JP2501254B2 - リレ―レンズ - Google Patents

リレ―レンズ

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JP2501254B2
JP2501254B2 JP3138835A JP13883591A JP2501254B2 JP 2501254 B2 JP2501254 B2 JP 2501254B2 JP 3138835 A JP3138835 A JP 3138835A JP 13883591 A JP13883591 A JP 13883591A JP 2501254 B2 JP2501254 B2 JP 2501254B2
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】（関連出願の引照）Ａ． Ｅ． Ｒｏｓｅ
ｎｂｌｕｔｈによる「像形成レンズ機構に使用される薄
膜ビーム分割光学要素（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｂｅａｍ
Ｓｐｌｉｔｔｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｌｅｍｅｎｔ
Ｆｏｒ Ｕｓｅ ＩｎＡｎ Ｉｍａｇｅ−Ｆｏｒｍｉ
ｎｇ Ｌｅｎｓ Ｓｙｓｔｅｍ）」と題された米国特願
第０７／１８５，１８７号（１９８８年４月２２日出
願）にはビーム分割光学要素が記載されており、これは
三角形状基板としてのプリズムを含み、このプリズムは
該プリズムの斜面に対応する平面を有し、該平面には各
光ビームを反射部分と透過部分とに分割できる物質で厚
みを有する薄膜構造のコーティングがなされているため
に、該ビームはその薄膜構造中での多重の反射の結果と
して正味の収差を受けることがなく、更にはこのビーム
分割光学要素は第２の三角形状基板としてのプリズムを
含み、前記第１のプリズムの斜辺に設けられた薄膜構造
に光学的に結着された斜辺としての平面を有する。
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は反射屈折リレーレンズに
関し、特にビーム分割面と湾曲反射面とを備える高分解
能縮小用の反射屈折リレーレンズであり、更には紫外線
波長域でサブミクロン単位の分解能を有する４×及び５
×の縮小用反射屈折リレーレンズに関する。
【０００３】
【従来の技術】マイクロエレクトロニクス部品（電子部
品）、例えば、半導体チップや半導体チップ実装基板の
製造において、機能の増大は、一般に、チップ上の電子
装置の像サイズの縮小や、半導体チップ及び半導体チッ
プ実装基板の配線平面における電気的導体の幅及び間隔
等の縮小によって達成されている。像サイズ及び間隔の
縮小化はより高い分解能像を投影する改善された光学シ
ステムによって達成することができる。
【０００４】一般に、電子部品製造のための光学システ
ムは、その入力部を介して予め選択された周波数の光を
通過させている当該光学システムの入力部に、パターン
を有するマスクを設けている。この光学システムは典型
的には、レンズ部品を有し、該レンズは電子部品の表面
上に縮小像として投影されるマスク・パターンのサイズ
を縮小することになる。マスクのパターンの幅や間隔を
縮小するために縮小機構が使用されている。こうした像
は、一般に、前記電子部品表面上のレジスト材上に投影
される。レジスト材上に投影された光はそこにおいて化
学変化を生じさせて、そのレジストの露光領域を未露光
領域に対して、可溶性にするか不溶性にする。可溶性領
域は溶剤に曝されることによって除去され、縮小サイズ
のマスクのポジティブ像或はネガティブ像としてのパタ
ーンを残すことになる。
【０００５】前記縮小機構はこうしたマスク上のパター
ンのサイズを縮小したり、その構造における欠陥を縮小
している。縮小マスク像を作り出すために光学システム
を使用すると、こうした機構の光学部品に内在する収差
と称する歪みを導入することになる。
【０００６】ステッパー（Ｓｔｅｐｐｅｒ）として知ら
れる装置に用いられる先行技術に係る縮小機構では一連
のレンズ群を使用して、マスク像を縮小したり、光学シ
ステムにおいて一般に知られている種々の収差を修正し
ている。然しながら本出願人は、光学システムの縮小能
力の卓越した部分を提供するために湾曲ミラーを使用す
ることによって、その内在する複数の収差がより効率的
に且つより少ない光学部品で修正され得ることを発見し
た。
【０００７】より好ましい湾曲面は凹球状ミラーであ
る。マスク像を縮小するためにレンズの代わりに球状ミ
ラーを用いることで生じるの問題は、マスクの投影像が
そのミラーからマスクへ向かって反射されることであ
る。このような像は容易に使用することができないの
は、その像が投影されることになる基板はその球面上に
入射する光ビームの通路内に置かなければならないから
である。これは有効像のミラーの全幅又は全視野を使用
して形成することを実効的に妨げることになる。よっ
て、このような機構では、一般的に、複数の反射面を使
用して、ミラーの視野を分割又はスプリットして、物体
が焦点合わせ（ピント合わせ）させられるための視野と
物体の像のピントが合わせられる基板のための視野とに
している。このような機構においては、物体及び像だけ
で焦点合わせ（ピント合わせ）用ミラーの全視野の１／
２を占めることができるので、物体が結像されることに
なる基板のサイズ又は大きさが制約を受けることなる。
この焦点合わせミラーの視野は、ミラーが光学システム
の残りと共に適正に像を形成することになる物体又は像
の視野の領域である。
【０００８】本出願人は、適切なビーム分割面を使用す
ることによって、出力ビームが入力ビームから遠ざかる
ように指向され得て、その出力ビームが１つの基板上に
像を投影すべく使用され得ることを発見した。
【０００９】ビーム分割面に関して透過及び反射を経た
ビームは、そのビーム分割面を透過するか又は反射する
ことの結果として、歪み、収差及びアポダイゼーション
から略々解放されるはずである。本発明の光学システム
に適切なビーム分割面は、Ａ．Ｅ． Ｒｏｓｅｎｂｌｕ
ｔｈによる「像形成レンズ機構に使用される薄膜ビーム
分割光学要素（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｂｅａｍ Ｓｐｌ
ｉｔｔｅｒ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｌｅｍｅｎｔ Ｆｏｒ
Ｕｓｅ Ｉｎ Ａｎ Ｉｍａｇｅ−Ｆｏｒｍｉｎｇ
Ｌｅｎｓ Ｓｙｓｔｅｍ）」と題された米国特願第０７
／１８５，１８７号（１９８８年４月２２日出願）に記
載されており、その教示はここにおいて参照用として組
み入れられている。
【００１０】Ｍｉｎｏｔｔの米国特許第４，４４４，４
６４号には、２つの対称的に整合させられた軸逸脱型の
シュミット光学対物レンズを有する反射屈折型光学シス
テムが記載されている。入射光はその入射光の軸を逸脱
した２つの一次球状ミラーから反射することになる。各
ミラーからの光は光を複数のスペクトル帯に分割又は分
離するビームスプリッタから反射させられることにな
る。
【００１１】米国特許第４，６９４，１５１号には、ミ
ラーなしのオートフォーカス機構が記載されており、レ
ンズ機構の前方レンズ群と後方レンズ群との間に挿入さ
れた半ミラープリズムとこれと組み合わされて光を検出
することができるセンサとを備える。
【００１２】米国特許第４，３１１，３６６号には、複
写カメラ用である湾曲ミラーなしの像焦点合わせ機構が
記載されており、入力ビームを折り畳む平坦ミラー又は
プリズム又はルーフプリズムを有する。入出力ビームは
レンズ組み合わせを通過して焦点及び収差の修正がなさ
れる。
【００１３】米国特許第４，２６５，５２９号には、カ
メラ用のファイダーが記載されており、入力レンズ、平
坦反射ミラー、ルーフ型五角形ミラー、及び接眼レンズ
を備えている。
【００１４】米国特許第３，５３６，３８０号には、半
導体チップのフォトリソグラフィ技術適用方面用の４×
の反射屈折型投影機構が記載されている。光はレンズを
介して指向され、マスクを通って半銀めっきミラーに向
かい、そこをからレンズを介して凹状ミラーに反射し、
そこからターゲット基板上に反射することになる。
【００１５】米国特許第４，３８７，９６９号には、対
物レンズ群と光を直角に偏向しレンズを通してフィルム
上に像を結ばせるビーム分割プリズムとを有する光学シ
ステムが記載されている。
【００１６】米国特許第２，１６６，１０２号には、対
物レンズを有する望遠鏡が記載されており、プリズム又
は平坦ミラーを用いて光を凹状ミラー方向へ反射させて
いる。
【００１７】米国特許第３，００１，４４８号には、浅
いドームによって生じる非点収差を回転プリズムを用い
ることによる正の無非点収差を導入することによって修
正するビーム分割器を使用した機構が記載されている。
【００１８】米国特許第４，７４２，３７６号には、Ｄ
ｙｓｏｎ−Ｗｙｎｎｅの反射屈折型投影機構を用いてい
るステップ及びリピート型機構が記載されている。
【００１９】米国特許第４，７４３，１０３号には、プ
リンターレンズにおいて必要とされる反転を実行するこ
となく、像を９０°回転させる写真プリンター用のレン
ズ機構が記載されている。
【００２０】本発明の目的は、大きな基板エリア上にサ
ブミクロン大の幾何学模様を忠実に再生することになる
拡張された視野を有する光学的投影機構を提供すること
である。
【００２１】本発明の他の目的は、紫外線の帯域幅、最
も好ましくはエキシマーレーザの帯域幅に亙って回折制
限された能力を有する、実質的に遠中心的な縮小用反射
屈折型リレーレンズを提供することである。
【００２２】本発明の他の目的は、許容可能で有用な像
を形成するためにビーム分割技術を採用する結果として
光学システムの正味の透過率を犠牲にすることによっ
て、超小型電子工学的な集積回路用として、非常に高感
度な深紫外線レジストと光学的なマイクロリソグラフィ
技術のための非常に強烈なエキシマーレーザビームとを
利用することである。
【００２３】本発明の更なる目的は、光学的なマイクロ
リソグラフィ技術の限界をクォータミクロン程度の分解
能にまで拡張することであり、これは高い開口数に加え
てマスクの部分的なコヒーレント照射を伴わせて採用す
ることによって達成されており、開口数０．６で収差無
しの焦点合わせさせられたレンズの場合の非コヒーレン
ト照射の４８％の限界を越えて高められたコントラスト
の結果によって像の記録能力を改善することになる。
【００２４】上記及びその他の目的、特徴、及び長所
は、以下の好適実施例のより特殊な説明や添付図によっ
て明白となるであろう。
【００２５】
【課題を解決するための手段】最も広い意味において、
本発明は反射屈折リレーレンズ機構に関連する。本発明
のより特殊な局面として、このレンズ機構は縮小機構で
あることである。
【００２６】本発明の他のより特殊な局面としては、輻
射線から成る像形成ビームの伝播を維持することができ
る物質から形成された光学要素を含む光学システムにあ
る。この光学要素は少なくとも１つの略々平坦面を有す
る。複数の薄い塗膜がこの略々平坦面上に設けられてお
り、該面から反射又は該面を透過して、該面に関する反
射及び透過により収差、歪み及びアポダイゼーションが
ないビームを提供している。この機構は更に凹状反射面
を備え、前記略々平坦面に関して反射されるか透過され
たビームを受けている。また、この機構は入力及び出力
レンズ群を備え、前記凹状反射面での反射から生じる収
差を略々修正している。
【００２７】本発明の他のより特殊な局面において、入
力ビームは前記略々平坦面で反射され凹状反射面に向か
い、そこから反射されて前記略々平坦面を通過して前記
出力側でターゲット上に結像される。
【００２８】本発明の他のより特殊な局面において、前
記入力ビームは略々平坦面を通過して凹状反射面上に向
かい、そこで略々平坦面に向かって反射され、そしてそ
こで入力ビームの軸を逸れて反射されて出力側でターゲ
ット上に結像される。
【００２９】本発明の他のより特殊な局面において、前
記光学システムはＮ×の縮小機構であり、Ｎは１よりも
大きい。
【００３０】本発明の他のより特殊な局面において、前
記光学システムはマスク投影機構であり、該マスクの所
定パターンをターゲット基板上に投影縮小している。
【００３１】本発明の他のより特殊な局面において、光
学システムは紫外線の全帯域幅、特にエキシマーレーザ
の紫外線帯域幅に亙ってサブミクロンの分解能を有す
る。
【００３２】本発明の他のより特殊な局面において、前
記複数の薄い塗膜は前記略々平坦面に亙って略々均一な
厚みを有する物質から構成されており、略々平坦面から
反射されたビーム中と略々平坦面を透過したビーム中に
おける位相分布の自己補償と振幅分布の自己補償とをな
すことになり、その結果としての反射ビーム及び透過ビ
ームの位相分布及び振幅分布はそれで歪み、収差及びア
ポダイゼーションから略々解放されることになる。
【００３３】こうした事柄、他の目的、特徴及び長所は
次の好適実施例のより詳細な説明及び添付図面から明ら
かになるであろう。
【００３４】
【実施例】図１は本発明に係る光学システムの概略図で
ある。
【００３５】図１の装置は相互には線形的ではない入力
軸２及び出力軸４を有しており、この好適実施例では両
軸２及び４は直交している。輻射線は入力軸２に沿って
ターゲット８に結像されることになる物体６に指向させ
られている。輻射線は好ましくは紫外線光であり、最も
好ましいくは２４８ｎｍの波長で作動するＫｒＦエキシ
マーレーザ出力である。本発明の好適実施例において、
結像される物体６は入力軸２に沿っての輻射線の入射に
対して透明な領域と不透明で且つ予め決定されたパター
ン状となった領域とを有する。物体６を通過した輻射線
１０は略々平坦な面１２上に入射することになり、この
平坦面１２はその入射光を部分的に透過させると共に、
その入射光をこの光学システムの開口絞り（アパーチ
ャ）となる凹状反射面１６に向けて１４で示すように部
分的に反射する。ビーム１４は面１６で出力軸４に沿う
輻射線１８として反射してターゲット８上にピントが合
わされることなる。この好適実施例のターゲット８は電
子部品、例えばレジスト材がその上に設けられた半導体
チップ或は半導体チップ実装基板である。マスク６の像
はターゲット８のレジスト材上にピントが合わされてこ
のレジスト材中に露出パターン又は露光パターンを形成
する。このレジスト材がポジティブレジストかネガティ
ブレジストかに依存して、露光領域が未露光領域に対し
て溶解性になるか不溶解性になる。この好適実施例での
露光領域又はマスクの像はミクロン以下の分解能、好ま
しくは半ミクロン以下の範囲内、最も好ましくは０．２
５ミクロン程度内の分解能を有する。このような微細分
解能を投影像中において達成するために、面１２から反
射されたビーム１４中並びに面１２を透過したビーム１
８中に導入された歪み、収差、アポダイゼーションを実
質的に削除しなければないらない。これは面１２上に設
けられた薄い塗膜２０を用いることによって可能であ
る。薄い塗膜が設けられた面が本発明を実施するに有効
であることは、Ｒｏｓｅｎｂｌｕｔｈの米国特願第０７
／１８５，１８７号に記載されており、その教示内容を
ここで参照用として取り入れる。Ｒｏｓｅｎｂｌｕｔｈ
が提供する薄膜構造は、入射ビームをその薄膜構造から
反射されるビームと透過されるビームに分割して、像視
野に収差、アポダイゼーション又は照度不均一性を導入
することがない。この好適実施例におけるビームスプリ
ッタ面１２はビーム分割キューブ２２内に含まれて、入
力軸２はキューブ２２の面２４に略々直交し且つ出力軸
４はキューブ２２の面２６に略々直交することになる。
実際的適用には、２４８ｎｍ又はそれ以下の短い波長で
作動するリソグラフィ技術レンズが必要である。しか
し、３００ｎｍ以下の波長で、唯一の要素が通常透明レ
ンズであるリソグラフィ技術的な結像機構を設計するこ
は材料面の制約が起因してより困難になる。
【００３６】ビーム分割光学要素２２はプリズム２６を
含んでおり、その斜辺面３０には通常の方法によって薄
膜構造がコーティングされており、その薄膜構造は上記
に参照用として挙げたＲｏｓｅｎｂｌｕｔｈの米国出願
に開示されている手段によって決定された厚みの材料を
有しており、これは１０で示すような各光ビームの所望
の分割、即ち反射部分１４及び透過部分１８と云う所望
の分割に影響して、ビームはその薄膜構造中における多
重反射の結果として正味の収差を被ることがない。第２
の基板、即ちプリズム２８の斜辺に対応する面３２はプ
リズム２６の斜辺上に設けられた薄膜構造に通常の手段
を介して結着されて、ビーム分割光学要素２２を形成し
ている。
【００３７】殆どの分割膜は、薄膜の光学的特性である
固有の角度的な依存性によって、１０で示すようなビー
ムの角度的な分散に接触して相当な変動を導入すること
になる。この角度的な依存性は膜がビームの中心軸２に
対して回転された際に最も顕著である。ビーム１０は物
体６からプリズム面３２に投影される。そして、ビーム
１０の反射部分はミラー面１６に伝播される。この通路
で反射されたビームの小部分は第１通路ビーム分割能力
と称される。
【００３８】焦点合わせさせられた後、ビーム１０はま
たプリズム面３２上の薄い塗膜で第２の通路に入射す
る。そして、この第２通路中を伝達される入射ビーム１
０の部分は基板８上の像３４としてピントが合わせられ
る。この通路の能力は透過部分と同等である。基板８
は、先行技術の装置における反射ミラー系の視野の半分
と云うよりも、反射面１６の視野を全体占める程に十分
に大きい。
【００３９】ビーム分割面を形成している薄膜構造２０
は入力軸２からの入射ビーム１０を出力軸４に沿って逸
らすように傾斜させなければならない。然しながら、ビ
ーム分割要素２２の入口面２４又は出口面２６における
如何なる傾斜も結像ビーム中に収差を導入することにな
る。こうして、この好適実施例においては、面２４と面
２６とは結像される物体６とその像が投影される基板８
とにそれぞれ平行しているので、このビーム分割要素２
２は、この好適実施例では、１つの立方体形状としての
統一構造を形成している。
【００４０】図１に概略的に示された装置の入力側は物
体平面から湾曲反射面１６である。一方、この装置の出
力側は、上記面１６から像平面８である。図１の長方形
７は光学要素、即ち複数レンズ等を表しており、入力側
のどこにでも配置してよく、長方形９も光学要素を表し
ており、出力側のどこにでも配置してよい。７及び９で
表される此等光学要素は他の光学要素、湾曲面１６及び
ビーム分割要素２２によって導入された収差の修正をな
す。
【００４１】図２は５Ｘの光学的縮小用の反射屈折リレ
ーレンズの光学系の特殊な実施例を示し、エキシマーレ
ーザの全紫外線帯域幅に亙ってミクロン以下（サブミク
ロン）の分解能（解像能）を有している。ミラー部にお
いて絞りを有する球状一次ミラーは略々所望の縮小率と
略々所望の高分解能を提供するに十分な高開口数とで作
動すべく使用されている。適切なコーティングを有する
溶融シリカから成るビーム分割キューブはマスクを表す
物体の使用し易い像を形成しており、像面に配置される
ウェハーにパターンを形成することになる。ミラーへの
スロー（低速）入射ビームの通路中とミラーからのファ
ースト（高速）反射ビームの通路中との屈折修正器はミ
ラーによって形成される像の収差を整えるように設計さ
れている。
【００４２】凹球状ミラー５０は５×の所望の縮小率を
実質的に与える共役部に使用され、物体平面５２及び像
平面５４の付近に置かされる分離した屈折修正器によっ
て提供される視野平坦化を伴う。レンズ５６，５８，６
０，６２及び６４はミラー５０の長い共役部側６８にお
ける空間屈折グループ６６を形成している。空間屈折グ
ループ６６はミラー５０の短い共役部側７２のコンパク
トな組み合わせ視野修正器グループ７０によって補足さ
れる。視野修正器グループ７０はレンズ７４及び７６か
ら構成されている。入力軸における組み合わせレンズ群
６６と出力軸における組み合わせレンズ群７０はミラー
５０の視野湾曲又はまがりを修正する。ミラー５０にお
ける反射で生じる球面収差は入力軸６８及び出力軸７２
における相互に分離した複合修正器７８及び８０によっ
て修正されている。修正器７８はレンズ８２及び８４か
ら構成されている。修正器８０はレンズ８６及び８８か
ら構成されている。
【００４３】絞りとしても用いられているミラー５０に
関しての入力軸６８側の修正器６６，７８と出力軸７２
側の修正器７０，８０の略々対称的配置はこの光学シス
テムにおいて優れたコマ修正をなしている。この光学シ
ステムはビーム分割キューブを伴って設計されており、
このビーム分割キューブはその通路内において光の像形
成ビームにミラーへ入射するビームを解放すること許容
しており、これによってビーム分割キューブのガラス中
の光路に２つの通過使用を要求している。この構成なく
しては、シリコンウェハー上への不均一な露光線量に至
ることになる視野に伴う障害物の大きさの変化を主に考
慮した場合、マイクロリソグラフィ技術において使用さ
れることが推奨されない瞳中における障害物が常に現れ
ることになる。
【００４４】図２の構成は約０．６の高い開口数を有す
る。これはクォータミクロンの分解能に至る高解像能を
可能にしている。しかし、物体５２が覆う視野はビーム
分割キューブ９０とビーム分割面９２上の薄層コーティ
ングとが首尾よく製作され得る規模に依存している。
【００４５】表１は図２の実施例の好適な構造的パラメ
ータを列挙しており、この実施例は５Ｘの反射屈折リレ
ーレンズ用であり、出力側での０．６の開口数と１平方
センチメートルの面積をカバーするに十分な１４．４ミ
リメートル径の像側５２の円形視界とを有する。表１は
図２に示される各種の面、即ち各面の曲率半径をミリメ
ートル単位で列挙している。此等の面間での１つの面か
ら次の面までの厚さ又は隔たり（間隔）と屈折率を表
し、例えば面１００と面１０１の間の間隔は２．６９３
６ｍｍ（ミリメートル）であり、面１０１と面１０２の
屈折率は１．５０８８０７である。表１は各屈折面の径
の２分の１を列挙している。
【００４６】 表１ 面 曲率半径 厚さ（間隔） 屈折率 面の1/2径 （mm） （mm） （mm） n = 1.5085507 a = 1.0 マスク １００ 2.6936 ａ 36.0 １０１ 416.1907 15.6 ｎ 36.8 １０２ -352.6095 0.1 ａ 37.9 １０３ 216.3507 9.9996 ｎ 38.4 １０４ -9143 100 ａ 38.4 １０５ 165.0775 6.0 ｎ 37.5 １０６ -141.8095 6.4339 ａ 37.8 １０７ -544.5087 9.0 ｎ 37.5 １０８ 276.6342 158.9991 ａ 37.5 １０９ -106.1731 5.0 ｎ 48.2 １１０ -221.0308 95.9982 ａ 50.5 １１１ 7177.482 15.0 ｎ 71.4 １１２ -235.2796 3.0 ａ 71.9 １１３ -253.3041 15.0 ｎ 72.0 １１４ -367.2 18.0 ａ 74.0 キューブ面 １１５ 75.0 ｎ キューブ斜面 １１６ 75.0 ｎ キューブ面 １１７ 24.0 ａ ミラー １１８ 322.0703 24.0 ａ 88.0 キューブ面 １１７ 75.0 ｎ キューブ斜面 １１６ 75.0 ｎ キューブ面 １１９ 9.00 ａ １２０ -267.7909 15.0 ｎ 44.1 １２１ -313.664 1.0 ａ 41.1 １２２ 80.2329 16.4981 ｎ 36.6 １２３ 328.6877 5.8627 ａ 32.7 １２４ 110.6656 18.0 ｎ 27.9 １２５ 56.8994 4.8224 ａ 19.3 １２６ 65.4243 18.0 ｎ 17.3 １２７ -425.502 1.5 ａ 10.3 １２８ -212.3753 3.0 ｎ 9.2 １２９ -756.9179 0.7043 ａ 7.8 ターゲット １３０ 本発明に従う光学システムのレンズ製造に使用される
ガラスの種類は殆ど制限がない。特殊な適用方面のため
の望ましい波長の光を単に良好に伝達しなければならな
いだけである。図２の構成及び表１は２４８ｎｍの波長
用であり、全てのレンズは溶融シリカで製造されてい
る。然しながら、視野修正及び球面収差修正レンズ群に
分散を異ならせるガラスを付加する通常の方法による
か、そのようなガラスの選択がなさる適用法に従って、
レンズを色消し構成とすることも可能である。
【００４７】図２及び表１の実施例で達成可能な視野の
大きさは、ステッパーとして知られる光学的なマイクロ
リソグラフィ技術における装置に主に使用することが可
能であるが、リング型視野又はスロット型視野のスキャ
ナー類に適応されることを妨げることがなく、実際には
非常の大きなサイズのウェハーを印刷するためにステッ
ピングとスキャニングとを組み合わせた装置において非
常に大事なものとなる。
【００４８】図２及び表１の実施例のために、図３は光
学システムの３つの領域における子午的特徴（ｔａｎｇ
ｅｎｔｉａｌ ｆｅａｔｕｒｅ）及び球欠的特徴（ｓａ
ｇｉｔｔａｌ ｆｅａｔｕｒｅ）の両方のための空間周
波数の関数としての変調伝達関数を与えている。即ち、
一方が入力軸６８が物体面１００と交差する点１３２で
あり、他方が入力軸６８が物体面１００と交差すると共
に点１３２から遠ざかる最大視野の０．７の点であり、
第３としては入力軸６８が物体面１００と交差する点か
ら遠ざかる最大視野の点である。図３から明らかなよう
に、此等３点における子午的及び球欠的特徴の変調伝達
関数は殆ど同一である。
【００４９】図４においては、図３に示された変調伝達
関数に対応して、此等３つの視野点における子午的及び
球欠的特徴のための焦点媒介ＭＴＦ（変調伝達関数）
が、２，０００サイクル／ｍｍのＭＦＴ周波数の場合と
して示されている。図５には、周波数１，０００サイク
ル／ｍｍの場合においての同様条件のための焦点媒介Ｍ
ＴＦが示されている。図４及び図５から明らかな如く、
此等３点における子午的及び球欠的特徴のための焦点媒
介ＭＴＦには殆ど差がない。 図６及び表２は５×の縮
小用反射屈折リレーレンズの光学的設計の他の実施例を
示しており、ＫｒＦレーザ等の線細深ＵＶエキシマーレ
ーザの全帯域幅に亙ってサブミクロンの分解能を有して
いる。この実施例は、凹状ミラーと、マスク等の物体の
利用し易い像を生成するために適切なコーティングがな
されたビーム分割キューブと、ミラーへの低速入射ビー
ム並びにミラーから反射された高速像形成ビームの両方
に関連した曲率に関して所定のより好ましい特徴を有す
る屈折修正器と、から構成され、此等の全てが共同し
て、拡張された視野に亙ってのサブミクロンの特性を伴
って、高度な修正がなされた像を作り出すことになる。
図６及び表２の構造的なパラメータとしては、３０．０
ｍｍ径の円形視野に対して０．６の開口数が挙げられ、
２０平方ｍｍの像をカバーするに十分なものである。図
７は図６の実施例における周波数の関数としての焦点媒
介ＭＴＦの特性グラフである。図８は図６の実施例にお
ける１，５００サイクル／ｍｍの周波数の関数としての
焦点媒介ＭＴＦの特性グラフである。図９は図６の実施
例における２，０００サイクル／ｍｍの周波数の関数と
しての焦点媒介ＭＴＦの特性グラフである。図７、図８
及び図９は、入力軸１４２が物体平面と交叉している軸
上２０１の点と、点２０１から遠ざかる視野半分の最大
限の０．７の点と、１５ｍｍの視野半分の最大限の軸上
の点のにおける子午的及び球欠的特徴のためのＭＴＦを
プロットしている。軸逸脱値が子午的及び球欠的特徴用
ラインとして与えられているので、図７、図８及び図９
のグラフの各々に５つの曲線となって現れる。図７にお
いて、此等５つの曲線は本質的には区別することができ
ない。図８において、曲線３００が軸上の子午的及び球
欠特徴に対応しており、曲線３０２が視野最大限の０．
７における球欠的特徴に対応しており、曲線３０４が視
野最大限の０．７における子午的特徴に対応しており、
曲線３０６が視野最大限における子午的特徴に対応して
おり、曲線３０８が視野最大限における球欠的特徴に対
応している。図９において、曲線３１０が軸上子午的及
び球欠的特徴に対応しており、曲線３１２が視野最大限
の０．７における球欠的特徴に対応しており、曲線３１
４が視野最大限の０．７における子午的特徴に対応して
おり、曲線３１６が視野最大限における子午的特徴に対
応しており、曲線３１８が視野最大限における球欠的特
徴に対応している。
【００５０】 表２ 面 曲率半径 厚さ（間隔） 屈折率 面の1/2径 （mm） （mm） （mm） n = 1.5085507 a = 1.0 マスク ２００ 114.6494 ａ 75.1 ２０１ 1792.5223 19.0019 ｎ 81.9 ２０２ -866.1057 0.0050 ａ 82.3 ２０３ 322.7983 24.9952 ｎ 82.1 ２０４ 612.9103 94.9297 ａ 80.1 ２０５ -365.5172 20.9984 ｎ 73.7 ２０６ 272.002 26.1477 ａ 74.4 ２０７ 180.1773 20.9943 ｎ 80.8 ２０８ 162.6329 26.7939 ａ 79.4 ２０９ 222.2809 35.0014 ｎ 84.3 ２１０ -382.3895 0.0034 ａ 84.3 ２１１ 628.8815 19.0011 ｎ 82.4 ２１２ 176.4534 97.4083 ａ 78.3 ２１３ 1180.4521 19.0039 ｎ 83.0 ２１４ -1466.00 0.5012 ａ 83.2 ２１５ 165.2104 19.8943 ｎ 83.0 ２１６ 144.1937 87.6403 ａ 78.9 キューブ面 ２１７ 85.00 ｎ キューブ斜面２１８ 85.00 ｎ キューブ面 ２１９ 0.00 ａ ２２０ 20.0 ｎ ２２１ 727.5375 7.4995 ａ 85.0 ミラー ２２２ 354.6364 7.4995 ａ 83.9 ２２１ 727.5375 20.0 ｎ 85.0 ２２０ 0.00 ａ キューブ面 ２１９ 85.00 ｎ キューブ斜面２１８ 85.00 ｎ キューブ面 ２２３ 1.00 ａ 37.4 ２２４ 60.0903 9.5842 ｎ 33.2 ２２５ 112.4998 0.1 ａ 31.4 ２２６ 59.7906 4.9017 ｎ 29.4 ２２７ 47.6875 5.6044 ａ 26.5 ２２８ 102.4535 7.511 ｎ 26.0 ２２９ -602.3941 1.000 ａ 24.5 ２３０ -388.6705 19.6132 ｎ 23.9 ２３１ -578.1068 0.5 ａ 15.5 ターゲット ２３２ 図６の実施例の構成に使用されるガラスの種類はそれ
らが特定な適用方面で望まれる波長に関して良好に伝達
できるのであれば殆ど制限を受けない。この実施例の構
成は２４８ｎｍの波長用として示されており、全てのレ
ンズは表２において溶融シリカから製造されている。し
かし、それらは通常の方法に従って、即ちガラスがその
ように選択された適用方面において視野修正・球面収差
修正レンズにガラスを異なる分散度で加えることによっ
て、色消しとすることもできる。そのような使用は本発
明を実施している構成で達成可能な機能に好ましく影響
することが予想される。
【００５１】図１０及び表３は図１の光学システムの他
の実施例を示す。図１０及び表３は４×の縮小用反射屈
折リレーレンズを示し、例えばＫｒＦレーザ等のエキシ
マーレーザの全ＵＶ帯域幅に亙ってサブミクロンの分解
能を有している。図１０及び表２の実施例の構造及びパ
ラメータとしては、２．０平方ｍｍの像視野をカバーす
るに十分な３０ｍｍ径の円形視野のための０．６の開口
数を含む。図１０のための周波数媒介及び焦点媒介ＭＴ
Ｆは図２及び図６の実施例に示したものと同様である。
【００５２】 表３ 面 曲率半径 厚さ（間隔） 屈折率 面の1/2径 （mm） （mm） （mm） n = 1.5085507 a = 1.0 １００ 115.0 ａ 60.1 ３０１ 370.2948 30.0 ｎ 67.9 ３０２ -196.6212 2.0 ａ 67.6 ３０３ -195.9992 21.0 ｎ 67.1 ３０４ 281.8649 104.0 ａ 66.3 ３０５ -111.9241 21.0 ｎ 72.7 ３０６ -100.9789 7.5 ａ 76.7 ３０７ -97.6046 21.0 ｎ 76.5 ３０８ -189.1799 2.0 ａ 88.9 ３０９ -649.7924 34.0 ｎ 93.4 ３１０ -159.9606 104.0 ａ 95.5 ３１１ 3078.1555 28.0 ｎ 91.7 ３１２ -455.0276 12.0 ａ 91.2 ３１３ -238.3554 19.0 ｎ 90.7 ３１４ -407.0824 2.0 ａ 91.7 ３１５ 204.3396 18.0 ｎ 90.1 ３１６ 170.3065 53.0 ａ 86.1 キューブ面 １１７ 85.0 ｎ キューブ斜面３１８ 85.0 ｎ キューブ面 ３１９ 0 ａ ３２０ 20.0 ｎ ３２１ 825.0556 7.5 ａ 84.5 ミラー ３２２ 383.2405 7.5 ａ 84.7 ３２１ 825.0556 20.0 ｎ 84.5 ３２０ 0 ａ キューブ面 ３１９ 85.0 ｎ キューブ斜面３１８ 85.0 ｎ キューブ面 ３２３ 1.0 ａ ３２４ 56.5102 12.0 ｎ 34.5 ３２５ 387.1705 0.25 ａ 33.7 ３２６ -229.1068 5.0 ｎ 32.8 ３２７ 44.8281 6.2 ａ 26.9 ３２８ 46.1373 7.5 ｎ 25.1 ３２９ 52.1721 2.0 ａ 22.6 ３３０ 64.1946 19.6 ｎ 22.2 ３３１ 526.9378 0.5991 ａ 15.3 ターゲット ３３２ 表４の構造的なパラメータを有する図１１の実施例と
表５の構造的なパラメータを有する図１２の実施例は４
４０と５５０のマンジン・ミラー（Ｍａｎｇｉｎ鏡）を
それぞれ備えている。このマンジン・ミラー（３）は共
役部に使用されて、４の所望の縮小率を略々与えてい
る。マンジン・ミラーの長い共役側における空気を介し
て離間する屈折群はマンジン・ミラーの短い共役側の修
正器群によって補われている。この光学システムはビー
ム分割キューブを伴って設計されており、このビーム分
割キューブはその通路内において光の像形成ビームにマ
ンジン・ミラーへ入射するビームを解放すること許容し
ており、これによってビーム分割キューブのガラス中の
光路に２つの通過使用をもたらしている。この構成なく
しては、シリコンウェハー上への不均一な露光線量に至
る視野に伴う掩蔽の大きさの変化を主に考慮した場合、
マイクロリソグラフィ技術において使用されることが推
奨されない瞳中における障害物が常に現れることにな
る。クォーターミクロンに至る高分解能はこの構成の
０．６の開口数によって達成可能である。
【００５３】当方の現在の目的のために、マンジン・ミ
ラーは、入射光に対して凹状のメニスカスレンズであ
り、その裏面には適切な高反射物質が塗装されてミラー
として作用することを示している。そのミラー面におい
て絞りを有するマンジン・ミラーは、略々所望の縮小率
及び高開口数で、所望の高分解能を略々提供すべく十分
に動作させるために使用されている。
【００５４】図１１及び表４の実施例は４×の縮小用反
射屈折リレーレンズであり、ＵＶ（紫外線）帯域幅にお
いてサブミクロンの分解能を有し、１２×５平方ｍｍの
像視野をカバーするに十分な１３ｍｍ径の円形視野のた
めの０．６の開口数を有している。
【００５５】図１２の実施例は４×の縮小用反射屈折リ
レーレンズであり、ＵＶ（紫外線）帯域幅においてサブ
ミクロンの分解能を有し、１２×５平方ｍｍの像視野を
カバーするに十分な１３ｍｍ径の円形視野のための０．
６の開口数を有している。
【００５６】図１１及び図１２の実施例のための周波数
媒介及び焦点媒介ＭＴＦは図２及び図６の実施例のため
に示されたものと同様である。
【００５７】 表４ 面 曲率半径 厚さ（間隔） 屈折率 面の1/2径 （mm） （mm） （mm） n = 1.5607691 a = 1.0 マスク ４００ 3.1 ａ 26.0 ４０１ 90.5124 15.0029 ｎ 27.1 ４０２ 142.8582 1.5025 ａ 26.9 ４０３ 182.2398 25.9982 ｎ 26.9 ４０４ -299.07 9.74 ａ 27.1 ４０５ -86.3963 20.8177 ｎ 26.6 ４０６ -85.4725 21.4984 ａ 28.2 ４０７ -241.1435 9.5051 ｎ 26.2 ４０８ -279.9286 11.3470 ａ 25.8 ４０９ -65.7503 9.515 ｎ 25.6 ４１０ -122.0252 14.9563 ａ 27.1 ４１１ -467.2583 15.0053 ｎ 27.9 ４１２ -421.69 3.0012 ａ 28.8 ４１３ 92.35 15.0042 ｎ 29.2 ４１４ 64.0283 15.0038 ａ 27.7 キューブ面 ４１５ 35 ｎ キューブ斜面 ４１６ 35 ｎ キューブ面 ４１７ 5.0056 ａ ４１８ -199.4415 10.0012 ｎ 34.7 ミラー ４１９ -161.8844 10.0012 ｎ 35.2 ４１８ -199.4415 5.0056 ａ 35.2 キューブ面 ４１７ 35 ｎ キューブ斜面 ４１６ 35 ｎ キューブ面 ４２０ .9026 ａ ４２１ 57.6041 9.5017 ｎ 25.8 ４２２ 920.0489 0.4015 ａ 24.7 ４２３ 98.133 11.2929 ｎ 23.4 ４２４ 316.5883 2.0022 ａ 20.1 ４２５ 92.5216 5.9018 ｎ 18.1 ４２６ -502.4227 0.5 ａ 16.5 ４２７ -274.9772 21.9375 ｎ 16.2 ４２８ 768.7248 0.1933 ａ 6.6 ターゲット ４２９ 表５ 面 曲率半径 厚さ（間隔） 屈折率 面の1/2径 （mm） （mm） （mm） n = 1.5085507 a = 1.0 マスク ５００ 3.2 ａ 26.0 ５０１ 123.3741 15.0029 ｎ 26.9 ５０２ 407.9745 0.5025 ａ 27.3 ５０３ 247.922 25.9982 ｎ 27.4 ５０４ -301.6128 10.0065 ａ -26.9 ５０５ -77.1852 20.9961 ｎ 26.8 ５０６ -72.9392 6.8449 ａ 28.1 ５０７ 114.6524 9.5051 ｎ 27.3 ５０８ 89.3922 11.347 ａ 26.4 ５０９ -60.3066 9.506 ｎ 26.5 ５１０ -86.8179 41.2581 ａ 28.1 ５１１ 234.3202 15.0019 ｎ 32.0 ５１２ 194.5769 3.0012 ａ 32.0 ５１３ 79.4623 15.0042 ｎ 32.3 ５１４ 61.2837 15.0058 ａ 30.4 キューブ面 ５１５ 0 ｎ キューブ斜面 ５１６ 0 ｎ キューブ面 ５１７ 5.0056 ａ ５１８ -179.4187 10.0012 ａ 35.2 ミラー ５１９ -158.6218 10.0012 ５１８ -179.4187 5.0056 ａ 35.2 キューブ面 ５１７ 35 ｎ キューブ斜面 ５１６ 35 ｎ キューブ面 ５２０ 0.9026 ａ ５２１ 52.4421 9.5028 ｎ 23.4 ５２２ 921.1127 0.4015 ａ 22.1 ５２３ 85.1741 8.3391 ｎ 21.0 ５２４ 357.8853 2.0022 ａ 19.6 ５２５ 87.1228 2.9024 ｎ 17.7 ５２６ -3505 0.5 ａ 17.0 ５２７ -483.0228 24.2156 ｎ 16.7 ５２８ 429.6715 0.1903 ａ 6.6 ターゲット ５２９ 達成可能な視野の非常に大きなサイズは、特に図６及
び表２や図１０及び表３のような大きなサイズは、主に
ステッパーとして知られる光学的マイクロリソグラフィ
技術の装置に使用することができが、一層大きな視野を
作るためのリング状視野タイプ又はスロット状視野タイ
プのスキャナーに適用されることを妨げない。この構成
の非常に大きな視野はサブ−ダイ（又はサブ−チップ）
のスキャニングで、より良好な整合及び焦点調整のため
に、視野の到る所を連続的にモニターさせること可能と
し、この構成の自然に制限された焦点の深さを調整する
こと、更には集積回路の超高分解能光学マイクロリソグ
ラフィ技術のための過酷なウェハー平坦度要件を手当て
することの１つの方法としている。
【００５８】ここにおいてビーム分割面上に設けられる
ところのコーティング、そのコーティングを製作する方
法、及び図１の該略図のビーム分割面１２のためのコー
ティングを設計する技術、上述の参照用としてのＲｏｓ
ｅｎｂｌｕｔｈの特許出願、特にその実施例において見
ることができる。Ｒｏｓｅｎｂｌｕｔｈのコーティング
は、ハフニア、マグネシウム、弗化物、アルミナ、シリ
コーンジオキサイドの複数層が含まれるが、これに限定
されることはない。次のものはＲｏｓｅｎｂｌｕｔｈの
教示であり、そして次のビーム分割用コーティングは表
２の実施例用である。
【００５９】 １）アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ） ２２６ Å ± １４ Å ２）マグネシウムフルオライド（ＭｇＦ2 ） ４３２ Å ± ２２ Å ３）ハフニア（ＨｆＯ2 ） ２０４ Å ± １０ Å ４）マグネシウムフルオライド（ＭｇＦ2 ） ４６２ Å ± ２４ Å ５）アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ） ２０９ Å ± １２ Å ６）ハフニア（ＨｆＯ2 ） ２３０ Å ± １０ Å 右の欄はオングストローム（ ）単位の厚みを表す。
輻射線がマスク（入力側）から伝播すると、コーティン
グを通って第１（伝達）通路中の層＃１に入射光しゃす
る。こうした複数層内で多重的に反射させられた後、こ
の副射線は層＃６から抜け出してくる。第２（反射）通
路中において、輻射線は層＃６上に入射する。反射の
後、ウェハーへ向かって伝播する。
【００６０】ここでの実施例はＵＶ（紫外線）波長用で
あるが、図１の一般構成はこれに限定されることはな
い。ここでの実施例のための構造的パラメータについて
の変動は、好ましくは±２０％、より好ましくは±１０
％、最も好ましくは±５％である。
【００６１】要約すれば、本発明はＮ×の縮小用の反射
屈折リレーレンズの光学システムであり、全ＵＶ帯域
幅、特にＵＶエキシマーレーザの帯域幅に亙ってサブミ
クロンの分解能を有する。ミラー部において絞りを有す
る球状ミラーは略々所望の縮小比で、且つ所望の高分解
能を提供するに十分な所望の高開口数で作動すべく使用
される。適切なコーティングを有するビーム分割キュー
ブは物体の利用し易い像を形成するに不可欠であり、こ
の物体はマスクを表し、その像の位置に置かれる基板を
パターン化するべく使用される。ミラーに入射するスロ
ービームの通路中と、ミラーから反射されたファースト
ビームの通路中との屈折修正器はミラーによって形成さ
れた像の収差を整えるように設計されている。
【００６２】上述した実施例は発明の原理の単なる例示
であり、種々の他の変更や修正は、発明の原理を実施し
ようとする当業者によって工夫され得、そしてこの発明
の精神と範囲の内にある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学システムの概略構成図である。
【図２】図１に概略的に示された５×の縮小用機構のた
めの装置の実施例の構成図である。
【図３】図２の装置のための空間周波数の関数としての
変調伝達関数（ＭＴＦ）の特性グラフである。
【図４】図２の装置のための２，０００サイクル／ｍｍ
の焦点媒介周波数での焦点媒介ＭＴＦの特性グラフであ
る。
【図５】図２の装置のための１，０００サイクル／ｍｍ
の周波数での焦点媒介ＭＴＦの特性グラフである。
【図６】全視野５×縮小機構のための図１に概略的に示
された装置の実施例の構成図である。
【図７】図６の装置のための空間周波数の関数としての
変調伝達関数（ＭＴＦ）の特性グラフである。
【図８】図６の装置のための１，５００サイクル／ｍｍ
の周波数での焦点媒介ＭＴＦの特性グラフである。
【図９】図６の装置のための２，０００サイクル／ｍｍ
の周波数での焦点媒介ＭＴＦの特性グラフである。
【図１０】全視野４×縮小機構のための図１に概略的に
示された装置の実施例の構成図である。
【図１１】マンジン・ミラー（Ｍａｎｇｉｎ ｍｉｒｒ
ｏｒ）が組み入れられた全視野４×縮小機構のための図
１に概略的に示された装置の実施例の構成図である。
【図１２】マンジン・ミラー（Ｍａｎｇｉｎ ｍｉｒｒ
ｏｒ）が組み入れられた全視野４×縮小機構のための図
１に概略的に示された装置の実施例の構成図である。
【符号の説明】
２ 入力軸 ４ 出力軸 ６ 物体 ８ ターゲット（基板） １０ 放射線 １２ 平坦面 １４ ビーム １６ 反射面 ２２ ビーム分割要素 ２４ 入口面 ２６ 出口面 ３２ プリズム面 ５０ ミラー ５６，５８，６０，６
２，６４ レンズ ６６，７０，７８，８０ 修正器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジュナズ・スタニスロウ・ウィルコジン スキ アメリカ合衆国10562、ニューヨーク州 オシニング、キッチャワン・ロード 736番地 (56)参考文献 特開 平２−12217（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−153512（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−69614（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−187309（ＪＰ，Ａ) 米国特許3536380（ＵＳ，Ａ)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 紫外線帯域幅においてサブミクロンの分
    解能を有する５×の縮小用反射屈折リレーレンズにおい
    て、 約４１６．２ｍｍの曲率半径の第１面と、 約−３５２．６ｍｍの曲率半径の第２面と、 前記第２面及び第１面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１５．６ｍｍ及び１．５であること、 約２１６．４ｍｍの曲率半径の第３面と、 前記第３面及び第２面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約０．１ｍｍ及び１であること、 約−９１４３ｍｍの曲率半径の第４面と、 前記第４面及び第３面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１０ｍｍ及び１．５であること、 約−１６５．１ｍｍの曲率半径の第５面と、 前記第５面及び第４面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１００ｍｍ及び１であること、 約−１４１．８ｍｍの曲率半径の第６面と、 前記第６面及び第５面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約６ｍｍ及び１．５であること、 約−５４４．５ｍｍの曲率半径の第７面と、 前記第７面及び第６面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約６．４ｍｍ及び１であること、 約２７６．６ｍｍの曲率半径の第８面と、 前記第８面及び第７面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約９ｍｍ及び１．５であること、 約−１０６．２ｍｍの曲率半径の第９面と、 前記第９面及び第８面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１５９ｍｍ及び１であること、 約−２２１ｍｍの曲率半径の第１０面と、 前記第１０面及び第９面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
    れ約５ｍｍ及び１．５であること、 約７１７７．５ｍｍの曲率半径の第１１面と、 前記第１１面及び第１０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約９６ｍｍ及び１であること、 約−２３５．３ｍｍの曲率半径の第１２面と、 前記第１２面間の間隔及び屈折率がそれぞれ約１５ｍｍ
    及び１．５であること、 約−２５３．３ｍｍの曲率半径の第１３面と、 前記第１３面及び第１２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約３ｍｍ及び１であること、 約−３６７．３ｍｍの曲率半径の第１４面と、 前記第１４面及び第１３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１５ｍｍ及び１．５であること、 約１．５の屈折率を有する領域を画成している第１５、
    第１７及び第１９の略々平坦面と、 前記１５面及び第１４面の間の間隔及び屈折率はそれぞ
    れ約１８ｍｍ及び１であること、 前記領域内の第１６ビーム分割面と、 約３２２ｍｍの曲率半径の第１８反射面と、 前記１８面及び第１７面の間の間隔及び屈折率はそれぞ
    れ約２４ｍｍ及び１であること、 約−２６７．８ｍｍの曲率半径の第２０面と、 約−３１３．７ｍｍの曲率半径の第２１面と、 前記第２１面及び第２０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１５ｍｍ及び１．５であること、 約８０ｍｍの曲率半径の第２２面と、 前記第２２面及び第２１面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１ｍｍ及び１であること、 約３２８．７ｍｍの曲率半径の第２３面と、 前記第２３面及び第２２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１．６５ｍｍ及び１．５であること、 約１１０．７ｍｍの曲率半径の第２４面と、 前記第２４面及び第２３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約５．９ｍｍ及び１であること、 約５６．９ｍｍの曲率半径の第２５面と、 前記第２５面及び第２４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１８ｍｍ及び１．５であること、 約６５．４ｍｍの曲率半径の第２６面と、 前記第２６面及び第２５面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約４．８ｍｍ及び１であること、 約−４２５．５ｍｍの曲率半径の第２７面と、 前記第２７面及び第２６面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１８ｍｍ及び１．５であること、 約２１２．４ｍｍの曲率半径の第２８面と、 前記第２８面及び第２７面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１．５ｍｍ及び１であること、 約−７５７ｍｍの曲率半径の第２９面と、 前記第２９面及び第２８面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約３ｍｍ及び１．５であること、 から構成されるリレーレンズ。
  2. 【請求項２】 前記第１６ビーム分割面はその上に複数
    の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反射及
    び透過させられたビームであって、その反射及び透過に
    より、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々解放
    されたビームを提供していることから成る請求項１記載
    のリレーレンズ。
  3. 【請求項３】 紫外線帯域幅においてサブミクロンの分
    解能を有する５×の縮小用反射屈折リレーレンズにおい
    て、 約１７９２．５ｍｍの曲率半径の第１面と、 約−８６６．１ｍｍの曲率半径の第２面と、 前記第２面及び第１面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１９ｍｍ及び１．５であること、 約３２２．８ｍｍの曲率半径の第３面と、 前記第３面及び第２面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約０．００５ｍｍ及び１であること、 約６１２．９ｍｍの曲率半径の第４面と、 前記第４面及び第３面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２５ｍｍ及び１．５であること、 約−３６５．５ｍｍの曲率半径の第５面と、 前記第５面及び第４面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約９５ｍｍ及び１であること、 約２７２ｍｍの曲率半径の第６面と、 前記第６面及び第５面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２１ｍｍ及び１．５であること、 約１８０．２ｍｍの曲率半径の第７面と、 前記第７面及び第６面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２６．１ｍｍ及び１であること、 約１６２．６ｍｍの曲率半径の第８面と、 前記第８面及び第７面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２１ｍｍ及び１．５であること、 約２２２．３ｍｍの曲率半径の第９面と、 前記第９面及び第８面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２６．８ｍｍ及び１であること、 約−３８２．４ｍｍの曲率半径の第１０面と、 前記第１０面及び第９面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
    れ約３５ｍｍ及び１．５であること、 約６２８．９ｍｍの曲率半径の第１１面と、 前記第１１面及び第１０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．００３ｍｍ及び１であること、 約１７６．５ｍｍの曲率半径の第１２面と、 前記第１２面及び第１１面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１９ｍｍ及び１．５であること、 約１１８０．５ｍｍの曲率半径の第１３面と、 前記第１３面及び第１２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約９７．４ｍｍ及び１であること、 約−１４６６ｍｍの曲率半径の第１４面と、 前記第１４面及び第１３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１９ｍｍ及び１．５であること、 約１６５．２ｍｍの曲率半径の第１５面と、 前記第１５面及び第１４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．５ｍｍ及び１であること、 約１４４．２ｍｍの曲率半径の第１６面と、 前記第１６面及び第１５面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１９．９ｍｍ及び１．５であること、 約１．５の屈折率を有する領域を画成している第１７、
    第１９及び第２３の略々平坦面と、 前記１７面及び第１６面の間の間隔及び屈折率はそれぞ
    れ約８７．６ｍｍ及び１であること、 前記領域内の第１８ビーム分割面と、 第２０略々平坦面と、 前記１９面及び第２０面の間の間隔はゼロであること、 約７２７．５ｍｍの曲率半径の第２１面と、 前記第２１面及び第２０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２０．０ｍｍ及び１．５であること、 約３５４．６ｍｍの曲率半径の第２２反射面と、 前記第２２面及び第２１面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約７．５ｍｍ及び１であること、 約６０．１ｍｍの曲率半径の第２４面と、 前記第２４面及び第２３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１ｍｍ及び１であること、 約１１２．５ｍｍの曲率半径の第２５面と、 前記第２５面及び第２４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約９．６ｍｍ及び１．５であること、 約５９．８ｍｍの曲率半径の第２６面と、 前記第２６面及び第２５面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．１ｍｍ及び１であること、 約４７．７ｍｍの曲率半径の第２７面と、 前記第２７面及び第２６面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約４．１ｍｍ及び１．５であること、 約１０２．５ｍｍの曲率半径の第２８面と、 前記第２８面及び第２７面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約５．６ｍｍ及び１であること、 約−６０２．４ｍｍの曲率半径の第２９面と、 前記第２９面及び第２８面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約７．５ｍｍ及び１．５であること、 約−３８８．７ｍｍの曲率半径の第３０面と、 前記第３０面及び第２９面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１ｍｍ及び１であること、 約−５７８．１ｍｍの曲率半径の第３１面と、 前記第３１面及び第３０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１９．６ｍｍ及び１．５であること、 から構成されるリレーレンズ。
  4. 【請求項４】 前記第１８ビーム分割面はその上に複数
    の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反射及
    び透過させられたビームであって、その反射及び透過に
    より、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々解放
    されたビームを提供していることから成る請求項３記載
    のリレーレンズ。
  5. 【請求項５】 紫外線帯域幅においてサブミクロンの分
    解能を有する４×の縮小用反射屈折リレーレンズにおい
    て、 約３７０．３ｍｍの曲率半径の第１面と、 約−１９６．６ｍｍの曲率半径の第２面と、 前記第２面及び第１面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約３０ｍｍ及び１．５であること、 約−１９６．０ｍｍの曲率半径の第３面と、 前記第３面及び第２面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２ｍｍ及び１であること、約２８１．８ｍｍの曲率半径の第４面と、 前記第４面及び第３面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２１ｍｍ及び１．５であること、 約−１１１．９ｍｍの曲率半径の第５面と、 前記第５面及び第４面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１０４ｍｍ及び１であること、 約−１０１ｍｍの曲率半径の第６面と、 前記第６面及び第５面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２１ｍｍ及び１．５であること、 約−９７．６ｍｍの曲率半径の第７面と、 前記第７面及び第６面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約７．５ｍｍ及び１であること、 約１８９．２ｍｍの曲率半径の第８面と、 前記第８面及び第７面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２１ｍｍ及び１．５であること、 約６５０ｍｍの曲率半径の第９面と、 前記第９面及び第８面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２ｍｍ及び１であること、 約１６０ｍｍの曲率半径の第１０面と、 前記第１０面及び第９面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
    れ約３４ｍｍ及び１．５であること、 約３０７８ｍｍの曲率半径の第１１面と、 前記第１１面及び第１０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１０４ｍｍ及び１であること、 約−４５５ｍｍの曲率半径の第１２面と、 前記第１２面及び第１１面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２８ｍｍ及び１．５であること、 約−２３８．４ｍｍの曲率半径の第１３面と、 前記第１３面及び第１２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１２ｍｍ及び１であること、 約−４０７．１ｍｍの曲率半径の第１４面と、 前記第１４面及び第１３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１９ｍｍ及び１．４であること、 約２０４．３ｍｍの曲率半径の第１５面と、 前記第１５面及び第１４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２ｍｍ及び１であること、 約１７０．３ｍｍの曲率半径の第１６面と、 前記第１６面及び第１５面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１８ｍｍ及び１．５であること、 約１．５の屈折率を有する領域を画成している第１７、
    第１９及び第２３の略々平坦面と、 前記１７面及び第１６面の間の間隔及び屈折率はそれぞ
    れ約５３ｍｍ及び１であること、 前記領域内の第１８ビーム分割面と、 第２０略々平坦面と、 前記１９面及び第２０面の間の間隔はゼロであること、 約８２５．１ｍｍの曲率半径の第２１面と、 前記第２１面及び第２０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２０ｍｍ及び１．５であること、 約３８３．２ｍｍの曲率半径の第２２反射面と、 前記第２２面及び第２１面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約７．５ｍｍ及び１であること、 約５６．５ｍｍの曲率半径の第２４面と、 前記第２４面及び第２３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１ｍｍ及び１であること、 約３８７．２ｍｍの曲率半径の第２５面と、 前記第２５面及び第２４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１２ｍｍ及び１．５であること、 約−２２９．１ｍｍの曲率半径の第２６面と、 前記第２６面及び第２５面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．２５ｍｍ及び１であること、 約４４．８ｍｍの曲率半径の第２７面と、 前記第２７面及び第２６面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約５ｍｍ及び１．５であること、 約４６．１ｍｍの曲率半径の第２８面と、 前記第２８面及び第２７面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約６．２ｍｍ及び１であること、 約５２．２ｍｍの曲率半径の第２９面と、 前記第２９面及び第２８面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約７．５ｍｍ及び１．５であること、 約６４．２ｍｍの曲率半径の第３０面と、 前記第３０面及び第２９面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２ｍｍ及び１であること、 約５２７ｍｍの曲率半径の第３１面と、 前記第３１面及び第３０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１９．６ｍｍ及び１．５であること、 から構成されるリレーレンズ。
  6. 【請求項６】 前記第１８ビーム分割面はその上に複数
    の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反射及
    び透過させられたビームであって、その反射及び透過に
    より、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々解放
    されたビームを提供していることから成る請求項５記載
    のリレーレンズ。
  7. 【請求項７】 紫外線帯域幅においてサブミクロンの分
    解能を有する４×の縮小用反射屈折リレーレンズにおい
    て、 約９０．５ｍｍの曲率半径の第１面と、 約１４２．９ｍｍの曲率半径の第２面と、 前記第２面及び第１面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１５ｍｍ及び１．５であること、 約１８２．２ｍｍの曲率半径の第３面と、 前記第３面及び第２面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１．５ｍｍ及び１であること、 約−２９９．１ｍｍの曲率半径の第４面と、 前記第４面及び第３面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２６ｍｍ及び１．５であること、 約−８６．４ｍｍの曲率半径の第５面と、 前記第５面及び第４面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約９．７ｍｍ及び１であること、 約−８５．５ｍｍの曲率半径の第６面と、 前記第６面及び第５面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２０．８ｍｍ及び１．５であること、 約−２４１．１ｍｍの曲率半径の第７面と、 前記第７面及び第６面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２１．５ｍｍ及び１であること、 約−２７９．９ｍｍの曲率半径の第８面と、 前記第８面及び第７面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約９．５ｍｍ及び１．５であること、 約−６５．８ｍｍの曲率半径の第９面と、 前記第９面及び第８面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１１．３ｍｍ及び１であること、 約−１２２．０ｍｍの曲率半径の第１０面と、 前記第１０面及び第９面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
    れ約９．５ｍｍ及び１．５であること、 約−４６７．３ｍｍの曲率半径の第１１面と、 前記第１１面及び第１０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１５ｍｍ及び１であること、 約−４２１．７ｍｍの曲率半径の第１２面と、 前記第１２面間の間隔及び屈折率がそれぞれ約１５ｍｍ
    及び１．５であること、 約９２．３５ｍｍの曲率半径の第１３面と、 前記第１３面及び第１２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約３ｍｍ及び１であること、 約６４ｍｍの曲率半径の第１４面と、 前記第１４面及び第１３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１５ｍｍ及び１．５であること、 約１．５の屈折率を有する領域を画成している第１５、
    第１７及び第２０の略々平坦面と、 前記第１５面及び第１４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１５ｍｍ及び１であること、 前記領域内の第１６ビーム分割面と、 約１９９．４ｍｍの曲率半径を有する第１８反射面と、 前記１８面及び第１７面の間の間隔及び屈折率はそれぞ
    れ約５ｍｍ及び１であること、 約−１６１．８８４４ｍｍの曲率半径を有する第１９反
    射面と、 前記１９面及び第１８面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
    れ約１０ｍｍ及び１．５であること、 約５７．６０４１ｍｍの曲率半径の第２１面と、 前記第２１面及び第２０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．９ｍｍ及び１であること、 約９２０ｍｍの曲率半径の第２２面と、 前記第２２面及び第２１面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約９．５ｍｍ及び１．５であること、 ９８．１３３ｍｍの曲率半径の第２３面と、 前記第２３面及び第２２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．４ｍｍ及び１であること、 約３１６．５８８３ｍｍの曲率半径の第２４面と、 前記第２４面及び第２３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１１．３ｍｍ及び１．５であること、 約９２．５２１６ｍｍの曲率半径の第２５面と、 前記第２５面及び第２４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２ｍｍ及び１であること、 約−５０２．４ｍｍの曲率半径の第２６面と、 前記第２６面及び第２５面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約５．９ｍｍ及び１．５であること、 約−２７５ｍｍの曲率半径の第２７面と、 前記第２７面及び第２６面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．５ｍｍ及び１であること、 約７６８．７ｍｍの曲率半径の第２８面と、 前記２８面及び第２７面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
    れ約２２ｍｍ及び１．５であること、 から構成されるリレーレンズ。
  8. 【請求項８】 前記第１６ビーム分割面はその上に複数
    の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反射及
    び透過させられたビームであって、その反射及び透過に
    より、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々解放
    されたビームを提供していることから成る請求項７記載
    のリレーレンズ。
  9. 【請求項９】 紫外線帯域幅においてサブミクロンの分
    解能を有する４×の縮小用反射屈折リレーレンズにおい
    て、 約１２３．４ｍｍの曲率半径の第１面と、 約４０８ｍｍの曲率半径の第２面と、 前記第２面及び第１面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１５ｍｍ及び１．５であること、 約２４７．９ｍｍの曲率半径の第３面と、 前記第３面及び第２面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約０．５ｍｍ及び１であること、 約−３０１．６ｍｍの曲率半径の第４面と、 前記第４面及び第３面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２６ｍｍ及び１．５であること、 約−７７．２ｍｍの曲率半径の第５面と、 前記第５面及び第４面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１０ｍｍ及び１であること、 約−７３ｍｍの曲率半径の第６面と、 前記第６面及び第５面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約２１ｍｍ及び１．５であること、 約１１４．７ｍｍの曲率半径の第７面と、 前記第７面及び第６面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約６．８ｍｍ及び１であること、 約８９．４ｍｍの曲率半径の第８面と、 前記第８面及び第７面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約９．５ｍｍ及び１．５であること、 約−６０．３ｍｍの曲率半径の第９面と、 前記第９面及び第８面の間の間隔及び屈折率がそれぞれ
    約１１．５ｍｍ及び１であること、 約−８６．８ｍｍの曲率半径の第１０面と、 前記第１０面及び第９面の間の間隔及び屈折率がそれぞ
    れ約９．５ｍｍ及び１．５であること、 約２３４．３ｍｍの曲率半径の第１１面と、 前記第１１面及び第１０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約４１．３ｍｍ及び１であること、 約１９４．６ｍｍの曲率半径の第１２面と、 前記第１２面間の間隔及び屈折率がそれぞれ約１５ｍｍ
    及び１．５であること、 約７９．５ｍｍの曲率半径の第１３面と、 前記第１３面及び第１２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約３ｍｍ及び１であること、 約６１．３ｍｍの曲率半径の第１４面と、 前記第１４面及び第１３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１５ｍｍ及び１．５であること、 約１．５の屈折率を有する領域を画成している第１５、
    第１７及び第２０の略々平坦面と、 前記第１５面及び第１４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１５ｍｍ及び１であること、 前記領域内の第１６ビーム分割面と、 約−１７９．４ｍｍの曲率半径の第１８面と、 前記第１８面及び第１７面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約５ｍｍ及び１であること、 約−１５８．６ｍｍの曲率半径の第１９反射面と、 前記第１９面及び第１８面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約１０ｍｍ及び１．０であること、 約５２．４ｍｍの曲率半径の第２１面と、 前記第２１面及び第２０面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．９ｍｍ及び１であること、 約９２１．１ｍｍの曲率半径の第２２面と、 前記第２２面及び第２１面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約９．５ｍｍ及び１．５であること、 約８５．２ｍｍの半径を有する第２３面と、 前記第２３面及び第２２面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．４ｍｍ及び１であること、 約３５７．９ｍｍの曲率半径の第２４面と、 前記第２４面及び第２３面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約８．４ｍｍ及び１．５であること、 約８７．１ｍｍの曲率半径の第２５面と、 前記第２５面及び第２４面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２．０ｍｍ及び１であること、 約−３５０５ｍｍの曲率半径の第２６面と、 前記第２６面及び第２５面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２．９ｍｍ及び１．５であること、 約−４８３．０ｍｍの曲率半径の第２７面と、 前記第２７面及び第２６面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約０．５ｍｍ及び１であること、 約４２９．７ｍｍの曲率半径の第２８面と、 前記第２８面及び第２７面の間の間隔及び屈折率がそれ
    ぞれ約２４．２ｍｍ及び１５であること、 から構成されるリレーレンズ。
  10. 【請求項１０】 前記第１６ビーム分割面はその上に複
    数の薄い塗膜を備えて、当該ビーム分割面に関して反射
    及び透過させられたビームであって、その反射及び透過
    により、収差、歪み及びアポダイゼーションから略々解
    放されたビームを提供していることから成る請求項９記
    載のリレーレンズ。
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