JPH04202697A - Sealing solution and sealing method - Google Patents

Sealing solution and sealing method

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JPH04202697A
JPH04202697A JP32992690A JP32992690A JPH04202697A JP H04202697 A JPH04202697 A JP H04202697A JP 32992690 A JP32992690 A JP 32992690A JP 32992690 A JP32992690 A JP 32992690A JP H04202697 A JPH04202697 A JP H04202697A
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JP
Japan
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sealing
gold
plated
alloy
palladium
Prior art date
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Application number
JP32992690A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Fukamachi
一彦 深町
Yasuhiro Shirokabe
靖裕 白壁
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Nikko Kyodo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To produce a connector with an electrical contact having superior lubricity, corrosion preventiveness and electrical connectivity by successively plating a Cu-based metallic material with Pd and Au and sealing the plated material with a soln. contg. a specified % each of paraffin wax and a metallic soap in an org. solvent. CONSTITUTION:A Cu-or Fe-based metallic material is plated with Pd or Pd alloy to form a middle layer and it is further electroplated with Au or Au alloy. The plated material is then sealed with sealing a soln. This soln. contains 0.1-3wt.% paraffin wax and 0.05-3wt.% one or more kinds of metallic soaps such as Ca and Al salts of oxidized petrolatum and oxidized wax as essential components in an org. solvent such as toluene. The paraffin wax is a satd. hydrocarbon mixture having about 300-500mol.wt. based on straight chain hydrocarbons having about 20-35 average number of C atoms. A connector with a contact having contact resistance not increased by its heat history and stable contact performance is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、金めつき電気接点の封孔処理液、封孔処理方
法及び封孔処理されたコネクタに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a sealing solution for gold-plated electrical contacts, a sealing method, and a sealed connector.

特には繰返し挿抜や振動により摩耗と腐食が同時進行す
るような過酷な使用条件において、電気接点の潤滑、防
錆及び電気的接続性が長期的に安定して優れる封孔処理
液、封孔処理方法及び封孔処理されたコネクタに関する
Sealing liquids and sealing treatments that provide stable, long-term lubrication, rust prevention, and electrical connectivity for electrical contacts, especially under harsh usage conditions where wear and corrosion progress simultaneously due to repeated insertion/extraction and vibration. The present invention relates to a method and a sealed connector.

[従来の技術] 電子機器用接続部品としてコネクタは最も代表的なもの
であり多種多様のコネクタが実用化されている。電算機
や通信用機器等高度の信頼性が要求される、いわゆる産
業用電子機器に使用されるコネクタは、りん青銅、ベリ
リウム銅等のバネ用鋼合金を母材とし、接点用金属被膜
としてニッケル下地めっき後その上に金めつきを施した
ものが一般に利用されている。
[Prior Art] Connectors are the most typical connecting parts for electronic devices, and a wide variety of connectors have been put into practical use. Connectors used in so-called industrial electronic devices that require a high degree of reliability, such as computers and communication equipment, are made of spring steel alloys such as phosphor bronze and beryllium copper as the base material, and nickel is used as the metal coating for the contacts. Generally used is a base plating followed by gold plating.

金は貴金属の中でも極めて耐食性が高く、表面に酸化物
や他の被膜を形成しないため電気的接続性に優れ、接点
用金属として広く使用されている。
Gold has extremely high corrosion resistance among noble metals, and because it does not form oxides or other films on its surface, it has excellent electrical connectivity and is widely used as a contact metal.

しかし、金は高価であるため、コネクタの製造コストを
下げる目的で様々な省令化策が採られてきた。その代表
的方法が金めつきの厚みを薄くする方法であるが、金め
つきの厚みをコくするとともに、被膜のピンホールの数
が指数関数的に増え。
However, since gold is expensive, various ministerial measures have been taken to reduce the manufacturing cost of connectors. A typical method is to reduce the thickness of the gold plating, but as the thickness of the gold plating increases, the number of pinholes in the film increases exponentially.

耐食性が著しく低下するという問題を抱えている。The problem is that corrosion resistance is significantly reduced.

そこで、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金
をめっきし、その上に金めっきしたものが利用されてい
る。しかし、このめっきでも十分な耐食性が得られてい
ない。この問題を解決する方法のひとつに封孔処理があ
る。すなわち、各種の無機性、あるいは有機性の薬品で
金めつき面を処理し、ピンホールを塞ぎ耐食性を向上さ
せようとするものであるが、中間層としてパラジウムま
たはパラジウム合金をめっきし、その上に金めっきした
材料への封孔処理液及び封孔処理方法は公知のものがな
い。
Therefore, a material in which the intermediate layer is plated with palladium or a palladium alloy and then gold plated is used. However, even this plating does not provide sufficient corrosion resistance. One method to solve this problem is pore sealing. In other words, the gold-plated surface is treated with various inorganic or organic chemicals to close pinholes and improve corrosion resistance, but palladium or palladium alloy is plated as an intermediate layer, and then There are no known sealing liquids or sealing methods for gold-plated materials.

[発明が解決しようとする課題] 封孔処理、特に有機性の薬品による封孔処理は、金めつ
き被膜の厚み低減に対し、耐食性を維持する効果に優れ
ている。ところが従来の封孔処理液は鉄系金属材料や銅
系金属材料の防錆剤として知られていた化合物を中心と
して選択されたものか、あるいは省令化以前にも金めつ
き接点の潤滑を目的として使用されていた潤滑剤をその
まま使用したものが一般的であった。封孔処理さ九た金
めっきに要求される特性としては、 ■ 潤滑性がよいこと、 ■ 耐食性が優れていること、 ■ 接触抵抗が低く安定していること、■ はんだ付性
がよいこと、及び ■ それらの特性が各種の環境、使用条件下で長期に亘
り持続すること、 である。
[Problems to be Solved by the Invention] A pore sealing treatment, particularly a pore sealing treatment using an organic chemical, is excellent in maintaining corrosion resistance while reducing the thickness of a gold plating film. However, conventional sealing liquids were mainly selected from compounds that were known as rust preventive agents for iron-based metal materials and copper-based metal materials, or they were used for the purpose of lubricating gold-plated contacts even before the ministerial ordinance was established. It was common to use the same lubricant that was used as a lubricant. The properties required for sealed gold plating include: ■ Good lubricity; ■ Excellent corrosion resistance; ■ Low and stable contact resistance; ■ Good solderability. and ■ Those characteristics persist over a long period of time under various environments and usage conditions.

ところが従来の封孔処理液は、そのような総合的観点か
ら必ずしも満足できるものではなく、なんらかの品質面
で劣っているものが一般的であった。
However, conventional sealing liquids are not necessarily satisfactory from such a comprehensive viewpoint, and are generally inferior in some quality aspect.

特に、ICカードの電気接点(あるいはコネクタ)のよ
うに1万回も挿抜後もその電気的接続性を保証しなけれ
ばならないというように電気接点に要求される品質はま
すます高度化してきている。
In particular, the quality required of electrical contacts is becoming increasingly sophisticated, such as the electrical contacts (or connectors) of IC cards, which must guarantee electrical connectivity even after being inserted and removed 10,000 times. .

ところが、長い時間をかけて1万回にも及び挿抜を受け
ると、初期には潤滑性の優れていた封孔処理であっても
、繰返し挿抜中に封孔処理皮膜に大気中の塵埃等が付着
し、摩耗を促進するという問題があった。
However, after being inserted and removed 10,000 times over a long period of time, even though the sealing treatment initially had excellent lubricity, the sealing film becomes contaminated with dust and other particles from the atmosphere during repeated insertion and removal. There was a problem of adhesion and accelerated wear.

また、自動車の電子機器化、いわゆるカーエレクトロニ
クス化の急激な進展とともに自動車に使用される電子回
路用コネクタの材料で金めっきされたものが増えている
。自動車用コネクタの接点は、車体による振動によって
生じる微摺動摩耗を受けるとともに、工業地帯における
各種の大気中の腐食性ガス、海岸地帯における海塩粒子
、あるいは寒冷地における融雪剤など極めて過酷な腐食
環境に晒される。
Furthermore, with the rapid progress in the use of electronic devices in automobiles, so-called car electronics, the number of gold-plated connectors for electronic circuits used in automobiles is increasing. The contacts of automotive connectors are subject to slight sliding wear caused by vibrations from the car body, as well as extremely severe corrosion caused by various corrosive gases in the atmosphere in industrial areas, sea salt particles in coastal areas, and snow melting agents in cold regions. exposed to the environment.

すなわち、従来の封孔処理では、摩耗と腐食が共存する
過酷な環境において、長期にわたり上述の電気接点に要
求される特性を満足させることはできなかった。
That is, the conventional sealing process has not been able to satisfy the above-mentioned characteristics required for electrical contacts over a long period of time in a harsh environment where wear and corrosion coexist.

本発明は、このような要求を満たすことのできる改善さ
れた封孔処理液及びそれを用いる封孔処理方法を提供す
ることを目的とし、あわせてそれにより処理されたコネ
クタを提供することを目的とするものである。。
An object of the present invention is to provide an improved sealing liquid that can meet such demands and a sealing method using the same, and also to provide a connector treated with the same. That is. .

riuaを解決するための手段] かかる状況に鑑み5本発明者等は鋭意研究を行った結果
、以下に示す封孔処理液、方法及び封孔処理さ九たコネ
クタを発明するに至った。
Means for Solving RIUA] In view of this situation, the present inventors conducted intensive research and as a result, came to invent the following sealing liquid, method, and sealing connector.

すなわち、本発明は、 (1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金または金合金を
めっきした材料を処理する封孔処理液であって、(A)
パラフィンワックス0.1〜311t%及び(B)金属
せっけんの1種または2種以上0.05〜3tyt%を
必須成分とする有機溶剤溶液よりなることを特徴とする
封孔処理液。
That is, the present invention provides: (1) a sealing solution for treating a material that has been plated with gold or gold alloy after plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer on a copper-based or iron-based metal material, comprising (A)
A pore-sealing treatment liquid comprising an organic solvent solution containing as essential components 0.1 to 311 t% of paraffin wax and 0.05 to 3 t% of one or more metal soaps (B).

(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種または2種
以上0.05〜3iit%をさらに含有することを特徴
とする前記(1)記載の封孔処理液6(3)アミン系又
はフェノール系酸化防止剤の1種または2種以上を0.
001〜1しt%さらに含有することを特徴とする前記
(1)又は(2)記載の封孔処理液。
(2) 6 (3) Amine-based or phenol-based pore-sealing liquid according to (1) above, further containing 0.05 to 3 iit% of one or more chelate-forming cyclic nitrogen compounds. One or more antioxidants are added to 0.
The sealing treatment liquid according to (1) or (2) above, further containing 001 to 1 t%.

(4)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてパラジウム
またはパラジウム合金をめっき後、さらにその上に金ま
たは金合金を電気めっき後、前記(1)又は(2)記載
の封孔処理液で処理することを特徴とする封孔処理方法
(4) After plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer on a copper-based or iron-based metal material and further electroplating gold or gold alloy thereon, use the sealing solution described in (1) or (2) above. A pore sealing method characterized by:

(5)中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金を
めっき後、金または金合金めっきされた銅系または鉄系
金属材料をプレス加工後、前記(1)、(2)又は(3
)記載の封孔処理液で処理することを特徴とする封孔処
理方法。
(5) After plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer, press the copper-based or iron-based metal material plated with gold or gold alloy, and then press the above (1), (2) or (3).
) A pore sealing treatment method characterized by treating with the pore sealing treatment liquid described in .

(6)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金又は金合金をめ
っきしためっき材よりなり、前記(1)、(2)又は(
3)記載の封孔処理液で封孔処理したことを特徴とする
コネクタである。
(6) It is made of a plating material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with palladium or a palladium alloy as an intermediate layer, and then gold or a gold alloy is plated, and
3) A connector characterized in that it has been sealed with the sealing solution described above.

本発明の封孔処理液の必須成分であるパラフィンワック
スは平均炭素数20〜35程度の直鎖状炭化水素を主成
分とする分子量300〜500程度の飽和炭化水素混合
物である。
Paraffin wax, which is an essential component of the pore-sealing solution of the present invention, is a saturated hydrocarbon mixture with a molecular weight of about 300 to 500 and whose main component is a linear hydrocarbon with an average carbon number of about 20 to 35.

本発明において、パラフィンワックスは基油としての機
能を有する。すなわちそれ自体、多数のピンホールの存
在する金めつき表面に皮膜を形成し、ピンホール等金め
っきの微視的な欠陥を通して、大気中の水分、酸素、及
び各種の腐食媒が中間層であるパラジウムまたはパラジ
ウム合金および金属材料と接触するのを防いでいる。そ
して本発明の目的である、腐食と摩耗の共存する環境に
おいて、長期間にわたり、電気接点の性能を安定的に維
持する上で最も重要な効果を奏する。すなわち、鉄鋼等
ではラノリン、ペトロラタム、グリース、鉱油等が防錆
剤の用途で知られているが、この様な軟調の基油ではべ
とつきが有るため、大気中の塵埃粒子が付着し、電気接
点が繰返し摩擦される際に、金めつきの摩耗を促進し、
同時に封孔機能が低下し、腐食が進行するため電気接点
の寿命を大幅に低下させる。本発明において、パラフィ
ンワックスがそれらの欠陥を有しない金めつき接点用の
封孔処理液の基油としてきわめて好適であることを見出
したものである。
In the present invention, paraffin wax functions as a base oil. In other words, it forms a film on the gold plating surface that has many pinholes, and through microscopic defects in the gold plating such as pinholes, moisture, oxygen, and various corrosive agents in the atmosphere can enter the intermediate layer. Prevents contact with certain palladium or palladium alloys and metal materials. The most important effect is achieved in stably maintaining the performance of electrical contacts over a long period of time in an environment where corrosion and wear coexist, which is the objective of the present invention. In other words, lanolin, petrolatum, grease, mineral oil, etc. are known to be used as rust preventives in steel, etc., but these soft base oils are sticky, so dust particles in the atmosphere can adhere to them, causing damage to electrical contacts. When it is repeatedly rubbed, it accelerates the wear of the gold plating,
At the same time, the sealing function deteriorates and corrosion progresses, significantly shortening the life of the electrical contacts. In the present invention, it has been discovered that paraffin wax does not have these defects and is extremely suitable as a base oil for a sealing liquid for gold-plated contacts.

本発明において、この基油の選択は他の成分の作用と相
俟って相乗的に前述の耐食性、耐久性を向上させるうえ
で重要な成分である。特に鉄鋼等の防錆剤とは異なり、
場合によっては、マイクロアンペアオーダーの微弱電流
を確実に相手端子と接続しなければならないコネクタ等
電子部品の接点表面の封孔処理剤であるから、基油の選
択は防錆効果のみではなく、電気的接続性が極めて重要
となる。そして、その濃度は0.1すt%より小さいと
In the present invention, the selection of this base oil is an important component in synergistically improving the above-mentioned corrosion resistance and durability in conjunction with the effects of other components. Especially unlike rust inhibitors for steel, etc.
In some cases, the base oil is used as a sealing agent for the contact surfaces of electronic components such as connectors that must reliably connect a weak current on the order of microamperes to a mating terminal. physical connectivity will be extremely important. And its concentration is less than 0.1 t%.

耐食性、耐久性が小さくなり、所望の効果を得ることが
できない。一方3wt%より大きいと接触抵抗が上昇し
接点用の封孔処理として価値がなくなるので好ましくな
い。
Corrosion resistance and durability decrease, making it impossible to obtain the desired effect. On the other hand, if it is more than 3 wt%, the contact resistance increases and the sealing treatment for contacts becomes useless, which is not preferable.

本発明の封孔処理液のもう一つの必須成分は、金属せっ
けんである。本発明において特に好ましい金属せっけん
としては、例えば、酸化ペトロラタム金属塩、酸化ワッ
クス金属塩、ステアリン酸金属塩、ラウリン酸金属塩、
リシルシン酸金属塩、ミリスチン酸金属塩、オレイン酸
金属塩、ナフテン酸金属塩、及びラノリン酸金属塩等を
挙げることができ、又、その金属塩としては特に制限は
ないが、好ましくは、Ca、AI、Ba、Pb塩等であ
る。これらは1種または2種を混合して総量で、0.0
5〜3vt%で用いられる。0.05wt%未渦では耐
食性向上効果が得られず、又3wt%を越えると接触抵
抗への悪影響が認められる。
Another essential component of the pore sealing solution of the present invention is metal soap. Particularly preferred metal soaps in the present invention include, for example, petrolatum oxide metal salts, oxidized wax metal salts, stearate metal salts, laurate metal salts,
Examples include metal salts of lysylsinate, metal salts of myristate, metal salts of oleate, metal salts of naphthenate, and metal salts of lanophosphate, and the metal salts are not particularly limited, but preferably Ca, These include AI, Ba, and Pb salts. These are one type or a mixture of two types and the total amount is 0.0
It is used at 5 to 3 vt%. If the content is 0.05 wt% without vortex, no improvement in corrosion resistance can be obtained, and if it exceeds 3 wt%, an adverse effect on contact resistance is observed.

さらに本発明の封孔処理液には、必要に応じてキレート
形成性環状窒素化合物;アミン系又はフェノール系酸化
防止剤の1種又は2種以上を添加することができる。キ
レート形成性環状窒素化合物は、銅、ニッケル等に配位
して安定なキレートを形成する化合物で、特にベンゼン
環を有する環状窒素化合物、あるいはトリアジン系化合
物が好ましい。具体例を挙げれば、ベンゼン環を有する
環状窒素化合物としては、たとえば、 ベンゾトリアゾール系 ■ インダゾール系 ベンズイミダゾール系 N インドール系 テ (上記各式中、R1は水素、アルキル、置換アルキルを
表わし、R2はアルカリ金属、水素、アルキル、置換ア
ルキルを表わす) 等を挙げることができる。
Furthermore, one or more types of chelate-forming cyclic nitrogen compounds; amine-based or phenol-based antioxidants can be added to the pore-sealing treatment liquid of the present invention, if necessary. The chelate-forming cyclic nitrogen compound is a compound that forms a stable chelate by coordinating with copper, nickel, etc., and is particularly preferably a cyclic nitrogen compound having a benzene ring or a triazine-based compound. To give specific examples, cyclic nitrogen compounds having a benzene ring include, for example, benzotriazole-based ■ indazole-based benzimidazole-based N indole-based (in each of the above formulas, R1 represents hydrogen, alkyl, or substituted alkyl, and R2 represents (representing an alkali metal, hydrogen, alkyl, substituted alkyl), etc.

ベンゾトリアゾール系としては、例えばベンゾトリアゾ
ール(R,、R2ともに水素)、■−メチルベンゾトリ
アゾール(R工が水素、R2がメチル)、1−(N、N
−ジオクチルアミノメチル)ベンゾトリアゾール(Rt
が水素、R2がN、N−ジオクチルアミノメチル)、ト
リルトリアゾール(R□がメチル、R2が水素)、ソジ
ウムトリルトリアゾール(R工がメチル、R2がナトリ
ウム)等が好ましい。
Examples of benzotriazole systems include benzotriazole (R, R2 are both hydrogen), ■-methylbenzotriazole (R is hydrogen, R2 is methyl), 1-(N, N
-dioctylaminomethyl)benzotriazole (Rt
is hydrogen, R2 is N, N-dioctylaminomethyl), tolyltriazole (R□ is methyl, R2 is hydrogen), sodium tolyltriazole (R is methyl, R2 is sodium), and the like are preferred.

インダゾール系としては、例えばインダゾール(R1、
R2ともに水素)、2−メチルインダゾール(R工が水
素、R2がメチル)、2−ベンジルインダゾール(R,
が水素、R2がCGH,CH2) 、 l−アセチルイ
ンダゾール(R工が水素、R2がC0CH,)等が好ま
しい。
Examples of indazole series include indazole (R1,
R2 is hydrogen), 2-methylindazole (R is hydrogen, R2 is methyl), 2-benzylindazole (R,
is hydrogen, R2 is CGH, CH2), l-acetylindazole (R is hydrogen, R2 is COCH,), etc. are preferred.

ベンズイミダゾール系としては、例えばベンズイミダゾ
ール(R工、R2ともに水素)、N−アセチイベンズイ
ミダゾール(R1が水素、R2がC0CH2)+ N−
ベンゾイルベンズイミダゾール(R1が水素、R2がc
oc、Hs)等が好ましい。
Examples of benzimidazole systems include benzimidazole (both R and R2 are hydrogen), N-acetibenzimidazole (R1 is hydrogen, R2 is C0CH2) + N-
Benzoylbenzimidazole (R1 is hydrogen, R2 is c
oc, Hs), etc. are preferred.

インドール系としては、例えばインドール(R1,R2
ともに水素)、インドール−1−カルボン酸(R工が水
素、R2がC○○H)、l−メチルインドール(R1が
水素、R2がCH,)  等が好ましい。
As an indole type, for example, indole (R1, R2
(both are hydrogen), indole-1-carboxylic acid (R is hydrogen, R2 is C○○H), l-methylindole (R1 is hydrogen, R2 is CH), and the like are preferred.

また、トリアジン系化合物の好ましい具体例としては、
例えば、6−置換−1,3,5−トリアジン−2,4−
ジチオール−ナトリウム塩 (Rはアルキル基で置換されたアミノ基を表わし、たと
えば−N(C4)19)2、−N (C,Hエフ)2、
−N(C□2H1S)2、−Nl(C,)l工、 CH
= CHC,H工1等が好ましい)、シアヌル酸(2,
4,6−)−リオキシ−1,3,5−トリアジン)、 メラミン(2,4,6−トリアミノ−1,3,5−トリ
アジン)。
In addition, preferred specific examples of triazine compounds include:
For example, 6-substituted-1,3,5-triazine-2,4-
Dithiol-sodium salt (R represents an amino group substituted with an alkyl group, for example -N(C4)19)2, -N(C,HF)2,
-N(C□2H1S)2, -Nl(C,)l, CH
= CHC, H-1, etc. are preferred), cyanuric acid (2,
4,6-)-lioxy-1,3,5-triazine), melamine (2,4,6-triamino-1,3,5-triazine).

等を挙げることができる。これらは1種または2種以上
混合して添加され、パラフィンワックスと共に耐食性、
耐久性を向上させる。その濃度は総量で0.05〜3w
t%である。0,05wt%より小さいと耐食性、耐久
性が低く、また、3vt%より大きいと電気的接続性に
支障が生じる。
etc. can be mentioned. These are added singly or as a mixture of two or more, and together with paraffin wax, they provide corrosion resistance,
Improve durability. The total concentration is 0.05~3w
t%. If it is less than 0.05wt%, corrosion resistance and durability will be low, and if it is more than 3vt%, electrical connectivity will be impaired.

又、本発明の封孔処理液に、必要に応じて添加される上
記のアミン系又はフェノール系酸化防止剤としては、た
とえば、 P、P ’−ジオクチルジフェニルアミン4.4′−テ
トラメチルジアミノジフェニルメタ4.4′−メチレン
−ビス−(2,6−ジーt−ブチルフェノール) (CI(、)、 CG (CH3)。
In addition, examples of the above-mentioned amine-based or phenolic antioxidants which may be added to the sealing solution of the present invention as needed include P,P'-dioctyldiphenylamine 4,4'-tetramethyldiaminodiphenylmeth. 4.4'-Methylene-bis-(2,6-di-t-butylphenol) (CI(,), CG(CH3).

2.2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール) CH,CH。
2.2'-methylene-bis-(4-methyl-6-t-butylphenol) CH,CH.

2.2′−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブ
チルフェノール) OH0H CH2CH,CH2CH。
2.2'-Methylene-bis-(4-ethyl-6-t-butylphenol) OHOH CH2CH, CH2CH.

2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾールH CH□ ブチル化ヒドロキシアニゾール OH0H OCR,OCH。2.6-di-t-butyl-p-cresol H CH□ Butylated hydroxyanisole OH0H OCR, OCH.

2.6−ジーし一ブチルー4−エチルフェノールH C)12CH。2.6-di-butyl-4-ethylphenol H C) 12CH.

等を挙げることができる。etc. can be mentioned.

これらは、1種又は2種以上を総量で0.001〜1w
t%添加することができる。
These include one or more types in a total amount of 0.001 to 1w.
t% can be added.

これらの成分を添加することにより、耐久性を一層向上
させることができる。すなわち、封孔処理皮膜の機能を
長期に亘り安定させ、また高温環境における皮膜の劣化
を抑制する効果を有する。
By adding these components, durability can be further improved. That is, it has the effect of stabilizing the function of the sealing film over a long period of time and suppressing deterioration of the film in a high-temperature environment.

0.001wt%未満ではその効果を得ることはできず
、1wt%を越えると接触抵抗の低下現象が認められる
If it is less than 0.001 wt%, this effect cannot be obtained, and if it exceeds 1 wt%, a decrease in contact resistance is observed.

封孔処理液は上述の成分を有するが、溶媒としては特に
制限されず、公知の有機溶媒より適宜選択することがで
きる。例えばトルエン、キシレン等の石油系溶媒、トリ
クロロエチレン、トリクロロエタン等のハロゲン系溶媒
、あるいはフロン系溶媒等である。
Although the pore-sealing liquid has the above-mentioned components, the solvent is not particularly limited and can be appropriately selected from known organic solvents. Examples include petroleum-based solvents such as toluene and xylene, halogen-based solvents such as trichloroethylene and trichloroethane, and fluorocarbon-based solvents.

処理方法としては、めっき品を封孔処理液中に浸漬する
か、封孔処理液をスプレー、あるいは塗布するなど、何
れの方法によることもできる。しかし本発明において、
めっき品の形状が板・条。
As a treatment method, any method can be used, such as immersing the plated product in a pore sealing solution, or spraying or applying the pore sealing solution. However, in the present invention,
The shape of the plated product is a plate or strip.

プレス部品であるを問わず、めっき直後すなわち連続ラ
インであれば、そのラインの中で処理することが、封孔
処理の各種機能を高める効果が高いことを見いだした。
Regardless of whether it is a pressed part, we have found that treating it immediately after plating, that is, in a continuous line, is highly effective in improving various functions of the sealing process.

さらに、めっき品をプレス加工後に本発明の封孔処理液
で封孔処理する事も有効である。めっき後封孔処理した
金属材料であっても、その後のプレス加工で付着したプ
レス油を洗浄する工程において、封孔処理の機能の多く
は喪失する。そこで再度の封孔処理が有効となる。
Furthermore, it is also effective to seal the plated product with the sealing solution of the present invention after press working. Even with metal materials that have been sealed after plating, most of the sealing function is lost during the subsequent process of cleaning press oil adhering during press working. Therefore, re-sealing becomes effective.

その後のコネクタの加工工程においても、最終の電子機
器の組み立てまで、めっき品の洗浄工程があれば同様に
封孔処理機能は喪失するため、適宜本発明により封孔処
理する事が有効である。さらには電子機器にコネクタと
して組み込まれ実使用に際しても、使用にともない接点
性能が低下するなどの場合は、適宜本封孔処理液により
処理することができる。従って、本発明は本発明封孔処
理液により処理されたコネクタをも包含するものである
In the subsequent connector processing steps as well, if there is a cleaning step for the plated product until the final assembly of the electronic device, the hole sealing function will be similarly lost, so it is effective to perform hole sealing according to the present invention as appropriate. Furthermore, even if it is incorporated into an electronic device as a connector and used in actual use, if the contact performance deteriorates with use, it can be treated with the present pore sealing treatment liquid as appropriate. Therefore, the present invention also includes connectors treated with the sealing solution of the present invention.

なお1、本発明における、めっき母材となる金属材料は
、銅及び、黄銅、りん青銅、チタン銅等の各種銅合金、
鉄、ステンレス鋼、高ニッケル合金等、コネクタの要求
性能に従い適宜選択でき、何等制限されない。中間層と
してのパラジウムまたはパラジウム合金めっきは、電気
めっき、無電解めっき、あるいはCVD、PVD等の乾
式めっき等の公知のものを適用でき、めっきの方法は制
限さ九ない。金めつきは各種のアルカリ性浴、酸性浴か
ら純金めっきの他、コバルト等の合金成分を含有する金
合金めっきも包含するものである。
1. In the present invention, the metal material serving as the plating base material includes copper and various copper alloys such as brass, phosphor bronze, titanium copper, etc.
Iron, stainless steel, high nickel alloy, etc. can be selected as appropriate according to the required performance of the connector, and there is no restriction in any way. As the palladium or palladium alloy plating for the intermediate layer, known methods such as electroplating, electroless plating, or dry plating such as CVD and PVD can be applied, and the plating method is not limited. Gold plating includes pure gold plating from various alkaline baths and acidic baths, as well as gold alloy plating containing alloy components such as cobalt.

[実施例] 以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。[Example] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

ばね用りん青銅(C5210)の厚み0.2noの冷間
圧延材を用い、雄、及び雌の連続端子をそれぞれプレス
成形した。これらをリール・ツウ・リールの連続電気め
っきラインを通して電気めっきを施した。めっきライン
においては、脱脂、酸洗後、中性タイプのパラジウム−
ニッケル合金めっき浴により0.3μmのパラジウム−
ニッケル合金めっき後、酸性めっき浴により金を0.1
μmの厚みで接点部に部分めっきした。また、連続めっ
きラインでは、金めつき後に封孔処理工程を設け、同工
程ではトリクロロエタンを溶媒とした各種封孔処理液に
連続端子を通人することにより封孔処理を施した。
Male and female continuous terminals were each press-molded using cold-rolled spring material of phosphor bronze (C5210) with a thickness of 0.2 NO. These were electroplated through a reel-to-reel continuous electroplating line. In the plating line, after degreasing and pickling, neutral type palladium
0.3μm palladium by nickel alloy plating bath
After nickel alloy plating, 0.1% gold is applied in an acidic plating bath.
The contacts were partially plated to a thickness of μm. In addition, in the continuous plating line, a sealing process was provided after gold plating, and in this process, the continuous terminal was passed through various sealing solutions using trichloroethane as a solvent to perform the sealing process.

こうして表面処理した雄と雌の端子をキャリア一部から
切断しリード線を圧着した後、それぞれを嵌合し評価試
験に供した。
After the male and female terminals thus surface-treated were cut from a portion of the carrier and the lead wires were crimped, they were fitted together and subjected to an evaluation test.

接触抵抗は直流10nn+A、開放電圧50a+Vで測
定した。腐食試験は次の条件で行った。
The contact resistance was measured at a direct current of 10 nn+A and an open circuit voltage of 50 a+V. The corrosion test was conducted under the following conditions.

ガス組成:H2S    3±lppm5o2 10±
3pptn 温   度: 40± 2℃ 湿   度: 75± 5%RH 時  間: 96時間 複合試験は、雄と雌の端子を自動縁返し挿抜装置で10
0回の挿抜を繰返し行う摩耗試験を行った後、上記腐食
試験に供し、さらに接触抵抗を測定、した。その結果を
第1表に示す。
Gas composition: H2S 3±lppm5o2 10±
3pptn Temperature: 40±2℃ Humidity: 75±5%RH Time: 96 hours In the combined test, male and female terminals were inserted and removed using an automatic edge-turning device for 10 minutes.
After conducting a wear test in which insertion and removal were repeated 0 times, the test piece was subjected to the corrosion test described above, and the contact resistance was further measured. The results are shown in Table 1.

第  1  表 注1)ただし、表中封孔処理液の略号は以下の通りであ
る。
Table 1 Note 1) However, the abbreviations for the sealing liquids in the table are as follows.

A パラフィンワックス B−1酸化ペトロラタムCa塩 −2酸化ワックスCa塩 =3 ステアリン酸Ca塩 −4ラウリン酸A1塩 −5リシルシン酸A1塩 −6ミリスチン酸Ca塩 −7オレイン酸Ba塩 −8ナフテン酸Ba塩 −9ラノリン酸Al塩 C−1ベンゾトリアゾール C−2インダゾール C−3ベンズイミダゾール C−4インドール C−51−メチルベンゾトリアゾール C−6トリルトリアゾール C−7ソジウムトリルトリアゾール C−8メラミン D−I  P、P’ −ジオクチルジフェニルアミン−
24,4’ −テトラメチルジアミノジフェニルメタン −34,4’ −メチレン−ビス−(2,6−ジーし−
ブチルフェノール) −42,2’ −メチレン−ビス−(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール) −52,2’ −メチレン−ビス−(4−エチル−6−
t−ブチルフェノール) −62,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール−7ブチ
ル化ヒドロキシアニゾール −82,6−ジーt−ブチル−4−エチルフェノール注
2)試験の判定基準は次の通りである。
A Paraffin wax B-1 Petrolatum oxide Ca salt-2 Oxidized wax Ca salt = 3 Stearic acid Ca salt-4 Lauric acid A1 salt-5 Lysylcinic acid A1 salt-6 Myristic acid Ca salt-7 Oleic acid Ba salt-8 Naphthenic acid Ba salt-9 Lanolic acid Al salt C-1 Benzotriazole C-2 Indazole C-3 Benzimidazole C-4 Indole C-51-Methylbenzotriazole C-6 Tolyltriazole C-7 Sodium Tolyltriazole C-8 Melamine D -I P, P' -dioctyldiphenylamine-
24,4'-tetramethyldiaminodiphenylmethane-34,4'-methylene-bis-(2,6-di-
butylphenol) -42,2'-methylene-bis-(4-methyl-6-
t-butylphenol) -52,2'-methylene-bis-(4-ethyl-6-
-62,6-di-t-butyl-p-cresol-7-butylated hydroxyanisole-82,6-di-t-butyl-4-ethylphenol Note 2) The test criteria are as follows: be.

■ 初期接触抵抗、複合試験後接触抵抗(n=5の平均
値)○:25mΩ以下 △:25〜50mmΩ X : 50m+Ω以上 ■ 腐食試験後外観 ◎:腐食生成物全く認めれず O:腐食生成物痕跡あり △:腐食生成物点在 ×:腐食点が全面に認められる [発明の効果コ 以上述べたように、本発明により封孔処理された中間層
としてパラジウムまたはパラジウム合金めっき後、金め
つきの接点は、処理直後の接触抵抗が低く、過酷な腐食
環境においても優れた耐食性を示し、また熱雁歴によっ
ても接触抵抗が上昇せず、接触性能が安定しているとい
う利点を有する。
■ Initial contact resistance, contact resistance after combined test (average value of n = 5) ○: 25mΩ or less △: 25 to 50mmΩ Yes △: Corrosion products dotted ×: Corrosion points are observed on the entire surface has the advantage that it has a low contact resistance immediately after treatment, exhibits excellent corrosion resistance even in a harsh corrosive environment, and has stable contact performance without increasing contact resistance even with heat aging.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金または金合金を
めっきした材料を処理する封孔処理液であって、(A)
パラフィンワックス0.1〜3wt%及び(B)金属せ
っけんの1種または2種以上0.05〜3wt%を必須
成分とする有機溶剤溶液よりなることを特徴とする封孔
処理液。
(1) A sealing solution for treating a copper-based or iron-based metal material plated with palladium or palladium alloy as an intermediate layer, and then plated with gold or gold alloy, which (A)
A pore-sealing treatment liquid comprising an organic solvent solution containing 0.1 to 3 wt% of paraffin wax and 0.05 to 3 wt% of one or more metal soaps (B).
(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種または2種
以上0.05〜3wt%をさらに含有することを特徴と
する請求項(1)記載の封孔処理液。
(2) The sealing solution according to claim (1), further comprising 0.05 to 3 wt% of one or more chelate-forming cyclic nitrogen compounds.
(3)アミン系又はフェノール系酸化防止剤の1種もし
くは2種以上を0.001〜1wt%さらに含有するこ
とを特徴とする請求項(1)又は(2)記載の封孔処理
液。
(3) The sealing solution according to claim (1) or (2), further comprising 0.001 to 1 wt% of one or more amine-based or phenol-based antioxidants.
(4)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてパラジウム
またはパラジウム合金をめっき後、さらにその上に金ま
たは金合金を電気めっき後、請求項(1)又は(2)記
載の封孔処理液で処理することを特徴とする封孔処理方
法。
(4) After plating palladium or a palladium alloy as an intermediate layer on a copper-based or iron-based metal material, and further electroplating gold or a gold alloy thereon, the sealing solution according to claim (1) or (2) is used. A pore sealing method characterized by processing.
(5)中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金を
めっき後、金または金合金めっきされた銅系または鉄系
金属材料をプレス加工後、請求項(1)、(2)又は(
3)記載の封孔処理液で処理することを特徴とする封孔
処理方法。
(5) After plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer, after pressing a copper-based or iron-based metal material plated with gold or gold alloy, claim (1), (2) or (
3) A pore-sealing method characterized by treating with the pore-sealing solution described above.
(6)銅系または鉄系金属材料に中間層としてパラジウ
ムまたはパラジウム合金をめっき後、金又は金合金をめ
っきしためっき材よりなり、請求項(1)、(2)又は
(3)記載の封孔処理液で封孔処理したことを特徴とす
るコネクタ。
(6) The sealing material according to claim (1), (2) or (3) is made of a plating material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with palladium or a palladium alloy as an intermediate layer, and then gold or a gold alloy is plated. A connector characterized in that the pores are sealed with a pore treatment liquid.
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