JPH04214002A - 二酸化塩素を製造する方法 - Google Patents

二酸化塩素を製造する方法

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JPH04214002A
JPH04214002A JP3027694A JP2769491A JPH04214002A JP H04214002 A JPH04214002 A JP H04214002A JP 3027694 A JP3027694 A JP 3027694A JP 2769491 A JP2769491 A JP 2769491A JP H04214002 A JPH04214002 A JP H04214002A
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acid
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    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、二酸化塩素製造の分野
にあり、特定的にはアルカリ金属塩素酸塩、鉱酸および
還元剤の反応による二酸化塩素製造方法に向けられてい
る。特に、本発明は、本質的に塩素副産物を伴わずに製
造される二酸化塩素を提供する。
【0002】
【従来の技術】水溶液中の二酸化塩素はパルプ漂白の領
域におけるだけではなく、水の浄化、脂肪の漂白および
工業廃棄物からのフエノールの除去においてもかなり商
業的関心があり、また重要である。従って二酸化塩素の
製造は、多くの研究の主題となっている。またかなりな
研究が、塩素および鉱酸塩のような反応副産物の取扱に
向けられている。特に塩素は環境に有害な影響を与えお
よび/または二酸化塩素製品を汚染するので、塩素をリ
サイクルするか、あるいは少なくともその生成を最小に
するかのいずれかの方法が、これまで求められてきた。 塩素は、独特な分離やそれ自体の廃棄の問題をもたらす
ばかりでなく、漂白工程中に周知の発がん物質であるダ
イオキシンを、少量ではあるが有意な量で生成すること
になることもある。
【0003】塩素は、塩素酸塩の還元を含むあらゆる二
酸化塩素生成過程において、副産物として生成される。 この反応式は化1の通りである。
【0004】
【化1】 また追加の少量の塩素が、化2式による副反応によって
生成される。
【0005】
【化2】 化1および化2によって生成される塩素副産物は、以前
には水溶液中の漂白剤として製紙工場のような所で使用
されてきたか、あるいは水酸化ナトリウムと反応させて
次亜塩素酸ナトリウムを生成させ、漂白剤として使用し
てきたりした。現在では、二酸化塩素漂白がますます広
く行なわれる傾向にあるので、漂白剤としての塩素や次
亜塩素酸塩の必要性は減少しつつある。
【0006】塩素に対する必要性が実際に存在するとし
ても、漂白剤として副産物の塩素を使用することの欠点
は、塩素溶液の濃度が非常に低くて、通常1〜5gpl
であることである。そのような溶液中での水の百分率は
大きいので、最新の漂白システムは、塩素化状態で副産
物の塩素を使用することができない。このことは、多く
のパルプ工場が塩素副産物をほとんど価値のないものと
考えていることを意味している。
【0007】これらの要因によって、適当な効率と生産
速度とを有して、しかも塩素副産物の生成を著しく減ら
した二酸化塩素製造方法を緊急に開発する必要性が増し
てきた。
【0008】塩素副産物を減らす1つの従来技術のアプ
ローチは、「ソルヴェイ」型反応で有機還元剤を使用す
ることであった。ソルヴェイ法においては、典型的にN
a ClO3であるアルカリ金属塩素酸塩が、酸性環境
中で、典型的にはメタノールである有機還元剤によって
二酸化塩素に還元される。従来の理論では、還元剤と化
1の反応に従って同時に生成される塩素との反応によっ
て、塩化物イオンはその場で形成されると信じられてい
る。それによって大きな百分率の塩素が、流出液として
系外に出て行くよりもむしろ反応媒質中で消費される。
【0009】この反応過程は、副産物の塩素の量を効果
的に減少するが、従来の複数容器技術を使用することは
、比較的非能率的である。
【0010】ソルヴェイ法における低効率の問題は、米
国特許第4,081,520号によって扱われており、
この特許は、二酸化塩素を連続発生するための単一容器
の使用、水性反応媒質の蒸発および副産物のアルカリ金
属塩の結晶化と除去を提案している。反応媒質中で約9
の過剰の規定度で硫酸が使用されている。この方法およ
び類似の「単一容器法」(以下では「SVP」と記す)
技術は、一般に効率を受け入れられる程度にまで増す一
方、塩素流出液を低いレベルに保つことができる。
【0011】しかしながら、’520特許の反応条件を
使用すると、時には製造上の問題が観察されることがあ
った。ランダムな時間間隔で反応媒質中の二酸化塩素生
成がやみ、次いである時間が経過して再び始まる。この
「生成のランダムな周期的消失」あるいは「ホワイトア
ウト」は、反応媒質中での塩化物イオンの一時的な消耗
によるものと信じられている。このホワイトアウトの危
険は、酸の規定度が増すにつれて大きくなると考えられ
ている。’520特許自身は(第2欄第21〜25行)
、反応媒質中の塩化ナトリウムの量は、酸の規定度の増
加と共に「実質的に」減少することに言及している。
【0012】塩化物イオン濃度と酸の規定度との間のこ
の明白な逆関係は、4.4N,8.04Nおよび9.3
Nの酸濃度で行なわれた3つの「運転(runs)」を
要約している’520特許の実施例で確認されている。 酸の規定度4.4においては発生器液(即ち反応媒質)
中の塩化物濃度は0.39Mであって、塩素は発生ガス
の16%を構成していた(残りはClO2ガスである)
。酸の規定度8.04では塩化物濃度は0.04Mであ
って、塩素は発生ガスの12%であった。酸の規定度9
.3では塩化物濃度は0.003Mであって、塩素は発
生ガスの1%以下であった。それぞれの運転において、
塩素酸塩(NaClO3)濃度は1.56Mあるいはそ
れ以下の比較的低い値にあった。
【0013】’520特許の条件(高い酸の規定度と低
い塩素酸塩のモル濃度)における塩化物イオンの消耗全
体を防ぐために、米国特許第4,465,658号は酸
濃度9Nおよびそれ以上で操業するSVP法の反応媒質
に塩化物イオンを添加して、塩化物イオンが常に存在す
るようにすることを提案している。しかしながら、塩化
物イオンの量が増加すると、望ましくない塩素副産物の
生成がさらに追加されることになって、ソルヴェイ型の
方法の主要な利点の1つが取消されることになる。
【0014】米国特許第4,473,540号は、高効
率の二酸化塩素製造が、塩化物イオンを添加あるいは添
加しないで、9N以下約7Nまでの酸の規定度で達成で
きることを提案している。この特許はまた、酸性度が9
N以下にまで下がると、反応媒質中の塩化物濃度は非常
に高いレベルにまで増加することを教示している。
【0015】欧州特許第0,131,378号も同様に
、商業的規模での二酸化塩素製造は、9以下約7Nまで
の全酸の規定度で実施できる一方、反応媒質への塩化物
イオンの連続添加は省くことができると提案している。 反応媒質中の塩素酸ナトリウム濃度は0.2ないし1.
5Mの間にあり、また酸の規定度9ないし約7の間にお
いては、塩化物イオン濃度は約0.1から約0.3Mに
変わる。
【0016】米国特許第4,770,868号もまた異
なる酸の規定度で、還元剤としてメタノールを使用する
二酸化塩素製造に関する。生産ロスを避けるために、0
.8mol/lまでの大きな量での塩化ナトリウム添加
を推奨している。
【0017】これらの先行技術の技法からいくつかの結
論を引出すことができる。第1に、9ないし約7の間の
酸の規定度において、また約1.5Mおよびそれ以下の
塩素酸塩濃度において、SVP反応媒質中に十分な量の
塩化物イオンがその場で生成され、原料の流れの中に塩
化物イオンを添加する必要がない。第2に酸の規定度お
よび塩素酸塩濃度のこれらの条件の下でのSVP法の運
転では、系に塩化物イオンを添加しなくてもかなりな量
の塩素が発生する。第3に、反応媒質中の塩化物イオン
の濃度およびそれ故に発生する塩素の量は、酸の規定度
が減少するにつれて増加する。さらに酸濃度が約7N以
下にさらに低下すると、塩化物イオンの濃度および発生
する塩素の量は、二酸化塩素の生産効率の観点から、ま
た、環境上の理由のために、それぞれますます許容でき
なくなることが予想されるであろう。
【0018】最後に、先行技術から、反応媒質中に塩化
物イオンが比較的高いレベルで存在すると、ホワイトア
ウトを防ぐ助けとなり、また塩素の発生は連続生産を維
持するために単に口で言う程もない費用がかかるのみで
ある。
【0019】従って、塩素酸ナトリウムが塩化ナトリウ
ム0.5重量%あるいはそれ以下の僅かな量を含んで製
造できるとしても、塩素酸ナトリウムに、少なくとも1
重量%、しばしば4〜5重量%の塩化物を添加してから
SVP法を使用して、ホワイトアウトを防ぐのに必要と
考えられる高レベルの塩化物イオンを与えるのが一般的
に行なわれている。
【0020】従って先行技術は、二酸化塩素製造方法で
塩素の生成を最小にするあるいは除去し、一方、同時に
二酸化塩素製造の高い効率を、商業的に認容される生産
率に維持する満足できる方法を考案するのに、これまで
失敗してきた。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】従って、高い効率およ
び高い生産率の二酸化塩素製造方法を提供することが、
本発明の1つの目的である。
【0022】副産物として塩素がほとんど生成されない
か、あるいは形成されない上記のような方法を提供する
ことが、本発明の別の目的である。
【0023】操作が円滑で安定していて、供給および生
産率の小さな変動に対して比較的感じない上記のような
方法を提供することが、本発明のさらに他の目的である
【0024】ホワイトアウトが防がれ、また同時に塩素
の生成が最小である上記のような方法を提供することが
本発明のなお他の目的である。
【0025】
【課題を解決するための手段】本発明のこれらの目的は
、反応媒質中の塩素酸塩濃度を先行技術の方法で使用す
る濃度よりも高いモル濃度に維持するという、SVP技
術を使用する二酸化塩素製造方法によって達成される。 発明者達は、反応媒質中で約9以下の酸の規定度と共に
使用すると、この高い塩素酸塩濃度によって、反応媒質
に塩化物イオンを添加したか否かにかかわりなく、ホワ
イトアウトの重大な脅威なしに反応を進めることができ
ることを発見した。塩化物イオンを添加しないと、反応
媒質中の塩化物イオンのレベルは小さいけれども十分に
有意であって、ホワイトアウトを防ぐことができる。同
時に、塩化物イオンのレベルが低いために、塩素の生成
は最小になる。
【0026】特に、本発明の目的は、単一室の発生器−
蒸発器−晶析器装置の中において大気圧以下の圧力に維
持されている、硫酸のような強酸を含有する水性反応媒
質中で、アルカリ金属塩素酸塩を有機の還元剤で還元す
ることによる二酸化塩素製造方法によって達成されるが
、その方法は、二酸化塩素の実質的な分解が起る以下の
温度にある該反応媒質の沸点に反応媒質を保って、反応
媒質から水を蒸発して水蒸気と二酸化塩素とを含む気体
混合物を生じさせ;単一室装置から気体混合物を除去し
;除去した混合物から二酸化塩素の水溶液を回収し;ア
ルカリ金属塩素酸塩、有機の還元剤および硫酸を反応媒
質中に連続的に供給して、還元段階で消費された化学薬
品を補給し、また約9N以下で少なくとも約2.4Nの
反応媒質中の全酸の規定度と、約1.6Mないし飽和の
間にある反応媒質中の塩素酸塩濃度とを維持するように
することによって、反応媒質中の実質的な定常状態条件
を維持し;単一室装置に供給される水をそこから除去さ
れる水と釣合わせることによって、単一室装置中の液体
レベルを実質的に一定に維持し;この方法を最初に始動
して後に、反応媒質がアルカリ金属硫酸塩によって飽和
されるようになってから、反応媒質からアルカリ金属硫
酸塩を連続的に析出させ、さらに析出したアルカリ金属
硫酸塩を単一室装置から除去する工程を含み、この際、
反応媒質中の減少した塩化物イオン濃度は、気体混合物
中のより小さい塩素濃度をもたらす方法である。
【0027】
【作用】ある与えられた酸の規定度で塩素酸塩濃度を増
すと、反応媒質中の塩化物の量が減少し、そのために塩
素副産物の量が減少することがこれまでに分った。ある
種の工程条件の下では、ソルヴェイ法において最低レベ
ル以上に塩化物イオンが存在することは、高い生産率で
の二酸化塩素の高効率製造を得るには必要ない。この発
見は、塩化物イオンの役割の歴史的見地の観点では予期
しないものであって、重大な商業的応用を有している。 本発明においては、反応媒質中の塩素酸塩濃度を高いレ
ベルに維持し、さらに反応媒質の酸の規定度を約9N以
下に保つ場合に、高い生産率が高効率で達成される。
【0028】塩素酸塩濃度のこの高レベルによって、反
応媒質中の塩化物イオンの非常に低いレベルが得られ、
従って発生する塩素は非常に低いレベルになる。それに
も拘らず、これらの条件の下でホワイトアウトは避けら
れるが、それは小さいけれども有意なレベルの塩化物イ
オンが常に連続的にその場で形成されるからである。十
分な量の塩化物イオンがその場で形成されるので、この
工程は添加される塩化物イオンが実質上なくても進行す
ることができる。アルカリ金属塩化物を塩素酸塩に少量
添加することはできるけれども、塩素酸塩をベースにし
て2重量%以下、好適には塩素酸塩をベースにして1重
量%以下に保つべきである。しかしながら、そのような
添加は必要ではない。添加した塩化物イオンが実質上な
いということは、この方法は通常の市販の塩素酸塩を使
用することができて、追加して塩(即ちアルカリ金属塩
化物)をこの工程に添加する必要のないことを意味して
いる。通常のアルカリ金属塩素酸塩は、(現在の通常の
塩の添加に先立って)、約0.5重量%以下、しばしば
約0.05重量%以上、好適には0.02重量%以下、
最も好適には0.01重量%以下のアルカリ金属塩化物
を含有する。
【0029】本方法の特定した特長は、塩素酸塩のモル
濃度が、少なくとも約1.6Mであり、また、飽和の程
度の大きさであることができることである。本方法の酸
濃度は、約2.4Nから約9Nである。
【0030】本発明は、ホルムアルデヒド、メタノール
、エタノール、イソプロパノールおよび他の酸化できる
有機化合物のような、塩素を塩化物イオンに還元する有
機の還元剤を使用する方法に応用することができる。 好適な還元剤はメタノールである。
【0031】塩素酸塩の濃度範囲に影響を及ぼす要因の
1つは酸の規定度である。約2.4から約4.5までの
酸の規定度において、塩素酸塩濃度は約2Mから飽和に
まで亘ることができる。約4.5から約9以下までの酸
の規定度において、塩素酸塩濃度は1.6M程度の低さ
であることができ、また飽和程度の高さであることがで
きる。実際の塩素酸塩飽和濃度は、なかんづく、操作温
度と圧力および酸の規定度の関数であり、約5M程度の
高さであることができる。好適には酸の規定度は約5.
5ないし約8.5の間に保たれる。高度に好適な実施態
様においては、酸の規定度は約5.5ないし約6.9の
間に、また塩素酸塩のモル濃度は約3ないし飽和の間に
維持される。
【0032】これらの条件での操作においては、二酸化
塩素製造工程は円滑で安定であり、また原料や生産率の
変動には敏感でない。それ故に、本方法はホワイトアウ
トのリスクが小さく、制御が容易である。
【0033】上記の条件の下で本方法を操作することに
よって、生成する塩素量は全発生ガスの約2.5重量%
以下に保つことができる。好適には条件を選んで、生成
する塩素が全発生ガスの約2.2重量%以下、最も好適
には全発生ガスの約1.7重量%以下であるようにする
【0034】約4.5N以上約9Nまでの酸性度におい
ては、生成する結晶は針状のセスキ硫酸ナトリウムNa
3H(SO4)2である。
【0035】これらのセスキ硫酸塩結晶は、密集した集
塊を形成する傾向があって、フィルター上に硬い塩のケ
ーキを与え、その後の取扱いのために洗浄したケーキを
こわして取るという問題が増えてくる。
【0036】針の形状は酸性度によって決まり、また低
い酸性度で得られるより短い針は、フィルターでより容
易に分離されるが、それはそれらの針は高い酸性度で得
られる、より長い針ほど硬いフィルターケーキを形成し
ないからである。それ故に、セスキ硫酸塩の形成に対し
て、酸性度が4.5Nのより低い限界に近づくにつれて
、針は短かくなり幅広くなり、従って取扱い易くなる。
【0037】沈澱した硫酸ナトリウムに対する定常的な
連続濾過操作は、二酸化塩素発生の全工程の信頼性に対
して不可欠である。塩のケーキの洗浄は、短い針につい
ての場合にはより効率的であるが、それは長い針が、よ
り不均一なケーキを与えて、洗浄水のチャネリングを増
すからである。また、より低い酸性度は、塩のケーキの
硫酸汚染をより低くする。
【0038】塩のケーキをフィルターから外すには、し
ばしば空気あるいは水蒸気のジェット、あるいは機械的
なナイフあるいはスクレーパーによって行なわれる。こ
の段階において、短い針を含む塩のケーキは、高い酸性
度で得られるより硬い塩のケーキに比べてより緩んでい
て、より容易にばらばらになって外れる。
【0039】本発明による二酸化塩素製造に対する最良
の結果は、アルカリ金属塩素酸塩として塩素酸ナトリウ
ムを使用することによって得られる。メタノールが好適
な還元剤である。反応容器を60〜400mmHg  
abs.、好適には90〜200mmHgの圧力と50
〜90℃、好適には60〜75℃の温度で操作するのが
適当である。
【0040】ClO2生成反応は少量の触媒を反応器に
添加することによって有利になる。活性触媒は、元素周
期表の5B−8、1B、4Aおよび7A族に属する。最
高の活性は、V,Nb,Cr,Mn,Fe,Ru,Os
,Co,Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,Ge,Sn,
Pb,BrあるいはIを個別にあるいは組合わせて含有
する化合物に対して見出された。
【0041】以下の実施例によって本発明を説明する。
【0042】
【実施例】実験室用二酸化塩素発生器を150mmHg
  abs.の圧力において180gClO2/hの生
産速度で操作した。550gplのNaClO3溶液を
517ml/hで発生器に連続的に装入した。メタノー
ルを50重量%水溶液として71ml/hの装入速度で
添加し、また硫酸を93重量%の濃度で、希望する酸性
度を保つに十分な速度で装入した。
【0043】二酸化塩素、水蒸気、塩素、ギ酸、二酸化
炭素、メタノールおよび空気のガス混合物が発生器から
出て水に吸収された。
【0044】結晶が発生器中で連続的に形成されたので
、周期的に排出して発生器内のスラリー密度を本質的に
一定に保つようにした。
【0045】様々な酸の規定度で塩の添加なしでの一連
の実験を続けた。表1から分るように、低い量の塩素が
生成した。塩化物イオンを故意に反応液に添加して試験
を繰返した。表2から、生成した塩素の量が実質的に増
加したことがわかる。
【0046】
【表1】
【0047】
【表2】 本発明を上記した好適な実施態様によって例示した。し
かしながら、この好適な実施態様は例示としてのみ提供
されるものであって、本発明を限定するものと解釈され
るべきでないことを理解すべきである。添付した請求項
の範囲、およびその領域に入るような本発明の実施態様
は、本発明の一部と考えられるべきである。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  単一室の発生器−蒸発器−晶析器装置
    の中において大気圧以下の圧力に維持されている、硫酸
    を含有する水性の反応媒質中で、アルカリ金属塩素酸塩
    を有機の還元剤で還元することによって二酸化塩素を製
    造する方法において、  二酸化塩素の実質的な分解が
    起る温度以下にある該反応媒質の沸点に該反応媒質を維
    持して、該反応媒質から水を蒸発させて水蒸気と二酸化
    塩素とを含む気体混合物を生じさせるようにし、該単一
    室装置から該気体混合物を除去し、除去した該混合物か
    ら二酸化塩素水溶液を回収し、該アルカリ金属塩素酸塩
    、塩素酸塩をベースにして約2重量%以下の量のアルカ
    リ金属塩化物、有機の還元剤および硫酸を、該反応媒質
    中に連続的に装入して、該還元段階で消費した化学薬品
    を補給し、また約9N以下で少なくとも約2.4Nの該
    反応媒質中の全酸の規定度と、約1.6Mと飽和との間
    にある塩素酸塩濃度とを維持するようにすることによっ
    て、該反応媒質中に実質的な定常状態条件を維持し、該
    単一室装置に装入される水をそこから除去される水と釣
    合わせることによって、該単一室装置中の液体レベルを
    実質的に一定に維持し、この方法を最初に始動した後に
    、反応媒質がアルカリ金属硫酸塩によって飽和されるよ
    うになってから、該反応媒質からアルカリ金属硫酸塩を
    連続的に析出させ、さらに該析出した該アルカリ金属塩
    を該単一室装置から除去するステップを含み、この際、
    反応媒質中の減少した塩化物イオン濃度は、該気体混合
    物中のより小さい塩素濃度をもたらすことを特徴とする
    方法。
  2. 【請求項2】  前記アルカリ金属塩化物が塩化ナトリ
    ウムであり、アルカリ金属塩素酸塩をベースにして約1
    重量%以下の量で添加される請求項1の方法。
  3. 【請求項3】  前記添加される塩化物イオンが実質的
    にない状態で、塩素酸塩の還元が実施される請求項1の
    方法。
  4. 【請求項4】  前記アルカリ金属塩素酸塩が塩素酸ナ
    トリウムである請求項1の方法。
  5. 【請求項5】  発生する塩素の量が発生ガス全体の約
    2.5重量%以下である請求項1の方法。
  6. 【請求項6】  発生する塩素の量が発生ガス全体の約
    1.7重量%以下である請求項1の方法。
  7. 【請求項7】  酸の規定度が約4.5から約9N以下
    であり、塩素酸塩濃度が約1.6Mから飽和までであっ
    て、さらにアルカリ金属硫酸塩がアルカリ金属セスキ硫
    酸塩である請求項1の方法。
  8. 【請求項8】  酸の規定度が約2.4ないし約4.5
    であり、塩素酸塩濃度が約2Mないし飽和であって、さ
    らにアルカリ金属硫酸塩が中性塩である請求項1の方法
  9. 【請求項9】  反応媒質中の酸の規定度が約5.5な
    いし約8.5であり、また塩素酸塩濃度が約2Mないし
    飽和である請求項1の方法。
  10. 【請求項10】  酸の規定度が約5.5ないし約6.
    9であり、また塩素酸塩濃度が約3Mないしほぼ飽和で
    ある請求項1の方法。
  11. 【請求項11】  還元剤がホルムアルデヒド、メタノ
    ール、エタノール、イソプロパノールおよび他の酸化で
    きる有機化合物より成る群から選ばれる請求項1の方法
  12. 【請求項12】  還元剤がメタノールである請求項1
    1の方法。
  13. 【請求項13】  方法が周期表の5B−8、1B、4
    Aおよび7A族からの元素より成る群から選ばれた触媒
    を含む請求項1の方法。
  14. 【請求項14】  触媒がV,Nb,Cr,Mn,Fe
    ,Ru,Os,Co,Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,
    Ge,Sn,Pb,Br,Iおよびそれらの組合わせよ
    り成る群から選ばれる請求項13の方法。
  15. 【請求項15】  反応中の圧力が約60ないし約40
    0mmHg  abs.であり、また反応媒質の温度が
    約50℃ないし約90℃である請求項1の方法。
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