JPH04195749A

JPH04195749A - 光磁気記録媒体の製造方法

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Publication number: JPH04195749A
Application number: JP32188390A
Authority: JP
Inventors: Yoshio Tanno; 嘉雄丹野
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1990-11-26
Filing date: 1990-11-26
Publication date: 1992-07-15
Anticipated expiration: 2015-08-14
Also published as: JP3077194B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光磁気記録媒体に対して磁気ヘッドを摺動さ
せながら記録を行う光磁気記録方式において使用される
光磁気記録媒体に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、透明基板上に記録磁性層か形成されてなる光
磁気記録媒体において、前記透明基板とは反対側の表面
に耐摩耗性保護膜を形成するとともに、その表面をバー
ニッシュ処理することにより、磁気ヘッドを摺動させた
場合にも十分な耐久性、走行性を確保しようとするもの
である。

〔従来の技術〕

光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的にキュリー点また
は温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力を消滅
させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向き
を反転することを基本原理とするもので、光ファイルシ
ステムやコンピュータの外部記憶装置、あるいは音響、
映像情報の記録装置等において実用化されつつある。

そして、この光磁気記録方式に用いられる光磁気記録媒
体としては、ポリカーボネート等からなる透明基板の一
生面に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し且つ磁気光
学効果の大きな記録磁性層（例えば希土類−遷移金属合
金非晶質薄膜）や反耐層、誘電体層を積層することによ
り記録部を形成し、透明基板側からレーザ光を照射して
信号の読み取りを行うようにしたものか知られている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、光磁気記録方式には、大きく分けて光変調方
式と磁界変調方式があり、オーバーライド可能であると
いうことから、磁界変調方式への期待か高まっている。

上記磁界変調方式は、印加磁界を高速で反転することに
より磁性薄膜に情報信号を書き込むものであって、磁界
の印加は通常は磁界発生手段を有する磁気ヘッドにより
行われる。

この場合、高速反転磁界を印加する磁気ヘッドでは、諸
々の制約から非常に小さな磁場しか発生できず、なるべ
く磁気ヘッドを記録磁性層に近づける必要がある。例え
ば、データ記録用の光磁気ディスクの場合、光磁気ディ
スク面と磁気ヘッド間の距離を０．１鴎以下にしなけれ
ばならない。

このように光磁気ディスクと磁気ヘッドの距離が狭まる
と、磁気ヘッドのクラッシュ等を防止するために、光磁
気ディスク側の寸法精度を高めて面振れを抑える必要が
ある。

しかしながら、基板かポリカーボネート等からなる光磁
気ディスクでは、面振れの抑制にも限度があり、光学ピ
ックアップのフォーカスサーボのように磁気ヘッドと光
磁気ディスク面間の距離を一定に保つようなサーボをか
けるか、あるいはノ＼−ドディスクのように、いわゆる
フライングヘッドを採用せざるを得ない。

ところが、特に回転数３００〜６００　ｒｐｍ程度の低
速回転のシステムでは、フライングヘッドは使えず、前
記距離をコントロールするためには複雑なサーボを必要
とする。

また、回転数３６００ｒｐｍ程度の高速回転のシステム
の場合、磁気ヘッドがエアー・ベアリングを介して浮上
するフライングヘッドの採用か可能であるが、スタート
とストップ時のクラッシュの問題を回避する必要かある
。

さらに、サーボをかけてディスクとの距離を一定とする
場合にも、あるいはフライングヘッドを採用する場合に
も、いずれにしても磁気ヘッドと光磁気ディスクの間に
距離を持たせるものであるので、几磁気ディスク側にお
いても、記録磁性層を低磁界で書き込みができるような
磁性薄膜としなければならない。

そこで、磁気ヘッドを光磁気記録媒体に対して摺動させ
ながら記録を行う光磁気記録方式が考えられるが、この
場合には耐久性、走行性を如何に確保するかが重要な課
題となる。

本発明は、かかる課題を解消すべく提案されたものであ
って、磁気ヘッドを摺動させた場合にも十分な耐久性、
走行性を確保し得る光磁気記録媒体を提供することを目
的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上述の目的を達成するために、本発明の光磁気記録媒体
は、透明基板上に記録磁性層が形成されてなる光磁気記
録媒体において、前記透明基板とは反対側の表面に耐摩
耗性保護膜が形成されるとともに、該耐摩耗性保護膜の
表面がバーニッシュ処理されていることを特徴とするも
のである。

〔作用〕

磁気ヘッドを光磁気記録媒体に対して摺動させながら記
録を行うと、記録磁性層までの距離が十分に小さなもの
となり、磁気ヘッドから発生する磁界は小さなもので済
む。また、前記磁気ヘッドに対しても特別なサーボ機構
は必要なく、クラッシュ等の問題も解消される。

ただし、この場合、光磁気記録媒体の摩耗や損傷による
エラーレートの増加が問題となるが、本発明の光磁気記
録媒体においては、磁気ヘッドの摺動面に耐摩耗性保護
膜が形成されているので、摩耗や損傷等に対する耐久性
も十分に確保される。

また、前記耐摩耗性保護膜は、その表面がバーニッシュ
処理されているので、表面突起物が除去され、ヘッドク
ラッシュや光磁気記録媒体の傷付き等の問題も解消され
る。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した実施例について、図面を参照し
ながら詳細に説明する。

先ず、第１図は、本実施例の光磁気ディスクに対して情
報信号を記録するための光磁気記録装置の概略構成を示
すもので、この光磁気記録装置は、光磁気ディスク（１
）を挾んで光学ピックアップ（２）と磁気ヘッド（３）
とが対向配置され、前記光磁気ディスク（１）に対して
磁気ヘッド（３）を摺動させながら信号記録を行うもの
である。

このような記録装置に用いられる本実施例の光磁気ディ
スク（１）は、第２図に示すように、基板（４）の−主
面に記録部（５）を積層し、さらにこの記録部（５）の
表面を紫外線硬化樹脂層（６）及び耐摩耗性保護膜（７
）で覆ってなるものである。

基板（４）は、厚さ数順程度（例えば１．２ｍ）の円板
状の透明基板であって、その材質としては、アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポ
キシ樹脂等のプラスチック材料の他、ガラス等も使用さ
れる。

なお、この基板（４）表面のうち、前記記録部（５）を
設ける側の表面には゛、通常は再生時に使用するレーザ
光波長のおよそ４分の１の深さを持った案内溝や番地符
号ビット等（いずれも図示は省略する。）が設けられる
。

記録部（５）は、記録磁性層（８）、誘電体層（９）、
　（１０）及び反射層（１１）よりなる４層構造を有し
、基板（４）上に第１の誘電体層（９）、記録磁性層（
８）、第２の誘電体層（１０）、反射層（１１）なる順
序で積層されている。

これらのうち、第１の誘電体層（９）及び第２の誘電体
層（ｌＯ）としては、酸化物や窒化物等が使用可能であ
るが、誘電体層（９）、　（１０）中の酸素が記録磁性
層（８）に悪影響を及ぼす虞れがあることから窒化物が
より好ましく、酸素及び水分を透過させず且つ使用レー
ザ光を十分に透過し得る物質として窒化珪素あるいは窒
化アルミニウム等が好適である。

また、上記記録磁性層（８）は、膜面に垂直な方向に磁
化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であって、磁気光
学特性に優れることは勿論、室温にて大きな保磁力を持
ち、且つ２００°Ｃ近辺にキュリー点を持つことが望ま
しい。このような条件に叶った記録材料としては、希土
類−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、なかでもＴ
ｂＦｅＣ。

系非晶質薄膜が好適である。この記録磁性層（８）には
、耐蝕性を向上させる目的で、Ｃｒ等の添加元素が添加
されていてもよい。

反射層（１１）は、前記第２の誘電体層（１０）との境
界でレーザ光を７０％以上反射する高反射率の膜により
構成することが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好適で
ある。また、この反射層（１１）は、熱的に良導体であ
ることが望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考
慮すると、アルミニウムが適している。

これらの各層は、蒸着やスパッタ等の、いわゆる気相メ
ツキ技術により形成される。このとき各層の膜厚は任意
に設定することができるが、通常は数百〜数千人程度に
設定される。これらの膜厚は、各層単独での光学的性質
のみならず、組み合わせによる効果を考慮して決めるこ
とが好ましい。

これは、例えば記録磁性層（８）の膜厚がレーザ光の波
長に比べて薄い場合に、レーザ光が記録磁性層（８）を
透過して各層境界で反射した光と多重干渉し、膜厚の組
み合わせにより記録磁性層（８）の実効的な光学及び磁
気光学特性が大きく変動するためである。

紫外線硬化樹脂層（６）は、記録部（５）表面の平坦化
や保護を目的として設けられるものであるが、場合によ
ってはなくともよい。この紫外線硬化樹脂層（６）の膜
厚は、３〜５μｍ程度であり、通常はアクリル系紫外線
硬化樹脂等が用いられる。

以上が光磁気ディスク（１）の基本的な構成であるが、
本発明の光磁気記録媒体では、磁気ヘッド（３）をディ
スク面に対して摺動させながら磁界変調記録を行うため
、前記紫外線硬化樹脂層（６）上に、あるいは前記記録
部（５）上に直接耐摩耗性保護膜（７）を設け、摺動に
よる摩耗の抑制や磁気ヘッド（３）の走行性の確保を図
るようになされている。以下、この耐摩耗性保護膜（７
）について説明する。

先ず、光磁気ディスク（１）の磁気ヘッド摺動面に形成
される耐摩耗性保護膜（７）は、基本的には熱硬化性樹
脂や電子線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂等の樹脂硬化膜か
らなるもの、あるいは電子線硬化樹脂や紫外線硬化樹脂
が一部配合された樹脂硬化膜からなるものである。

例えば、電子線硬化性を存するオリゴマに電子線を照射
して硬化し、耐摩耗性保護膜（７）とすることで、磁気
ヘッド接触時の損傷の少ない光磁気ディスクとすること
ができる。この場合、使用するオリゴマの分子量は、２
０００以下であることが好ましい。

同様に、耐摩耗性像ＭＨ（７＞中に紫外線硬化樹脂を配
合し、保護膜（７）形成直後に紫外線を照射して硬化さ
せることにより、強固な膜を形成することができる。

あるいは、耐摩耗性像ｆｆ！！（７）を形成する際に、
硬化剤を内添して膜強度の向上を図り、耐久性を上げる
ようにしてもよい。この場合、使用する硬化剤の分子構
造や種類は任意であり、複数稲畑の硬化剤を使用するこ
とも可能である。硬化剤の添加量は、使用する硬化剤の
種類にもよるが、通常は樹脂１００重量部に対して０．
００１〜５０重量部とすることが好ましい。また、硬化
温度は任意であり、常温硬化も可能であるが、硬化速度
が遅いことから、恒温槽にて所定の温度環境（例えばガ
ラス転移点以上）を作り、その中に一定時間入れて硬化
速度を速めるようにすることが好ましい。

前記熱硬化処理は、反応時間の短縮ばかりでなく、残留
溶剤や水分の除去、膜硬度の向上等の点でも有利である
。硬化が進み、硬化剤がガラス質となることにより、膜
質を硬くし耐久性を向上することができる。

上述のように樹脂硬化膜を耐摩耗性保Ｎ膜（７）とする
場合、その形成方法としては、ドクターブレードによる
方法やスピンコードによる方法等が好適である。

例えば、ドクターブレードと光磁気ディスク（１）間の
平面出しアダプタ上に塗料を均一に載せ、ドクターブレ
ードを手前に移動させることで、均一な厚みを持った塗
膜が形成される。あるいは、モータ回転軸に光磁気ディ
スク（１）を取付け、回転させながら塗料を光磁気ディ
スク（１）上に供給して塗膜を形成することで、やはり
厚みムラのない塗膜が形成される。これらの方法は、膜
形成が容易であるばかりでなく、膜厚の均一化が図れ、
さらには塗料の固形分、粘度を操作することにより表面
粗さや膜厚を制御することが可能である。

また、量産性を考慮した場合には、グラビア方式やサン
ドブラスト転写方式、オフセット方式等も好適である。

グラビア方式は、例えばディスクホルダーの外周面に光
磁気ディスク（１）を磁気ヘッド側表面を外方に向けて
取付け、インクネリロールとグラビアロールの間に塗料
ノズルから塗料を供給し、前記ディスクホルダーをバッ
クロールで押しつけながら走行させることでグラビアロ
ール表面の塗料を光磁気ディスク（１）の磁気ヘッド側
表面に転写するものである。塗料の転写に際しては、バ
ックロールの位置やグラビアロールのパターン深すテ厚
みをコントロールすることができる。塗料転写後は、平
坦化処理を行い、ドライヤーで乾燥して塗膜を形成する
。なお、バックロールは必ずしも円筒形でなくともよく
、ディスクホルダーの搬送ベルトかその役目を果たすよ
うな構成とすることも可能である。また、インクネリロ
ールや塗料を供給する塗料ノズルの位置や回転は任意で
ある。

サンドブラスト転写方式は、表面をサンドブラスト処理
によって粗面としたサンドブラストロールを用いて塗料
を転写するもので、基本的な装置構成は先のグラビア方
式と同様である。ただし、インクネリロールは不要で、
バックロールの位置やサンドブラストロールの周速、表
面粗さによって膜厚をコントロールする。

オフセット方式も、表面か平坦なオフセットロールを用
いる他はグラビア方式と同様の装置構成テ、ハックロー
ルの位置やオフセットロールノ周速、オフセットロール
とインクネリロール間の距離によって膜厚をコントロー
ルする。

これらの方式は、膜厚の均一化や厚み制御の容易さ、再
現性、表面粗さの点で優れたものであり、また塗布スピ
ードを１分間当たり１００ｍ以上に設定することかでき
、量産性の点で非常に有利である。

勿論、耐摩耗性保護膜（７）は、上述の硬化膜に限られ
るわけてはなく、例えばＡｆ、Ｎｉ等の耐摩耗材をメツ
キ、蒸着、スパッタ等の手法により形成したものや、ポ
リテトラフルオロエチレン等のような潤滑性高分子材料
あるいは絹等の不織繊維の被膜であってもよい。ポリテ
トラフルオロエチレンは、固体潤滑剤として広く用いら
れており、膜形成の方法としては、直接ディスク面に擦
り付ける方法や、蒸着する方法、溶剤に溶かしてスピン
コードする方法等かある。不織繊維は、繊維径５００μ
ｍ以下の繊維からなるものか好適で、繊維の種類は天然
、化繊を問わない。さらには、研磨材系非磁性膜や潤滑
剤被膜とすることも可能であり、潤滑粉末を被着するこ
とにより形成することも可能である。この場合、潤滑剤
としては、脂肪酸や脂肪酸エステル等、公知のものがい
ずれも使用可能であり、種類や組成は問わない。潤滑粉
末には、カーボンやポリテトラフルオロエチレン等の摩
擦係数の小さい物質の粉末を用いればよいが、粉末の硬
度は基板（４）よりも低いことが好ましい。なお、使用
する潤滑粉末の粒度は、＃８〜＃２０００００程度であ
る。

また、上述の耐摩耗性保護膜（７）は、必ずしも単層で
ある必要はなく、多層化することも可能である。この場
合、各層の樹脂の種類や添加物の種類等を選定すること
で、種々の要求に対応することか可能となる。あるいは
、耐摩耗性保護膜（７）を金属材料により構成する場合
には、下層を硬い金属膜（あるいはセラミクス等の非金
属膜でも良い。）とするとともに、上層をＡｕ、　Ａｇ
、　　Ｐｂ等の軟らかい金属膜とし、衝撃や摩擦を減少
するような構造とすることも可能である。

さらに、上述の耐摩耗性保護膜（７）には、潤滑粉末や
研磨材等の固体充填材を添加し、走行性。

耐久性のより一層の改善を図るようにしてもよい。

潤滑粉末、研磨材の種類は問わないが、潤滑粉末として
はカーボン（カーボンブラックやグラファイト粉末等）
やポリテトラフルオロエチレン粉末（いわゆるテフロン
粉末）等が、研磨材としてはアルミナや酸化クロム（い
わゆるグリーン）等が好適である。また、複数種類を同
時に添加することも可能である。

上記固体充填材は、耐摩耗性保護膜（７）に内添するの
か一般的であり、この場合粒子サイズは最大でも膜厚の
２倍以内とすることが好ましい。また、固体充填材を少
量のバインダと混合して、あるいは固体充填材のみで耐
摩耗性保護膜（７）表面に塗布することも可能であるが
、その場合には最大粒子サイズは耐摩耗性保護膜（７）
の膜厚と同等以下としなければならない。

さらにまた、上記耐摩耗性保護膜（７）に磁気記録媒体
の分野等で広く用いられている潤滑剤や極圧剤、カップ
リング剤等を内添あるいは塗布し、磁気ヘッド接触時の
損傷を防止するようにしてもよい。

潤滑剤としては、オレイン酸等の高級脂肪酸や脂肪酸エ
ステル等、あらゆる種類の潤滑剤が使用可能であり、極
圧剤も、リン系極圧剤、イオウ系極圧剤、ハロゲン系極
圧剤、有機金属系極圧剤、複合系極圧剤等、従来公知の
ものがいずれも使用可能である。カップリング剤として
は、シランカップリング剤やチタンカップリング剤、ジ
ルコアルミネート系カップリング剤等、各種のカップリ
ング剤を使用することができる。これらカップリング剤
を使用することで、耐摩耗性保護膜（７）を構成する樹
脂と基板、さらには研磨材等の粉末成分間を化学的に結
合させ、膜強度や基板に対する接着性を高めることが可
能である。

その他、γ−ＦｅｓＯｔ針状磁性粉末やＣＯ含浸（ドー
プ）γ−ＦｅｔＣＬ針状磁性粉末、Ｃｏ被着（コーティ
ング）γ−ＦｅｔＯｔ針状磁性粉末、金属磁性粉末、Ｃ
ｒ０ｗ磁性粉末、バリウムフェライト等の磁性粉末を研
磨材として使用することも可能である。これら磁性粉末
を含んだ磁性塗膜は、磁気テープ等により耐久性が高い
ことが実証されており、また透磁率か高いことから小さ
な磁界でも十分に記録部（５）に磁界を与えられる可能
性がある。

これら磁性粉末を耐摩耗性保護膜（７）中に分散する場
合、磁性粉末の配向方向は無配向、円周方向（膜面に対
して斜めに配向された場合も含むものとする。）、ラジ
アル方向（面内の一方向）、垂直方向等任意であるが、
配向方向を選択することによって様々な利点が得られる
。

例えば、無配向では、光磁気ディスク（１）面内でどの
位置でもランダムな方向に磁性粉末が向いているため、
記録磁性層（８）に与える磁気的影響はどの部分をとっ
ても同じと考えられ、ピット長、ノイズ等の影響がなく
なる。円周方向に配向した場合にも、光磁気ディスク（
１）のどの部分でも同様の配向となり、記録磁性層（８
）にとって局所的な磁気異方性を与える要因が少な（、
ピット長、ノイズ等に場所による変化を与えることがな
い。

一方、垂直配向した場合には、記録磁性層（８）の磁化
方向と磁性粉末の磁化容易軸方向が一致し、この方向で
の透磁率が高いことからより大きな磁界を記録磁性層（
８）に与えることができ、小さな磁界で記録可能となる
。

配向方法は、磁気記録媒体において採用されている方法
がいずれも適用でき、例えば無配向とするには、一対の
配向用マグネットを磁極の対向方向が塗膜の膜面内で互
いに直交する如く配置し、塗膜が乾燥する前にこれら配
向用マグネットにそれぞれ交流電圧を印加すればよい。

円周方向に配向するには、輻方向の両側縁かそれぞれＮ
極２Ｓ極とされた長尺状のマグネットを用い、このマグ
ネットの長手方向一端部を光磁気ディスク（１）の中心
に置き、この一端部を中心としてマグネットをディスク
の円周方向に回転させればよい。ラジアル方向に配向す
る場合には、やはり輻方向の両側縁がそれぞれＮ極、Ｓ
極とされた長尺状のマグネットを用い、光磁気ディスク
（１）上でマグネットの輻方向に平行移動すればよい。

垂直配向する場合には、光磁気ディスク（１）のディス
ク面に垂直に磁束が通るように直流マグネットを配置し
、光磁気ディスク（１）を回転すればよい。

なお、上述の耐摩耗性保護膜（７）において、顔料等を
選択することによって色彩を付与することにより、耐久
性を確保すると同時にデザイン性を持たせて商品価値を
高めることも可能である。

以上の構成を有する耐摩耗性保護膜（７）においては、
良好な磁界変調記録を行うために、その膜厚を適切な値
に設定する必要がある。

すなわち、前記耐摩耗性保護膜（７）の膜厚は、磁気ヘ
ッド（３）と記録部（５）との距離を決定するが、この
とき磁気ヘッド（３）が記録部（５）からどれだけ離れ
ていてもよいわけではなく、記録に必要な最低限度の磁
界が記録部（５）の記録磁性層（８）に届く範囲としな
ければならない。磁気ヘッド（３）側から言えば、同じ
磁界を記録磁性層（８）に与えるための記録電流を十分
に小さくし得る距離としなければならない。例えば、記
録磁性層（８）において、±２００エルステッドの磁界
を発生するためには、磁気ヘッド（３）と記録磁性層（
８）の距離が０．４ｍ　（４００μｍ）であると、およ
そ±ＩＡの記録電流が必要となるのに対して、前記距離
が０．０４ｍｍ　（４０μｍ）であると、およそ±０．
５への記録電流で済む。

下限については、耐久性を確保するに足る膜厚であれば
よく、またこの耐摩耗性保護膜（７）に若干のスクラッ
チが入っても記録部（５）を傷付けることのないような
範囲とすればよい。

このような点に鑑み、上記耐摩耗性保護膜（７）の膜厚
は、０，０１〜５０μｍとすることが好ましい。この膜
厚が５０μｍを越えると、記録磁性層（８）に達する磁
界の強さか小さなものとなり、記録の際に大きな記録電
流が必要となる。逆に、前記膜厚が０．０１μｍ未満で
あると、十分な耐久性を確保することが難しくなり、ま
たスクラッチ等により記録部（５）を損傷する虞れがあ
る。

ところで、上述の耐摩耗性保護膜（７）においては、そ
の表面に表面突起物があると磁気ヘッドの走行に影響を
及ぼす。例えば、耐摩耗性保護膜（７）の表面に大きな
突起物が存在すると、この突起物に磁気ヘッドが衝突し
、いわゆるヘッドクラッシュを起こす等して、磁気ヘッ
ドや光磁気ディスクを損傷する虞れかある。

そこで本実施例では、耐摩耗性保護膜（７）の表面をバ
ーニッシュ処理し、大きな突起物を除去するとともに、
表面粗さを適当な値とすることにより、前述の不都合を
解消することとする。

耐摩耗性保護膜（７）の表面をバーニッシュ処理する手
法としては、例えばラッピングテープを耐摩耗性保護膜
（７）の表面に接触させる方法がある。

すなわち、ラッピングテープを順次送り出すとともに、
これをコンタクトロールによって光磁気ディスク（１）
上に形成された耐摩耗性保護膜（７）に押し当て、この
状態で光磁気ディスク（１）を回転することによって円
周方向の表面処理がなされる。

このとき、ラッピングテープは、巻き取り装置及び巻き
出し装置によって常に新しい面で処理するようにする。

これによって、耐摩耗性保護膜（７）表面の突起物が削
り取られ、信頼性が向上する。

前述のバーニッシュ処理においては、ラッピングテープ
の送り方向と光磁気ディスクの回転方向は、順方向、逆
方向のいずれでもよく、またラッピングテープの材質、
表面構造も問わない。ただし、ラッピングテープの表面
粗さは、＃ｌＯ〜＃３００００程度とすることか好まし
く、コンタクトロールの径は０．５〜３００ｍ＋、ラッ
ピングテープの送り速度は１〜１００００１１Ｉｌ／分
とすることが好ましい。

次に、実際に光磁気ディスクを作成し、磁気ヘッドを摺
動させて記録を行い、その特性を評価した。

作成した光磁気ディスクの記録部は４層構造であり、そ
の膜厚は下記の通りである。

第１の誘電体層　：　　Ｓｉ＊Ｎａ　　　　１０００人
記録磁性層　　　：Ｔｂ−Ｆｅ−ｃｏ−Ｃｒ２３０人第２の誘電体層　：　　５１２Ｎ４　　　　５００人反
射層　　　　　：　　ＡＩ！　　　　　　７００人紫外
線硬化樹脂層＝　　　　　　　　　　３μｍ上記構成を
有する光磁気ディスクの紫外線硬化樹脂層上に、下記の
手法により耐摩耗性保護膜を形成した。

塗料の組成カーボン（平均粒径２００μ）・・・１００重量部塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体・・・１００重量部塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体　
　　　　　　　　　　・・・１００重量部上記組成物を
メチルエチルケトン・トルエン・シクロヘキサノン混合
溶媒（１：　ｌ　：　Ｉ）と共にボールミルにて４０時
間混練した。

次いで、熱硬化剤（商品名コロネー）Ｌ）２０重量部及
び脂肪族炭化水素系潤滑剤（オリーブオイル）１．５重
量部を加え、２０分間撹拌した。

これを上記紫外線硬化樹脂層上に転写ロールを用いて塗
布スピード５ｍ／分で塗布し、乾燥した。

乾燥後の塗膜の膜厚は２０μｍであった。

次いで、この耐摩耗性保護膜の表面を、表面粗さ＃１０
００のラッピングテープを用いてバーニッシュ処理した
。バーニッシュ処理の際のラッピングテープの送り速度
は１ル／分とした。

以上によって得られた光磁気ディスクにおいては、耐摩
耗性保護膜表面に大きな突起物は見当たらず、ｌＯ″バ
ス後にも傷付きは認められなかった。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明の光磁気記録
媒体においては、耐摩耗性保護膜か表面に形成されてい
るので、磁気ヘッドの摺動による摩耗を大幅に抑制する
ことが可能であり、耐久性を確保することか可能である
。また、前記耐摩耗性保護膜の表面は、バーニッシュ処
理されて表面突起物が除去されるとともに表面粗さが適
切な値とされているので、走行性の点でも良好な特性を
発揮し、ヘッドクラッシュ等による磁気ヘッドや光磁気
記録媒体の傷付きを解消することが可能である。

一方、本発明の光磁気記録媒体を用いれば、光磁気記録
媒体に対して磁気ヘッドを摺動させて磁気ヘッドと記録
磁性層の距離を複雑なサーボ等を要することなく小さな
値に安定に維持することができる。したがって、磁界変
調磁気ヘッドは、発生する磁界が小さなものであっても
使用可能であり、また大磁界を発生する能力かあるなら
ば、印加電流を減らして省電力化を図ることが可能であ
る。さらには、磁気ヘッドの周波数特性を高周波域まで
確保することか可能となり、高速転送レート及び高密度
化を図ることか可能となる。

また、光磁気記録媒体側から見たときには、磁界感度の
高い記録磁性層である必要がなくなり、また記録磁性層
が低磁界で記録可能な膜である場合には、磁界に対する
マージンを広くとることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光磁気記録媒体が適用される摺動型光
磁気記録方式を説明するための模式図である。第２図は本発明を適用した光磁気記録媒体の構成例を示
す要部拡大断面図である。１・・・光磁気ディスク２・・・光学ピックアップ３・・・磁気ヘッド５・・・記録部７・・・耐摩耗性保護膜

Claims

【特許請求の範囲】透明基板上に記録磁性層が形成されてなる光磁気記録媒
体において、前記透明基板とは反対側の表面に耐摩耗性保護膜が形成
されるとともに、該耐摩耗性保護膜の表面がバーニッシ
ュ処理されていることを特徴とする光磁気記録媒体。