JPH04195832A - 光ディスク基板 - Google Patents

光ディスク基板

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JPH04195832A
JPH04195832A JP2322774A JP32277490A JPH04195832A JP H04195832 A JPH04195832 A JP H04195832A JP 2322774 A JP2322774 A JP 2322774A JP 32277490 A JP32277490 A JP 32277490A JP H04195832 A JPH04195832 A JP H04195832A
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JP
Japan
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substrate
information recording
optical disc
group
disc substrate
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JP2322774A
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Hiroki Kuramoto
蔵本 浩樹
Masaki Yoshii
吉井 正樹
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高密度メモリとして用いられる情報記録再生可
能な光ディスク基板に関するものである。
〔従来の技術〕
従来の光ディスク基板の断面斜視図を第4図に示す。こ
の図に示されるように基板1の情報記録面2には情報記
録域3にトラッキングを行うためのグルーブ4が形成さ
れていた。そして、情報記録域外はミラー領域5となっ
ていた。また、再生専用の光ディスク基板には情報記録
域に情報信号としてピットが形成されていた。このよう
に実際に情報を書き込みあるいは読み出しを行う情報記
録域だけにグルーブあるいはピットが形成されてぃた。
また、特開昭62−128038に記載のように基板の
中心孔とグルーブとの偏心量を少なく組立てるために情
報記録域以外に同心円あるいは螺旋状のグルーブが設け
られていた 〔発明が解決しようとする課題〕 上記従来技術は基板の情報記録面においてグルーブある
いはピットが形成されている領域とそれ以外のミラー領
域があった。これは基板とスタンバとの離型に関する配
慮がされておらず、不均一離型による離型ムラが生じる
という問題があった。
つまり、グルーブあるいはピットが形成されている領域
とそれ以外のミラー領域では表面錆さが異なり、グルー
ブあるいはピット領域では離型し易く、ミラー領域では
離型しにくい。このため、基板とスタンバとの離型が不
均一となり基板には応力が発生する。この不均一離型に
よる応力により基板の周方向の複屈折分布のばらつきが
大きくなり、光ディスク基板の重要な特性である収束光
レターデーションが第5図に示すように周方向で大きく
ばらつくという問題があり、また基板の変形が大きくな
るという問題があった。
本発明は光ディスク基板の離型時における不均一離型を
防ぎ、基板に生じる応力を小さくすることを目的とし、
これにより基板の複屈折分布のばらつきを小さくし、さ
らに基板の変形を少なくすることを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、光ディスク基板において情
報記録面の全面にわたってグルーブあるいはピットを形
成したものである。つまり、情報記録域と同様のグルー
ブあるいはピットを情報記録域外の全領域に形成したも
のである。
また、スタンバ転写面の全領域にわたってグルーブある
いはピットを形成し、スタンバホルダーに対応する領域
の表面を粗くしたものである。
〔作用〕
上記したように光ディスク基板において情報記録面の全
面にわたってグルーブあるいはピット・を形成すること
により、基板の表面粗さは全面にわたって同一となる。
これによって基板とスタンバとの離型時の離型力は均一
となり、基板とスタンバ、はスムーズな均一離型が達成
される。そして、グルーブあるいはピット領域とミラー
領域が存在する場合のように不均一離型が起こり、基板
の周方向の複屈折分布が大きくばらついたり、基板が変
形したりすることがなく、特性の良好な基板を得ること
ができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。第1図は本発明の一実施例における光ディスク基
板の断面斜視図を示す。基板1の情報記録面2には情報
記録域3にトラッキング用のグルーブ(案内溝)4と情
報記録域外6に情報記録域3と同様のグルーブ7が形成
されている。
ここで情報記録域3のグルーブ4と情報記録域外6のグ
ルーブ7の間には2つの領域を区別するためにグルーブ
のない境界領域8が2〜数μmの幅で設けられている。
情報記録域外6のグルーブ7は情報記録域3のグルーブ
4と深さ2幅およびその間隙が等しいほうがよい。また
グルーブ7は最外周の外周端面I2あるいは最内周中心
穴1]まで基板全面にわたって形成される。
ここで上記グルーブ4.7の形成方法について説明する
。まず、ガラス基板上にフォトレジストを塗布し、レー
ザー光を照射することにより照射部分をカッティングし
てグルーブを形成する。その後、このフォトレジスト面
にニッケルメッキを施こし、フォトレジスト面から剥離
することによりスタンバが作製される。このスタンバの
表面には、フォトレジスト面のグルーブが突起として形
成されている。そして、スタンバを光ディスク基板成形
用金型に取付けて、射出成形法、注型法、2P法などに
よりスタンバ表面の突起を光ディスク基板表面に転写す
ることによりグルーブが形成される。
よって、基板全面にグルーブが形成されるようにフォト
レジスト面をカッティングしてスタンバを作製し、この
スタンバを用いて本実施例の光ディスク基板を作製する
ことができる。
第2図は本発明の第2の実施例を示す光ディスり基板の
断面斜視図である。基板1の情報記録面2には情報記録
域3に情報信号用のピット9と情報記録域外6に情報記
録域3と同様なピット10が形成されている。ここで、
情報記録域3のピット9と情報記録域外6のピット10
の間には2つの領域を区別するためにピットのない境界
領域8が2〜数μrnの幅で設けられている。情報記録
域外6のピット10は情報記録域3のピット9と深さ9
幅および長さが等しいほうがよい。またピット10は最
外周の外周端面12あるいは最内周の中心穴11まで基
板全面にわたって形成される。本実施例の光ディスク基
板は、基板全面にわたってピットが形成するようにスタ
ンバをカッティングし、このスタンバを用いて成形する
ことにより、作製することができる。
射出成形による光ディスク基板の成形においてはスタン
バホルダーによりスタンバを金型に取付ける。光ディス
ク基板の情報記録面の全面にわたってグルーブを形成す
るためにはスタンバの表面と同様な突起をスタンバホル
ダーの表面にも形成しなくてはならない。そこで、次に
スタンバホルダーの表面に突起を形成する方法について
説明する。光ディスク基板の情報記録面に対応するスタ
ンバホルダー表面にNi系のめっきを施す。このめっき
層の厚さは0.2μm以上であればよい、そして、めっ
き層をバイトにより切削し、同心円状に溝を刻むことに
より、これに対応して突起が形成される。この突起の寸
法はスタンバの突起と同じ寸法となるように形成する。
このようにスタンバホルダー表面に突起を形成すること
により、これに対応した光ディスク基板の領域にグルー
ブが形成される。またスタンバホルダーの表面をグルー
ブと同等の表面粗さ、っまり0. lpm Rmaxに
粗しでもよい。これはスタンバホルダーの表面を研磨す
ることにより可能であり、突起を形成した場合と同じ効
果がある。このように射出成形法による光ディスク基板
において、情報記録面の全面にわたってグルーブを形成
することができる。第3図にスタンバホルダーの表面に
突起を形成させた場合の本発明の実施例における光ディ
スク基板の断面図を示す。情報記録域3にトラッキング
用のグルーブ4と情報記録域外6に情報記録域3と同様
のグルーブ7が形成されている。そしてグルーブ7は外
周部は外周端面12まで、また内周部はスタンバホルダ
ーのつめみぞ15までスタンバ転写領域の全領域にわた
って形成されている。されにスタンバホルダ一部分に対
応する領域13にもスタンバ転写領域のグルーブ4.7
と同様のグルーブ14が形成されている。このように基
板の情報記録面の全面にわたってグルーブが形成される
〔発明の効果〕
本発明は、以上説明したように光ディスク基板の情報記
録面の全面にわたってグルーブあるいはピットを形成し
たものであり、これにより基板とスタンバとの離型が均
一に行われ、基板の周方向の複屈折のバラツキを小さく
抑えることができ、また基板の変形を少なくすることが
できる。
具体的な本発明の効果について以下に説明する。
第5図はポリカーボネート樹脂による従来の φ300
光ディスク基板における収束光レターデーションの周方
向のばらつきについて示したものである。基板中心から
の距離は80mmである。収束光レターデーションは基
板の複屈折の大きさに関連し、信号を正確に読み取るた
めにはこの収束光レターデーションを小さく抑え、周方
向、径方向のばらつきを小さくする必要がある。第5図
に示すように従来の光ディスク基板ではグルーブあるい
はピット領域とミラー領域で不均一離型が起こり周方向
の収束光レターデーションが、約50nmと大きくばら
ついていることがわかる。第6図は本発明によるφ30
0光ディスク基板の周方向の収束光レターデーションに
ついて示したものである。図に示すように従来の光ディ
スク基板に比べ周方向のばらつきが小さく約5關程度で
あることがゎがる。
このように本発明により光ディスク基板の周方向のばら
つきを小さく抑えることができ、特性の良好な光ディス
ク基板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第一実施例を示す光ディスク基板を示
す図、第2図は本発明の第2実施例を示す光ディスク基
板を示す図、第3図は本発明の第3実施例を示す光ディ
スク基板を示す図、第4図は従来例における光ディスク
基板を示す因、第5図は従来の光ディスク基板の周方向
の収束光レターデーションを示す図、第6図は本発明に
よる光ディスク基板の周方向の収束光レターデーション
を示す図である。 1 ・・・・・・光ディスク基板 2 ・・・・・・情報記録面  3 ・・・・・・情報
記録域4 ・・・・・・情報記録域のグルーブ5 ・・
・・・・ ミラー領域  6 ・・・・・・情報記録域
外7 ・・・・・・情報記録域外のグルーブ8 ・・・
・・・境界領域 9 ・・・・・・情報記録域のピット 10・・・・・・情報記録域外のピット11・・・・・
・中心穴    12・・・・・・外周端面13・・・
・・・スタンバホルダ一部分に対応する領域14・・・
・・・スタンバホルダ一部分に対応する領域のグルーブ 15・・・・・・スタンパホルダーのつめみぞ第1区 ジ 第2回 1、 第5図 8−−]1本り一一→

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光ディスク基板において情報記録面の全面にわたつ
    てグルーブあるいはピットを形成したことを特徴とする
    光ディスク基板。 2、光ディスク基板においてスタンパ転写領域の全領域
    にわたつてグルーブあるいはピットを形成したことを特
    徴とする光ディスク基板。 3、光ディスク基板において情報記録領域外に情報記録
    領域と同じグルーブを形成させたことを特徴とする請求
    項1または2に記載の光ディスク基板。 4、光ディスク基板において情報記録領域外に情報記録
    領域と同じピットを形成させたことを特徴とする請求項
    1または2に記載の光ディスク基板。 5、光ディスク基板においてスタンパホルダーに対応す
    る領域にグルーブあるいはピットを形成させたことを特
    徴とする請求項1に記載の光ディスク基板。 6、光ディスク基板においてスタンパホルダーに対応す
    る領域の表面粗さを0.1μmRmaxにしたことを特
    徴とする請求項2に記載の光ディスク基板。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101107475B1 (ko) * 2009-07-03 2012-01-19 한화테크엠주식회사 감압 코팅 장치

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KR101107475B1 (ko) * 2009-07-03 2012-01-19 한화테크엠주식회사 감압 코팅 장치

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