JPH04193994A - Sealing solution and method - Google Patents

Sealing solution and method

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JPH04193994A
JPH04193994A JP32320490A JP32320490A JPH04193994A JP H04193994 A JPH04193994 A JP H04193994A JP 32320490 A JP32320490 A JP 32320490A JP 32320490 A JP32320490 A JP 32320490A JP H04193994 A JPH04193994 A JP H04193994A
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JP
Japan
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sealing
gold
plating
palladium
plated
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Application number
JP32320490A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Fukamachi
一彦 深町
Yasuhiro Shirokabe
靖裕 白壁
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Nikko Kyodo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve lubricity and corrosion resistance and to reduce and stabilize contact resistance by treating a metallic material plated with Ni, Pd and Au with an org. solvent soln. contg. paraffin wax and metallic soap as the essential components. CONSTITUTION:An org. solvent soln. contg. 0.1-3wt.% paraffin wax and 0.05-3wt.% metallic soap as the essential components is prepared, or a sealing soln. contg. 0.05-3wt.% of a chelating cyclic nitrogen compd. in addition to the soln. is prepared. A copper or iron-based metallic material having a Pd (alloy) plating on an Ni plating substrate layer and further an Au (alloy) plating thereon is treated with the sealing soln. to seal pinholes.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、金めつき電気接点の封孔処理液、封孔処理方
法及び封孔処理されたコネクタに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a sealing solution for gold-plated electrical contacts, a sealing method, and a sealed connector.

特には繰返し挿抜や振動により摩耗と腐食が同時進行す
るような過酷な使用条件において、電気的接点の潤滑、
防錆及び電気的接続性が長期的に安定して優れる封孔処
理液、封孔処理方法及び封孔処理されたコネクタに関す
る。
Lubricating electrical contacts, especially under harsh operating conditions where repeated insertion and removal and vibration cause wear and corrosion at the same time.
The present invention relates to a sealing solution, a sealing method, and a sealed connector that have long-term, stable and excellent rust prevention and electrical connectivity.

[従来の技術] 電子機器用接続部品としてコネクタは最も代表的なもの
であり多種多様のコネクタが実用化されている。電算機
や通信用機器等高度の信頼性が要求される、いわゆる産
業用電子機器に使用されるコネクタは、りん青銅、ベリ
リウム銅等のバネ用銅合金を母材とし、接点用金属被膜
としてニッケル下地めっき後その上に金めつきを施した
ものが一般に利用されている6 金は貴金属の中でも極めて耐食性が高く、表面に酸化物
や他の被膜を形成しないため電気的接続性に優れ、接点
用金属として広く使用されている。
[Prior Art] Connectors are the most typical connecting parts for electronic devices, and a wide variety of connectors have been put into practical use. Connectors used in so-called industrial electronic devices that require a high degree of reliability, such as computers and communication equipment, are made of spring copper alloys such as phosphor bronze and beryllium copper, and nickel is used as the metal coating for the contacts. Gold is generally used after base plating and then gold plating is applied on top of it.6 Gold has extremely high corrosion resistance among precious metals, and because it does not form oxides or other films on the surface, it has excellent electrical connectivity and is suitable for contact points. It is widely used as a metal.

しかし、金は高価であるため、コネクタの製造コストを
下げる目的で様々な巻金北東が採られてきた。その代表
的方法が金めつきの厚みを薄くする方法であるが、金め
つきの厚みを薄くするとともに、被膜のピンホールの数
が指数関数的に増え、耐食性が著しく低下するという問
題を抱えている。
However, since gold is expensive, various metallurgical shapes have been used to reduce the cost of manufacturing connectors. The typical method is to reduce the thickness of the gold plating, but as the thickness of the gold plating becomes thinner, the number of pinholes in the coating increases exponentially, resulting in a significant decrease in corrosion resistance. .

そこで、ニッケル下地めっき後、中間めっきとしてパラ
ジウムまたはパラジウム合金をめっきし、その上に金め
っきしたものが利用されている5しかし、この3層めっ
きでも十分な耐食性が得られていない、この問題を解決
する方法のひとつに封孔処理がある6すなわち、各種の
無機性、あるいは有機性の薬品で金めつき面を処理し、
ピンホールを塞ぎ耐食性を向上させようとするものであ
るが、下地層としてニッケルをめっきし、中間層として
パラジウムまたはパラジウム合金をめっきし、その上に
金めっきした材料への封孔処理液及び封孔処理方法は公
知のものがない。
Therefore, after plating a nickel base, palladium or palladium alloy is plated as an intermediate plating, and then gold plating is used5.However, even this three-layer plating does not provide sufficient corrosion resistance, and this problem can be solved. One method to solve this problem is pore sealing6. In other words, treating the gold-plated surface with various inorganic or organic chemicals,
This is intended to improve corrosion resistance by closing pinholes, but it is necessary to apply a sealing solution and sealant to a material that is plated with nickel as the base layer, palladium or palladium alloy as the intermediate layer, and then gold plated on top of that. There is no known hole treatment method.

[発明が解決しようとする課題] 封孔処理、特に有機性の薬品による封孔処理は、金めつ
き被膜の厚み低減に対し、耐食性を維持する効果に優れ
ている。ところが従来の封孔処理液は鉄系金属材料や銅
系金属材料の防錆剤として知られていた化合物を中心と
して選択されたものか。
[Problems to be Solved by the Invention] A pore sealing treatment, particularly a pore sealing treatment using an organic chemical, is excellent in maintaining corrosion resistance while reducing the thickness of a gold plating film. However, conventional sealing liquids are mainly selected from compounds known as rust preventive agents for iron-based metal materials and copper-based metal materials.

あるいは省令化以前にも金めつき接点の潤滑を目的とし
て使用されていた潤滑剤をそのまま使用したものが一般
的であった。封孔処理された金めつきに要求される特性
としては、 ′D 潤滑性がよいこと、 ■ 耐食性が優れていること、 ■ 接触抵抗が低く安定していること、■ はんだ付性
がよいこと、及び ■ それらの特性が各種の環境、使用条件下で長期に亘
り持続すること、 である。
Alternatively, it was common to use the lubricant that had been used for the purpose of lubricating gold-plated contacts even before the ordinance was introduced. The properties required for sealed gold plating are: ``D Good lubricity, ■ Excellent corrosion resistance, ■ Low and stable contact resistance, ■ Good solderability. , and ■ Those characteristics persist over a long period of time under various environments and usage conditions.

ところが従来の封孔処理液は、そのような総合的観点か
ら必ずしも満足できるものではなく、なんらかの品質面
で劣っているものが一般的であった。
However, conventional sealing liquids are not necessarily satisfactory from such a comprehensive viewpoint, and are generally inferior in some quality aspect.

特に、ICカードの電気接点(あるいはコネクタ)のよ
うに1万回も挿抜後もその電気的接続性を保証しなけれ
ばならないというように電気接点に要求される品質はま
すます高度化してきている。
In particular, the quality required of electrical contacts is becoming increasingly sophisticated, such as the electrical contacts (or connectors) of IC cards, which must guarantee electrical connectivity even after being inserted and removed 10,000 times. .

ところが、長い時間をかけて1万回にも及び挿抜を受け
ると、初期には潤滑性の優れていた封孔処理であっても
、締返し挿抜中に封孔処理皮膜に大気中の塵埃等が付着
し、摩耗を促進するという問題があった。
However, after being inserted and removed 10,000 times over a long period of time, even though the sealing treatment initially had excellent lubricity, dust and other particles in the atmosphere formed on the sealing film during re-insertion and removal. There was a problem in that it adhered and accelerated wear.

また、自動車の電子機器化、いわゆるカーエレクトロニ
クス化の急激な進展とともに自動車に器用される電子回
路用コネクタの材料で金めっきされたものが増えている
。自動車用コネクタの接点は、車体による振動によって
生じる微摺動摩耗些少けるとともに、工業地帯における
各種の大気中の腐食性ガス、海岸地帯における海塩粒子
、あるいは寒冷地における融雪剤など極めて過酷な腐食
環境に晒される。
In addition, with the rapid progress in the use of electronic devices in automobiles, so-called car electronics, the number of gold-plated connectors for electronic circuits used in automobiles is increasing. The contacts of automotive connectors are subject to slight sliding wear caused by vibrations from the car body, as well as extremely severe corrosion caused by various corrosive gases in the atmosphere in industrial areas, sea salt particles in coastal areas, and snow melting agents in cold regions. exposed to the environment.

すなわち、従来の封孔処理では、摩耗と腐食が共存する
過酷な環境において、長期にわたり上述の電気接点に要
求される特性を満足させることはできなかった。
That is, the conventional sealing process has not been able to satisfy the above-mentioned characteristics required for electrical contacts over a long period of time in a harsh environment where wear and corrosion coexist.

本発明は、このような要求を満たすことのできる改薔さ
れた封孔処理液及びそれを用いる封孔処理方法を提供す
ることを目的とし、あわせてそれにより処理されたコネ
クタを提供することを目的とするものである。
The object of the present invention is to provide a modified sealing liquid that can meet such requirements and a sealing method using the same, and also to provide a connector treated with the same. This is the purpose.

[課題を解決するための手段] かかる状況に鑑み、本発明者等は鋭意研究を行った結果
、以下に示す封孔処理液、方法及び封孔処理されたコネ
クタを発明するに至った。
[Means for Solving the Problems] In view of this situation, the inventors of the present invention conducted extensive research, and as a result, they came up with the following sealing liquid, method, and sealed connector.

すなわち、本発明は、 (1)銅系または鉄系金属材料に下地層としてニッケル
めっき、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金
をめっき後、金または金合金をめっきした材料を処理す
る封孔処理液であって、(A)パラフィンワックス0.
1〜3wt%及び(B)金属石けんの1種または2種以
上0.05〜3wt%を必須成分とする有機溶剤溶液よ
りなることを特徴とする封孔処理液。
That is, the present invention provides: (1) A sealing treatment solution for treating a copper-based or iron-based metal material that is plated with nickel as a base layer, palladium or a palladium alloy as an intermediate layer, and then plated with gold or a gold alloy. (A) Paraffin wax 0.
A pore-sealing treatment liquid comprising an organic solvent solution containing as essential components 1 to 3 wt% and 0.05 to 3 wt% of one or more metal soaps (B).

(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種または2種
以上0.05〜3wt%をさらに含有することを特徴と
する前記(1)記載の封孔処理液。
(2) The sealing solution according to (1) above, further comprising 0.05 to 3 wt% of one or more chelate-forming cyclic nitrogen compounds.

(3)アミン系又はフェノール系酸1ヒ防止剤の1種ま
たは2種以上を0.001〜Lvt%さら4二含有する
ことを特徴とする前記(1)又は(2)記載の封孔処理
液。
(3) The sealing treatment according to (1) or (2) above, which contains one or more amine-based or phenol-based acid inhibitors at 0.001 to 42 Lvt%. liquid.

(4)銅系又は鉄系金属材料に下地層としてニッケルめ
っき、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金を
めっき後、さらにその上に金または金合金を電気めっき
後、前記(1)又は(2)記載の封孔処理液で処理する
ことを特徴とする封孔処理方法。
(4) After plating a copper-based or iron-based metal material with nickel as a base layer, palladium or palladium alloy as an intermediate layer, and then electroplating gold or gold alloy thereon, described in (1) or (2) above. A pore sealing treatment method characterized by treating with a pore sealing treatment liquid.

(5)下地層としてニッケルめっき、中間層としてパラ
ジウムまたはパラジウム合金をめっき後、金または金合
金めっきされた銅系または鉄系金属材料をプレス加工後
、前記(1)、 (2)又は(3)記載の封孔処理液で
処、理することを特徴とする封孔処理方法。
(5) After plating nickel as the base layer and plating palladium or palladium alloy as the intermediate layer, press the copper-based or iron-based metal material plated with gold or gold alloy, and then press the above (1), (2) or (3). ) A method for sealing, characterized by treating with the sealing solution described in ).

(6)銅系または鉄系金属材料に下地層としてニッケル
めっき、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金
をめっき後、金又は金合金をめっきしためっき材よりな
り、前記0)、(2)又は(3)記載の封孔処理液で封
孔処理したことを特徴とするコネクタである。
(6) A plating material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with nickel as a base layer, palladium or a palladium alloy as an intermediate layer, and then plated with gold or a gold alloy, as described in 0), (2), or (3) above. ) A connector characterized in that the pores are sealed using the pore sealing solution described in .

本発明の封孔処理液の必須成分であるパラフィンワック
スは、平均炭素数20〜35程度の直鎖状炭化水素を主
成分とする分子量300〜500程度の飽和炭化水素混
合物である。
Paraffin wax, which is an essential component of the pore-sealing solution of the present invention, is a saturated hydrocarbon mixture with a molecular weight of about 300 to 500, whose main component is a linear hydrocarbon with an average carbon number of about 20 to 35.

本発明において、パラフィンワックスは基油としての機
能を有する。すなわちそれ自体、多数のピンホールの存
在する金めつき表面に皮膜を形成し、ピンホール等金め
っきの微視的な欠陥を通して、大気中の水分、酸素、及
び各種の腐食媒が下地ニッケルと接触するのを防いでい
る。そして本発明の目的である、腐食と摩耗の共存する
環境において、長期間にねたり、電気接点の性能を安定
的に維持する上で最も重要な効果を奏する。すなわち、
鉄鋼等ではラノリン、ペトロラタム、グリース、鉱油等
が防錆剤の用途で知られているが。
In the present invention, paraffin wax functions as a base oil. In other words, it forms a film on the gold plating surface that has many pinholes, and through microscopic defects in the gold plating such as pinholes, moisture, oxygen, and various corrosive agents in the atmosphere can interact with the underlying nickel. Preventing contact. This is the objective of the present invention, which is the most important effect in maintaining stable performance of electrical contacts over a long period of time in an environment where corrosion and wear coexist. That is,
In steel, etc., lanolin, petrolatum, grease, mineral oil, etc. are known for their use as rust inhibitors.

この様な軟調の基油ではべとつきが有るため、大気中の
塵埃粒子が付着し、電気接点が繰返し摩擦される際に、
金めつきの摩耗を促進し、同時に封孔機能が低下し、腐
食が進行するため電気接点の寿命を大幅に低下させる5
本発明において、パラフィンワックスがそれらの欠陥を
有しない今めっき接点用の封孔処理液の基油としてきわ
めて好適であることを見出したものである。
Because such soft base oils are sticky, dust particles in the atmosphere adhere to them, and when electrical contacts are repeatedly rubbed,
It accelerates the wear of the gold plating, and at the same time reduces the sealing function and progresses corrosion, which significantly shortens the life of electrical contacts5.
In the present invention, it has been discovered that paraffin wax does not have these defects and is extremely suitable as a base oil for a sealing liquid for presently plated contacts.

本発明において、この基油の選択は他の成分の作用と相
俟って相乗的に前述の耐食性、耐久性を向上させるうえ
で重要な成分である。特に鉄鋼等の防錆剤とは異なり、
場合によっては、マイクロアンペアオーダーの微弱電流
を確実に相手端子と接続しなければならないコネクタ等
電子部品の接点表面の封孔処理剤であるから、基油の選
択は防錆効果のみではなく、電気的接続性が極めて重要
となる。そして、その濃度は0.1wt%より小さいと
、耐食性、耐久性が小さくなり、所望の効果を得ること
ができない。一方3vt%より大きいと接触抵抗が上昇
し接点用の封孔処理として価値がなくなるので好ましく
ない。
In the present invention, the selection of this base oil is an important component in synergistically improving the above-mentioned corrosion resistance and durability in conjunction with the effects of other components. Especially unlike rust inhibitors for steel, etc.
In some cases, the base oil is used as a sealing agent for the contact surfaces of electronic components such as connectors that must reliably connect a weak current on the order of microamperes to a mating terminal. physical connectivity will be extremely important. If the concentration is less than 0.1 wt%, corrosion resistance and durability will decrease, making it impossible to obtain the desired effects. On the other hand, if it is larger than 3vt%, the contact resistance increases and the sealing treatment for contacts becomes useless, which is not preferable.

本発明の封孔処理液のもう一つの必須成分は、金1石け
んである。本発明において特に好ましい金属石けんとし
ては、例えば、酸化ペトロラタム金属塩、酸化ワックス
金1塩、ステアリン酸金属塩、ラウリン酸金属塩、リシ
ルシン酸金居塩、ミリスチン酸金属塩、オレイン酸金属
塩、ナフテン酸金属塩、及びラノリン酸金属塩等を挙げ
ることができ、又、その金属塩としては特に制限はない
が、好ましくは、Ca、Al、Ba、Pb塩等である。
Another essential component of the pore sealing solution of the present invention is gold 1 soap. Particularly preferred metal soaps in the present invention include, for example, petrolatum oxide metal salts, oxidized wax gold monosalts, stearic acid metal salts, lauric acid metal salts, lysylsic acid gold salts, myristic acid metal salts, oleic acid metal salts, and naphthenic acid metal salts. Examples include acid metal salts, lanophosphate metal salts, and the like.Although there are no particular restrictions on the metal salts, Ca, Al, Ba, and Pb salts are preferable.

これらは1種または2種を混合して総量で、0.05〜
3wt%で用いられる。0.03wt%未満では耐食性
向上効果が得られず、又3wt%を越えると接触抵抗へ
の悪影響が認められる。
These are 1 type or a mixture of 2 types, and the total amount is 0.05~
It is used at 3 wt%. If it is less than 0.03 wt%, the effect of improving corrosion resistance cannot be obtained, and if it exceeds 3 wt%, an adverse effect on contact resistance is observed.

さらに本発明の封孔処理液には、必要に応じてキレート
形成性環状窒素化合物;アミン系又はフェノール系酸化
防止剤の1種又は2種以上を添加することができる。キ
レート形成性環状窒素化合物は、銅、ニッケル等に配位
して安定なキレートを形成する化合物で、特にベンゼン
環を有する環状窒素化合物、あるいはトリアジン系化合
物が好ましい。具体例を挙げれば、ベンゼン環を有する
環状窒素化合物としては、たとえば。
Furthermore, one or more types of chelate-forming cyclic nitrogen compounds; amine-based or phenol-based antioxidants can be added to the pore-sealing treatment liquid of the present invention, if necessary. The chelate-forming cyclic nitrogen compound is a compound that forms a stable chelate by coordinating with copper, nickel, etc., and is particularly preferably a cyclic nitrogen compound having a benzene ring or a triazine-based compound. To give a specific example, as a cyclic nitrogen compound having a benzene ring, for example.

ベンゾトリアゾール系 μ インダゾール系 【 ベンズイミダゾール系 噛 インドール系 (上記各式中、R□は水素、アルキル、置換アルキルを
表わし、R2はアルカリ金属、水素、アルキル、置換ア
ルキルを表わす) 等を挙げることができる。
Examples include benzotriazole-based μ indazole-based [benzimidazole-based indole-based (in each of the above formulas, R□ represents hydrogen, alkyl, or substituted alkyl, and R2 represents an alkali metal, hydrogen, alkyl, or substituted alkyl), etc. can.

ヘンシトリアゾール系としては、例えばベンゾトリアゾ
ール(R1、R2ともに水素)、1−メチルヘンシトリ
アゾール(R工が水素、R2がメチル)。
Examples of hensitriazoles include benzotriazole (both R1 and R2 are hydrogen) and 1-methylhensitriazole (R is hydrogen and R2 is methyl).

1−(\、N−ジオクチルアミンメチル)ベンゾトリア
ゾール(R工が水素、R2がN、N−ジオクチルアミノ
メチル)、トリルトリアゾール(R工がメチル、R2が
水素)、ソジウムトリルトリアゾール(R工がメチル、
R2がナトリウム)等が好ましい。
1-(\,N-dioctylaminemethyl)benzotriazole (R is hydrogen, R2 is N, N-dioctylaminomethyl), tolyltriazole (R is methyl, R2 is hydrogen), sodium tolyltriazole (R is hydrogen), tolyltriazole (R is methyl, R2 is hydrogen), is methyl,
R2 is sodium) etc. are preferred.

インダゾール系としては、例えばインダゾール(Rよ、
R2ともに水素)、2−メチルインダゾール(R工が水
素、R2がメチル)、2−ベンジルインダゾール(Rよ
が水素、R2がC,H,CH,)、1−アセチルインダ
ゾール(R1が水素、R2がC○CH,)等が好ましい
Examples of indazole series include indazole (R,
R2 is hydrogen), 2-methylindazole (R is hydrogen, R2 is methyl), 2-benzylindazole (R is hydrogen, R2 is C, H, CH,), 1-acetylindazole (R1 is hydrogen, R2 is is C○CH, ) etc. are preferable.

ベンズイミダゾール系としては、例えばベンズイミダゾ
ール(R工、R2ともに水素)、X−アセチイベンズイ
ミダゾール(R工が水素、R2がC0CH2)、N−ベ
ンゾイルベンズイミダゾール(R工が水素、R2がCO
CGH,)等が好ましい。
Examples of benzimidazole systems include benzimidazole (both R and R2 are hydrogen), X-acetiibenzimidazole (R is hydrogen and R2 is COCH2), and N-benzoylbenzimidazole (R is hydrogen and R2 is CO).
CGH, ) etc. are preferred.

インドール系としては、例えばインドール(Rよ、R2
ともに水素)、インドール−1−カルボン酸(RLが水
素、R2がC○○H)、1−メチルインドール(R工が
水素、R2がCH3)  等が好ましい。
As an indole type, for example, indole (R, R2
(both are hydrogen), indole-1-carboxylic acid (RL is hydrogen, R2 is C○○H), 1-methylindole (R is hydrogen, R2 is CH3), and the like are preferred.

また、トリアジン系化合物の好ましい具体例を挙げれば
、例えば、6−置換−1,3,5−トリアジン−2,4
−ジチオール−ナトリウム塩(Rはアルキル基で置換さ
れたアミノ基を表わし、たとえば−N(CJi)z、−
3(cmHot)2、−N(C工2H25)2.4HC
sH工、 CH== CHC,Hエフ等が好ましい。)
、シアヌル酸(2,4,6−トリオキシ−1,3,5−
トリアジン)。
Further, preferable specific examples of triazine compounds include, for example, 6-substituted-1,3,5-triazine-2,4
-dithiol-sodium salt (R represents an amino group substituted with an alkyl group, such as -N(CJi)z, -
3 (cmHot) 2, -N (C engineering 2H25) 2.4HC
Preferred are sH, CH==CHC, HF, etc. )
, cyanuric acid (2,4,6-trioxy-1,3,5-
triazine).

メラミン(2,4,6−)−リアミノ−1,3,5−ト
リアジン)、 ンH・ 等を挙げることができる。これらは1種または2種以上
混合して添加され、パラフィンワックスと共に耐食性、
耐久性を向上させる。その濃度は総量で0.05〜3w
t%である。0.05wt%より小さいと耐食性、耐久
性が低く、また、3wt%より大きいと電気的接続性に
支障が生じる。
Examples include melamine (2,4,6-)-riamino-1,3,5-triazine), and H. These are added singly or as a mixture of two or more, and together with paraffin wax, they provide corrosion resistance,
Improve durability. The total concentration is 0.05~3w
t%. If it is less than 0.05 wt%, corrosion resistance and durability will be low, and if it is more than 3 wt%, electrical connectivity will be impaired.

又1本発明の封孔処理液に、必要に応じて添加される上
記のアミン系又はフェノール余談1ヒ防止剤としては、
たとえば。
In addition, the above-mentioned amine-based or phenol inhibitors that may be added to the sealing solution of the present invention as needed include:
for example.

P、P ′−シ′オクチルジフェニルアミン4.4′−
テトラメチルジアミノジフェニルメタ4.4′−メチレ
ン−ビス−(2,6−ジーt−ブチルフェノール) 2.2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−し−ブ
チルフェノール) 0)1    0f( CH,CH。
P, P'-cy'octyldiphenylamine 4.4'-
Tetramethyldiaminodiphenyl meta 4.4'-methylene-bis-(2,6-di-t-butylphenol) 2.2'-methylene-bis-(4-methyl-6-di-butylphenol) 0) 1 Of( CH , CH.

2.2′−メチレン−ビス−(4−エチル−6−し−ブ
チルフェノール) OH0H CH2CH1CH2CH。
2.2'-Methylene-bis-(4-ethyl-6-butylphenol) OHOH CH2CH1CH2CH.

2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾールH CH。2.6-di-t-butyl-p-cresol H CH.

ブチル化ヒトロキシアニゾール 0)1             0H2,6−ジーも
一ブチルー4−エチルフェノールH CH2CH。
Butylated hydroxyanisole 0) 1 0H2,6-di-monobutyl-4-ethylphenol H CH2CH.

等を挙げることができる。etc. can be mentioned.

これらは、1種又は2種以上を0.001〜1wt%添
加することができる。
One or more of these can be added in an amount of 0.001 to 1 wt%.

これらの成分を添加することにより、耐久性を一層向上
させることができる。すなわち、封孔処理皮膜の機能を
長期に亘り安定させ、また高温環境における皮膜の劣化
を抑制する効果を有する。
By adding these components, durability can be further improved. That is, it has the effect of stabilizing the function of the sealing film over a long period of time and suppressing deterioration of the film in a high-temperature environment.

0.0O1i%未満ではその効果を得ることはできず、
1wt%を越えると接触抵抗の低下現象が認められる。
If it is less than 0.0O1i%, the effect cannot be obtained,
If it exceeds 1 wt%, a phenomenon of decrease in contact resistance is observed.

封孔処理液は上述の成分を有するが、溶媒としては特に
制限されず、公知の有機溶媒より適宜選択することがで
きる。例えばトルエン、キシレン等の石油系溶媒、トリ
クロロエチレン、トリクロロエタン等のハロゲン系溶媒
、あるいはフロン系、8媒等である。
Although the pore-sealing liquid has the above-mentioned components, the solvent is not particularly limited and can be appropriately selected from known organic solvents. Examples include petroleum-based solvents such as toluene and xylene, halogen-based solvents such as trichloroethylene and trichloroethane, fluorocarbon-based solvents, and 8-solvents.

処理方法としては、めっき品を封孔処理液中に浸漬する
か、封孔処理液をスプレー、あるいは塗布するなど、回
礼の方法によることもできる。しかし本発明において、
めっき品の形状が板・条、プレス部品であるを問わず、
めっき直後すなわち連続ラインであれば、そのラインの
中で処理することが、封孔処理の各種機能を高める効果
が高いことを見いだした。
As a treatment method, a circular method such as immersing the plated product in a pore-sealing solution, spraying or coating the pore-sealing solution can be used. However, in the present invention,
Regardless of the shape of the plated product, whether it is a plate, strip, or pressed part,
It has been found that performing the treatment immediately after plating, that is, in a continuous line, is highly effective in enhancing various functions of the sealing treatment.

さらに、めっき品をプレス加工後に本発明の封孔処理液
で封孔処理する事も有効である。めっき後封孔処理した
金属材料であっても、その後のプレス加工で付着したプ
レス油を洗浄する工程において、封孔処理の機能の多く
は喪失する。そこで再度の封孔処理が有効となる。
Furthermore, it is also effective to seal the plated product with the sealing solution of the present invention after press working. Even with metal materials that have been sealed after plating, most of the sealing function is lost during the subsequent process of cleaning press oil adhering during press working. Therefore, re-sealing becomes effective.

その後のコネクタの加工工程においても、最終の電子機
器の組み立てまで、めっき品の洗浄工程かあれば同様に
封孔処理機能は喪失するため、適宜本発明により封孔処
理する事が有効である。さらシこは電子機器にコネクタ
として組み込ま九実実用に際しても、使用にともない接
点性能が低下するなどの場合は、適宜本封孔処理液によ
り処理することができる。従って1本発明は本発明封孔
処理液により処理されたコネクタをも包含するものであ
る。
In the subsequent processing steps of the connector as well, if there is a cleaning step for the plated product until the final assembly of the electronic device, the hole sealing function will be similarly lost, so it is effective to perform the hole sealing process according to the present invention as appropriate. Even when the bulge is incorporated into electronic equipment as a connector, if the contact performance deteriorates with use, it can be treated with the present pore-sealing treatment liquid as appropriate. Therefore, the present invention also includes connectors treated with the sealing solution of the present invention.

なお、本発明における、めっき母材となる金属材料は、
銅及び、黄銅、りん青銅、チタン銅等の各種銅合金、鉄
、ステンレス鋼、高ニッケル合金等、コネクタの要求性
能に従い適宜選択でき、回答制限されない。下地層とし
てのニッケルめっき、あるいは中間層としてのパラジウ
ムまたはパラジウム合金めっきは、電気めっき、無電解
めっき、あるいはCVD、PVD等の乾式めっき等の公
知のものを適用でき、めっきの方法は制限されない。
In addition, in the present invention, the metal material serving as the plating base material is:
Copper, various copper alloys such as brass, phosphor bronze, and titanium copper, iron, stainless steel, high nickel alloys, etc. can be selected as appropriate according to the required performance of the connector, and there are no restrictions on the answer. For the nickel plating as the base layer or the palladium or palladium alloy plating as the intermediate layer, known methods such as electroplating, electroless plating, or dry plating such as CVD or PVD can be applied, and the plating method is not limited.

金めつきは各種のアルカリ性浴、酸性浴から純金めっき
の他、コバルト等の合金成分を含有する金合金めっきも
包含するものである。
Gold plating includes pure gold plating from various alkaline baths and acidic baths, as well as gold alloy plating containing alloy components such as cobalt.

[実施例] 以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。[Example] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

ばね用りん青銅(C5210)の厚み0.2nnの冷間
圧延材を用い、雄、及び雌の連続端子をそれぞれプレス
成形した。これらをリール・ツウ・リールの連続電気め
っきラインを通して電気めっきを施した。めっきライン
においては、脱脂、酸洗後ワット浴により1μmのニッ
ケルめっき後、中性タイプのパラジウム−ニッケル合金
めっき液により0゜3μmのパラジウム−ニッケル合金
めっき後、酸性めっき浴により金を0.1μmの厚みで
接点部に部分めっきした。また、連続めっきラインでは
、金めつき後に封孔処理工程を設け、同工程ではトリク
ロロエタンを溶媒とした各種封孔処理液に連続端子を通
入することにより封孔処理を施した。
Male and female continuous terminals were each press-molded using a cold-rolled material of phosphor bronze (C5210) for springs with a thickness of 0.2 nn. These were electroplated through a reel-to-reel continuous electroplating line. In the plating line, after degreasing and pickling, 1 μm nickel plating in Watt bath, 0°3 μm palladium-nickel alloy plating with neutral palladium-nickel alloy plating solution, and 0.1 μm gold plating in acidic plating bath. The contacts were partially plated to a thickness of . In addition, in the continuous plating line, a sealing process was provided after gold plating, and in this process, the continuous terminal was passed through various sealing solutions using trichloroethane as a solvent to perform the sealing process.

こうして表面処理した雉と雌の端子をキャリア一部から
切断しリート線を圧着した後、それぞれを嵌合し評価試
験に供した。
The thus surface-treated pheasant and female terminals were cut from a portion of the carrier, and after crimping a leet wire, they were fitted together and subjected to an evaluation test.

接触抵抗は直流10mmA、開放電圧50mmVで測定
した。腐食試験は次の条件で行った。
The contact resistance was measured at a direct current of 10 mmA and an open circuit voltage of 50 mmV. The corrosion test was conducted under the following conditions.

ガス組成:H2S    3±ippmSOz   1
0±39ρm 温   度= 40± 2℃ 湿   度= 75± 5%RH 時  間= 96時間 複合試験は雄と雌の端子を自動繰返し挿抜装置で100
回の挿抜を繰返し行う摩耗試験を行った後、上記腐食試
験に供し、さらに接触抵抗を測定した。
Gas composition: H2S 3±ippm SOz 1
0±39ρm Temperature = 40±2℃ Humidity = 75±5%RH Time = 96 hours For the combined test, male and female terminals were inserted and removed 100 times using an automatic repeating insertion/extraction device.
After performing a wear test in which the wires were repeatedly inserted and removed several times, they were subjected to the corrosion test described above, and the contact resistance was further measured.

その結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

第  1  表 注1)ただし1表中封孔処理液の略号は以下の通りであ
る。
Table 1 Note 1) However, the abbreviations for the sealing liquids in Table 1 are as follows.

A パラフィンワックス B−19化ペトロラタムCa塩 −2酸化ワックスCa塩 −3ステアリン酸Ca塩 −4ラウリン酸A1塩 −5リシルシン酸A1塩 −6ミリスチン酸Ca塩 −7オレイン酸Ba塩 −8ナフテン酸Ba塩 −9ラノリン酸A1塩 C−1ベンゾトリアゾール C−2インダゾール C−3ベンズイミダゾール C−4インドール C−51−メチルベンゾトリアゾール C−6トリルトリアゾール C−7ソジウムトリルトリアゾール C−8メラミン D−I  P、P’ −ジオクチルジフェニルアミン−
24,4’ −テトラメチルジアミノジフェニルメタン −34,4’ −メチレン−ビス−(2,6−シ゛−し
−ブチルフェノール) −42,2’ −メチレン−ビス−(4−メチル−6−
t−プチルフェノール) −52,2’ −メチレン−ビス−(4−エチル−6−
し−ブチルフェノール) −62,6−ジーし一ブチルーp−クレゾール=7 ブ
チル化ヒトロキシアニゾール −82,6−ジーも一ブチルー4−エチルフェノール注
2)試験の判定基準は次の通りである3工 初期接触抵
抗、加熱試験後接触抵抗(n=5の平均値)0 : 2
5rrtnΩ以下 △:25〜50nmΩ X : 50nnΩ以上 rλ 腐食試験液外観 ◎:腐食生成物全く認ぬれず O:腐食生成物痕跡あり △:腐食生成物点在 ×:腐食点が全面に認められる [発明の効果コ 以上述へたように、本発明により封孔処理された下地層
としてニッケルめっき、中間刃としてパラジウムまたは
パラジウム合金めっき後、金めつきの接点は、処理直後
の接触抵抗が但く、過酷な腐食環境においても優れた耐
食性を示し、また熱履歴によっても接触抵抗が上昇せず
、接触性能が安定しているという利点を有する。
A Paraffin wax B-19ated petrolatum Ca salt-2 Oxidized wax Ca salt-3 Stearic acid Ca salt-4 Lauric acid A1 salt-5 Lysylcinic acid A1 salt-6 Myristic acid Ca salt-7 Oleic acid Ba salt-8 Naphthenic acid Ba salt-9 Lanolic acid A1 salt C-1 Benzotriazole C-2 Indazole C-3 Benzimidazole C-4 Indole C-51-Methylbenzotriazole C-6 Tolyltriazole C-7 Sodium Tolyltriazole C-8 Melamine D -I P, P' -dioctyldiphenylamine-
24,4'-tetramethyldiaminodiphenylmethane-34,4'-methylene-bis-(2,6-di-butylphenol) -42,2'-methylene-bis-(4-methyl-6-
t-butylphenol) -52,2'-methylene-bis-(4-ethyl-6-
-62,6-di-butyl-p-cresol = 7 Butylated hydroxyanisole-82,6-di-butyl-4-ethylphenol Note 2) The test criteria are as follows: 3rd stage Initial contact resistance, contact resistance after heating test (average value of n=5) 0: 2
5rrtnΩ or less△: 25 to 50nmΩ As mentioned above, after the sealing treatment of the present invention is performed, the contact resistance of the gold-plated contacts after nickel plating as the base layer and palladium or palladium alloy plating as the intermediate blade is severe. It exhibits excellent corrosion resistance even in a corrosive environment, and has the advantage that contact resistance does not increase even with thermal history and contact performance is stable.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)銅系または鉄系金属材料に下地層としてニッケル
めっき、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金
をめっき後、金または金合金をめっきした材料を処理す
る封孔処理液であって、(A)パラフィンワックス0.
1〜3wt%及び(B)金属石けんの1種または2種以
上0.05〜3wt%を必須成分とする有機溶剤溶液よ
りなることを特徴とする封孔処理液。
(1) A sealing solution for treating a copper-based or iron-based metal material plated with nickel as a base layer and palladium or palladium alloy as an intermediate layer, and then plated with gold or gold alloy, comprising (A) Paraffin wax 0.
A pore-sealing treatment liquid comprising an organic solvent solution containing as essential components 1 to 3 wt% and 0.05 to 3 wt% of one or more metal soaps (B).
(2)キレート形成性環状窒素化合物の1種または2種
以上0.05〜3wt%をさらに含有することを特徴と
する請求項(1)記載の封孔処理液。
(2) The sealing solution according to claim (1), further comprising 0.05 to 3 wt% of one or more chelate-forming cyclic nitrogen compounds.
(3)アミン系又はフェノール系酸化防止剤の1種もし
くは2種以上を0.001〜1wt%さらに含有するこ
とを特徴とする請求項(1)又は(2)記載の封孔処理
液。
(3) The sealing solution according to claim (1) or (2), further comprising 0.001 to 1 wt% of one or more amine-based or phenol-based antioxidants.
(4)銅系又は鉄系金属材料に下地層としてニッケルめ
っき、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金を
めっき後、さらにその上に金または金合金を電気めっき
後、請求項(1)又は(2)記載の封孔処理液で処理す
ることを特徴とする封孔処理方法。
(4) After plating a copper-based or iron-based metal material with nickel as a base layer, palladium or palladium alloy as an intermediate layer, and then electroplating gold or a gold alloy thereon, claim (1) or (2) A pore-sealing method comprising treating with the pore-sealing solution described above.
(5)下地層としてニッケルめっき、中間層としてパラ
ジウムまたはパラジウム合金をめっき後、金または金合
金めっきされた銅系または鉄系金属材料をプレス加工後
、請求項(1)、(2)又は(3)記載の封孔処理液で
処理することを特徴とする封孔処理方法。
(5) After plating nickel as a base layer and plating palladium or palladium alloy as an intermediate layer, after pressing a copper-based or iron-based metal material plated with gold or gold alloy, claim (1), (2) or ( 3) A pore-sealing method characterized by treating with the pore-sealing solution described above.
(6)銅系または鉄系金属材料に下地層としてニッケル
めっき、中間層としてパラジウムまたはパラジウム合金
をめっき後、金又は金合金をめっきしためっき材よりな
り、請求項(1)、(2)又は(3)記載の封孔処理液
で封孔処理したことを特徴とするコネクタ。
(6) It is made of a plated material in which a copper-based or iron-based metal material is plated with nickel as a base layer, palladium or a palladium alloy as an intermediate layer, and then plated with gold or a gold alloy, and claims (1), (2) or (3) A connector characterized in that it has been sealed with the sealing solution described above.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2015012306A1 (en) * 2013-07-24 2017-03-02 Jx金属株式会社 Electronic component and manufacturing method thereof

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