での1つの面か
ら次の面までの厚さ又は隔たり(間隔)と屈折率を表し
、例えば面100と面101の間の間隔は2.6936
mm(ミリメートル)であり、面101と面102の屈
折率は1.508807である。表1は各屈折面の径の
2分の1を列挙している。
ータを列挙しており、この実施例は5Xの反射屈折リレ
ーレンズ用であり、出力側での0.6の開口数と1平方
センチメートルの面積をカバーするに十分な14.4ミ
リメートル径の像側52の円形視界とを有する。表1は
図2に示される各種の面、即ち各面の曲率半径をミリメ
ートル単位で列挙している。此等の面間での1つの面か
ら次の面までの厚さ又は隔たり(間隔)と屈折率を表し
、例えば面100と面101の間の間隔は2.6936
mm(ミリメートル)であり、面101と面102の屈
折率は1.508807である。表1は各屈折面の径の
2分の1を列挙している。
【0046】
表1
面 曲率半径 厚さ(間隔)
屈折率 面の1/2径
(mm)
(mm)
(mm)
n = 1.5085507
a = 1.0
マス
ク 100
2.6936 a
36.0 10
1 416.1907 15.6
n 36.8
102 −352.6
095 0.1 a
37.9
103 216.3507 9.9
996 n 38.
4 104 −91
43 100
a 38.4
105 165.0775
6.0 n
37.5 106
−141.8095 6.4339
a 37.8
107 −544.5087
9.0 n
37.5 108
276.6342 158.9991
a 37.5
109 −106.173
1 5.0 n
48.2 1
10 −221.0308 95.99
82 a 50.5
111 7177.
482 15.0
n 71.4
112 −235.2796 3.
0 a 71
.9 113 −2
53.3041 15.0
n 72.0
114 −367.2
18.0 a
74.0キューブ面 115
75.0
n キューブ斜面 116
75.0
n キュー
ブ面 117
24.0 a
ミラー 118 3
22.0703 24.0
a 88.0キューブ面
117 75.
0 n
キューブ斜面 116
75.0 n
キューブ面 119
9.00
a
120 −267.7909
15.0 n
44.1 121
−313.664 1.0
a 41.1
122 80.2329
16.4981 n
36.6 1
23 328.6877 5.862
7 a 32.7
124 110.6
656 18.0
n 27.9
125 56.8994 4.
8224 a 19
.3 126 65
.4243 18.0
n 17.3
127 −425.502
1.5 a
10.3 128
−212.3753 3.0
n 9.2
129 −756.9179
0.7043 a
7.8 ターゲット 130 本発明に従う光学システムのレンズ製造に使用され
るガラスの種類は殆ど制限がない。特殊な適用方面のた
めの望ましい波長の光を単に良好に伝達しなければなら
ないだけである。図2の構成及び表1は248nmの波
長用であり、全てのレンズは溶融シリカで製造されてい
る。然しながら、視野修正及び球面収差修正レンズ群に
分散を異ならせるガラスを付加する通常の方法によるか
、そのようなガラスの選択がなさる適用法に従って、レ
ンズを色消し構成とすることも可能である。
表1
面 曲率半径 厚さ(間隔)
屈折率 面の1/2径
(mm)
(mm)
(mm)
n = 1.5085507
a = 1.0
マス
ク 100
2.6936 a
36.0 10
1 416.1907 15.6
n 36.8
102 −352.6
095 0.1 a
37.9
103 216.3507 9.9
996 n 38.
4 104 −91
43 100
a 38.4
105 165.0775
6.0 n
37.5 106
−141.8095 6.4339
a 37.8
107 −544.5087
9.0 n
37.5 108
276.6342 158.9991
a 37.5
109 −106.173
1 5.0 n
48.2 1
10 −221.0308 95.99
82 a 50.5
111 7177.
482 15.0
n 71.4
112 −235.2796 3.
0 a 71
.9 113 −2
53.3041 15.0
n 72.0
114 −367.2
18.0 a
74.0キューブ面 115
75.0
n キューブ斜面 116
75.0
n キュー
ブ面 117
24.0 a
ミラー 118 3
22.0703 24.0
a 88.0キューブ面
117 75.
0 n
キューブ斜面 116
75.0 n
キューブ面 119
9.00
a
120 −267.7909
15.0 n
44.1 121
−313.664 1.0
a 41.1
122 80.2329
16.4981 n
36.6 1
23 328.6877 5.862
7 a 32.7
124 110.6
656 18.0
n 27.9
125 56.8994 4.
8224 a 19
.3 126 65
.4243 18.0
n 17.3
127 −425.502
1.5 a
10.3 128
−212.3753 3.0
n 9.2
129 −756.9179
0.7043 a
7.8 ターゲット 130 本発明に従う光学システムのレンズ製造に使用され
るガラスの種類は殆ど制限がない。特殊な適用方面のた
めの望ましい波長の光を単に良好に伝達しなければなら
ないだけである。図2の構成及び表1は248nmの波
長用であり、全てのレンズは溶融シリカで製造されてい
る。然しながら、視野修正及び球面収差修正レンズ群に
分散を異ならせるガラスを付加する通常の方法によるか
、そのようなガラスの選択がなさる適用法に従って、レ
ンズを色消し構成とすることも可能である。
【0047】図2及び表1の実施例で達成可能な視野の
大きさは、ステッパーとして知られる光学的なマイクロ
リソグラフィ技術における装置に主に使用することが可
能であるが、リング型視野又はスロット型視野のスキャ
ナー類に適応されることを妨げることがなく、実際には
非常の大きなサイズのウェハーを印刷するためにステッ
ピングとスキャニングとを組み合わせた装置において非
常に大事なものとなる。
大きさは、ステッパーとして知られる光学的なマイクロ
リソグラフィ技術における装置に主に使用することが可
能であるが、リング型視野又はスロット型視野のスキャ
ナー類に適応されることを妨げることがなく、実際には
非常の大きなサイズのウェハーを印刷するためにステッ
ピングとスキャニングとを組み合わせた装置において非
常に大事なものとなる。
【0048】図2及び表1の実施例のために、図3は光
学システムの3つの領域における子午的特徴(tang
ential feature)及び球欠的特徴(s
agittal feature)の両方のための空
間周波数の関数としての変調伝達関数を与えている。即
ち、一方が入力軸68が物体面100と交差する点13
2であり、他方が入力軸68が物体面100と交差する
と共に点132から遠ざかる最大視野の0.7の点であ
り、第3としては入力軸68が物体面100と交差する
点から遠ざかる最大視野の点である。図3から明らかな
ように、此等3点における子午的及び球欠的特徴の変調
伝達関数は殆ど同一である。
学システムの3つの領域における子午的特徴(tang
ential feature)及び球欠的特徴(s
agittal feature)の両方のための空
間周波数の関数としての変調伝達関数を与えている。即
ち、一方が入力軸68が物体面100と交差する点13
2であり、他方が入力軸68が物体面100と交差する
と共に点132から遠ざかる最大視野の0.7の点であ
り、第3としては入力軸68が物体面100と交差する
点から遠ざかる最大視野の点である。図3から明らかな
ように、此等3点における子午的及び球欠的特徴の変調
伝達関数は殆ど同一である。
【0049】図4においては、図3に示された変調伝達
関数に対応して、此等3つの視野点における子午的及び
球欠的特徴のための焦点媒介MTF(変調伝達関数)が
、2,000サイクル/mmのMFT周波数の場合とし
て示されている。図5には、周波数1,000サイクル
/mmの場合においての同様条件のための焦点媒介MT
Fが示されている。図4及び図5から明らかな如く、此
等3点における子午的及び球欠的特徴のための焦点媒介
MTFには殆ど差がない。 図6及び表2は5×の縮小
用反射屈折リレーレンズの光学的設計の他の実施例を示
しており、KrFレーザ等の線細深UVエキシマーレー
ザの全帯域幅に亙ってサブミクロンの分解能を有してい
る。この実施例は、凹状ミラーと、マスク等の物体の利
用し易い像を生成するために適切なコーティングがなさ
れたビーム分割キューブと、ミラーへの低速入射ビーム
並びにミラーから反射された高速像形成ビームの両方に
関連した曲率に関して所定のより好ましい特徴を有する
屈折修正器と、から構成され、此等の全てが共同して、
拡張された視野に亙ってのサブミクロンの特性を伴って
、高度な修正がなされた像を作り出すことになる。 図6及び表2の構造的なパラメータとしては、30.0
mm径の円形視野に対して0.6の開口数が挙げられ、
20平方mmの像をカバーするに十分なものである。図
7は図6の実施例における周波数の関数としての焦点媒
介MTFの特性グラフである。図8は図6の実施例にお
ける1,500サイクル/mmの周波数の関数としての
焦点媒介MTFの特性グラフである。図9は図6の実施
例における2,000サイクル/mmの周波数の関数と
しての焦点媒介MTFの特性グラフである。図7、図8
及び図9は、入力軸142が物体平面と交叉している軸
上201の点と、点201から遠ざかる視野半分の最大
限の0.7の点と、15mmの視野半分の最大限の軸上
の点のにおける子午的及び球欠的特徴のためのMTFを
プロットしている。軸逸脱値が子午的及び球欠的特徴用
ラインとして与えられているので、図7、図8及び図9
のグラフの各々に5つの曲線となって現れる。図7にお
いて、此等5つの曲線は本質的には区別することができ
ない。図8において、曲線300が軸上の子午的及び球
欠特徴に対応しており、曲線302が視野最大限の0.
7における球欠的特徴に対応しており、曲線304が視
野最大限の0.7における子午的特徴に対応しており、
曲線306が視野最大限における子午的特徴に対応して
おり、曲線308が視野最大限における球欠的特徴に対
応している。図9において、曲線310が軸上子午的及
び球欠的特徴に対応しており、曲線312が視野最大限
の0.7における球欠的特徴に対応しており、曲線31
4が視野最大限の0.7における子午的特徴に対応して
おり、曲線316が視野最大限における子午的特徴に対
応しており、曲線318が視野最大限における球欠的特
徴に対応している。
関数に対応して、此等3つの視野点における子午的及び
球欠的特徴のための焦点媒介MTF(変調伝達関数)が
、2,000サイクル/mmのMFT周波数の場合とし
て示されている。図5には、周波数1,000サイクル
/mmの場合においての同様条件のための焦点媒介MT
Fが示されている。図4及び図5から明らかな如く、此
等3点における子午的及び球欠的特徴のための焦点媒介
MTFには殆ど差がない。 図6及び表2は5×の縮小
用反射屈折リレーレンズの光学的設計の他の実施例を示
しており、KrFレーザ等の線細深UVエキシマーレー
ザの全帯域幅に亙ってサブミクロンの分解能を有してい
る。この実施例は、凹状ミラーと、マスク等の物体の利
用し易い像を生成するために適切なコーティングがなさ
れたビーム分割キューブと、ミラーへの低速入射ビーム
並びにミラーから反射された高速像形成ビームの両方に
関連した曲率に関して所定のより好ましい特徴を有する
屈折修正器と、から構成され、此等の全てが共同して、
拡張された視野に亙ってのサブミクロンの特性を伴って
、高度な修正がなされた像を作り出すことになる。 図6及び表2の構造的なパラメータとしては、30.0
mm径の円形視野に対して0.6の開口数が挙げられ、
20平方mmの像をカバーするに十分なものである。図
7は図6の実施例における周波数の関数としての焦点媒
介MTFの特性グラフである。図8は図6の実施例にお
ける1,500サイクル/mmの周波数の関数としての
焦点媒介MTFの特性グラフである。図9は図6の実施
例における2,000サイクル/mmの周波数の関数と
しての焦点媒介MTFの特性グラフである。図7、図8
及び図9は、入力軸142が物体平面と交叉している軸
上201の点と、点201から遠ざかる視野半分の最大
限の0.7の点と、15mmの視野半分の最大限の軸上
の点のにおける子午的及び球欠的特徴のためのMTFを
プロットしている。軸逸脱値が子午的及び球欠的特徴用
ラインとして与えられているので、図7、図8及び図9
のグラフの各々に5つの曲線となって現れる。図7にお
いて、此等5つの曲線は本質的には区別することができ
ない。図8において、曲線300が軸上の子午的及び球
欠特徴に対応しており、曲線302が視野最大限の0.
7における球欠的特徴に対応しており、曲線304が視
野最大限の0.7における子午的特徴に対応しており、
曲線306が視野最大限における子午的特徴に対応して
おり、曲線308が視野最大限における球欠的特徴に対
応している。図9において、曲線310が軸上子午的及
び球欠的特徴に対応しており、曲線312が視野最大限
の0.7における球欠的特徴に対応しており、曲線31
4が視野最大限の0.7における子午的特徴に対応して
おり、曲線316が視野最大限における子午的特徴に対
応しており、曲線318が視野最大限における球欠的特
徴に対応している。
【0050】
表2 面
曲率半径 厚さ(間隔) 屈折
率 面の1/2径
(mm) (mm)
(mm)
n = 1.
5085507
a = 1.0
マスク 200
114.6494
a 75.1
201 1792.5223
19.0019 n
81.9 202 −
866.1057 0.0050
a 82.3
203 322.7983
24.9952 n
82.1 204 61
2.9103 94.9297
a 80.1
205 −365.5172 2
0.9984 n 7
3.7 206 272
.002 26.1477
a 74.4
207 180.1773 20
.9943 n 80
.8 208 162.
6329 26.7939
a 79.4
209 222.2809 35.
0014 n 84.
3 210 −382.
3895 0.0034
a 84.3
211 628.8815 19.0
011 n 82.4
212 176.45
34 97.4083 a
78.3 2
13 1180.4521 19.00
39 n 83.0
214 −1466.0
0 0.5012 a
83.2 21
5 165.2104 19.894
3 n 83.0
216 144.1937
87.6403 a
78.9キューブ面 217
85.00
n キューブ斜面21
8 85.00
n キュ
ーブ面 219
0.00 a
220
20.0
n
221 727.5375
7.4995 a
85.0ミラー 222 354.6
364 7.4995
a 83.9
221 727.5375 20.0
n 85.0
220
0.00 a
キューブ面 219
85.00
n キューブ斜面
218 85.0
0 n
キューブ面 223
1.00 a
37.4 224
60.0903 9.5842
n 33.2
225 112.4998
0.1 a
31.4 226
59.7906 4.9017
n 29.4
227 47.6875
5.6044 a
26.5 228 1
02.4535 7.511
n 26.0
229 −602.3941
1.000 a
24.5 230 −3
88.6705 19.6132
n 23.9
231 −578.1068 0
.5 a 1
5.5ターゲット 232 図6の実施例の構成に使用されるガラスの種類はそ
れらが特定な適用方面で望まれる波長に関して良好に伝
達できるのであれば殆ど制限を受けない。この実施例の
構成は248nmの波長用として示されており、全ての
レンズは表2において溶融シリカから製造されている。 しかし、それらは通常の方法に従って、即ちガラスがそ
のように選択された適用方面において視野修正・球面収
差修正レンズにガラスを異なる分散度で加えることによ
って、色消しとすることもできる。そのような使用は本
発明を実施している構成で達成可能な機能に好ましく影
響することが予想される。
表2 面
曲率半径 厚さ(間隔) 屈折
率 面の1/2径
(mm) (mm)
(mm)
n = 1.
5085507
a = 1.0
マスク 200
114.6494
a 75.1
201 1792.5223
19.0019 n
81.9 202 −
866.1057 0.0050
a 82.3
203 322.7983
24.9952 n
82.1 204 61
2.9103 94.9297
a 80.1
205 −365.5172 2
0.9984 n 7
3.7 206 272
.002 26.1477
a 74.4
207 180.1773 20
.9943 n 80
.8 208 162.
6329 26.7939
a 79.4
209 222.2809 35.
0014 n 84.
3 210 −382.
3895 0.0034
a 84.3
211 628.8815 19.0
011 n 82.4
212 176.45
34 97.4083 a
78.3 2
13 1180.4521 19.00
39 n 83.0
214 −1466.0
0 0.5012 a
83.2 21
5 165.2104 19.894
3 n 83.0
216 144.1937
87.6403 a
78.9キューブ面 217
85.00
n キューブ斜面21
8 85.00
n キュ
ーブ面 219
0.00 a
220
20.0
n
221 727.5375
7.4995 a
85.0ミラー 222 354.6
364 7.4995
a 83.9
221 727.5375 20.0
n 85.0
220
0.00 a
キューブ面 219
85.00
n キューブ斜面
218 85.0
0 n
キューブ面 223
1.00 a
37.4 224
60.0903 9.5842
n 33.2
225 112.4998
0.1 a
31.4 226
59.7906 4.9017
n 29.4
227 47.6875
5.6044 a
26.5 228 1
02.4535 7.511
n 26.0
229 −602.3941
1.000 a
24.5 230 −3
88.6705 19.6132
n 23.9
231 −578.1068 0
.5 a 1
5.5ターゲット 232 図6の実施例の構成に使用されるガラスの種類はそ
れらが特定な適用方面で望まれる波長に関して良好に伝
達できるのであれば殆ど制限を受けない。この実施例の
構成は248nmの波長用として示されており、全ての
レンズは表2において溶融シリカから製造されている。 しかし、それらは通常の方法に従って、即ちガラスがそ
のように選択された適用方面において視野修正・球面収
差修正レンズにガラスを異なる分散度で加えることによ
って、色消しとすることもできる。そのような使用は本
発明を実施している構成で達成可能な機能に好ましく影
響することが予想される。
【0051】図10及び表3は図1の光学システムの他
の実施例を示す。図10及び表3は4×の縮小用反射屈
折リレーレンズを示し、例えばKrFレーザ等のエキシ
マーレーザの全UV帯域幅に亙ってサブミクロンの分解
能を有している。図10及び表2の実施例の構造及びパ
ラメータとしては、2.0平方mmの像視野をカバーす
るに十分な30mm径の円形視野のための0.6の開口
数を含む。図10のための周波数媒介及び焦点媒介MT
Fは図2及び図6の実施例に示したものと同様である。
の実施例を示す。図10及び表3は4×の縮小用反射屈
折リレーレンズを示し、例えばKrFレーザ等のエキシ
マーレーザの全UV帯域幅に亙ってサブミクロンの分解
能を有している。図10及び表2の実施例の構造及びパ
ラメータとしては、2.0平方mmの像視野をカバーす
るに十分な30mm径の円形視野のための0.6の開口
数を含む。図10のための周波数媒介及び焦点媒介MT
Fは図2及び図6の実施例に示したものと同様である。
【0052】
表3 面
曲率半径 厚さ(間隔)
屈折率 面の1/2径
(mm) (mm
) (mm)
n
= 1.5085507
a = 1.0
100 11
5.0 a 60
.1 301 370.
2948 30.0
n 67.9
302 −196.6212 2.0
a 67.
6 303 −195.
9992 21.0
n 67.1
304 281.8649 104.
0 a 66.3
305 −111.9
241 21.0 n
72.7 3
06 −100.9789 7.5
a 76.7
307 −97.604
6 21.0 n
76.5 30
8 −189.1799 2.0
a 88.9
309 −649.792
4 34.0 n
93.4 310
−159.9606 104.0
a 95.5
311 3078.1555
28.0 n
91.7 312
−455.0276 12.0
a 91.2
313 −238.3554
19.0 n
90.7 314
−407.0824 2.0
a 91.7
315 204.3396
18.0 n
90.1 316
170.3065 53.0
a 86.1キューブ面
117 85.
0 n
キューブ斜面318
85.0 n
キューブ面 319
0
a
320 20.
0 n
321 825.0
556 7.5
a 84.5ミラー 322
383.2405 7.5
a 84.7
321 825.0556
20.0 n
84.5 320
0
a キューブ
面 319 8
5.0 n
キューブ斜面318
85.0 n
キューブ面 323
1.0
a
324 56.5102 1
2.0 n 3
4.5 325 387
.1705 0.25
a 33.7
326 −229.1068 5.
0 n 32
.8 327 44.8
281 6.2
a 26.9
328 46.1373 7.5
n 25.
1 329 52.17
21 2.0
a 22.6
330 64.1946 19.6
n 22.2
331 526.93
78 0.5991 a
15.3ターゲット 332 表4の構造的なパラメータを有する図11の実施例
と表5の構造的なパラメータを有する図12の実施例は
440と550のマンジン・ミラー(Mangin鏡)
をそれぞれ備えている。このマンジン・ミラー(3)は
共役部に使用されて、4の所望の縮小率を略々与えてい
る。マンジン・ミラーの長い共役側における空気を介し
て離間する屈折群はマンジン・ミラーの短い共役側の修
正器群によって補われている。この光学システムはビー
ム分割キューブを伴って設計されており、このビーム分
割キューブはその通路内において光の像形成ビームにマ
ンジン・ミラーへ入射するビームを解放すること許容し
ており、これによってビーム分割キューブのガラス中の
光路に2つの通過使用をもたらしている。この構成なく
しては、シリコンウェハー上への不均一な露光線量に至
る視野に伴う掩蔽の大きさの変化を主に考慮した場合、
マイクロリソグラフィ技術において使用されることが推
奨されない瞳中における障害物が常に現れることになる
。クォーターミクロンに至る高分解能はこの構成の0.
6の開口数によって達成可能である。
表3 面
曲率半径 厚さ(間隔)
屈折率 面の1/2径
(mm) (mm
) (mm)
n
= 1.5085507
a = 1.0
100 11
5.0 a 60
.1 301 370.
2948 30.0
n 67.9
302 −196.6212 2.0
a 67.
6 303 −195.
9992 21.0
n 67.1
304 281.8649 104.
0 a 66.3
305 −111.9
241 21.0 n
72.7 3
06 −100.9789 7.5
a 76.7
307 −97.604
6 21.0 n
76.5 30
8 −189.1799 2.0
a 88.9
309 −649.792
4 34.0 n
93.4 310
−159.9606 104.0
a 95.5
311 3078.1555
28.0 n
91.7 312
−455.0276 12.0
a 91.2
313 −238.3554
19.0 n
90.7 314
−407.0824 2.0
a 91.7
315 204.3396
18.0 n
90.1 316
170.3065 53.0
a 86.1キューブ面
117 85.
0 n
キューブ斜面318
85.0 n
キューブ面 319
0
a
320 20.
0 n
321 825.0
556 7.5
a 84.5ミラー 322
383.2405 7.5
a 84.7
321 825.0556
20.0 n
84.5 320
0
a キューブ
面 319 8
5.0 n
キューブ斜面318
85.0 n
キューブ面 323
1.0
a
324 56.5102 1
2.0 n 3
4.5 325 387
.1705 0.25
a 33.7
326 −229.1068 5.
0 n 32
.8 327 44.8
281 6.2
a 26.9
328 46.1373 7.5
n 25.
1 329 52.17
21 2.0
a 22.6
330 64.1946 19.6
n 22.2
331 526.93
78 0.5991 a
15.3ターゲット 332 表4の構造的なパラメータを有する図11の実施例
と表5の構造的なパラメータを有する図12の実施例は
440と550のマンジン・ミラー(Mangin鏡)
をそれぞれ備えている。このマンジン・ミラー(3)は
共役部に使用されて、4の所望の縮小率を略々与えてい
る。マンジン・ミラーの長い共役側における空気を介し
て離間する屈折群はマンジン・ミラーの短い共役側の修
正器群によって補われている。この光学システムはビー
ム分割キューブを伴って設計されており、このビーム分
割キューブはその通路内において光の像形成ビームにマ
ンジン・ミラーへ入射するビームを解放すること許容し
ており、これによってビーム分割キューブのガラス中の
光路に2つの通過使用をもたらしている。この構成なく
しては、シリコンウェハー上への不均一な露光線量に至
る視野に伴う掩蔽の大きさの変化を主に考慮した場合、
マイクロリソグラフィ技術において使用されることが推
奨されない瞳中における障害物が常に現れることになる
。クォーターミクロンに至る高分解能はこの構成の0.
6の開口数によって達成可能である。
【0053】当方の現在の目的のために、マンジン・ミ
ラーは、入射光に対して凹状のメニスカスレンズであり
、その裏面には適切な高反射物質が塗装されてミラーと
して作用することを示している。そのミラー面において
絞りを有するマンジン・ミラーは、略々所望の縮小率及
び高開口数で、所望の高分解能を略々提供すべく十分に
動作させるために使用されている。
ラーは、入射光に対して凹状のメニスカスレンズであり
、その裏面には適切な高反射物質が塗装されてミラーと
して作用することを示している。そのミラー面において
絞りを有するマンジン・ミラーは、略々所望の縮小率及
び高開口数で、所望の高分解能を略々提供すべく十分に
動作させるために使用されている。
【0054】図11及び表4の実施例は4×の縮小用反
射屈折リレーレンズであり、UV(紫外線)帯域幅にお
いてサブミクロンの分解能を有し、12×5平方mmの
像視野をカバーするに十分な13mm径の円形視野のた
めの0.6の開口数を有している。
射屈折リレーレンズであり、UV(紫外線)帯域幅にお
いてサブミクロンの分解能を有し、12×5平方mmの
像視野をカバーするに十分な13mm径の円形視野のた
めの0.6の開口数を有している。
【0055】図12の実施例は4×の縮小用反射屈折リ
レーレンズであり、UV(紫外線)帯域幅においてサブ
ミクロンの分解能を有し、12×5平方mmの像視野を
カバーするに十分な13mm径の円形視野のための0.
6の開口数を有している。
レーレンズであり、UV(紫外線)帯域幅においてサブ
ミクロンの分解能を有し、12×5平方mmの像視野を
カバーするに十分な13mm径の円形視野のための0.
6の開口数を有している。
【0056】図11及び図12の実施例のための周波数
媒介及び焦点媒介MTFは図2及び図6の実施例のため
に示されたものと同様である。
媒介及び焦点媒介MTFは図2及び図6の実施例のため
に示されたものと同様である。
【0057】
表4
面 曲率半径 厚さ(間隔)
屈折率 面の1/2径
(mm)
(mm)
(mm)
n = 1.5607691
a = 1.0
マス
ク 400
3.1 a
26.0 40
1 90.5124 15.002
9 n 27.1
402 142.85
82 1.5025 a
26.9
403 182.2398 25.
9982 n 26.
9 404 −29
9.07 9.74
a 27.1
405 −86.3963
20.8177 n
26.6 406
−85.4725 21.4984
a 28.2
407 −241.1435
9.5051 n
26.2 408
−279.9286 11.3470
a 25.8
409 −65.7503
9.515 n
25.6 4
10 −122.0252 14.95
63 a 27.1
411 −467.
2583 15.0053
n 27.9
412 −421.69 3.
0012 a 28
.8 413 92
.35 15.0042
n 29.2
414 64.0283
15.0038 a
27.7キューブ面 415
35
n キューブ斜面 416
35
n キュー
ブ面 417
5.0056 a
418
−199.4415 10.0012
n 34.7ミラー
419 −161.8844
10.0012 n
35.2 418
−199.4415 5.0056
a 35.2キューブ面
417
35 n
キューブ斜面 416
35 n
キューブ面 420
.9026
a
421 57.6041
9.5017 n
25.8 4
22 920.0489 0.401
5 a 24.7
423 98.13
3 11.2929
n 23.4
424 316.5883 2.
0022 a 20
.1 425 92
.5216 5.9018
n 18.1
426 −502.4227
0.5 a
16.5 427
−274.9772 21.9375
n 16.2
428 768.7248
0.1933 a
6.6 ターゲット 429
表5 面
曲率半径 厚さ(間隔) 屈折率
面の1/2径
(mm) (mm)
(mm)
n =
1.5085507
a = 1.0
マスク
500 3.
2 a 26
.0 501 12
3.3741 15.0029
n 26.9
502 407.9745
0.5025 a
27.3 503
247.922 25.9982
n 27.4
504 −301.6128
10.0065 a
−26.9 5
05 −77.1852 20.99
61 n 26.8
506 −72.9
392 6.8449
a 28.1
507 114.6524 9.
5051 n 27
.3 508 89
.3922 11.347
a 26.4
509 −60.3066
9.506 n
26.5 510
−86.8179 41.2581
a 28.1
511 234.3202
15.0019 n
32.0 512
194.5769 3.0012
a 32.0
513 79.4623
15.0042 n
32.3
514 61.2837 15.0
058 a 30.4
キューブ面 515
0 n
キューブ斜面 516
0
n キューブ面
517 5.0
056 a
518 −17
9.4187 10.0012
a 35.2ミラー
519 −158.6218 10.
0012
518 −1
79.4187 5.0056
a 35.2キューブ面
517 35
n
キューブ斜面 516
35 n
キューブ面 520
0.9026
a
521 52.4421
9.5028 n
23.4 522
921.1127 0.4015
a 22.1
523 85.1741
8.3391 n
21.0 52
4 357.8853 2.0022
a 19.6
525 87.122
8 2.9024 n
17.7
526 −3505 0.5
a 17.
0 527 −48
3.0228 24.2156
n 16.7
528 429.6715
0.1903 a
6.6 ターゲット 529
達成可能な視野の非
常に大きなサイズは、特に図6及び表2や図10及び表
3のような大きなサイズは、主にステッパーとして知ら
れる光学的マイクロリソグラフィ技術の装置に使用する
ことができが、一層大きな視野を作るためのリング状視
野タイプ又はスロット状視野タイプのスキャナーに適用
されることを妨げない。この構成の非常に大きな視野は
サブ−ダイ(又はサブ−チップ)のスキャニングで、よ
り良好な整合及び焦点調整のために、視野の到る所を連
続的にモニターさせること可能とし、この構成の自然に
制限された焦点の深さを調整すること、更には集積回路
の超高分解能光学マイクロリソグラフィ技術のための過
酷なウェハー平坦度要件を手当てすることの1つの方法
としている。
表4
面 曲率半径 厚さ(間隔)
屈折率 面の1/2径
(mm)
(mm)
(mm)
n = 1.5607691
a = 1.0
マス
ク 400
3.1 a
26.0 40
1 90.5124 15.002
9 n 27.1
402 142.85
82 1.5025 a
26.9
403 182.2398 25.
9982 n 26.
9 404 −29
9.07 9.74
a 27.1
405 −86.3963
20.8177 n
26.6 406
−85.4725 21.4984
a 28.2
407 −241.1435
9.5051 n
26.2 408
−279.9286 11.3470
a 25.8
409 −65.7503
9.515 n
25.6 4
10 −122.0252 14.95
63 a 27.1
411 −467.
2583 15.0053
n 27.9
412 −421.69 3.
0012 a 28
.8 413 92
.35 15.0042
n 29.2
414 64.0283
15.0038 a
27.7キューブ面 415
35
n キューブ斜面 416
35
n キュー
ブ面 417
5.0056 a
418
−199.4415 10.0012
n 34.7ミラー
419 −161.8844
10.0012 n
35.2 418
−199.4415 5.0056
a 35.2キューブ面
417
35 n
キューブ斜面 416
35 n
キューブ面 420
.9026
a
421 57.6041
9.5017 n
25.8 4
22 920.0489 0.401
5 a 24.7
423 98.13
3 11.2929
n 23.4
424 316.5883 2.
0022 a 20
.1 425 92
.5216 5.9018
n 18.1
426 −502.4227
0.5 a
16.5 427
−274.9772 21.9375
n 16.2
428 768.7248
0.1933 a
6.6 ターゲット 429
表5 面
曲率半径 厚さ(間隔) 屈折率
面の1/2径
(mm) (mm)
(mm)
n =
1.5085507
a = 1.0
マスク
500 3.
2 a 26
.0 501 12
3.3741 15.0029
n 26.9
502 407.9745
0.5025 a
27.3 503
247.922 25.9982
n 27.4
504 −301.6128
10.0065 a
−26.9 5
05 −77.1852 20.99
61 n 26.8
506 −72.9
392 6.8449
a 28.1
507 114.6524 9.
5051 n 27
.3 508 89
.3922 11.347
a 26.4
509 −60.3066
9.506 n
26.5 510
−86.8179 41.2581
a 28.1
511 234.3202
15.0019 n
32.0 512
194.5769 3.0012
a 32.0
513 79.4623
15.0042 n
32.3
514 61.2837 15.0
058 a 30.4
キューブ面 515
0 n
キューブ斜面 516
0
n キューブ面
517 5.0
056 a
518 −17
9.4187 10.0012
a 35.2ミラー
519 −158.6218 10.
0012
518 −1
79.4187 5.0056
a 35.2キューブ面
517 35
n
キューブ斜面 516
35 n
キューブ面 520
0.9026
a
521 52.4421
9.5028 n
23.4 522
921.1127 0.4015
a 22.1
523 85.1741
8.3391 n
21.0 52
4 357.8853 2.0022
a 19.6
525 87.122
8 2.9024 n
17.7
526 −3505 0.5
a 17.
0 527 −48
3.0228 24.2156
n 16.7
528 429.6715
0.1903 a
6.6 ターゲット 529
達成可能な視野の非
常に大きなサイズは、特に図6及び表2や図10及び表
3のような大きなサイズは、主にステッパーとして知ら
れる光学的マイクロリソグラフィ技術の装置に使用する
ことができが、一層大きな視野を作るためのリング状視
野タイプ又はスロット状視野タイプのスキャナーに適用
されることを妨げない。この構成の非常に大きな視野は
サブ−ダイ(又はサブ−チップ)のスキャニングで、よ
り良好な整合及び焦点調整のために、視野の到る所を連
続的にモニターさせること可能とし、この構成の自然に
制限された焦点の深さを調整すること、更には集積回路
の超高分解能光学マイクロリソグラフィ技術のための過
酷なウェハー平坦度要件を手当てすることの1つの方法
としている。
【0058】ここにおいてビーム分割面上に設けられる
ところのコーティング、そのコーティングを製作する方
法、及び図1の該略図のビーム分割面12のためのコー
ティングを設計する技術、上述の参照用としてのRos
enbluthの特許出願、特にその実施例において見
ることができる。Rosenbluthのコーティング
は、ハフニア、マグネシウム、弗化物、アルミナ、シリ
コーンジオキサイドの複数層が含まれるが、これに限定
されることはない。次のものはRosenbluthの
教示であり、そして次のビーム分割用コーティングは表
2の実施例用である。
ところのコーティング、そのコーティングを製作する方
法、及び図1の該略図のビーム分割面12のためのコー
ティングを設計する技術、上述の参照用としてのRos
enbluthの特許出願、特にその実施例において見
ることができる。Rosenbluthのコーティング
は、ハフニア、マグネシウム、弗化物、アルミナ、シリ
コーンジオキサイドの複数層が含まれるが、これに限定
されることはない。次のものはRosenbluthの
教示であり、そして次のビーム分割用コーティングは表
2の実施例用である。
【0059】
1)アルミナ(Al2 O3 )
226 Å ± 14 Å2)マグネ
シウムフルオライド(MgF2 ) 432 Å
± 22 Å3)ハフニア(HfO2 )
204 Å ± 10
Å4)マグネシウムフルオライド(MgF2 )
462 Å ± 24 Å5)アルミナ(Al2
O3 ) 209
Å ± 12 Å6)ハフニア(HfO2 )
230 Å ±
10 Å 右の欄はオングストローム( )単位の
厚みを表す。 輻射線がマスク(入力側)から伝播すると、コーティン
グを通って第1(伝達)通路中の層#1に入射光しゃす
る。こうした複数層内で多重的に反射させられた後、こ
の副射線は層#6から抜け出してくる。第2(反射)通
路中において、輻射線は層#6上に入射する。反射の後
、ウェハーへ向かって伝播する。
226 Å ± 14 Å2)マグネ
シウムフルオライド(MgF2 ) 432 Å
± 22 Å3)ハフニア(HfO2 )
204 Å ± 10
Å4)マグネシウムフルオライド(MgF2 )
462 Å ± 24 Å5)アルミナ(Al2
O3 ) 209
Å ± 12 Å6)ハフニア(HfO2 )
230 Å ±
10 Å 右の欄はオングストローム( )単位の
厚みを表す。 輻射線がマスク(入力側)から伝播すると、コーティン
グを通って第1(伝達)通路中の層#1に入射光しゃす
る。こうした複数層内で多重的に反射させられた後、こ
の副射線は層#6から抜け出してくる。第2(反射)通
路中において、輻射線は層#6上に入射する。反射の後
、ウェハーへ向かって伝播する。
【0060】ここでの実施例はUV(紫外線)波長用で
あるが、図1の一般構成はこれに限定されることはない
。ここでの実施例のための構造的パラメータについての
変動は、好ましくは±20%、より好ましくは±10%
、最も好ましくは±5%である。
あるが、図1の一般構成はこれに限定されることはない
。ここでの実施例のための構造的パラメータについての
変動は、好ましくは±20%、より好ましくは±10%
、最も好ましくは±5%である。
【0061】要約すれば、本発明はN×の縮小用の反射
屈折リレーレンズの光学システムであり、全UV帯域幅
、特にUVエキシマーレーザの帯域幅に亙ってサブミク
ロンの分解能を有する。ミラー部において絞りを有する
球状ミラーは略々所望の縮小比で、且つ所望の高分解能
を提供するに十分な所望の高開口数で作動すべく使用さ
れる。適切なコーティングを有するビーム分割キューブ
は物体の利用し易い像を形成するに不可欠であり、この
物体はマスクを表し、その像の位置に置かれる基板をパ
ターン化するべく使用される。ミラーに入射するスロー
ビームの通路中と、ミラーから反射されたファーストビ
ームの通路中との屈折修正器はミラーによって形成され
た像の収差を整えるように設計されている。
屈折リレーレンズの光学システムであり、全UV帯域幅
、特にUVエキシマーレーザの帯域幅に亙ってサブミク
ロンの分解能を有する。ミラー部において絞りを有する
球状ミラーは略々所望の縮小比で、且つ所望の高分解能
を提供するに十分な所望の高開口数で作動すべく使用さ
れる。適切なコーティングを有するビーム分割キューブ
は物体の利用し易い像を形成するに不可欠であり、この
物体はマスクを表し、その像の位置に置かれる基板をパ
ターン化するべく使用される。ミラーに入射するスロー
ビームの通路中と、ミラーから反射されたファーストビ
ームの通路中との屈折修正器はミラーによって形成され
た像の収差を整えるように設計されている。
【0062】上述した実施例は発明の原理の単なる例示
であり、種々の他の変更や修正は、発明の原理を実施し
ようとする当業者によって工夫され得、そしてこの発明
の精神と範囲の内にある。
であり、種々の他の変更や修正は、発明の原理を実施し
ようとする当業者によって工夫され得、そしてこの発明
の精神と範囲の内にある。
【図1】本発明の光学システムの概略構成図である。
【図2】図1に概略的に示された5×の縮小用機構のた
めの装置の実施例の構成図である。
めの装置の実施例の構成図である。
【図3】図2の装置のための空間周波数の関数としての
変調伝達関数(MTF)の特性グラフである。
変調伝達関数(MTF)の特性グラフである。
【図4】図2の装置のための2,000サイクル/mm
の焦点媒介周波数での焦点媒介MTFの特性グラフであ
る。
の焦点媒介周波数での焦点媒介MTFの特性グラフであ
る。
【図5】図2の装置のための1,000サイクル/mm
の周波数での焦点媒介MTFの特性グラフである。
の周波数での焦点媒介MTFの特性グラフである。
【図6】全視野5×縮小機構のための図1に概略的に示
された装置の実施例の構成図である。
された装置の実施例の構成図である。
【図7】図6の装置のための空間周波数の関数としての
変調伝達関数(MTF)の特性グラフである。
変調伝達関数(MTF)の特性グラフである。
【図8】図6の装置のための1,500サイクル/mm
の周波数での焦点媒介MTFの特性グラフである。
の周波数での焦点媒介MTFの特性グラフである。
【図9】図6の装置のための2,000サイクル/mm
の周波数での焦点媒介MTFの特性グラフである。
の周波数での焦点媒介MTFの特性グラフである。
【図10】全視野4×縮小機構のための図1に概略的に
示された装置の実施例の構成図である。
示された装置の実施例の構成図である。
【図11】マンジン・ミラー(Mangin mir
ror)が組み入れられた全視野4×縮小機構のための
図1に概略的に示された装置の実施例の構成図である。
ror)が組み入れられた全視野4×縮小機構のための
図1に概略的に示された装置の実施例の構成図である。
【図12】マンジン・ミラー(Mangin mir
ror)が組み入れられた全視野4×縮小機構のための
図1に概略的に示された装置の実施例の構成図である。
ror)が組み入れられた全視野4×縮小機構のための
図1に概略的に示された装置の実施例の構成図である。
2 入力軸 4
出力軸6 物体
8 ターゲット(基板)10 放射線
12 平坦面14
ビーム 16 反
射面22 ビーム分割要素 24
入口面26 出口面
32 プリズム面50 ミラー
56,58,60,62,64 レ
ンズ 66,70,78,80 修正器
出力軸6 物体
8 ターゲット(基板)10 放射線
12 平坦面14
ビーム 16 反
射面22 ビーム分割要素 24
入口面26 出口面
32 プリズム面50 ミラー
56,58,60,62,64 レ
ンズ 66,70,78,80 修正器
Claims (20)
- 【請求項1】 光学システムであって、像を形成する
ための放射ビームを伝播可能な物質で形成され、少なく
とも一面が略々平坦である光学要素と、前記略々平坦な
面に設けられ、光学収差、歪曲及びアポタイゼーション
を生じることなく、ビームを前記平坦面から反射させた
り、該平坦面を透過させる複数の薄い塗膜と、前記略々
平坦な面から反射もしくは該平坦面を透過した前記ビー
ムが入射する凹状の反射面と、入力及び出力レンズ群と
から成り、該入力及び出力レンズ群が、同レンズ群で生
じたり、前記凹状の反射面からの反射によって生じる光
学収差等を修正する光学システム。 - 【請求項2】 前記入力レンズ群及び出力レンズ群は
高い開口数で広い視野の略々歪みがない像を形成すべく
、光学収差等を修正することから成る請求項1記載の光
学システム。 - 【請求項3】 前記入力及び出力レンズ群は前記凹状
反斜面の視野湾曲を修正する1つのレンズ組み合わせを
含み、当該入力及び出力レンズ群の各々は前記凹状反斜
面の球状収差を修正する1つのレンズ組み合わせを含む
ことから成る請求項1記載の光学システム。 - 【請求項4】 前記高い開口数は0.7以下であり、
前記歪みなし像は大きさにおいて0.25ミクロン以上
であることから成る請求項2記載の光学システム。 - 【請求項5】 前記光学システムはエキシマーレーザ
の全紫外線帯域幅に亙ってサブミクロンの分解能を有す
ることから成る請求項1記載の光学システム。 - 【請求項6】 前記帯域幅は約1ナノメータであるこ
とから成る請求項5記載の光学システム。 - 【請求項7】 前記薄い塗膜は前記略々平坦面に亙っ
て略々均一な厚みを有する物質から構成されているので
、当該略々平坦面から反射されたビーム中と当該略々平
坦面を透過させられたビーム中に、補償位相分布及び補
償振幅分布を提供しており、当該補償位相及び振幅分布
は実質的には前記略々平坦面とその上のコーティングの
収差及び歪みであることから成る請求項1記載の光学シ
ステム。 - 【請求項8】 前記輻射線像形成ビームの伝播を
維持できる物質から構成される第2の光学要素を更に備
え、当該第2光学要素は、前記第1光学要素の前記薄い
塗膜、即ち前記薄い塗膜が層状に設けられた前記第1光
学要素に対して当該薄膜層の反対側上に結着された少な
くとも1つの略々平坦な面を有することから成る請求項
1記載の光学システム。 - 【請求項9】 前記第1及び第2光学要素はプリズム
であり、前記平坦面は当該プリズムの面であり、当該第
1及び第2光学要素の組み合わせは1つのビーム分割構
造体を形成していることから成る請求項8記載の光学シ
ステム。 - 【請求項10】 前記薄い塗膜は、ハフニア、マグネ
シウム、アルミナ、二酸化珪素の少なくともの1つのグ
ループから選択されることから成る請求項1記載の光学
システム。 - 【請求項11】 紫外線帯域幅においてサブミクロン
の分解能を有する5×の縮小用反射屈折リレーレンズに
おいて、約416.2mmの曲率半径の第1面と、約−
352.6mmの曲率半径の第2面と、前記第2面及び
第1面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15.6mm
及び1.5であること、約216.4mmの曲率半径の
第3面と、前記第3面及び第2面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約0.1mm及び1であること、約−914
3mmの曲率半径の第4面と、前記第4面及び第3面の
間の間隔及び屈折率がそれぞれ約10mm及び1.5で
あること、約−165.1mmの曲率半径の第5面と、
前記第5面及び第4面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
約100mm及び1であること、約−141.8mmの
曲率半径の第6面と、前記第6面及び第5面の間の間隔
及び屈折率がそれぞれ約6mm及び1.5であること、
約−544.5mmの曲率半径の第7面と、前記第7面
及び第6面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約6.4m
m及び1であること、約276.6mmの曲率半径の第
8面と、前記第8面及び第7面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約9mm及び1.5であること、約−106.
2mmの曲率半径の第9面と、前記第9面及び第8面の
間の間隔及び屈折率がそれぞれ約159mm及び1であ
ること、約−221mmの曲率半径の第10面と、前記
第10面及び第9面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約
5mm及び1.5であること、約7177.5mmの曲
率半径の第11面と、前記第11面及び第10面の間の
間隔及び屈折率がそれぞれ約96mm及び1であること
、約−235.3mmの曲率半径の第12面と、前記第
12面間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び1
.5であること、約−253.3mmの曲率半径の第1
3面と、前記第13面及び第12面の間の間隔及び屈折
率がそれぞれ約3mm及び1であること、約−367.
3mmの曲率半径の第14面と、前記第14面及び第1
3面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び1
.5であること、約1.5の屈折率を有する領域を画成
している第15、第17及び第19の略々平坦面と、前
記15面及び第14面の間の間隔及び屈折率はそれぞれ
約18mm及び1であること、前記領域内の第16ビー
ム分割面と、約322mmの曲率半径の第18反射面と
、前記18面及び第17面の間の間隔及び屈折率はそれ
ぞれ約24mm及び1であること、約−267.8mm
の曲率半径の第20面と、約−313.7mmの曲率半
径の第21面と、前記第21面及び第20面の間の間隔
及び屈折率がそれぞれ約15mm及び1.5であること
、約80mmの曲率半径の第22面と、前記第22面及
び第21面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約1mm及
び1であること、約328.7mmの曲率半径の第23
面と、前記第23面及び第22面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約1.65mm及び1.5であること、約1
10.7mmの曲率半径の第24面と、前記第24面及
び第23面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約5.9m
m及び1であること、約56.9mmの曲率半径の第2
5面と、前記第25面及び第24面の間の間隔及び屈折
率がそれぞれ約18mm及び1.5であること、約65
.4mmの曲率半径の第26面と、前記第26面及び第
25面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約4.8mm及
び1であること、約−425.5mmの曲率半径の第2
7面と、前記第27面及び第26面の間の間隔及び屈折
率がそれぞれ約18mm及び1.5であること、約21
2.4mmの曲率半径の第28面と、前記第28面及び
第27面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約1.5mm
及び1であること、約−757mmの曲率半径の第29
面と、前記第29面及び第28面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約3mm及び1.5であること、から構成さ
れるリレーレンズ。 - 【請求項12】 前記第16ビーム分割面はその上に
複数の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反
射及び透過させられたビームであって、その反射及び透
過により、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々
解放されたビームを提供していることから成る請求項1
1記載のリレーレンズ。 - 【請求項13】 紫外線帯域幅においてサブミクロン
の分解能を有する5×の縮小用反射屈折リレーレンズに
おいて、約1792.5mmの曲率半径の第1面と、約
−866.1mmの曲率半径の第2面と、前記第2面及
び第1面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約19mm及
び1.5であること、約322.8mmの曲率半径の第
3面と、前記第3面及び第2面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約0.005mm及び1であること、約612
.9mmの曲率半径の第4面と、前記第4面及び第3面
の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約25mm及び1.5
であること、約−365.5mmの曲率半径の第5面と
、前記第5面及び第4面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
れ約95mm及び1であること、約272mmの曲率半
径の第6面と、前記第6面及び第5面の間の間隔及び屈
折率がそれぞれ約21mm及び1.5であること、約1
80.2mmの曲率半径の第7面と、前記第7面及び第
6面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約26.1mm及
び1であること、約162.6mmの曲率半径の第8面
と、前記第8面及び第7面の間の間隔及び屈折率がそれ
ぞれ約21mm及び1.5であること、約222.3m
mの曲率半径の第9面と、前記第9面及び第8面の間の
間隔及び屈折率がそれぞれ約26.8mm及び1である
こと、約−382.4mmの曲率半径の第10面と、前
記第10面及び第9面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
約35mm及び1.5であること、約628.9mmの
曲率半径の第11面と、前記第11面及び第10面の間
の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.003mm及び1で
あること、約176.5mmの曲率半径の第12面と、
前記第12面及び第11面の間の間隔及び屈折率がそれ
ぞれ約19mm及び1.5であること、約1180.5
mmの曲率半径の第13面と、前記第13面及び第12
面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約97.4mm及び
1であること、約−1466mmの曲率半径の第14面
と、前記第14面及び第13面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約19mm及び1.5であること、約165.
2mmの曲率半径の第15面と、前記第15面及び第1
4面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.5mm及び
1であること、約144.2mmの曲率半径の第16面
と、前記第16面及び第15面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約19.9mm及び1.5であること、約1.
5の屈折率を有する領域を画成している第17、第19
及び第23の略々平坦面と、前記17面及び第16面の
間の間隔及び屈折率はそれぞれ約87.6mm及び1で
あること、前記領域内の第18ビーム分割面と、第20
略々平坦面と、前記19面及び第20面の間の間隔はゼ
ロであること、約727.5mmの曲率半径の第21面
と、前記第21面及び第20面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約20.0mm及び1.5であること、約35
4.6mmの曲率半径の第22反射面と、前記第22面
及び第21面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約7.5
mm及び1であること、約60.1mmの曲率半径の第
24面と、前記第24面及び第23面の間の間隔及び屈
折率がそれぞれ約1mm及び1であること、約112.
5mmの曲率半径の第25面と、前記第25面及び第2
4面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約9.6mm及び
1.5であること、約59.8mmの曲率半径の第26
面と、前記第26面及び第25面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約0.1mm及び1であること、約47.7
mmの曲率半径の第27面と、前記第27面及び第26
面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約4.1mm及び1
.5であること、約102.5mmの曲率半径の第28
面と、前記第28面及び第27面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約5.6mm及び1であること、約−602
.4mmの曲率半径の第29面と、前記第29面及び第
28面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約7.5mm及
び1.5であること、約−388.7mmの曲率半径の
第30面と、前記第30面及び第29面の間の間隔及び
屈折率がそれぞれ約1mm及び1であること、約−57
8.1mmの曲率半径の第31面と、前記第31面及び
第30面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約19.6m
m及び1.5であること、から構成されるリレーレンズ
。 - 【請求項14】 前記第18ビーム分割面はその上に
複数の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反
射及び透過させられたビームであって、その反射及び透
過により、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々
解放されたビームを提供していることから成る請求項2
1記載のリレーレンズ。 - 【請求項15】 紫外線帯域幅においてサブミクロン
の分解能を有する4×の縮小用反射屈折リレーレンズに
おいて、約370.3mmの曲率半径の第1面と、約−
196.6mmの曲率半径の第2面と、前記第2面及び
第1面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約30mm及び
1.5であること、約−196.0mmの曲率半径の第
3面と、前記第3面及び第2面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約2mm及び1であること、約−111.9m
mの曲率半径の第5面と、前記第5面及び第4面の間の
間隔及び屈折率がそれぞれ約104mm及び1であるこ
と、約−101mmの曲率半径の第6面と、前記第6面
及び第5面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約21mm
及び1.5であること、約−97.6mmの曲率半径の
第7面と、前記第7面及び第6面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約7.5mm及び1であること、約189.
2mmの曲率半径の第8面と、前記第8面及び第7面の
間の間隔及び屈折率がそれぞれ約21mm及び1.5で
あること、約650mmの曲率半径の第9面と、前記第
9面及び第8面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約2m
m及び1であること、約160mmの曲率半径の第10
面と、前記第10面及び第9面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約34mm及び1.5であること、約3078
mmの曲率半径の第11面と、前記第11面及び第10
面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約104mm及び1
であること、約−455mmの曲率半径の第12面と、
前記第12面及び第11面の間の間隔及び屈折率がそれ
ぞれ約28mm及び1.5であること、約−238.4
mmの曲率半径の第13面と、前記第13面及び第12
面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約12mm及び1で
あること、約−407.1mmの曲率半径の第14面と
、前記第14面及び第13面の間の間隔及び屈折率がそ
れぞれ約19mm及び1.4であること、約204.3
mmの曲率半径の第15面と、前記第15面及び第14
面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約2mm及び1であ
ること、約170.3mmの曲率半径の第16面と、前
記第16面及び第15面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
れ約18mm及び1.5であること、約1.5の屈折率
を有する領域を画成している第17、第19及び第23
の略々平坦面と、前記17面及び第16面の間の間隔及
び屈折率はそれぞれ約53mm及び1であること、前記
領域内の第18ビーム分割面と、第20略々平坦面と、
前記19面及び第20面の間の間隔はゼロであること、
約825.1mmの曲率半径の第21面と、前記第21
面及び第20面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約20
mm及び1.5であること、約383.2mmの曲率半
径の第22反射面と、前記第22面及び第21面の間の
間隔及び屈折率がそれぞれ約7.5mm及び1であるこ
と、約56.5mmの曲率半径の第24面と、前記第2
4面及び第23面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約1
mm及び1であること、約387.2mmの曲率半径の
第25面と、前記第25面及び第24面の間の間隔及び
屈折率がそれぞれ約12mm及び1.5であること、約
−229.1mmの曲率半径の第26面と、前記第26
面及び第25面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.
25mm及び1であること、約44.8mmの曲率半径
の第27面と、前記第27面及び第26面の間の間隔及
び屈折率がそれぞれ約5mm及び1.5であること、約
46.1mmの曲率半径の第28面と、前記第28面及
び第27面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約6.2m
m及び1であること、約52.2mmの曲率半径の第2
9面と、前記第29面及び第28面の間の間隔及び屈折
率がそれぞれ約7.5mm及び1.5であること、約6
4.2mmの曲率半径の第30面と、前記第30面及び
第29面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約2mm及び
1であること、約527mmの曲率半径の第31面と、
前記第31面及び第30面の間の間隔及び屈折率がそれ
ぞれ約19.6mm及び1.5であること、から構成さ
れるリレーレンズ。 - 【請求項16】 前記第18ビーム分割面はその上に
複数の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反
射及び透過させられたビームであって、その反射及び透
過により、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々
解放されたビームを提供していることから成る請求項1
5記載のリレーレンズ。 - 【請求項17】 紫外線帯域幅においてサブミクロン
の分解能を有する4×の縮小用反射屈折リレーレンズに
おいて、約90.5mmの曲率半径の第1面と、約14
2.9mmの曲率半径の第2面と、前記第2面及び第1
面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び1.
5であること、約182.2mmの曲率半径の第3面と
、前記第3面及び第2面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
れ約1.5mm及び1であること、約−299.1mm
の曲率半径の第4面と、前記第4面及び第3面の間の間
隔及び屈折率がそれぞれ約26mm及び1.5であるこ
と、約−86.4mmの曲率半径の第5面と、前記第5
面及び第4面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約9.7
mm及び1であること、約−85.5mmの曲率半径の
第6面と、前記第6面及び第5面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約20.8mm及び1.5であること、約−
241.1mmの曲率半径の第7面と、前記第7面及び
第6面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約21.5mm
及び1であること、約−279.9mmの曲率半径の第
8面と、前記第8面及び第7面の間の間隔及び屈折率が
それぞれ約9.5mm及び1.5であること、約−65
.8mmの曲率半径の第9面と、前記第9面及び第8面
の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約11.3mm及び1
であること、約−122.0mmの曲率半径の第10面
と、前記第10面及び第9面の間の間隔及び屈折率がそ
れぞれ約9.5mm及び1.5であること、約−467
.3mmの曲率半径の第11面と、前記第11面及び第
10面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び
1であること、約−421.7mmの曲率半径の第12
面と、前記第12面間の間隔及び屈折率がそれぞれ約1
5mm及び1.5であること、約92.35mmの曲率
半径の第13面と、前記第13面及び第12面の間の間
隔及び屈折率がそれぞれ約3mm及び1であること、約
64mmの曲率半径の第14面と、前記第14面及び第
13面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び
1.5であること、約1.5の屈折率を有する領域を画
成している第15、第17及び第20の略々平坦面と、
前記第15面及び第14面の間の間隔及び屈折率がそれ
ぞれ約15mm及び1であること、前記領域内の第16
ビーム分割面と、約199.4mmの曲率半径を有する
第18反射面と、前記18面及び第17面の間の間隔及
び屈折率はそれぞれ約5mm及び1であること、約−1
61.8844mmの曲率半径を有する第19反射面と
、前記19面及び第18面の間の間隔及び屈折率がそれ
ぞれ約10mm及び1.5であること、約57.604
1mmの曲率半径の第21面と、前記第21面及び第2
0面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.9mm及び
1であること、約920mmの曲率半径の第22面と、
前記第22面及び第21面の間の間隔及び屈折率がそれ
ぞれ約9.5mm及び1.5であること、98.133
mmの曲率半径の第23面と、前記第23面及び第22
面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.4mm及び1
であること、約316.5883mmの曲率半径の第2
4面と、前記第24面及び第23面の間の間隔及び屈折
率がそれぞれ約11.3mm及び1.5であること、約
92.5216mmの曲率半径の第25面と、前記第2
5面及び第24面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約2
mm及び1であること、約−502.4mmの曲率半径
の第26面と、前記第26面及び第25面の間の間隔及
び屈折率がそれぞれ約5.9mm及び1.5であること
、約−275mmの曲率半径の第27面と、前記第27
面及び第26面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.
5mm及び1であること、約768.7mmの曲率半径
の第28面と、前記28面及び第27面の間の間隔及び
屈折率がそれぞれ約22mm及び1.5であること、か
ら構成されるリレーレンズ。 - 【請求項18】 前記第16ビーム分割面はその上に
複数の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反
射及び透過させられたビームであって、その反射及び透
過により、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々
解放されたビームを提供していることから成る請求項1
7記載のリレーレンズ。 - 【請求項19】 紫外線帯域幅においてサブミクロン
の分解能を有する4×の縮小用反射屈折リレーレンズに
おいて、約123.4mmの曲率半径の第1面と、約4
08mmの曲率半径の第2面と、前記第2面及び第1面
の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び1.5
であること、約247.9mmの曲率半径の第3面と、
前記第3面及び第2面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
約0.5mm及び1であること、約−301.6mmの
曲率半径の第4面と、前記第4面及び第3面の間の間隔
及び屈折率がそれぞれ約26mm及び1.5であること
、約−77.2mmの曲率半径の第5面と、前記第5面
及び第4面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約10mm
及び1であること、約−73mmの曲率半径の第6面と
、前記第6面及び第5面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
れ約21mm及び1.5であること、約114.7mm
の曲率半径の第7面と、前記第7面及び第6面の間の間
隔及び屈折率がそれぞれ約6.8mm及び1であること
、約89.4mmの曲率半径の第8面と、前記第8面及
び第7面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約9.5mm
及び1.5であること、約−60.3mmの曲率半径の
第9面と、前記第9面及び第8面の間の間隔及び屈折率
がそれぞれ約11.5mm及び1であること、約−86
.8mmの曲率半径の第10面と、前記第10面及び第
9面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約9.5mm及び
1.5であること、約234.3mmの曲率半径の第1
1面と、前記第11面及び第10面の間の間隔及び屈折
率がそれぞれ約41.3mm及び1であること、約19
4.6mmの曲率半径の第12面と、前記第12面間の
間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び1.5である
こと、約79.5mmの曲率半径の第13面と、前記第
13面及び第12面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約
3mm及び1であること、約61.3mmの曲率半径の
第14面と、前記第14面及び第13面の間の間隔及び
屈折率がそれぞれ約15mm及び1.5であること、約
1.5の屈折率を有する領域を画成している第15、第
17及び第20の略々平坦面と、前記第15面及び第1
4面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約15mm及び1
であること、前記領域内の第16ビーム分割面と、約−
179.4mmの曲率半径の第18面と、前記第18面
及び第17面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約5mm
及び1であること、約−158.6mmの曲率半径の第
19反射面と、前記第19面及び第18面の間の間隔及
び屈折率がそれぞれ約10mm及び1.0であること、
約52.4mmの曲率半径の第21面と、前記第21面
及び第20面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.9
mm及び1であること、約921.1mmの曲率半径の
第22面と、前記第22面及び第21面の間の間隔及び
屈折率がそれぞれ約9.5mm及び1.5であること、
約85.2mmの半径を有する第23面と、前記第23
面及び第22面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約0.
4mm及び1であること、約357.9mmの曲率半径
の第24面と、前記第24面及び第23面の間の間隔及
び屈折率がそれぞれ約8.4mm及び1.5であること
、約87.1mmの曲率半径の第25面と、前記第25
面及び第24面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約2.
0mm及び1であること、約−3505mmの曲率半径
の第26面と、前記第26面及び第25面の間の間隔及
び屈折率がそれぞれ約2.9mm及び1.5であること
、約−483.0mmの曲率半径の第27面と、前記第
27面及び第26面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ約
0.5mm及び1であること、約429.7mmの曲率
半径の第28面と、前記第28面及び第27面の間の間
隔及び屈折率がそれぞれ約24.2mm及び15である
こと、から構成されるリレーレンズ。 - 【請求項20】 前記第16ビーム分割面はその上に
複数の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反
射及び透過させられたビームであって、その反射及び透
過により、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々
解放されたビームを提供していることから成る請求項1
9記載のリレーレンズ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US07/551,116 US5089913A (en) | 1990-07-11 | 1990-07-11 | High resolution reduction catadioptric relay lens |
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JPH04235516A true JPH04235516A (ja) | 1992-08-24 |
JP2501254B2 JP2501254B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=24199934
Family Applications (1)
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JP3138835A Expired - Lifetime JP2501254B2 (ja) | 1990-07-11 | 1991-06-11 | リレ―レンズ |
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Country | Link |
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US (1) | US5089913A (ja) |
EP (1) | EP0465882A3 (ja) |
JP (1) | JP2501254B2 (ja) |
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