JPH0422870Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案はエナメル塗料塗布ロール、さらに詳
しく言えばエナメル線製造装置においてエナメル
塗料を線材に塗布するために用いられる塗布ロー
ルに関するものである。

（従来の技術） まず第５図および第６図についてエナメル線の
製造装置を概説する。

第５図に示されるように、線材ｗは全体として
符号１で示される塗布装置においてエナメル塗料
を塗布された後焼付炉２を通過して第１層塗膜が
焼付形成され、案内ローラによる線材の循環路を
経由して再び塗布装置１に入り、ここで第２回目
の塗料塗布を受けた後再び焼付炉２に入つた第２
層が焼付られ、こうして塗料塗布、焼付の工程を
通常10数回くり返して所望の塗膜厚をもつエナメ
ル線が製造されるものである。

塗布装置１は、これを拡大して詳しく描いた第
６図に示されるように、塗料槽６の中に貯えられ
たエナメル塗料に浸された状態で回転駆動される
塗布ロール３と、塗布ロール３の外周面に付着し
た余分な塗料をかき落とすスクレーパ３１とを備
え、張力付与用フエルト４により挟まれて適度の
張力を付与された線材ｗが塗布ロール３によつて
エナメル塗料を塗布され、その余分な塗料はしぼ
りフエルト５においてぬぐわれて焼付炉２に向か
うように構成されている。

エナメル塗料の塗布に用いられる従来の塗布ロ
ール３は第３図に示されるように外周面にｎ本の
塗布用の溝G₁，G₂，G₃，……，G_oが形成された
ものであり、これらの各溝はすべて同一の断面積
S₁を有し、第５図に示されるエナメル線製造装置
の線材循環路の各径路に対応して位置する。線材
ｗはこの溝の中を走行するとき塗布ロール３の回
転に従つて塗料槽６の中からこの溝内面に付着し
て運ばれてくる塗料が塗布される。しかして第１
溝G₁を走行するとき初回の、つまり第１層の塗
膜のための塗布が行なわれ、第２溝G₂、第３溝
G₃，……第ｎ溝G_oを順次走行してそれぞれ第２
層、第３層、第ｎ（最終）層の塗膜のための塗布
がなされるものである。

ここで上記第１層目の塗膜のためのエナメル塗
布量Q₁は、線材ｗの表面と使用されるエナメル
塗料との馴染み性に関連して定まるものであつ
て、塗膜としてもつとも外観的にすぐれ、また外
径変動も少ない最大の厚さ、つまりいわゆる臨界
塗膜厚t₁を形成するための量が選定される。そし
て一般に、塗布ロールの溝によつてなされる塗布
量は、その溝の断面積と塗布ロールの回転速度の
積に比例するから、塗布ロール３の回転速度や溝
の断面積が、前記第１層目の臨界塗膜厚t₁を得る
塗布量Q₁を与えるように設定されている。

ところで第２層目以降に塗膜においては、第１
層目の塗膜と違つて塗膜の上に塗料を塗布するこ
とになるから、いわゆる前記の馴染み性がかなり
向上し、このため第２層目以降の臨界塗膜厚は第
１層目の臨界塗膜厚t₁よりもかなり大きい値とな
るものである。

（考案が解決すべき問題点） しかしながら従来の塗布ロールにおいては第２
溝G₂、第３溝G₃……第ｎ溝G_oが第３図に示され
るようにすべて第１溝G₁と同一断面積S₁を有し、
かつこれらが一体的に回転駆動するものであるか
ら、第２層目以降の塗膜のための塗布量Q₂，Q₃
……Q_oがすべて第１層目の塗布量Q₁と同一量と
なり、そのため第４図に示される第２層目以降の
塗膜厚t₂，t₃，……t_oがそれぞれの層の臨界塗膜
厚に到底達しないばかりでなく、塗膜形成による
線材ｗの実質的な外径増大を考慮に入れると第２
層目以降の塗膜厚t₂，t₃，……t_oが順次その前の、
つまり直下の層の塗膜厚を下回ることになり、こ
の結果最終的な所望の合計塗膜厚（所定の仕上が
り塗膜厚）を得るためにはそれだけ塗膜層を増や
す、つまり塗布回数を増やさねばならないという
生産能率の著しい低下を招くものであつた。

（問題点を解決するための手段） この考案は上述の問題を解決するためになされ
たものであつて、第２層目以降については塗膜と
塗料との間の馴染み性に合わせて塗布量を増大さ
せることを要旨とし、具体的には、円柱状をな
し、外周面に円周方向に延びるｎ本の平行な塗料
塗布用の溝が形成された塗布ロールにおいて、第
２溝の断面積を、第１溝の断面積に対し、塗膜と
エナメル塗料との間の馴染み性が線材表面とエナ
メル塗料との間の馴染み性に比べて上昇した分に
合わせて増大させてなり、かつ第３溝ないし第ｎ
溝の各断面積を前記第２溝の断面積と等しくさせ
てなるエナメル塗料塗布ロールである。

（作用） 塗布ロールの第２溝以降の断面積は塗膜と塗料
との間の馴染み性に合わせた大きさとされてい
て、第１溝の断面積よりも著しく増大しているか
ら、エナメル塗料塗布に際して各塗膜は、それぞ
れの層の臨界塗膜厚ないしこれにほぼ近い厚さの
塗膜層を形成することになり、そのため所定の仕
上がり塗膜厚を有するエナメル線を従来に比べて
塗布回数を低減させて得ることができる。

（実施例） 第１図についてこの考案の一実施例を説明す
る。

この考案の塗布ロール３においても第１溝G₁
の断面積S₁は第３図に示される従来の塗布ロール
と同様に、第１層目の塗膜を臨界塗膜厚t₁とさせ
得る塗布量Q₁を供給し得る大きさに選定されて
いる。

次に第２溝G₂、第３溝G₃、……、第ｎ溝G_oの
断面積S₂，S₃，……，S_oは互いに等しく、かつ第
１溝G₁の断面積S₁よりもかなり大きくされてい
る。つまり第２溝G₂の断面積S₂が第１溝G₁の断
面積S₁に対し、エナメル塗料と塗膜との間の馴染
み性が、エナメル塗料と線材表面との間の馴染み
性にくらべて増大した分に合わせて増大されてい
ると共に、第３溝G₃ないし第ｎ溝G_oの各断面積
S₃，……S_oが第２溝G₂の断面積S₂と等しくされ
て第２溝G₂、第３溝G₃、……、第ｎ溝G_oにおい
てそれぞれ線材ｗに供給される塗料塗布量がQ₂
＝Q₃＝……＝Q_oとされ、第２層、第３層、……
第ｎ層の各塗膜がそれぞれの臨界塗膜厚ないしこ
れにほぼ近い厚さの塗膜厚となるようにされてい
る。

第２図はこの考案の塗布ロールを用いて製造さ
れたエナメル線の断面を示すものであり、第２層
の塗膜厚t₂、第３層の塗膜厚t₃、……第ｎ層の塗
膜厚t_oが臨界塗膜厚ないしこれにほぼ近い値のも
のとなつている。つまり厳密には第２層がその臨
界塗膜厚となり、第３層……第ｎ層と層を重ねる
に従つて線材外径が実質的にわずかづつ増大する
ので層番号が増える外層の塗膜に向かうほど、そ
の塗膜厚が臨界塗膜厚よりも若干づつ下回るもの
となつている。

（考案の効果） この考案によれば塗布ロールの第２溝以降の断
面積が第１溝の断面積よりも塗膜と塗料との間の
馴染み性に合わせて増大されており、各層の塗膜
がそれぞれの層の臨界塗膜厚ないしこれにほぼ近
い厚さの塗膜厚となるから、従来に較べて少ない
塗布回数で所定の仕上がり塗膜厚を得ることがで
き、そのためエナメル線製造能率を向上し得るも
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案に係る塗布ロールの一実施例
を示す一部切断側面図、第２図は第１図の塗布ロ
ールを用いて製造されたエナメル線を示す拡大断
面図、第３図は従来の塗布ロールを示す一部切断
側面図、第４図は第３図の塗布ロールを用いて製
造されたエナメル線を示す拡大断面図、第５図は
エナメル線製造設備を示す簡略側面図、第６図は
第５図における塗料塗布装置部分を示す拡大側面
図である。 図において、３は塗布ロール、G₁，G₂，G₃…
…G_oは塗布ロールの第１、第２、第３……第ｎ
溝、S₁，S₂，S₃……S_oは第１、第２、第３……第
ｎ溝の断面積である。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 円柱状をなし、外周面に円周方向に延びるｎ本
   の平行な塗料塗布用の溝が形成されたエナメル線
   製造装置におけるエナメル塗料塗布ロールにおい
   て、第２溝G₂の断面積S₂を第１溝G₁の断面積S₁
   に対し、塗膜とエナメル塗料との間の馴染み性が
   線材ｗの表面とエナメル塗料との間の馴染み性に
   比べて上昇した分に合わせて増大させてなり、か
   つ第３溝G₃ないし第ｎ溝G_oの各断面積S₃，……
   S_oが前記第２溝G₂の断面積S₂と等しくされてい
   ることを特徴とするエナメル塗料塗布ロール。