JPH04160193A - Sealing treating solution and method therefor - Google Patents

Sealing treating solution and method therefor

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JPH04160193A
JPH04160193A JP28416290A JP28416290A JPH04160193A JP H04160193 A JPH04160193 A JP H04160193A JP 28416290 A JP28416290 A JP 28416290A JP 28416290 A JP28416290 A JP 28416290A JP H04160193 A JPH04160193 A JP H04160193A
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sealing
gold
plating
plated
treating
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JP28416290A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Fukamachi
一彦 深町
Yasuhiro Shirokabe
靖裕 白壁
Iseo Nakamura
中村 伊勢男
Heiji Uesugi
上杉 平二
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KYOSEKI SEIHIN GIJUTSU KENKYUSHO KK
Eneos Corp
Original Assignee
KYOSEKI SEIHIN GIJUTSU KENKYUSHO KK
Nippon Mining Co Ltd
Nikko Kyodo Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To seal pinholes in an Au series coating layer and to manufacture a connector having excellent corrosion resistance and small contact resistance by treating a connector having the electroplating film of Au or an Au alloy on an Ni plating film by a sealing treating soln. having a specified compsn. CONSTITUTION:As an intermediate layer, Ni plating is applied to the surface of a connector base metal by a Cu series or ferrous metal, on which the electroplating of Au or an Au alloy is applied. Then, press working is executed, and after that, many micropinholes in an Au series plating film are subjected to sealing treatment. As a treating soln., the one contg., as essential components, by weight, 0.1 to 3% paraffin wax and 0.05 to 3% of one or more kinds among metallic soap, and, if required, in which 0.05 to 3% of one or more kinds among chelate formable ring N compounds or, furthermore, 0.001 to 1% of one or more kinds among aminic or phenolic oxidation preventing agents are dissolved in an organic solvent such as toluene, xylene or the like is used.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野コ 本発明は、金めつき電気接点の封孔処理液、封孔処理方
法及び封孔処理されたコネクタに関する。特には繰返し
挿抜や振動により摩耗と腐食が同時進行するような過酷
な使用条件において、電気接点の潤滑、防錆及び電気的
接続性が長期的に安定して優れる封孔処理液、封孔処理
方法及び封孔処理されたコネクタに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a sealing solution for gold-plated electrical contacts, a sealing method, and a sealed connector. Sealing liquids and sealing treatments that provide stable, long-term lubrication, rust prevention, and electrical connectivity for electrical contacts, especially under harsh usage conditions where wear and corrosion progress simultaneously due to repeated insertion/extraction and vibration. The present invention relates to a method and a sealed connector.

[従来の技術] 電子機器用接続部品としてコネクタは最も代表的なもの
であり多種多様のコネクタが実用化されている。電算機
や通信用機器等高度の信頼性が要求される、いわゆる産
業用電子機器に使用されるコネクタは、りん青銅、ベリ
リウム鋼等のバネ用銅合金を母材とし、接点用金属被膜
としてニッケル下地めっき後その上に金めつきを施した
ものが一般に利用されている。
[Prior Art] Connectors are the most typical connecting parts for electronic devices, and a wide variety of connectors have been put into practical use. Connectors used in so-called industrial electronic devices that require a high degree of reliability, such as computers and communication equipment, are made of spring copper alloys such as phosphor bronze and beryllium steel, and nickel is used as the metal coating for the contacts. Generally used is a base plating followed by gold plating.

金は貴金属の中でも極めて耐食性が高く、表面に酸化物
や他の被膜を形成しないため電気的接続性に優れ、接点
用金属として広く使用されている。しかし、金は高価で
あるため、コネクタの製造コストを下げる目的で様々な
畜舎化策が採られてきた。その代表的方法が金めつきの
厚みを薄くする方法であるが、金めつきの厚みを薄くす
るとともに、被膜のピンホールの数が指数関数的に増え
、耐食性が著しく低下するという問題を抱えている。こ
の問題を解決する方法のひとつに封孔処理がある。すな
わち、各種の無機性、あるいは有機性の薬品で金めつき
面を処理し、ピンホールを塞ぎ耐食性を向上させようと
するものであった。
Gold has extremely high corrosion resistance among noble metals, and because it does not form oxides or other films on its surface, it has excellent electrical connectivity and is widely used as a contact metal. However, since gold is expensive, various methods have been adopted to reduce the cost of manufacturing connectors. The typical method is to reduce the thickness of the gold plating, but as the thickness of the gold plating becomes thinner, the number of pinholes in the coating increases exponentially, resulting in a significant decrease in corrosion resistance. . One method to solve this problem is pore sealing. That is, attempts were made to treat the gold-plated surface with various inorganic or organic chemicals to close pinholes and improve corrosion resistance.

[発明が解決しようとする課題] 封孔処理、特に有機性の薬品による封孔処理は、金めつ
き被膜の厚み低減に対し、耐食性を維持する効果に優れ
ている。ところか従来の封孔処理液は鉄系金属材料や銅
系金属材料の防錆剤として知られていた化合物を中心と
して選択されたものか、あるいは畜舎化以前にも金めつ
き接点の潤滑を目的として使用されていた潤滑剤をその
まま使用したものが一般的であった。
[Problems to be Solved by the Invention] A pore sealing treatment, particularly a pore sealing treatment using an organic chemical, is excellent in maintaining corrosion resistance while reducing the thickness of a gold plating film. However, conventional sealing liquids were mainly selected from compounds known as rust preventive agents for iron-based metal materials and copper-based metal materials, or they were used to lubricate gold-plated contacts even before the use of livestock housing. Generally, the lubricant used for the intended purpose was used as is.

封孔処理された金めつきに要求される特性としては、 ■ 潤滑性がよいこと、 ■ 耐食性が優れていること、 ■ 接触抵抗が低く安定していること、■ はんだ付性
がよいこと、及び ■ それらの特性が各種の環境、使用条件下で長期に亘
り持続すること、 である。
The properties required for sealed gold plating include: ■ Good lubricity; ■ Excellent corrosion resistance; ■ Low and stable contact resistance; ■ Good solderability. and ■ Those characteristics persist over a long period of time under various environments and usage conditions.

ところが従来の封孔処理液は、そのような総合的観点か
ら必ずしも満足できるものではなく、なんらかの品質面
で劣っているものが一般的であった。
However, conventional sealing liquids are not necessarily satisfactory from such a comprehensive viewpoint, and are generally inferior in some quality aspect.

特にICカードの電気接点(あるいはコネクタ)のよう
に1万回も挿抜後もその電気的接続性を保証しなければ
ならないというように電気接点に要求される品質はます
ます高度化してきている。ところが、長い時間をかけて
1万回にも及び挿抜を受けると、初期には潤滑性の優れ
ていた封孔処理であっても、繰返し挿抜中に封孔処理皮
膜に大気中の塵埃等が付着し、摩耗を促進するという問
題があった。
In particular, the quality required of electrical contacts (or connectors) for IC cards, which must guarantee electrical connectivity even after 10,000 insertions and removals, is becoming increasingly sophisticated. However, after being inserted and removed 10,000 times over a long period of time, even though the sealing treatment initially had excellent lubricity, the sealing film becomes contaminated with dust and other particles from the atmosphere during repeated insertion and removal. There was a problem of adhesion and accelerated wear.

また、自動車の電子機器化、いわゆるカーエレクトロニ
クス化の急激な進展とともに自動車に使用される電子回
路用コネクタの材料で金めっきされたものが増えている
。自動車用コネクタの接点は、車体による振動によって
生じる微摺動摩耗を受けるとともに、工業地帯における
各種の大気中の腐食性ガス、海岸地帯における海塩粒子
、あるいは寒冷地における融雪剤など極めて過酷な腐食
環境に晒される。
Furthermore, with the rapid progress in the use of electronic devices in automobiles, so-called car electronics, the number of gold-plated connectors for electronic circuits used in automobiles is increasing. The contacts of automotive connectors are subject to slight sliding wear caused by vibrations from the car body, as well as extremely severe corrosion caused by various corrosive gases in the atmosphere in industrial areas, sea salt particles in coastal areas, and snow melting agents in cold regions. exposed to the environment.

すなわち、従来の封孔処理では、摩耗と腐食が共存する
過酷な環境において、長期にわたり上述の電気接点に要
求される特性を満足させることはできなかった。
That is, the conventional sealing process has not been able to satisfy the above-mentioned characteristics required for electrical contacts over a long period of time in a harsh environment where wear and corrosion coexist.

本発明は、このような要求を満たすことのできる改善さ
れた封孔処理液及びそれを用いる封孔処理方法を提供す
ることを目的とし、あわせてそれにより処理されたコネ
クタを提供することを目的とするものである。
An object of the present invention is to provide an improved sealing liquid that can meet such demands and a sealing method using the same, and also to provide a connector treated with the same. That is.

[課題を解決するための手段] かかる状況に鑑み、本発明者等は鋭意研究を行った結果
、以下に示す封孔処理液、方法及び封孔処理されたコネ
クタを発明するに至った。
[Means for Solving the Problems] In view of this situation, the inventors of the present invention conducted extensive research, and as a result, they came up with the following sealing liquid, method, and sealed connector.

すなわち、本発明は、 (1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金または金合金をめっきした材料を処理す
る封孔処理液であって、(A)パラフィンワックス0.
1〜3wt%及び(B)金属せっけんの1種または2種
以上0.05〜3wt%を必須成分とする有機溶剤溶液
よりなることを特徴とする封孔処理液。
That is, the present invention provides: (1) A sealing solution for treating a copper-based or iron-based metal material plated with nickel as an intermediate layer and then plated with gold or a gold alloy, comprising: (A) paraffin wax 0; ..
A pore-sealing treatment liquid comprising an organic solvent solution containing as essential components 1 to 3 wt% and 0.05 to 3 wt% of one or more metal soaps (B).

(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種または2種
以上0.05〜3wt%をさらに含有することを特徴と
する前記(1)記載の封孔処理液。
(2) The sealing solution according to (1) above, further comprising 0.05 to 3 wt% of one or more chelate-forming cyclic nitrogen compounds.

(3)アミン又はフェノール系酸化防止剤の1種もしく
は2種以上を0.001−1wt%さらに含有すること
を特徴とする前記(1)又は(2)記載の封孔処理液。
(3) The sealing solution as described in (1) or (2) above, further containing 0.001-1 wt% of one or more of amine or phenolic antioxidants.

(4)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてニッケルを
めっきし、さらにその上に金または金合金を電気めっき
後、前記(1)又は(2)記載の封孔処理液で処理する
ことを特徴とする封孔処理方法。
(4) Plating a copper-based or iron-based metal material with nickel as an intermediate layer, further electroplating gold or a gold alloy thereon, and then treating with the sealing solution described in (1) or (2) above. A pore sealing method characterized by:

(5)ニッケル及び金または金合金めっきされた銅系ま
たは鉄系金属材料をプレス加工後、前記(1)、(2)
又は(3)記載の封孔処理液で処理することを特徴とす
る封孔処理方法。
(5) After pressing the copper-based or iron-based metal material plated with nickel and gold or gold alloy, the above (1) and (2) are applied.
Or (3) A pore-sealing method characterized by treating with the pore-sealing solution described in (3).

(6)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金又は金合金をめっきしためっき材よりな
り、前記 (1)、(2)又は(3)記載の封孔処理液
で封孔処理したことを特徴とするコネクタである。
(6) Made of a plating material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with nickel as an intermediate layer, and then gold or gold alloy is plated, and the sealing solution described in (1), (2), or (3) above is used. This connector is characterized by being sealed.

本発明の封孔処理液の必須成分であるパラフィンワック
スは平均炭素数20〜35程度の直鎖状炭化水素を主成
分とする分子量300〜500程度の飽和炭化水素混合
物である。
Paraffin wax, which is an essential component of the pore-sealing solution of the present invention, is a saturated hydrocarbon mixture with a molecular weight of about 300 to 500 and whose main component is a linear hydrocarbon with an average carbon number of about 20 to 35.

本発明においてパラフィンワックスは基油としての機能
を有する。すなわちそれ自体、多数のピンホールの存在
する金めつき表面に皮膜を形成し、ピンホール等金めっ
きの微視的な欠陥を通して、大気中の水分、酸素、及び
各種の腐食媒が下地ニッケルと接触するのを防いでいる
In the present invention, paraffin wax functions as a base oil. In other words, it forms a film on the gold plating surface that has many pinholes, and through microscopic defects in the gold plating such as pinholes, moisture, oxygen, and various corrosive agents in the atmosphere can interact with the underlying nickel. Preventing contact.

そして本発明の目的である、腐食と摩耗の共存する環境
において、長期間にわたり、電気接点の性能を安定的に
維持する上で最も重要な効果を奏する。すなわち、鉄鋼
等ではラノリン、ペトロラタム、グリース、鉱油等が防
錆剤の用途で知られているが、この様な軟調の基油では
べとつきが有るため、大気中の塵埃粒子が付着し、電気
接点が繰返し摩擦される際に、金めつきの摩耗を促進し
、同時に封孔機能が低下し、腐食が進行するため電気接
点の寿命を大幅に低下させる。本発明において、パラフ
ィンワックスがそれらの欠陥を有しない金めつき接点用
の封孔処理液の基油としてきわめて好適であることを見
出したものである。
The most important effect is achieved in stably maintaining the performance of electrical contacts over a long period of time in an environment where corrosion and wear coexist, which is the objective of the present invention. In other words, lanolin, petrolatum, grease, mineral oil, etc. are known to be used as rust preventives in steel, etc., but these soft base oils are sticky, so dust particles in the atmosphere can adhere to them, causing damage to electrical contacts. When it is repeatedly rubbed, it accelerates the wear of the gold plating, and at the same time, the sealing function deteriorates and corrosion progresses, which significantly shortens the life of the electrical contacts. In the present invention, it has been discovered that paraffin wax does not have these defects and is extremely suitable as a base oil for a sealing liquid for gold-plated contacts.

本発明において、この基油の選択は他の成分の作用と相
俟って相剰的に前述の耐食性、耐久性を向上させるうえ
で重要な成分である。特に鉄鋼等の防錆剤とは異なり、
場合によっては、マイクロアンペアオーダーの微弱電流
を確実に相手端子と接続しなければならないコネクタ等
電子部品の接点表面の封孔処理剤であるから、基油の選
択は防錆効果のみではなく、電気的接続性が極めて重要
となる。そして、その濃度は0.1vt%より小さいと
、耐食性、耐久性が小さくなり、所望の効果を得ること
ができない。−方3wt%より大きいと接触抵抗が上昇
し接点用の封孔処理として価値がなくなるので好ましく
ない。
In the present invention, the selection of this base oil is an important component in improving the above-mentioned corrosion resistance and durability in combination with the effects of other components. Especially unlike rust inhibitors for steel, etc.
In some cases, the base oil is used as a sealing agent for the contact surfaces of electronic components such as connectors that must reliably connect a weak current on the order of microamperes to a mating terminal. physical connectivity will be extremely important. If the concentration is less than 0.1 vt%, corrosion resistance and durability will be reduced, making it impossible to obtain the desired effect. If it is more than 3 wt%, the contact resistance increases and it becomes useless as a sealing treatment for contacts, which is not preferable.

本発明の封孔処理液のもう一つの必須成分は、金属せっ
けんである。本発明において特に好ましい金属せっけん
としては、例えば、酸化ペトロラタム金属塩、酸化ワッ
クス金属塩、ステアリン酸金属塩、ラウリン酸金属塩、
リシルシン酸金属塩、ミリスチン酸金属塩、オレイン酸
金属塩、ナフテン酸金属塩、及びラノリン酸金属塩等を
挙げることができ、又、その金属塩としては特に制限は
ないが、好ましくは、Ca。
Another essential component of the pore sealing solution of the present invention is metal soap. Particularly preferred metal soaps in the present invention include, for example, petrolatum oxide metal salts, oxidized wax metal salts, stearate metal salts, laurate metal salts,
Examples include metal salts of lysylsinate, metal salts of myristate, metal salts of oleate, metal salts of naphthenate, and metal salts of lanophosphate.Although there are no particular restrictions on the metal salt, Ca is preferred.

AI、Ba、Pb塩等である。これらは1種または2種
を混合して総量で、0.05〜3wt%で用いられる。
These include AI, Ba, and Pb salts. These are used alone or in a mixture of two in a total amount of 0.05 to 3 wt%.

0.05vt%未満では耐食性向上効果が得られず、又
3wt%を越えると接触抵抗への悪影響が認められる。
If it is less than 0.05 wt%, the effect of improving corrosion resistance cannot be obtained, and if it exceeds 3 wt%, an adverse effect on contact resistance is observed.

さらに本発明の封孔処理液には、必要に応じてキレート
形成性環状窒素化合物;アミン系又はフェノール系酸化
防止剤の1種又は2種以上を添加することかできる。キ
レート形成性環状窒素化合物は、銅、ニッケル等に配位
して安定なキレートを形成する化合物で、特にベンゼン
環を有する環状窒素化合物、あるいはトリアジン系化合
物が好ましい。具体例を挙げれば、ベンゼン環を有する
環状窒化化合物としては、たとえば、 ベンゾトリアゾール系 インダゾール系 $ ベンズイミダゾール系 インドール系 (上記各式中、R1は水素、アルキル、置換アルキルを
表わし、R2はアルカリ金属、水素、アルキル、置換ア
ルキルを表わす) 等を挙げることができる。
Furthermore, one or more of a chelate-forming cyclic nitrogen compound and an amine-based or phenol-based antioxidant can be added to the pore-sealing solution of the present invention, if necessary. The chelate-forming cyclic nitrogen compound is a compound that forms a stable chelate by coordinating with copper, nickel, etc., and is particularly preferably a cyclic nitrogen compound having a benzene ring or a triazine-based compound. To give specific examples, cyclic nitride compounds having a benzene ring include, for example, benzotriazole-based indazole-based $ benzimidazole-based indole-based (in each of the above formulas, R1 represents hydrogen, alkyl, or substituted alkyl, and R2 represents an alkali metal , hydrogen, alkyl, substituted alkyl).

ベンゾトリアゾール系としては、例えばベンゾトリアゾ
ール(R1、R2ともに水素)、■−メチルベンゾトリ
アゾール(R+が水素、R2がメチル)、1−(N、N
−ジオクチルアミノメチル)ベンゾトリアゾール(R+
が水素、R2かN、N−ジオクチルアミノメチル)、ト
リルトリアゾール(R+がメチル、R2が水素)、ソジ
ウムトリルトリアゾール(R+がメチル、R2がナトリ
ウム)等が好ましい。
Examples of benzotriazole systems include benzotriazole (both R1 and R2 are hydrogen), ■-methylbenzotriazole (R+ is hydrogen, R2 is methyl), 1-(N, N
-dioctylaminomethyl)benzotriazole (R+
is hydrogen, R2 or N, N-dioctylaminomethyl), tolyltriazole (R+ is methyl, R2 is hydrogen), sodium tolyltriazole (R+ is methyl, R2 is sodium), and the like are preferred.

インダゾール系としては、例えばインダゾール(R1、
R2ともに水素)、2−メチルインダゾール(R+が水
素、R2がメチル)、2−ベンジルインダゾール(R+
が水素、R2がCb R5CH2) 、l−アセチルイ
ンダゾール(R+が水素、R2がC0CH5)等が好ま
しい。
Examples of indazole series include indazole (R1,
R2 is hydrogen), 2-methylindazole (R+ is hydrogen, R2 is methyl), 2-benzylindazole (R+
is hydrogen, R2 is Cb R5CH2), l-acetylindazole (R+ is hydrogen, R2 is C0CH5), and the like are preferred.

ベンズイミダゾール系としては、例えばベンズイミダゾ
ール(R1、R2ともに水素)、N−アセチイベンズイ
ミダゾール(R+が水素、R2がC0CH2)、N−ベ
ンゾイルベンズイミダゾール(R+が水素、R2がC0
C6H3)等が好ましい。
Examples of benzimidazole systems include benzimidazole (both R1 and R2 are hydrogen), N-acetiibenzimidazole (R+ is hydrogen, R2 is C0CH2), N-benzoylbenzimidazole (R+ is hydrogen, R2 is C0
C6H3) etc. are preferred.

インドール系としては、例えばインドール(R1、R2
ともに水素)、インドール−I−カルボン酸(R+が水
素、R2がC00H)、1−メチルインドール(R+が
水素、R2がCH3)等が好ましい。
Examples of indole series include indole (R1, R2
(both are hydrogen), indole-I-carboxylic acid (R+ is hydrogen, R2 is C00H), 1-methylindole (R+ is hydrogen, R2 is CH3), and the like are preferred.

また、トリアジン系化合物の好ましい具体例としては、
例えば、6−置換−1,3,5−トリアジン−2,4−
ジチオール−ナトリウム塩(Rはアルキル基で置換され
たアミノ基を表わし、たとえば−N(C4H9) 2、
−N(Os HI?) 2、−N(CI2H25) 2
、−NHCs HiCH−CHCs HI7、等か好ま
しい)、 シアヌル酸(2,4,6−トリオキシ−1,3,5−ト
リアジン)、 H メラミン(2,4,6−トリアミノ−1,3,5−トリ
アジン)、 等を挙げることができる。これらは1種または2種以上
混合して添加され、パラフィンワックスと共に耐食性、
耐久性を向上させる。その濃度は総量で0.05〜3ν
t%である。0.05vt%より小さいと耐食性、耐久
性が低く、また、3wt%より大きいと電気的接続性に
支障が生じる。
In addition, preferred specific examples of triazine compounds include:
For example, 6-substituted-1,3,5-triazine-2,4-
Dithiol-sodium salt (R represents an amino group substituted with an alkyl group, such as -N(C4H9)2,
-N(Os HI?) 2, -N(CI2H25) 2
, -NHCs HiCH-CHCs HI7, etc. are preferred), cyanuric acid (2,4,6-trioxy-1,3,5-triazine), H melamine (2,4,6-triamino-1,3,5- triazine), etc. These are added singly or as a mixture of two or more, and together with paraffin wax, they provide corrosion resistance,
Improve durability. The total concentration is 0.05~3ν
t%. If it is less than 0.05 wt%, corrosion resistance and durability will be low, and if it is more than 3 wt%, electrical connectivity will be impaired.

又、本発明の封孔処理液に、必要に応じて添加される上
記のアミン系又はフェノール系酸化防止剤としては、例
えば、 p、p’−ジオクチルジフェニルアミン4.4°−テト
ラメチルジアミノジフェニルメタ4.4′−メチレン−
ビス−(2,6−ジーt−ブチルフェノール) (CH3) 3 CC(CH3) 3 2.2′−メチレン−ビス−(4−メチル−e−t−ブ
チルフェノール) CH3CH3 2,2“−メチレン−ビス−(4−エチル−1f−t−
ブチルフェノール) CH2C)13  CI2 C)13 2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾールH CHコ ブチル化ヒドロキシアニソール 0CR30CH3 2,6−ジーt−ブチル−4−エチルフェノ−CIlz
CIz 等を挙げることができる。
In addition, examples of the above-mentioned amine-based or phenolic antioxidants that may be added to the sealing solution of the present invention as needed include p,p'-dioctyldiphenylamine 4.4°-tetramethyldiaminodiphenylmeth 4.4'-methylene-
Bis-(2,6-di-t-butylphenol) (CH3) 3 CC(CH3) 3 2,2'-methylene-bis-(4-methyl-et-butylphenol) CH3CH3 2,2"-methylene-bis -(4-ethyl-1f-t-
butylphenol) CH2C)13 CI2 C)13 2,6-di-t-butyl-p-cresol H CH cobutylated hydroxyanisole 0CR30CH3 2,6-di-t-butyl-4-ethylpheno-CIlz
CIz etc. can be mentioned.

これらは1種又は2種以上を総量でo、oot〜lvt
%添加することができる。
These include one or more types in total amount o, oot~lvt
% can be added.

これらの成分を添加することにより、耐久性を一層向上
させることができる。すなわち、封孔処理皮膜の機能を
長期に亘り安定させ、また高温環境における皮膜の劣化
を抑制する効果を有する。O,001wt%未満ではそ
の効果を得ることはできず、1wt%を越えると接触抵
抗の低下現象か認められる。
By adding these components, durability can be further improved. That is, it has the effect of stabilizing the function of the sealing film over a long period of time and suppressing deterioration of the film in a high-temperature environment. If the content is less than 0.001 wt%, this effect cannot be obtained, and if it exceeds 1 wt%, a decrease in contact resistance is observed.

封孔処理液は上述の成分を有するが、溶媒としては特に
制限されず、公知の有機溶媒より適宜選択することがで
きる。例えばトルエン、キシレン等の石油系溶媒、トリ
クロロエチレン、トリクロロエタン等のハロゲン系溶媒
、あるいはフロン系溶媒等である。
Although the pore-sealing liquid has the above-mentioned components, the solvent is not particularly limited and can be appropriately selected from known organic solvents. Examples include petroleum-based solvents such as toluene and xylene, halogen-based solvents such as trichloroethylene and trichloroethane, and fluorocarbon-based solvents.

処理方法としては、めっき品を封孔処理液中に浸漬する
か、封孔処理液をスプレー、あるいは塗布するなど、何
れの方法によることもできる。しかし本発明において、
めっき品の形状が板・条、プレス部品であるを問わず、
めっき直後すなわち連続ラインであれば、そのラインの
中で処理することが、封孔処理の各種機能を高める効果
が高いことを見いだした。
As a treatment method, any method can be used, such as immersing the plated product in a pore sealing solution, or spraying or applying the pore sealing solution. However, in the present invention,
Regardless of the shape of the plated product, whether it is a plate, strip, or pressed part,
It has been found that performing the treatment immediately after plating, that is, in a continuous line, is highly effective in enhancing various functions of the sealing treatment.

さらに、めっき品をプレス加工後に本発明の封孔処理液
で封孔処理する事も有効である。めっき後封孔処理した
金属材料であっても、その後のプレス加工で付着したプ
レス油を洗浄する工程において、封孔処理の機能の多く
は喪失する、そこで再度の封孔処理が有効となる。
Furthermore, it is also effective to seal the plated product with the sealing solution of the present invention after press working. Even for metal materials that have been sealed after plating, much of the sealing function is lost in the process of cleaning press oil adhering during subsequent press working, so re-sealing becomes effective.

その後のコネクタの加工工程においても、最終の電子機
器の組み立てまで、めっき品の洗浄工程かあれば同様に
封孔処理機能は喪失するため、適宜本発明により封孔処
理する事が有効である。さらには電子機器にコネクタと
して組み込まれ実使用に際しても、使用にともない接点
性能か低下するなどの場合は、適宜本封孔処理液により
処理することができる。従って、本発明は本発明封孔処
理液により処理されたコネクタをも包含するものである
In the subsequent processing steps of the connector as well, if there is a cleaning step for the plated product until the final assembly of the electronic device, the hole sealing function will be similarly lost, so it is effective to perform the hole sealing process according to the present invention as appropriate. Furthermore, even when the connector is incorporated into an electronic device and used in actual use, if the contact performance deteriorates with use, it can be treated with the present sealing treatment liquid as appropriate. Therefore, the present invention also includes connectors treated with the sealing solution of the present invention.

なお、本発明における、めっき母材となる金属材料は、
銅及び、黄銅、りん青銅、チタン銅等の各種銅合金、鉄
、ステンレス鋼、高ニッケル合金等、コネクタの要求性
能に従い適宜選択でき、同等制限されない。中間層とし
てのニッケルめっきは、ワット浴、スルファミン酸浴等
からの電気めっき、無電解めっき等公知のものを適用で
き、めっき方法は制限されない。またニッケルめっきは
金属母材に直接施すほか、その中間にさらに他の金属層
を有することもできる。金めつきは各種のアルカリ性浴
、酸性浴から純金めっきの他、コバルト等の合金成分を
含有する金合金めっきも包含するものである。
In addition, in the present invention, the metal material serving as the plating base material is:
Copper, various copper alloys such as brass, phosphor bronze, and titanium copper, iron, stainless steel, high nickel alloys, etc. can be selected as appropriate according to the required performance of the connector, and there are no equal restrictions. For the nickel plating as the intermediate layer, known methods such as electroplating from a Watt bath, sulfamic acid bath, etc., electroless plating, etc. can be applied, and the plating method is not limited. In addition to applying nickel plating directly to the metal base material, it is also possible to have another metal layer in between. Gold plating includes pure gold plating from various alkaline baths and acidic baths, as well as gold alloy plating containing alloy components such as cobalt.

[実施例コ 以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。[Example code] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

ばね用りん青銅(C5210)の厚み0,2曙■の冷間
圧延材を用い、雄、及び雌の連続端子をそれぞれプレス
成形した。これらをリール・ツウ・リールの連続電気め
っきラインを通して電気めっきを施した。めっきライン
においては、脱脂、酸洗後ワット浴により 1μ■のニ
ッケルめっき後、酸性めっき浴により金を0.2  μ
−の厚みで接点部に部分めっきした。また、連続めっき
ラインでは、金めつき後に封孔処理工程を設け、同工程
ではトリクロロエタンを溶媒とした各種封孔処理液に連
続端子を通人することにより封孔処理を施した。
Male and female continuous terminals were each press-molded using cold-rolled phosphor bronze (C5210) for springs with a thickness of 0.2 mm. These were electroplated through a reel-to-reel continuous electroplating line. In the plating line, after degreasing and pickling, 1μ nickel plating is applied in Watt bath, and then 0.2 μμ gold is applied in acid plating bath.
The contacts are partially plated to a thickness of -. In addition, in the continuous plating line, a sealing process was provided after gold plating, and in this process, the continuous terminal was passed through various sealing solutions using trichloroethane as a solvent to perform the sealing process.

こうして表面処理した雄と雌の端子をキャリア一部から
切断しリード線を圧着した後、それぞれを嵌合し評価試
験に供した。
After the male and female terminals thus surface-treated were cut from a portion of the carrier and the lead wires were crimped, they were fitted together and subjected to an evaluation test.

接触抵抗は直流10mmA、開放電圧50mmVで測定
した。腐食試験は次の条件で行った。
The contact resistance was measured at a direct current of 10 mmA and an open circuit voltage of 50 mmV. The corrosion test was conducted under the following conditions.

ガス組成:H2S   3±lppm SO210± 3ppm 温度  :40±2℃ 湿度  ニア5± 5%RH 時間  :96時間 複合試験は、雄と雌の端子を自動繰返し挿抜装置で10
0回の挿抜を繰返し行う摩耗試験を行った後、上記腐食
試験に供し、さらに接触抵抗を測定した。結果を第1表
に示す。
Gas composition: H2S 3±lppm SO210±3ppm Temperature: 40±2℃ Humidity Near 5±5%RH Time: 96 hours In the combined test, male and female terminals were inserted 10 times using an automatic repeating insertion/extraction device.
After conducting a wear test in which insertion and removal were repeated 0 times, the test piece was subjected to the corrosion test described above, and the contact resistance was further measured. The results are shown in Table 1.

第1表 A  パラフィンワックス B−1酸化ペトロラタムCa塩 −2酸化ワックスCa塩 −3ステアリン酸Ca塩 −4ラウリン酸A1塩 −5リンルン酸AI塩 −6ミリスチン酸Ca塩 −7オレイン酸Ba塩 −8ナフテン酸Ba塩 −9ラノリン酸A1塩 C−1ベンゾトリアゾール −2インダゾール −3ベンズイミダゾール −4インドール −51−メチルベンゾトリアゾール =6 トリルトリアゾール −7ソジウムトリルトリアゾール −8メラミン D−I  P、P−ノオクチルンフェニルアミン−24
,4°−テトラメチルノアミノジフェニルメタン−34
,4−メチレン−ビス−(2,6−ジーt−ブチルフェ
ノール)−42,2’−メチレン−ビス−(4−メチル
−8−t−ブチルフェノール) −52,2°−メチレン−ビス−(4−エチル−8−t
−ブチルフェノール) −62,6−ジーt−ブチル−p−クレゾール−7ブチ
ル化ヒドロキシアニソール −82,6−ジーt−ブチル−4−エチルフェノール注
2) 試験の判定基準は次の通りである。
Table 1 A Paraffin wax B-1 Petrolatum oxide Ca salt - 2 Oxidized wax Ca salt - 3 Stearic acid Ca salt - 4 Lauric acid A1 salt - 5 Phosphorus acid AI salt - 6 Myristic acid Ca salt - 7 Oleic acid Ba salt - 8 Naphthenic acid Ba salt - 9 Lanolic acid A1 salt C-1 Benzotriazole-2 Indazole-3 Benzimidazole-4 Indole-51-methylbenzotriazole = 6 Tolyltriazole-7 Sodium Tolyltriazole-8 Melamine D-IP, P-nooctylumphenylamine-24
,4°-tetramethylnoaminodiphenylmethane-34
,4-methylene-bis-(2,6-di-t-butylphenol)-42,2'-methylene-bis-(4-methyl-8-t-butylphenol)-52,2°-methylene-bis-(4 -ethyl-8-t
-butylphenol) -62,6-di-t-butyl-p-cresol-7-butylated hydroxyanisole-82,6-di-t-butyl-4-ethylphenol Note 2) The test criteria are as follows.

■初期接触抵抗、複合試験後接触抵抗(n−5の平均値
)0 : 251■Ω以下 Δ、25〜50厘■Ω X : 50m−Ω以上 ■腐食試験後外観 ◎:腐食生成物全く認められず ○:腐食生成物痕跡あり Δ 腐食生成物点在 [発明の効果コ 以上述べたように、本発明により封孔処理されたニッケ
ル下地、金めつきの接点は、処理直後の接触抵抗が低く
、過酷な腐食環境においても優れた耐食性を示し、また
熱履歴によっても接触抵抗が上昇せず、接触性能が安定
しているという利点を有する。
■Initial contact resistance, contact resistance after combined test (average value of n-5) 0: 251 ■Ω or less Δ, 25 to 50 ■Ω X: 50 m-Ω or more ■Appearance after corrosion test ◎: No corrosion products observed No ○: Traces of corrosion products Δ Corrosion products dotted [Effects of the invention] As described above, the contact with the nickel base and gold plating sealed by the present invention has a low contact resistance immediately after the treatment. It has the advantage that it exhibits excellent corrosion resistance even in harsh corrosive environments, and that contact resistance does not increase due to thermal history and contact performance is stable.

特許出願人 日 本 鉱 業 株 式 会 社特許出願
人 株式会社 共石製品技術研究所代理人 弁理士 小
 松 秀 岳
Patent Applicant: Japan Mining Co., Ltd. Patent Applicant: Kyoseki Product Technology Institute Co., Ltd. Agent Patent Attorney: Hidetake Komatsu

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金または金合金をめっきした材料を処理す
る封孔処理液であって、(A)パラフィンワックス0.
1〜3wt%及び(B)金属せっけんの1種または2種
以上0.05〜3wt%を必須成分とする有機溶剤溶液
よりなることを特徴とする封孔処理液。
(1) A sealing solution for treating a copper-based or iron-based metal material plated with nickel as an intermediate layer and then plated with gold or gold alloy, comprising: (A) paraffin wax 0.
A pore-sealing treatment liquid comprising an organic solvent solution containing as essential components 1 to 3 wt% and 0.05 to 3 wt% of one or more metal soaps (B).
(2)キレート形成性環状窒素化合物の 1種または2種以上0.05〜3wt%をさらに含有す
ることを特徴とする請求項(1)記載の封孔処理液。
(2) The sealing solution according to claim (1), further comprising 0.05 to 3 wt% of one or more chelate-forming cyclic nitrogen compounds.
(3)アミン系又はフェノール系酸化防止剤の1種もし
くは2種以上を0.001〜1wt%さらに含有するこ
とを特徴とする請求項(1)又は(2)記載の封孔処理
液。
(3) The sealing solution according to claim (1) or (2), further comprising 0.001 to 1 wt% of one or more amine-based or phenol-based antioxidants.
(4)銅系又は鉄系金属材料に中間層としてニッケルを
めっきし、さらにその上に金または金合金を電気めっき
後、請求項(1)又は(2)記載の封孔処理液で処理す
ることを特徴とする封孔処理方法。
(4) Plating nickel as an intermediate layer on a copper-based or iron-based metal material, and further electroplating gold or a gold alloy thereon, and then treating with the sealing solution according to claim (1) or (2). A pore sealing method characterized by:
(5)ニッケル及び金または金合金めっきされた銅系ま
たは鉄系金属材料をプレス加工後、請求項(1)、(2
)又は(3)記載の封孔処理液で処理することを特徴と
する封孔処理方法。
(5) After pressing a copper-based or iron-based metal material plated with nickel and gold or a gold alloy, claims (1) and (2)
) or (3) A method for sealing, characterized by treating with the sealing solution described in (3).
(6)銅系または鉄系金属材料に中間層としてニッケル
をめっき後、金又は金合金をめっきしためっき材よりな
り、請求項(1)、(2)又は(3)記載の封孔処理液
で封孔処理したことを特徴とするコネクタ。
(6) The sealing solution according to claim (1), (2) or (3), which is made of a plating material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with nickel as an intermediate layer and then plated with gold or a gold alloy. A connector characterized in that the pores are sealed with.
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