JPH04202695A - Sealing solution and sealing method - Google Patents

Sealing solution and sealing method

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JPH04202695A
JPH04202695A JP32992490A JP32992490A JPH04202695A JP H04202695 A JPH04202695 A JP H04202695A JP 32992490 A JP32992490 A JP 32992490A JP 32992490 A JP32992490 A JP 32992490A JP H04202695 A JPH04202695 A JP H04202695A
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JP
Japan
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sealing
gold
plated
palladium
alloy
Prior art date
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Pending
Application number
JP32992490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Fukamachi
一彦 深町
Yasuhiro Shirokabe
靖裕 白壁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Nikko Kyodo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd, Nikko Kyodo Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To produce a connector with an electrical contact having superior lubricity, corrosion preventiveness, etc., by successively plating a Cu-based metallic material with Pd and Au and sealing the plated material with a soln. contg. a specified % each of paraffin wax and an alkyl substd. naphthalenesulfonate in an org. solvent. CONSTITUTION:A Cu-or Fe-based metallic material is plated with Pd or Pd alloy to form a middle layer and it is further electroplated with Au or Au alloy. The plated material is then sealed with a sealing soln. This soln. contains 0.1-3wt.% paraffin wax and 0.1-3wt.% one or more kinds of alkyl substd. naphthalenesulfonates such as barium and calcium dinonylnaphthalenesulfonates as essential components in an org. solvent such as toluene. The paraffin wax is a satd. hydrocarbon mixture having about 300-500mol.wt. based on straight chain hydrocarbons having about 20-35 average number of C atoms. A connector with a contact having contact resistance not increased by its heat history and stable contact performance is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、金めつき電気接点の封孔処理液、封孔処理方
法及び封孔処理されたコネクタ接触子に関する。特には
繰返し挿抜や振動により、摩耗と腐食が同時進行するよ
うな過酷な使用条件において、電気的接点の潤滑、防錆
及び電気的接続性が長期的に安定して優れる封孔処理液
、封孔処理方法及び封孔処理されたコネクタに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a sealing liquid for gold-plated electrical contacts, a sealing method, and a sealed connector contact. In particular, sealing liquids and sealants that provide long-term, stable, and excellent lubrication, rust prevention, and electrical connectivity for electrical contacts, especially under harsh conditions of use where wear and corrosion progress simultaneously due to repeated insertion and removal and vibration. The present invention relates to a hole processing method and a sealed connector.

[従来の技術] 電子機器用接続部品としてコネクタは最も代表的なもの
であり多種多様のコネクタが実用化されている。電算機
や通信用機器等高度の信頼性が要求される、いわゆる産
業用電子機器に使用されるコネクタは、りん青銅、ベリ
リウム銅等のバネ用鋼合金を母材とし、接点用金属被膜
としてニッケル下地めっき後その上に金めつきを施した
ものが一般に利用されている。
[Prior Art] Connectors are the most typical connecting parts for electronic devices, and a wide variety of connectors have been put into practical use. Connectors used in so-called industrial electronic devices that require a high degree of reliability, such as computers and communication equipment, are made of spring steel alloys such as phosphor bronze and beryllium copper as the base material, and nickel is used as the metal coating for the contacts. Generally used is a base plating followed by gold plating.

金は貴金属の中でも極めて耐食性が高く、表面に酸化物
や他の被膜を形成しないため電気的接続性に優れ、接点
用金属として広く使用されている。
Gold has extremely high corrosion resistance among noble metals, and because it does not form oxides or other films on its surface, it has excellent electrical connectivity and is widely used as a contact metal.

しかし、金は高価であるため、コネクタの製造コストを
下げる目的で様々な省金化策が採られてきた。その代表
的方法が金めつきの厚みを薄くする方法であるが、金め
つきの厚みを薄くするとともに、被膜のピンポールの数
が指数関数的に増え、耐食性が著しく低下するという問
題を抱えている。
However, since gold is expensive, various gold-saving measures have been taken to reduce the manufacturing cost of connectors. A typical method is to reduce the thickness of the gold plating, but as the thickness of the gold plating is reduced, the number of pin poles in the coating increases exponentially, resulting in a significant decrease in corrosion resistance.

そこで、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金
をめっきし、その上に金めっきしたものが利用されてい
る。しかし、このめっきでも十分な耐食性が得られてい
ない。この問題を解決する方法のひとつに封孔処理があ
る。すなわち、各種の無機性、あるいは有機性の薬品で
金めつき面を処理し、ピンホールを塞ぎ耐食性を向上さ
せようとするものであるが、中間層としてパラジウムま
たはパラジウム合金をめっきし、その上に金めっきした
材料への封孔処理液及び封孔処理方法は公知のものがな
い。
Therefore, a material in which the intermediate layer is plated with palladium or a palladium alloy and then gold plated is used. However, even this plating does not provide sufficient corrosion resistance. One method to solve this problem is pore sealing. In other words, the gold-plated surface is treated with various inorganic or organic chemicals to close pinholes and improve corrosion resistance, but palladium or palladium alloy is plated as an intermediate layer, and then There are no known sealing liquids or sealing methods for gold-plated materials.

[発明が解決しようとする課題] 封孔処理、特に有機性の薬品による封孔処理は、金めつ
き被膜の厚み低減に対し、耐食性を維持する効果に優れ
ている。ところが従来の封孔処理液は鉄系金属材料や銅
系金属材料の防錆剤として知られていた化合物を中心と
して選択されたものが、あるいは寄金化以前にも金めつ
き接点の潤滑を目的として使用されていた潤滑剤をその
まま使用したものが一般的であった。封孔処理された金
めつきに要求される特性としては、 ■ 潤滑性がよいこと、 ■ 耐食性が優れていること、 ■ 接触抵抗が低く安定していること、■ はんだ付性
がよいこと、及び ゛  ■ それらの特性が各種の環境、使用条件下で長
期に亘り持続すること、 である。
[Problems to be Solved by the Invention] A pore sealing treatment, particularly a pore sealing treatment using an organic chemical, is excellent in maintaining corrosion resistance while reducing the thickness of a gold plating film. However, conventional sealing liquids were mainly selected from compounds known as rust preventive agents for iron-based metal materials and copper-based metal materials, and even before the introduction of gold-plated metals, they were used to lubricate gold-plated contacts. Generally, the lubricant used for the intended purpose was used as is. The properties required for sealed gold plating include: ■ Good lubricity; ■ Excellent corrosion resistance; ■ Low and stable contact resistance; ■ Good solderability. and ■ Those characteristics should last for a long time under various environments and usage conditions.

ところが従来の封孔処理液は、そのような総合的観照か
ら必ずしも満足できるものではなく、なんらかの品質面
で劣っているものが一般的であった。
However, conventional sealing liquids are not necessarily satisfactory from such a comprehensive viewpoint, and are generally inferior in some quality aspect.

特に、ICカードの電気接点(あるいはコネクタ)のよ
うに1万回も挿抜後もその電気的接続性を保証しなけれ
ばならないというように電気接点に要求される品質はま
すます高度化してきている。
In particular, the quality required of electrical contacts is becoming increasingly sophisticated, such as the electrical contacts (or connectors) of IC cards, which must guarantee electrical connectivity even after being inserted and removed 10,000 times. .

ところが、長い時間をかけて1万回にも及び挿抜を受け
ると、初期には潤滑性の優れていた封孔処理であっても
、繰返し挿抜中に封孔処理皮膜に大気中の塵埃等が付着
し、摩耗を促進するという問題があった。
However, after being inserted and removed 10,000 times over a long period of time, even though the sealing treatment initially had excellent lubricity, the sealing film becomes contaminated with dust and other particles from the atmosphere during repeated insertion and removal. There was a problem of adhesion and accelerated wear.

又、自動車の電子機器化、いわゆるカーエレクトロニク
ス化の急激な進展とともに自動車に使用される電子回路
用コネクタの材料で金めっきされたものが増えている。
Furthermore, with the rapid development of automobile electronics, so-called car electronics, the number of gold-plated connectors for electronic circuits used in automobiles is increasing.

自動車用コネクタの接点は。What are the contacts of automotive connectors?

車体による振動によって生じる微摺動摩耗を受けるとと
もに、工業地帯における各種の大気中の腐食性ガス、海
岸地帯における海塩粒子、あるいは寒冷地における融雪
剤など極めて過酷な腐食環境に晒される。
In addition to being subjected to slight sliding wear caused by vibrations from the vehicle body, they are also exposed to extremely harsh corrosive environments such as various corrosive gases in the atmosphere in industrial areas, sea salt particles in coastal areas, and snow melting agents in cold regions.

すなわち、従来の封孔処理では、摩耗と腐食が共存する
過酷な環境において、長期にわたり上述の電気接点に要
求される特性を満足させることはできなかった。
That is, the conventional sealing process has not been able to satisfy the above-mentioned characteristics required for electrical contacts over a long period of time in a harsh environment where wear and corrosion coexist.

本発明は、このような要求を満たすことのできる改善さ
れた封孔処理液及びそれを用いる封孔処理方法を提供す
ることを目的とし、あわせてそれにより処理されたコネ
クタを提供することを目的とするものである。
An object of the present invention is to provide an improved sealing liquid that can meet such demands and a sealing method using the same, and also to provide a connector treated with the same. That is.

[課題を解決するための手段] かかる状況に鑑み、本発明者等は鋭意研究を行った結果
、以下に示す封孔処理液、方法及び封孔処理されたコネ
クタを発明するに至った。
[Means for Solving the Problems] In view of this situation, the inventors of the present invention conducted extensive research, and as a result, they came up with the following sealing liquid, method, and sealed connector.

すなわち1本発明は、 (1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金または金合金を
めっきした材料を処理する封孔処理液であって、(A)
パラフィンワックス0.1〜3υt%及び(B)アルキ
ル置換ナフタレンスルフォン酸塩の1種または2種以上
0.1〜3すt%を必須成分とする有機溶剤溶液よりな
ることを特徴とする封孔処理液。
That is, 1 the present invention provides: (1) a sealing solution for treating a material plated with gold or gold alloy after plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer on a copper-based or iron-based metal material, comprising (A)
A sealing method comprising an organic solvent solution containing 0.1 to 3 t% of paraffin wax and 0.1 to 3 t% of one or more types of (B) alkyl-substituted naphthalene sulfonates as essential components. Processing liquid.

(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種もしくは2
種以上0.05〜3iit%をさらに含有することを特
徴とする前記(1)記載の封孔処理液。
(2) One or two chelate-forming cyclic nitrogen compounds
The pore-sealing treatment liquid according to (1) above, further containing 0.05 to 3 iit% of 1 or more species.

(3)アミン系又はフェノール系酸化防止剤の1種もし
くは2種以上0.001〜1νt%を、さらに含有する
ことを特徴とする前記(1)又は(2)記載の封孔処理
液。
(3) The sealing solution according to (1) or (2) above, further comprising 0.001 to 1 νt% of one or more amine-based or phenolic antioxidants.

(4)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてパラジウム
またはパラジウム合金をめっき後、さらにその上に金ま
たは金合金を電気めっき後、前記(1)、(2)または
(3)記載の封孔処理液で処理することを特徴とする封
孔処理方法。
(4) After plating palladium or a palladium alloy as an intermediate layer on a copper-based or iron-based metal material, and further electroplating gold or a gold alloy thereon, the seal according to (1), (2) or (3) above is applied. A pore sealing method characterized by processing with a pore treatment liquid.

(5)中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金を
めっき後、金または金合金めっきされた銅系または鉄系
金属材料をプレス加工後、前記(1)、(2)または(
3)に記載の封孔処理液で処理することを特徴とする封
孔処理方法。
(5) After plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer, press the copper-based or iron-based metal material plated with gold or gold alloy, and then press the above (1), (2) or (
3) A method for sealing, characterized by treating with the sealing solution according to item 3).

(6)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金又は金合金をめ
っきしためっき材よりなり、前記(1)、(2)または
(3)記載の封孔処理液で封孔処理したことを特徴とす
るコネクタである。
(6) Made of a plating material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with palladium or a palladium alloy as an intermediate layer, and then gold or a gold alloy is plated, and the pore sealing described in (1), (2), or (3) above is used. This connector is characterized by having been sealed with a treatment liquid.

本発明の封孔処理液の必須成分であるパラフィンワック
スは、平均炭素数20〜35程度の直鎖状炭化水素を主
成分とする分子量300〜500程度の飽和炭化水素混
合物である。本発明において、パラフィンワックスは基
油としての機能を有する。すなわちそれ自体、多数のピ
ンホールの存在する金めつき表面に皮膜を形成し、ピン
ホール等金めっきの微視的な欠陥を通して、大気中の水
分、酸素、及び各種の腐食媒が中間層であるパラジウム
またはパラジウム合金および金属材料と接触するのを防
いでいる。そして本発明の目的である、腐食と摩耗の共
存する環境において、長期間にわたり、電気接点の性能
を安定的に維持する上で最も重要な効果を奏する。すな
わち、鉄鋼等ではラノリン、ペトロラタム、グリース、
鉱油等が防錆剤の用途で知られているが、この様な軟調
の基油ではべとつきが有るため、大気中の塵埃粒子が付
着し、電気接点が繰返し摩擦される際に、金めつきの摩
耗を促進し、同時に封孔機能が低下し、腐食が進行する
ため電気接点の寿命を大幅に低下させる。本発明におい
て、パラフィンワックスがそれらの欠陥を有しない金め
つき接点用の封孔処理液の基油としてきわめて好適であ
ることを見出したものである。
Paraffin wax, which is an essential component of the pore-sealing solution of the present invention, is a saturated hydrocarbon mixture with a molecular weight of about 300 to 500, whose main component is a linear hydrocarbon with an average carbon number of about 20 to 35. In the present invention, paraffin wax functions as a base oil. In other words, it forms a film on the gold plating surface that has many pinholes, and through microscopic defects in the gold plating such as pinholes, moisture, oxygen, and various corrosive agents in the atmosphere can enter the intermediate layer. Prevents contact with certain palladium or palladium alloys and metal materials. The most important effect is achieved in stably maintaining the performance of electrical contacts over a long period of time in an environment where corrosion and wear coexist, which is the objective of the present invention. In other words, for steel etc. lanolin, petrolatum, grease,
Mineral oils are known to be used as rust preventive agents, but because these soft base oils are sticky, dust particles in the atmosphere can adhere to them, and when electrical contacts are repeatedly rubbed, they can damage the gold plating. This accelerates wear and at the same time reduces the sealing function and progresses corrosion, significantly shortening the life of electrical contacts. In the present invention, it has been discovered that paraffin wax does not have these defects and is extremely suitable as a base oil for a sealing liquid for gold-plated contacts.

本発明において、この基油の選択は他の成分の作用と相
俟って相乗的に前述の耐食性、耐久性を向上させるうえ
で重要な成分である。特に鉄鋼等の防錆剤とは異なり、
場合によっては、マイクロアンペアオーダーの微弱電流
を確実に相手端子と接続しなければならないコネクタ等
電子部品の接点表面の封孔処理剤であるから、基油の選
択は防錆効果のみではなく、電気的接続性が極めて重要
となる。そして、その濃度は0.1wt%より小さいと
、耐食性、耐久性が小さくなり、所望の効果を得ること
ができない。一方3νt%より大きいと接触抵抗が上昇
し接点用の封孔処理として価値がなくなるので好ましく
ない。
In the present invention, the selection of this base oil is an important component in synergistically improving the above-mentioned corrosion resistance and durability in conjunction with the effects of other components. Especially unlike rust inhibitors for steel, etc.
In some cases, the base oil is used as a sealing agent for the contact surfaces of electronic components such as connectors that must reliably connect a weak current on the order of microamperes to a mating terminal. physical connectivity will be extremely important. If the concentration is less than 0.1 wt%, corrosion resistance and durability will decrease, making it impossible to obtain the desired effects. On the other hand, if it is larger than 3vt%, the contact resistance increases and the sealing treatment for contacts becomes useless, which is not preferable.

本発明の封孔処理液のもう一つの必須成分は、次式で表
わされるアルキル置換ナフタレンスルフォン酸塩である
Another essential component of the pore sealing solution of the present invention is an alkyl-substituted naphthalene sulfonate represented by the following formula.

(Rは炭素数6〜12のアルキル基;Mは塩形成成分;
nは1〜2の整数、mはMの価数に一致する整数) 好ましいものを具体的に例示すれば、たちえは。
(R is an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms; M is a salt-forming component;
(n is an integer of 1 to 2, m is an integer that matches the valence of M) A preferred example is Tachieha.

ジノニルナフタレンスルフオン酸バリウム塩、ジノニル
ナフタレンスルフオン酸カルシウム塩、ノニルナフタレ
ンスルフオン酸亜鉛塩、ジノニルナフタレンスルフオン
酸バリウム塩基性塩、ジノニルナフタレンスルフオン酸
エチレンジアミン塩、ジノニルナフタレンスルフオン酸
ナトリウム塩、及びジノニルナフタレンスルフォン酸リ
チウム塩、ジノニルナフタレンスルフォン酸鉛塩、ジノ
ニルナフタレンスルフォン酸アンモニウム塩、ジノニル
ナフタレンスルフオン酸トリエタノールアミン塩等を挙
げることができる。これらは1種又は2種以上混合して
添加され、耐食性向上に寄与する。
Dinonylnaphthalenesulfonate barium salt, dinonylnaphthalenesulfonate calcium salt, nonylnaphthalenesulfonate zinc salt, dinonylnaphthalenesulfonate barium basic salt, dinonylnaphthalenesulfonate ethylenediamine salt, dinonylnaphthalenesulfonate Examples include sodium foonic acid salt, lithium dinonylnaphthalene sulfonate salt, lead salt of dinonylnaphthalene sulfonate, ammonium salt of dinonylnaphthalene sulfonate, and triethanolamine salt of dinonylnaphthalene sulfonate. These are added singly or in a mixture of two or more, and contribute to improving corrosion resistance.

添加量は0.05〜3wt%である。0.05νt%未
満では耐食性向上効果が得られず、3wt%を超えると
、接触抵抗への悪影響が1,3められる。
The amount added is 0.05 to 3 wt%. If it is less than 0.05 νt%, no effect of improving corrosion resistance can be obtained, and if it exceeds 3 wt%, it will have a negative effect on contact resistance.

本発明の封孔処理液には必要に応じてキレート形成性環
状窒素化合物;アミン系又はフェノール系酸化防止剤を
添加することができる。キレート形成性環状窒素化合物
は、銅、ニッケル等に配位して安定なキレートを形成す
る化合物で¥特にベンゼン環を有する環状窒素化合物、
あるいはトリアジン系化合物が好ましい。具体例を挙げ
れば、ベンゼン環を有する環状窒素化合物としては、た
とえば、 ベンゾトリアゾール系 ■ インダゾール系 ベンズイミダゾール系 インドール系 ■ (上記各式中、R□は水素、アルキル、置換アルキルを
表わし、R2はアルカリ金属、水素、アルキル、置換ア
ルキルを表わす) 等を挙げることができる。
A chelate-forming cyclic nitrogen compound; an amine-based or phenol-based antioxidant may be added to the pore-sealing solution of the present invention, if necessary. A chelate-forming cyclic nitrogen compound is a compound that forms a stable chelate by coordinating with copper, nickel, etc. In particular, a cyclic nitrogen compound having a benzene ring,
Alternatively, triazine compounds are preferred. To give a specific example, the cyclic nitrogen compound having a benzene ring includes, for example, benzotriazole system ■ indazole system benzimidazole system indole system ■ (In each of the above formulas, R□ represents hydrogen, alkyl, or substituted alkyl, and R2 represents (representing an alkali metal, hydrogen, alkyl, substituted alkyl), etc.

ベンゾトリアゾール系としては、例えばベンゾトリアゾ
ール(R1、R2ともに水素)、1−メチルベンゾトリ
アゾール(R工が水素、R2がメチル)、1− (N、
N−ジオクチルアミノメチル)ベンゾトリアゾール(R
工が水素、R2がN、N−ジオクチルアミノメチル)、
トリルトリアゾール(R1がメチル、R2が水素)、ソ
ジウムトリルトリアゾール(R□がメチル、R2がナト
リウム)等が好ましい。
Examples of benzotriazole systems include benzotriazole (both R1 and R2 are hydrogen), 1-methylbenzotriazole (R is hydrogen and R2 is methyl), 1- (N,
N-dioctylaminomethyl)benzotriazole (R
is hydrogen, R2 is N, N-dioctylaminomethyl),
Tolyltriazole (R1 is methyl, R2 is hydrogen), sodium tolyltriazole (R□ is methyl, R2 is sodium), etc. are preferred.

インダゾール系としては、例えばインダゾール(R,、
R2ともに水素)、2−メチルインダゾール(R工が水
素、R2がメチル)、2−ベンジルインダゾール(R工
が水素、R2がC,H,CR2)、1−アセチルインダ
シ−7L/ (Rzが水素、R2がCOCH) )等が
好ましい。
Examples of indazole series include indazole (R,
R2 are both hydrogen), 2-methylindazole (R is hydrogen, R2 is methyl), 2-benzylindazole (R is hydrogen, R2 is C, H, CR2), 1-acetylindacy-7L/ (Rz is Hydrogen, R2 is COCH) etc. are preferred.

ベンズイミダゾール系としては1例えばベンズイミダゾ
ール(R1,R2ともに水素)、N−アセチイベンズイ
ミダゾール(R□が水素、R2がC0CH2) 、 N
−ベンゾイルベンズイミダゾール(R□が水素、R2が
COC,H,)等が好ましい。
Examples of benzimidazole systems include benzimidazole (both R1 and R2 are hydrogen), N-acetiibenzimidazole (R□ is hydrogen, R2 is C0CH2), N
-benzoylbenzimidazole (R□ is hydrogen, R2 is COC, H,) and the like are preferred.

インドール系としては、例えばインドール(R□、R2
ともに水素)、インドール−1−カルボン酸(R工が水
素、R2がC○○H)、■−メチルインドール(R工が
水素、R2がCH3)  等が好ましい。
As an indole type, for example, indole (R□, R2
(both are hydrogen), indole-1-carboxylic acid (R is hydrogen, R2 is C○○H), -methylindole (R is hydrogen, R2 is CH3), and the like are preferred.

また、トリアジン系化合物の好ましい具体例を挙げれば
、例えば、6−置換−1,3; 5− )−リアジン−
2,4−ジチオール−ナトリウム塩(Rはアルキル基で
置換されたアミノ基で、好ましくは−N(C4H3)2
、−1〜’(C,R07)2.−N(C1□H2,)z
、−NHC,H□、 CH= CHC,l(、、等であ
る)、シアヌル酸(2,4,6−1−リオキシー1.3
.5−トリアジン)、 メラミン(2,4,6−)−リアミノ−1,3,5−ト
リアジン)、 等を挙げることができる。これらは1種または2種以上
混合して添加され、パラフィンワックスと共に耐食性、
耐久性を向上させる。その濃度は総量で0.05〜3%
it%である。0 、05wt%より小さいと耐食性、
耐久性が低く、また、3wt%より大きいと電気的接続
性に支障が生じる。
Further, preferred specific examples of triazine compounds include, for example, 6-substituted-1,3;5-)-riazine-
2,4-dithiol-sodium salt (R is an amino group substituted with an alkyl group, preferably -N(C4H3)2
, -1~'(C,R07)2. -N(C1□H2,)z
, -NHC,H□, CH=CHC,l (,, etc.), cyanuric acid (2,4,6-1-lioxy 1.3
.. 5-triazine), melamine (2,4,6-)-lyamino-1,3,5-triazine), and the like. These are added singly or as a mixture of two or more, and together with paraffin wax, they provide corrosion resistance,
Improve durability. Its concentration is 0.05-3% in total
It%. Corrosion resistance is less than 0.05 wt%;
Durability is low, and if it is greater than 3 wt%, electrical connectivity will be impaired.

又、本発明の封孔処理液に、必要に応じて添加される上
記のアミン系又はフェノール系酸化防止剤としては、た
とえば、 P、P ′−ジオクチルジフェニルアミン4.4′−テ
トラメチルジアミノジフェニルメタ4.4′−メチレン
−ビス−(2,6−ジーt−ブチルフェノール) (CH3)3 CC(CH,)3 2.2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール) OH0H CH,CH3 2,2′−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブ
チルフェノール) CH2CH3CH2CH。
In addition, examples of the above-mentioned amine-based or phenolic antioxidants that may be added to the sealing solution of the present invention as needed include P,P'-dioctyldiphenylamine 4,4'-tetramethyldiaminodiphenylmeth. 4.4'-methylene-bis-(2,6-di-t-butylphenol) (CH3)3 CC(CH,)3 2.2'-methylene-bis-(4-methyl-6-t-butylphenol) OH0H CH, CH3 2,2'-methylene-bis-(4-ethyl-6-t-butylphenol) CH2CH3CH2CH.

2.6〜ジーt−ブチル−P−クレゾールH CH。2.6 ~ Di-t-butyl-P-cresol H CH.

ブチル化ヒトロキシアニゾール OCR,OCR。Butylated hydroxyanisole OCR, OCR.

2.6−ジー七−ブチル−4−エチルフェノールH H2CH3 −等を挙げることができる。2.6-di-7-butyl-4-ethylphenol H H2CH3 - and so on.

これらは、1種又は2種以上を0.001〜1wt%添
加することができる。
One or more of these can be added in an amount of 0.001 to 1 wt%.

これらの成分を添加することにより、耐久性を一層向上
させることができる。すなわち、封孔処理皮膜の機能を
長期に亘り安定させ、また高温環境における皮膜の劣化
を抑制する効果を有する。
By adding these components, durability can be further improved. That is, it has the effect of stabilizing the function of the sealing film over a long period of time and suppressing deterioration of the film in a high-temperature environment.

0.001すt%未満ではその効果を得ることはできす
、1υt%を越えると接触抵抗の低下現象が認められる
If it is less than 0.001 t%, this effect cannot be obtained, but if it exceeds 1 υt%, a decrease in contact resistance is observed.

封孔処理液は上述の成分を有するが、溶媒としては特に
制限されず、公知の有機溶媒より適宜選択することがで
きる。例えばトルエン、キシレン等の石油系溶媒、トリ
クロロエチレン、トリクロロエタン等のハロゲン系溶媒
、あるいはフロン系溶媒等である。
Although the pore-sealing liquid has the above-mentioned components, the solvent is not particularly limited and can be appropriately selected from known organic solvents. Examples include petroleum-based solvents such as toluene and xylene, halogen-based solvents such as trichloroethylene and trichloroethane, and fluorocarbon-based solvents.

処理方法としては、めっき品を封孔処理液中に浸漬する
か、封孔処理液をスプレー、あるいは塗布するなど、何
れの方法によることもできる。しかし本発明において、
めっき品の形状が板・条、プレス部品であるを問わず、
めっき直後すなわち連続ラインであれば、そのラインの
中で処理することが、封孔処理の各種機能を高める効果
が高いことを見いだした。
As a treatment method, any method can be used, such as immersing the plated product in a pore sealing solution, or spraying or applying the pore sealing solution. However, in the present invention,
Regardless of the shape of the plated product, whether it is a plate, strip, or pressed part,
It has been found that performing the treatment immediately after plating, that is, in a continuous line, is highly effective in enhancing various functions of the sealing treatment.

さらに、めっき品をプレス加工後に本発明の封孔処理液
で封孔処理する事も有効である。めっき後封孔処理した
金属材料であっても、その後のプレス加工で付着したプ
レス油を洗浄する工程において、封孔処理の機能の多く
は喪失する、そこて再度の封孔処理が有効となる。
Furthermore, it is also effective to seal the plated product with the sealing solution of the present invention after press working. Even with metal materials that have been sealed after plating, much of the sealing function is lost in the process of cleaning the press oil that adheres during subsequent press working, so re-sealing becomes effective. .

その後のコネクタの加工工程においても、最終の電子機
器の組み立てまで、めっき品の洗浄工程があれば同様に
封孔処理機能は喪失するため、適宜本発明により封孔処
理する事が有効である。さらには電子機器にコネクタと
して組み込まれ実使用に際しても、使用にともない接点
性能が低下するなどの場合は、適宜本封孔処理液により
処理することができる。従って、本発明は本発明封孔処
理液により処理されたコネクタをも包含するものである
In the subsequent connector processing steps as well, if there is a cleaning step for the plated product until the final assembly of the electronic device, the hole sealing function will be similarly lost, so it is effective to perform hole sealing according to the present invention as appropriate. Furthermore, even if it is incorporated into an electronic device as a connector and used in actual use, if the contact performance deteriorates with use, it can be treated with the present pore sealing treatment liquid as appropriate. Therefore, the present invention also includes connectors treated with the sealing solution of the present invention.

なお1本発明における、めっき母材となる金属材料は、
銅及び、黄銅、りん青銅、チタン銅等の各種銅合金、鉄
、ステンレス鋼、高ニッケル合金等、コネクタの要求性
能に従い適宜選択でき、何等制限されない。中間層とし
てのパラジウムまたはパラジウム合金めっきは、電気め
っき、無電解めっき、あるいはCVD、PVD等の乾式
めっき等の公知のものを適用でき、めっきの方法は制限
されない。金めつきは各種のアルカリ性浴、酸性浴から
純金めっきの他、コバルト等の合金成分を含有する金合
金めっきも包含するものである。
Note that in the present invention, the metal material serving as the plating base material is:
Copper, various copper alloys such as brass, phosphor bronze, and titanium copper, iron, stainless steel, and high nickel alloys can be appropriately selected according to the required performance of the connector, and there are no restrictions in any way. As the palladium or palladium alloy plating for the intermediate layer, known methods such as electroplating, electroless plating, or dry plating such as CVD and PVD can be applied, and the plating method is not limited. Gold plating includes pure gold plating from various alkaline baths and acidic baths, as well as gold alloy plating containing alloy components such as cobalt.

[実施例] 以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。[Example] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

ばね用りん青銅(C5210)の厚み0.2mmの冷間
圧延材を用い、雄、及び雌の連続端子をそれぞれプレス
成形した。これらをリール・ノウ・リールの連続電気め
っきラインを通して電気めっきを施した。めっきライン
においては、脱脂、酸洗後、中性タイプのパラジウム−
ニッケル合金めっき浴により0.3μmのパラジウム−
ニッケル合金めっき後、酸性めっき浴により金を0.1
μmの厚みで接点部に部分めっきした。また、連続めっ
きラインでは、金めつき後に封孔処理工程を設け、同工
程ではトリクロロエタンを溶媒とした各種封孔処理液に
連続端子を通人することにより封孔処理を施した。
Male and female continuous terminals were each press-molded using cold-rolled spring material of phosphor bronze (C5210) with a thickness of 0.2 mm. These were electroplated through a Reel Now Reel continuous electroplating line. In the plating line, after degreasing and pickling, neutral type palladium
0.3μm palladium by nickel alloy plating bath
After nickel alloy plating, 0.1% gold is applied in an acidic plating bath.
The contacts were partially plated to a thickness of μm. In addition, in the continuous plating line, a sealing process was provided after gold plating, and in this process, the continuous terminal was passed through various sealing solutions using trichloroethane as a solvent to perform the sealing process.

こうして表面処理した雄と雌の端子をキャリア一部から
切断しリード線を圧着した後、それぞれを嵌合し評価試
験に供した。
After the male and female terminals thus surface-treated were cut from a portion of the carrier and the lead wires were crimped, they were fitted together and subjected to an evaluation test.

接触抵抗は直流10mmA、開放電圧50mnVで測定
した。腐食試験は次の条件で行った。
The contact resistance was measured at a direct current of 10 mmA and an open circuit voltage of 50 mnV. The corrosion test was conducted under the following conditions.

ガス組成:H2S    3±ippmS○2 10±
3ppm 温 度=40±2℃ 湿   度= 75± 5%RH 時  間: 96時間 複合試験は雄と雌の端子を自動繰返し挿抜装置で100
回の挿抜を繰返し行う摩耗試験を行った後、上記腐食試
験に供し、さらに接触抵抗を測定した。
Gas composition: H2S 3±ippmS○2 10±
3ppm Temperature = 40±2℃ Humidity = 75±5%RH Time: 96 hours The combined test was performed by inserting and removing male and female terminals 100 times using an automatic repeating insertion/extraction device.
After performing a wear test in which the wires were repeatedly inserted and removed several times, they were subjected to the corrosion test described above, and the contact resistance was further measured.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

第  1  表 注1)ただし、表中封孔処理液の略号は以下の通りであ
る。
Table 1 Note 1) However, the abbreviations for the sealing liquids in the table are as follows.

A パラフィンワックス 8−1  ジノニルナフタレンスルフオン酸バリウム塩
−2ジノニルナフタレンスルフオン酸カルシウム塩−3
ジノニルナフタレンスルフオン酸亜鉛塩−4ジノニルナ
フタレンスルフオン酸バリウム塩基性塩 −5ジノニルナフタレンスルフオン酸エチレンジアミン
塩 −6ジノニルナフタレンオン酸フ方ン酸ナトリウム塩−
7ジノニルナフタレンスルフォン酸リチウム塩C−1ベ
ンゾトリアゾール C−2インダゾール C−3ベンズイミダゾール C−4インドール C−51−メチルベンゾトリアゾール C−6トリルトリアゾール C−7ソジウムトリルトリアゾール C−8メラミン D−I  P、P’ −ジオクチルジフェニルアミン−
24,4’ −テトラメチルジアミノジフェニルメタン −34,4’ −メチレン−ビス−(2,6−ジーt、
−ブチルフェノール) −42,2’ −メチレン−ビス−(4−メチル−6−
t−プチルフェノール) −52,2’ −メチレン−ビス=(4−エチル−6−
t−ブチルフェノール) −62,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール−7ブチ
ル化ヒトロキシアニゾール −82,6〜ジーt−ブチル−4−エチルフェノール注
2)試験の判定基準は次の通りである。
A Paraffin wax 8-1 Dinonylnaphthalenesulfonate barium salt-2 Dinonylnaphthalenesulfonate calcium salt-3
Dinonylnaphthalene sulfonate zinc salt - 4 Dinonylnaphthalene sulfonate barium basic salt - 5 Dinonylnaphthalene sulfonate ethylene diamine salt - 6 Dinonylnaphthalene sulfonate sodium salt -
7 Dinonylnaphthalene sulfonic acid lithium salt C-1 Benzotriazole C-2 Indazole C-3 Benzimidazole C-4 Indole C-51-Methylbenzotriazole C-6 Tolyltriazole C-7 Sodium Tolyltriazole C-8 Melamine D -I P, P' -dioctyldiphenylamine-
24,4'-tetramethyldiaminodiphenylmethane-34,4'-methylene-bis-(2,6-di-t,
-butylphenol) -42,2' -methylene-bis-(4-methyl-6-
t-butylphenol) -52,2'-methylene-bis=(4-ethyl-6-
t-Butylphenol) -62,6-di-t-butyl-p-cresol-7-butylated hydroxyanisole-82,6-di-t-butyl-4-ethylphenol Note 2) The test criteria are as follows: It is.

■ 初期接触抵抗、複合試験微接触抵抗(n=5の平均
値)0 : 25mmΩ以下 △: 25−5011InΩ X : 50on+Ω以上 ■ 腐食試験後外観 ◎:腐食生成物全く認められず O:腐食生成物痕跡あり △:腐食生成物点在 ×:腐食点が全面に認められる [発明の効果] 以上述尺たように、本発明により封孔処理された中間層
としてパラジウムまたはパラジウム合金めっき後、金め
つきの接点は、処理直後の接触抵抗が似く、過酷な腐食
環境においても優れた耐食性を示し、また熱H歴によっ
ても接触抵抗が上昇せず、接触性能が安定しているとい
う利点を有する。
■ Initial contact resistance, composite test micro contact resistance (average value of n = 5) 0: 25mmΩ or less△: 25-5011InΩ X: 50on+Ω or more ■ Appearance after corrosion test ◎: No corrosion products observed O: Corrosion products Traces present △: Corrosion products dotted ×: Corrosion points are observed on the entire surface [Effects of the invention] As described above, as an intermediate layer sealed by the present invention, after plating with palladium or palladium alloy, gold plating is performed. These contacts have similar contact resistance immediately after treatment, exhibit excellent corrosion resistance even in harsh corrosive environments, and have the advantage that contact resistance does not increase even with thermal history and contact performance is stable.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金または金合金を
めっきした材料を処理する封孔処理液であって、(A)
パラフィンワックス0.1〜3wt%及び(B)アルキ
ル置換ナフタレンスルフォン酸塩の1種または2種以上
0.1〜3wt%を必須成分とする有機溶剤溶液よりな
ることを特徴とする封孔処理液。
(1) A sealing solution for treating a copper-based or iron-based metal material plated with palladium or palladium alloy as an intermediate layer, and then plated with gold or gold alloy, which (A)
A pore sealing solution comprising an organic solvent solution containing 0.1 to 3 wt% of paraffin wax and 0.1 to 3 wt% of one or more types of (B) alkyl-substituted naphthalene sulfonates as essential components. .
(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種もしくは2
種以上0.05〜3wt%をさらに含有することを特徴
とする請求項(1)記載の封孔処理液。
(2) One or two chelate-forming cyclic nitrogen compounds
The pore-sealing treatment liquid according to claim 1, further comprising 0.05 to 3 wt% of at least one species.
(3)アミン系又はフェノール系酸化防止剤の1種もし
くは2種以上0.001〜1wt%を、さらに含有する
ことを特徴とする前記(1)又は(2)記載の封孔処理
液。
(3) The sealing solution according to (1) or (2) above, further comprising 0.001 to 1 wt % of one or more amine-based or phenol-based antioxidants.
(4)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてパラジウム
またはパラジウム合金をめっき後、さらにその上に金ま
たは金合金を電気めっき後、前記(1)、(2)または
(3)記載の封孔処理液で処理することを特徴とする封
孔処理方法。
(4) After plating palladium or a palladium alloy as an intermediate layer on a copper-based or iron-based metal material, and further electroplating gold or a gold alloy thereon, the seal according to (1), (2) or (3) above is applied. A pore sealing method characterized by processing with a pore treatment liquid.
(5)中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金を
めっき後、金または金合金めっきされた銅系または鉄系
金属材料をプレス加工後、前記(1)、(2)または(
3)に記載の封孔処理液で処理することを特徴とする封
孔処理方法。
(5) After plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer, press the copper-based or iron-based metal material plated with gold or gold alloy, and then press the above (1), (2) or (
3) A method for sealing, characterized by treating with the sealing solution according to item 3).
(6)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金又は金合金をめ
っきしためっき材よりなり、前記(1)、(2)または
(3)記載の封孔処理液で封孔処理したことを特徴とす
るコネクタ。
(6) Made of a plating material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with palladium or a palladium alloy as an intermediate layer, and then gold or a gold alloy is plated, and the pore sealing described in (1), (2), or (3) above is used. A connector characterized by having its pores sealed with a treatment liquid.
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