JPH04193368A - フォトレジスト塗布治具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、治具の溝部側面、あるいは、被加工物の側面
にフッ素系樹脂をコーティングして、フォトレジストと
治具の溝部側面あるいは被加工物の側面とのぬれ性を制
御し、すき間部分を含めて、治具と被加工物への塗布レ
ジスト膜厚を均一化することを特徴とする塗布治具に関
するものである。

〔従来の技術〕

従来、ロールコーティング装置を用いて、フォトレジス
トの塗布について、レジストのぬれ性を制御する方法に
関して、特開昭５９−２０３６６５号公報に記載されて
いるように、微細な凹凸面にレジスト塗布するさいに、
予め低粘度レジストを塗布した後、高粘度レジストを塗
布することを特徴とする塗布方式に関するものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、低粘度のフォトレジストを塗布するこ
とにより、被塗布物の微細な凹凸面へのレジスト塗布に
ついて述べている。しかしながら、被加工物を治具の溝
部分に挿入して保持し、凹面を有する被加工物へのフォ
トレジストの塗布に配慮されていない。このため、凹部
にレジストが浸入して、塗布膜の厚みばらつきを生じさ
せる問題があった。

本発明の目的は、高粘度のフォトレジストを凹部を有す
る治具に対して、均一な塗布膜厚を形成することを特徴
とする塗布治具を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、液状フォトレジストが被塗布
面へどのように流れるか、特に、凹面への塗布特性を考
慮する必要がある。

被加工物を治具の溝部分に挿入して保持すると、治具の
溝部分と被加工物の機械加工精度のため、すきまが生じ
る。ロールコーティング法では、ゴム製のコーティング
ロールの微細溝にフォトレジストを蓄え、フォトレジス
トは被塗布面に転写され、被加工物にレジスト塗布膜が
形成される。治具の溝形状部分と被加工物とのすきま部
分に対する、コーティングロールに蓄えられたレジスト
は、すきまを形成する対向面、溝側面と被加工物側面に
引き寄せられ、塗布膜表面はへこみ形成となり、不均一
な膜厚を生じる。

フォトレジストを均一に塗布するには、被加工物、ある
いは、対向する治具溝部の側面におけるフォトレジスト
のぬれ性を変え、被加工物、あるいは、対向する治具溝
部の側面へのフォトレジストの回り込み方を制御するこ
とによって達成される。

〔作用〕

治具の溝部側面、あるいは、被加工物の側面にフッ素系
樹脂をコーティングして、フォトレジストと治具の溝部
側面、あるいは、被加工物の側面とのぬれ性を変え、被
加工物と保持治具溝側面との間隙へのレジストの浸入を
制御でき、レジスト塗布膜表面のへこみを低減し、レジ
ストを均一塗布できる。

〔実施例〕

以下１本発明の一実施例を第１図から第４図により説明
する。

第１図は、本発明の塗布治具１に被加工物２を保持して
いる断面（第２図のＡ断面）を示している。被加工物２
は、治具１の溝部分に固定保持されている。被加工物２
と治具１の溝部の側面には、フッ素系樹脂３をコーティ
ングしである。このフッ素系樹脂３のコーティングに関
しては、例えば、フッ素系オイルを、溶剤にて１〜１０
ｗｔ％に希釈し、被加工物２と治具１の溝部の側面に塗
布し、加熱乾燥し、フッ素系樹脂３をコーティングしで
ある。

第２図は、本発明の塗布治具１に被加工物２を保持して
いる概観を示している。各被加工物２は、塗布治具１の
溝部に平行位置に保持しである。

第３図は、一般にロールコーティング法に用いられてい
る塗布装置により、本発明による治具１に保持した被加
工物２にフォトレジスト塗布している状態を示している
。コーティングロール４とバックアップロール５は対向
して配置してあり、図示していない駆動部により回転す
る。コーティングロール４とバックアップロール５の両
側には小径ロール６が配置しである。コーティングロー
ル４に近接して、ドクターブレード７が有る。コーティ
ングロール４とドクターブレード７の窪み上にフォトレ
ジスト供給ノズル８がある。

次に、塗布動作について説明する。フォトレジスト供給
ノズル８からコーティングロール４とドクターブレード
７の窪みにフォトレジスト９が滴下され、コーティング
ロール４を回転とせて、コーティングロール４の溝形状
にフォトレジスト９が蓄えられる。コーティングロール
４とバックアップロール５のすきま部分に挿入し被加工
物２にフォトレジスト９を塗布する。

第４図に、フォトレジスト塗布膜厚１０への、治具１の
溝部側面と被加工物２の側面とのすきまの影響を示す。

なお、フォトレジストとして、治具１の溝部側面と被加
工物２の側面とのすきま部分では、治具１の溝部側面と
被加工物２の側面とのすきま量Ωがフォトレジスト塗布
膜１０のへこみ量δに及ぼす影響は大きい。たとえば、
すきま量Ａ３０．！、では、フォトレジスト塗布膜１０
のへこみ量δ５．ゎ生じる。治具基板１の溝形状部分と
被加工物２とのすきま部分に対する、コーティングロー
ル４に蓄えられたフォトレジストは、すきまを形成する
対向面である。治具２の溝側面と被加工物１の側面に引
き寄せられ、フォトレジスト塗布膜１０表面はへこみ形
状となる。このため、被加工面２端部のフォトレジスト
は薄くなり、ミリング加工に対して保護すべき部分がミ
リングされ、被加工物２の形状精度を得られない。

第５図に、被加工物２の側面と治具１の溝部側面に、フ
ッ素系樹脂３をコーティングした時の、フォトレジスト
の塗布膜の形状を示す。フォトレジストは被加工物２の
側面と治具１の溝部側面のフッ素系樹脂膜３によっては
じかれ、被加工物２の側面と治具１の溝部側面への浸入
は側面上方で止まり、すき間部分におけるフォトレジス
ト表面のへこみ量を小さくすることができる。

フォトレジストの塗布特性を第６図にまとめて示す。本
発明によるフッ素樹脂コーティング治具１によれば、被
加工物２と治具１とのすき間量Ｑが１００−の条件でも
、フォトレジスト塗布膜１０表面のへこみ量δは３−以
内とすることができる。

以上のように、本実施例によれば、塗布膜厚を均一にし
かも厚くすることができる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、フォトレジストと治具基板の溝部側面
、あるいは、被加工物の側面とのぬれ性を変え、被加工
物と保持治具溝側面との間隙へのレジストの浸入を制御
することによって、被加工物と治具溝部とのすきま部分
にフォトレジストの浸入を防止し、すきま部分において
、レジスト膜のへこみ量を小さくすることにより、均一
なフォトレジストの塗布膜厚を形成できる。このフォト
レジストを均一な膜形成することにより、被加工面の耐
エツチング性を高め、エツチングの寸法精度を向上でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例の塗布治具１による被加工物
２の保持断面図、第２図は塗布治具１に被加工物２を保
持している概観図、第３図は一般に用いられているロー
ルコーティング法の概略図、第４図はフッ素樹脂をコー
ティングしていない治具にフォトレジストを塗布した形
状を示す図、第５図はフッ素樹脂をコーティングしてい
る治具にフォトレジストを塗布した形状を示す図、第６
図は本発明による塗布膜厚特性図を示している。 １・・・保持治具、２・・・被加工物、３・・・フッ素
系樹脂膜、１０・・・フォトレジスト塗布膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、被加工物を治具の溝形状部分に挿入して保持し、被
   加工物へのフォトレジストの塗布に関して、その治具の
   溝部側面、あるいは、被加工物の側面にフッ素系樹脂を
   コーティングして、フォトレジストと治具の溝部側面、
   あるいは、被加工物の側面とのぬれ性を変え、被加工物
   と治具溝側面との間隙への浸入を制御することによって
   、レジスト塗布膜厚を均一化することを特徴とするフォ
   トレジスト塗布治具。