JPH04197650A - サーマルヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、プリンターなどに用いられるサーマルヘッド
に係り、特に中間濃度階調表現を行う、昇華型熱転写記
録に用いられるサーマルヘッドに関する。

［発明の概要］ 絶縁基板上に複数の発熱抵抗体を形成したサーマルヘッ
ドにおいて、発熱抵抗体を形成するフォトマスクの発熱
抵抗体部の寸法を無作為にばらつきをもたせた。

［従来の技術１ 昇華型熱転写記録の発展に伴い、カラーハードコピーや
ビデオプリンタなどにおいて、従来の銀塩写真に劣らな
い高画質のものが提供されつつある。この昇華型熱転写
記録は、サーマルヘッドへの印加エネルギーを調整する
ことにより、中間濃度階調表現を行うものである。

サーマルヘッドは、絶縁性基板上に複数の発熱抵抗体、
および、これに給電するための電極を形成し、この上を
保護膜で覆った構造となっている。そして、濃度調整は
前記発熱抵抗体への印加電圧、あるいは、通電パルス幅
を変えることにより行っている。

サーマルヘッドは、その大きさにより、数十ｍｍから３
００ｍｍ程の長さにわたって、均一な発熱抵抗体を形成
することが要求されるが、製造工程において、この抵抗
値分布には、ばらつきが生じてしまう。しかしこの抵抗
値ばらつきは、個々の発熱抵抗体への印加エネルギーの
ばらつきとなり、その結果、印画時の濃度ばらつきとな
ってしまう。

第２図に従来のサーマルヘッドの抵抗値分布を示す。図
中Ａ点のように、他より抵抗値が高いところでは印画濃
度は低（なり、Ｂ点のように、他より抵抗値が低いとこ
ろでは印画濃度が高くなる。中間濃度階調表現を行う昇
華型熱転写記録においては、熱転写記録の一方式である
溶融型熱転写記録に比べ、小さな抵抗値ばらつきでも印
画濃度ばらつきとなってしまう。このような理由により
、昇華型熱転写記録に用いられるサーマルヘッドは、製
造工程において、非常に歩留を悪くしていた。

［発明が解決しようとする課題］ この問題の解決手段として、発熱抵抗体をトリミングし
て抵抗値を均一化する方法や、個々の発熱抵抗体の抵抗
値ばらつきに応して、−個単位で印加エネルギーを制御
する方法がある。しかし、前者はサーマルヘッド製造工
程を複雑なものとし、後者は印画装置を複雑なものとす
るため、いずれも高価なものとなってしまっていた。

本発明は、従来のサーマルヘッドの製造工程を変えるこ
となく、印画濃度ばらつきのないサーマルヘッドを提供
するものである。

［課題を解決するための手段１ 前述のように、サーマルヘッドの製造工程においては、
サーマルヘッドの大きさにより、数十ｍｍから３００　
ｍ　ｍ程の長さにわたって均一な発熱抵抗体を形成する
ことが要求されるが、発熱抵抗体膜の膜付は工程や、発
熱抵抗体膜のエツチング加工工程において、１〜２％程
度の抵抗値ばらつきどなる特異点を、完全に防ぐことは
不可能である。しかし、印画濃度ばらつきとなる場合の
抵抗値分布は、均一な濃度の部分の抵抗値分布に対し、
特異点となっている場合であり、発熱抵抗体−個単位の
ばらつきは、全体が同様のばらつきを示している場合は
、人の目の解像度が追いつかず、印画濃度ばらつきとし
ては見えない。よって、本発明では、個々の発熱抵抗体
を形成する際、フォトマスクの個別の発熱抵抗体部の寸
法が無作為にばらついたものを用い、全体が２％程度の
ばらつきの幅で分布するようにした。

［作用］ 第１図に本発明のサーマルヘッドの抵抗値分布を示す。

これは、第２図に示す従来のサーマルヘッドの抵抗値分
布を、数値演算によりばらつきをもたせたものであり、
この操作によって、Ａ点やＢ点の特異点が全体のばらつ
きに隠れてしまい、特異点としては観察されなくなって
いる。従って、印画においては、濃度ばらつきとはなら
ない゛ことになる。

［実施例］ 第３図に発熱抵抗体部の上面図を示す、抵抗値は、発熱
抵抗体長さしに比例し、発熱抵抗体幅Ｗに反比例する。

従って、このどちらかの寸法にばらつきをもたせること
により、抵抗値に反映させることができる。表に３００
ドツト／インチの色度のサーマルヘッドの例を示す。

表　３００ドツト／インチの場合の フォトマスクの発熱抵抗体部寸法 この表における、発熱抵抗体長さ、あるいは、発熱抵抗
体幅のどちらかを選択し、最大と最小の範囲の中で、無
作為にばらつくように、フォトマスクの寸法とすること
で、全体の抵抗値が、２％程度のばらつきの幅をもつ分
布とすることができる。

〔発明の効果１ 以上のように、本発明のような発熱抵抗体の寸法をもつ
フォトマスクを用いることにより、従来のサーマルヘッ
ドの製造工程を変えることなく、印画濃度ばらつきのな
いサーマルヘッドを、高い歩留にて提供することが可能
である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明によるサーマルヘッドの抵抗値分布、
第２図は従来のサーマルヘッドの抵抗値分布である。第
３図は、発熱抵抗体部の上面図である。 ｌ・・・発熱抵抗体 ２・・・電極 以上 ＋１（抗体長さ 第１図４Ｑ’！ＩＩＣ’）’り　７／ｌ”−７ｉ’（７
１１ｉ、ＩＡＩｋｆｉ’／）４ｉ１１（抗体＋、Ｌさ 第２図イ、□ｒＱ−！？−７ｎ−７、ｙ　Ｆｃ１）ＩＩ
（１＋’ｉＩＡ’ｒ）ｄ１１発熱抵抗体 介 ２電極 １タ４１シ１１（抗体部１面１）１

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）絶縁基板上に複数の発熱抵抗体を形成したサーマ
   ルヘッドの製造方法において、個々の発熱抵抗体を形成
   するフォトマスクの発熱抵抗体部の寸法を、無作為にば
   らつかせたことを特徴とするサーマルヘッドの製造方法
   。
2. （２）発熱抵抗体を形成するフォトマスクの発熱抵抗体
   長さが、全発熱抵抗体長さの平均値に対し、±１％の範
   囲内でばらついている請求項第１項のサーマルヘッドの
   製造方法。（３）発熱抵抗体を形成するフォトマスクの
   発熱抵抗体幅が、全発熱抵抗体幅の平均値に対し、±１
   ％の範囲内でばらついている、請求項第１項のサーマル
   ヘッドの製造方法。