JPH04191360A - 蒸着方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野〕 この発明は、蒸着方法及びその装置に係り、特に、プラ
ズマを利用して大面積の板状部材に均一被膜を形成する
上で有効な蒸着方法及びこれを用いて連続生産を可能と
した蒸着装置に関する。

〔従来の技術〕

一般に、被膜形成対象物に均一被膜を形成する手法とし
ては、所定の真空環境に保持される蒸着処理炉内のハー
ス上の蒸発原料を蒸発させ、被膜形成対象物に被膜を付
着させるという真空蒸着技術が広く採用されている。

このような真空蒸着技術においては、膜質を改善する上
でホローカソード法や高周波励起法が導入され、グロー
放電によるプラズマ流に基づく蒸着被膜か通常行われて
いる。

〔発明か解決しようとする課題： ところが、このような手法にあっては、建築用ビルの窓
ガラス、自動車用ガラス、大型デイスプレィ用ガラス等
の大面積基板に対し、効率良く、しかも、高品質の被膜
を蒸着するのは困難であった。

すなわち、例えば、ホローカソード法では、カソード部
がプラズマにさらされるため、カソード部か溶融したり
、変形したりしてしまい、安定した連続蒸着を行うこと
が難しいばかりか、生成されたイオンがカソード側へ逆
流する可能性もあり、長時間大電力放電を安全に行うこ
とも難しいという技術的課題がある。

一方、高周波励起法では、放電を起こすのにリング状の
アンテナ等を用い、かつ、バイアスをかけるために被膜
形成対象となる基板側に金属板等を配置する必要もあり
、大面積範囲で−様な放電領域を作ることが難しくなっ
てしまうばかりか、放電は真空処理炉内のガス圧力に影
響されるために、放電か不安定であり、大面積基板に連
続して安定な蒸着を高速で行うことは難しいという問題
がある。

このような技術的課題を解決するために、本件出願人は
、アーク放電によって発生したアーク放電プラズマ流を
横方向においてシート状に変形させた後、該シート状プ
ラズマの下方に置かれた蒸発原料ハース上に上記シート
プラズマを屈曲させて導き、蒸発原料を蒸発させ、該蒸
発原料の上方に置かれた被膜形成対象物である基板に被
膜を形成するようにした技術を既に提供している（時開
１平２−１０１１６０号公報参照）。

しかしながら、このようなタイプにあっては、被膜形成
対象物である基板が大型化してくると、その分だけ、蒸
着処理炉の設置スペースが嵩み、装置が大型化してしま
うという技術的課題が生ずる。

この発明は、以上の技術的課題を解決するためになされ
たものであって、固体状態の昇華性蒸発原料に着目し、
蒸着処理炉の設置スペースを抑えなから、大面積の板状
部材が被膜形成対象物であるとしても、この大面積の板
状部材に連続して安定な蒸着を高速で行うことか可能な
蒸着方法及びその装置を提供するものである。

〔課題を解決するための手段〕

すなわち、この発明に係る蒸着方法は、第１図（ａ）に
示すように、蒸着処理炉１内の蒸着処理ステージＳの近
傍に縦方向に延びる昇華性蒸発原料５を予め設置してお
き、プラズマガン４からのアーク放電プラズマ流Ｐを縦
方向にてシート状に変形させた状態で上記昇華性蒸発原
料５へ導き、昇華性蒸発原料５を蒸発させ、上記蒸着処
理ステージＳに縦置き配置された被膜形成対象となる基
体２面に蒸発粒子５ａによる被膜を形成するようにした
ことを特徴とするものである。

また、このような方法発明を具現化する装置発明は、例
えば第１図（ｂ）に示すように、蒸着処理炉１と、被膜
形成対象となる基体２が略垂直状態で保持され、上記蒸
着処理炉ｌ内の蒸着処理ステージＳに基体２を順次搬送
する搬送キャリア３と、蒸着処理ステージＳ内に向かう
アーク放電プラズマ流Ｐか生成される１若しくは複数の
プラズマカン４と、蒸着処理ステージＳの近傍にて縦方
向に延びる昇華性蒸発材料５が収容され、アーク放電の
アノードとなるハース６と、上記プラズマカン４から生
成されるプラズマ流Ｐを縦方向においてシート状に変形
させるジ−プラズマ形成手段７と、このシートプラズマ
案内手段７にて形成されたシートプラズマＰｓをハース
６側へ導くシートプラズマ案内手段８とを備え、ハース
６内の昇華性蒸発材料５を蒸発させて蒸着処理ステージ
Ｓに位置する基体２面に蒸発粒子５ａによる被膜を形成
するようにしたことを特徴とするものである。

このような技術的手段において、方法発明の蒸着処理炉
１としては、静止状態の基体２を蒸着するタイプであっ
てもよいし、基体２を搬入搬送しながら蒸着する所謂イ
ンライン型のものであってもよいが、蒸着作業効率及び
蒸着被膜の厚みの均一性を高めるという観点からすれば
、上記インライン型のものが好ましい。この場合におい
て、蒸着処理炉ｌ内の真空度は１０−３Ｔｏｒｒ程度若
しくはそれ以下に保たれるのか好ましい。

そして、上記蒸着処理炉１へ導入される放電ガスとして
は、特に限定されないか、Ａ　ｒ、　Ｈｅ等の不活性カ
スが好ましい。また、蒸着処理炉１内のガス雰囲気は、
かかるＡｒ等の不活性ガスの他に反応ガスとして０２Ｎ
２等を添加するようにしてもよい。

また、蒸着被膜を形成する基体２としては、カラス、プ
ラスチック、金属等素材的に限定されるものではないが
、基体２としては特に加熱する必要がないので、１耐熱
性の低いもの、例えばプラスチックの板又はフィルム、
予め有機高分子膜を有するガラス板、例えばカラーフィ
ルタ膜を有する液晶カラーデイスプレィ用ガラス基板等
にも充分適用することができる。

更に、搬送キャリア３としては、少なくとも基体２の保
持部が設けられた垂直ベースを有し、蒸着処理ステージ
Ｓにて所定の蒸着処理を行えるものであれば適宜設計変
更することができる。この場合において、垂直ベースや
保持部の数、配置については適宜設計変更して差し支え
ない。

そして、搬送キャリア３の駆動搬送手段については、通
常、適宜駆動源からの駆動力をチェーンやギア等の駆動
伝達系を用いて搬送キャリア３に直接的に伝達するもの
が用いられるが、駆動搬送手段側からのダストの発生を
抑えるという観点からすれば、磁気浮上型のりニアモー
タ搬送系等を利用して搬送キャリア３を非接触搬送する
ように設計することが好ましい。

更にまた、プラズマガン４の数や配設ピッチについては
、被膜形成対象となる基体２の大きさやシートプラズマ
生成手段７の能力に応じて適宜選択することができる。

この場合において、上記プラズマガン４の配設部位とし
ては、蒸着処理炉１の上下方向に沿って一個又は複数個
配設すればよいが、基体２の蒸着被膜の均一性を高める
という観点からすれば、蒸着処理炉ｌの相対向する部位
にプラズマガン４を一個又は複数個配設し、−刃側のプ
ラズマガン４のビーム中心と他方側のプラズマガン４の
ビーム中心とを交互に配置するようにすることが好まし
い。

また、プラズマガン４の取付けについては、蒸着処理炉
１の外部、内部のいずれに取付けてもよいが、プラズマ
ガン４の交換作業性を考慮すると、蒸着処理炉ｌの外部
に仕切りバルブを介してプラズマガン４を着脱自在に取
付けるようにすることが好ましい。

そしてまた、プラズマガン４の具体的構成としては、ア
ノード（通常ハース６が兼ねている）との間でアーク放
電を起こし、「アーク放電プラズマ流Ｐを生成し得るも
のであれば適宜選択して差し支えないが、複合陰極型プ
ラズマガン、圧力勾配型プラズマガンあるいは両者を組
み合わせたもの（真空第２５巻第１０号参照）。

ここで、複合陰極型プラズマガンは、熱容量の小さいＷ
、Ｔａ、ＭＯ等の高融点金属からなるコイル状又はパイ
プ状の補助陰極と、Ｌａ　Ｂ６からなる主陰極とを有し
、上記補助陰極に初期放電を集中させ、それを利用して
主陰極を加熱し、主陰極か最終陰極としてアーク放電を
行うようにしたものであり、補助陰極か２，５００℃以
上の高温になって寿命に影響する以前に主陰極か１，５
００〜１，８００℃に加熱されて大電子流放出か可能な
状態になり、補助陰極のそれ以上の温度上昇か回避され
るという利点を有する。

また、圧力勾配型プラズマガンは、陰極と陽極との間に
中間電極を介在させ、陰極領域をＩ　Ｔｏｒｒ程度に、
一方、陽極領域を１０−３Ｔｏｒｒ程度に保って放電を
行うものであり、陽極領域からのイオン逆流による陰極
の損傷がない上に、中間電極のない放電形式に比べて、
放電電子流を作り出すためのキャリアガスのガス効率が
飛躍的に高く、大電流放電が可能であるという利点を有
する。

このため、上述した複合陰極型プラズマガンと圧力勾配
型プラズマガンとを組み合わせたプラズマガンを構成す
るようにすれば、上述した利点を同時に得ることができ
るのでこの発明のプラズマカンとして大変好ましい。

また、この発明において使用される昇華性蒸発原料５と
しては、昇華性を有する棒状ブロックの固体蒸発原料で
あればよく、例えば、金属、合金、これらの酸化物、硼
化物、炭化物、珪化物、窒化物あるいはこれらのうちの
−若しくは二種類以上を含む混合物からなるものを使用
することができる。そして、特に限定されるものではな
いか、所定の金属酸化物からなる蒸発原料を用いるよう
にすれば、低抵抗の高透過率の透明導電膜（例えば錫を
含む酸化インジウム膜、アンチモンを含む酸化錫膜、ア
ルミニウムを含む酸化亜鉛膜等）を得ることが可能にな
る。

また、ハース６については、少なくとも棒状ブロックの
昇華性蒸発原料５が縦方向において収容され、基体２に
対する成膜領域に略対応した範囲で蒸発原料５が蒸発可
能なものであれば適宜設計変更して差し支えない。この
場合において、ハース６内に収容される昇華性蒸発原料
５は単一構成のものでもよいし、複数に分割されたもの
でも差し支えない。

そして、上記ハース６には、ハース６の溶解及び支持部
品が高温になることを防止するために冷却水供給手段を
付設することが必要であり、また、蒸発原料５の蒸発に
必要な電力を供給するためにハース６をアーク放電のア
ノードにすることか必要である。

そしてまた、上記ハース６の配設構造については、蒸着
処理炉１内に固定的に配設してもよいが、蒸発原料５を
効果的に使用するという観点からすれば、上記ハース６
内全域にシートプラズマＰｓを導くように設計すること
が好ましく、例えば、蒸発原料５の消費度合に応じて上
記ハース６位置を移動させたり、シートプラズマ生成案
内手段７にシートプラズマＰの屈曲度合を可変にする機
能を付加する等適宜設計変更することができる。

更に、上記シートプラズマ形成手段７としては、プラズ
マガン４にて生成されたプラズマ流Ｐを縦方向に沿って
変形させるものであれば、マグネットやコイル等でプラ
ズマ流Ｐを両側から押し潰す磁界を形成する等適宜設計
変更して差し支えない。そして、複数のプラズマガン４
から生成されるシートプラズマＰ、を略同−平面内に隣
接させて大面積のシートプラズマを形成する場合には、
シートプラズマの幅方向、すなわち、縦方向の磁場の均
一性を保つために、シートプラズマの両端の外側にはも
う一組のマグネット等のシートプラズマ形成手段７を配
置するのが好ましい。

また、上記シートプラズマ案内手段８としては、縦方向
に沿って広がるシートプラズマＰ５がハース６側へ導か
れる磁界を形成するものであれば、ハース６の背面側に
マグネット等を配設する等適宜設計変更することができ
る。そして、各マグネット等の配役関係については、各
プラズマガン４毎にマグネット等を分割配置してもよい
し、共通化したマグネット等を用いるようにしてもよい
。

また、プラズマガン４とハース６との位置関係が比較的
遠くに設定される場合には、ハース６付近までシートプ
ラズマＰ、を効率良く導くという観点からすれば、シー
トプラズマ案内手段８として、シートプラズマＰ３をハ
ース６近傍位置まで誘導する誘導コイル等の誘導手段を
包含させるように設計することが好ましい。

そしてまた、プラズマガン４とハース６との位置関係が
比較的遠くに設定される場合には、シートプラズマＰ５
がハース６側へ到達するまでの間に収束してしまう可能
性があるため、このような事態を有効に回避するという
観点からすれば、シートプラズマ案内手段８として、ハ
ース６の背面側に比較的幅狭の電磁石を複数配列し、順
次切換え通電するようにして収束しつつあるシートプラ
ズマＰｓのシート状態を確保するように設計することが
好ましい。

更に、シートプラズマ案内手段８の配設箇所としては蒸
着処理炉ｌの内外を問わないが、蒸着処理炉ｌ外に配設
するようにすれば、蒸着処理炉１内と無関係に、マグネ
ット等の種類や形状を変えたり、マグネット等と蒸発原
料５との間の距離を変化させることが可能になり、シー
トプラズマＰｓ案内用の作用磁界を容易に調整すること
が可能になる点で好ましい。

また、この発明にあっては、搬送キャリア３の片側面を
成膜領域としてもよいか、生産効率を上げるという観点
からすれば、搬送キャリア３の両側面に基体２の保持部
を設け、一つの蒸着処理ステージＳの両側あるいは二つ
の蒸着処理ステージＳの異なる片側に夫々ハース６を設
置し、搬送キャリア３の両側面を成膜領域にすることが
好ましい。

〔作用〕

上述したような技術的手段によれば、−若しくは複数個
配設されたプラズマガン４からのプラズマ流Ｐは、シー
トプラズマ形成手段７によって縦方向に延びるシート状
に変形した後、シートプラズマ案内手段８によってハー
ス６内の昇華性蒸発材料５へ案内される。

この状態において、シートプラズマＰ５が照射されたハ
ース６内の昇華性蒸発原料５は周囲に拡散しながら蒸発
し、蒸発粒子５ａが蒸着処理ステージＳに縦置き配置さ
れた基体２側へ向かい、基体２表面に付着する。

このような被膜動作過程において、上記シートプラズマ
Ｐ５はアーク放電を利用しているため、従来のグロー放
電型プラズマに比べて、プラズマ密度が５０〜１００倍
高く、ガスの電離度は数ｌＯ％となり、イオン密度、電
子密度、中性活性種密度も非常に高い。このような高密
度のプラズマを蒸発原料５上に集束させると、蒸発原料
５から非常に多数の粒子を取り出すことが可能になり、
従来の蒸着法に比較して３〜１０倍の高速成膜を実現す
ることができる。

また、酸素、アルゴン等の雰囲気ガスの多くは、反応性
の高いイオンや中性の活性状態をとり、加えて、蒸発粒
子５ａも基体２に到達する前に、シートプラズマＰｓの
中を通り、反応性の高い中性の活性種になる。この結果
、基体２上での反応性が高まり、基体２を加熱しなくて
も、高速成膜を実現することもできる。

更に、この発明にあっては、基体２がある程度大型のも
のであったとしても、基体２を横置き搬送するシステム
に比べて、蒸着処理炉１の設置スペースが不必要に大き
く設定されることはない。

〔実施例〕

以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの発明の詳細
な説明する。

第２図ないし第４図はこの発明が適用された蒸着装置の
一実施例を示す。

同図において、符号１０は所定の真空環境に保持され且
つ被膜形成対象となるガラス基板Ｇが蒸着処理ステージ
Ｓ（この実施例では第一蒸着処理ステージＳ１．第二蒸
着処理ステージＳ２）に順次搬入される所謂インライン
型の蒸着処理炉であり、ガラス基板Ｇの搬送路を区画す
る搬送用チャンバ１１とここの搬送用チャンバ１１の各
蒸着処理ステージＳ　、、　Ｓ　、に対応した箇所の相
互に異なる側に膨出形成される成膜チャンバ１２．１３
（この実施例では磁界を遮らない非磁性ステンレス鋼を
使用）とで構成されている。

尚、成膜用チャンバ１２．１３にはガス導入口及び真空
排気口（いずれも図示せず）が開設され、上記ガス導入
口からは反応ガス（この実施例では０□）が導入される
一方、上記真空排気口にはダり１・を介して真空ポンプ
か連通接続され、成膜用チャンバ１’２．１３内が１０
−’Ｔｏｒｒ程度の真空度に保たれている。

また、２０は各蒸着処理ステージＳ、、Ｓ２に被膜形成
対象となるガラス基板Ｇを順次搬送する搬送キャリアで
あり、この搬送キャリア２０は、図示外の駆動モータか
ら伝達される駆動力によって、搬送用チャンバ１１内に
適宜間隔毎に敷設されたガイドロール１４上を案内搬送
されるようになっている。また、この実施例において、
搬送キャリア２０は、上記ガイドロール１４上に載置さ
れるキャリア本体２１と、このキャリア本体２１上に立
設される垂直ベース２２と、この垂直ベース２２の両側
面に夫々四箇所ずつ形成される基板保持部２３（具体的
にはガラス基板Ｇの上端部保持用の基板受け２３ａ及び
ガラス基板Ｇの両側縁を押え込む基板押さえクランプ２
３ｂ）とを備えている。尚、搬送キャリア２０の搬送時
における倒れを防止する上で、上記垂直ベース２２の上
端部は図示外のガイドレールに沿って案内搬送されるよ
うになっている。

更に、符号３０は昇華性蒸発材料（この実施例では錫ド
ープ酸化インジウム〔以下、ＩＴＯという〕）が収容さ
れるハースであり、夫々の成膜チャン／＜１２．１３の
各蒸着処理ステージＳ、、Ｓ。

に対向した部位において縦方向に沿って設置されている
。

このハース３０は、例えば第５図に示すように、底板３
１の背面側に冷却水が循環する縦方向に延びる冷却定盤
３２を取付ける一方、上記底板３１の両側にはｉ対の押
え側板３３を取付けると共に、上記冷却底板３２及び押
え側板３３の上端部には押え天板３４を取付け、直方体
状の１７０１０７２Ｍを抱き込み保持するようにしたも
のである。

尚、１７０１０７２Ｍを角部の少ない形状、例えば半円
柱状のような形状にすれば１７０１０７２Ｍを壊れ難く
することが可能であり、このような場合には、第６図に
示すように、底板３１、押え側板３３、押え天板３４の
形状を適宜変えてハース３０構成を変更するようにすれ
ばよい。

また、符号４０は上記成膜用チャンバ１２，１３の一側
壁の上下方向にて所定ピッチ間隔で二つ並設されるプラ
ズマガンである。

更にまた、符号７ｏはプラズマガン４ｏがらのプラズマ
流Ｐを縦方向においてシート状に押し潰すシートプラズ
マ形成装置であり、この実施例では、一対のＮ極とＮ極
とを対向させた永久磁石７０による磁界にてプラズマガ
ン４ｏからのプラズマ流Ｐを縦方向において偏平に押し
潰すようになっている。尚、シートプラズマ形成装置７
ｏとして、永久磁石７０に変えて一対の電磁石にて同様
な磁界を形成するようにしてもよい。

また、符号８０は形成されたシートプラズマをハース３
０部位へ案内するシートプラズマ案内装置であり、この
実施例では、プラズマガン４ｏの細心に中心位置が一致
したリング状の支持フレーム８１を配設すると共に、こ
の支持フレーム８１＋＝誘導：＋−１’ル８２を巻装し
、この誘導コイル８２による磁界にて、偏平状態に押し
潰されたシートプラズマＰ３をハース３０の手前位置ま
で誘導する一方、上記ハース３０の背面側に位置する成
膜チャンバ１２．１３の外側には、上下の各プラズマガ
ン４０（具体的には４０ａ、４０ｂ）に対応して永久磁
石８３を夫々配設し、永久磁石８３による磁界にて各プ
ラズマガン４０からのシートプラズマＰｓをハース３０
上へ集束させるようになっている。

更に、符号９０．９１は夫々の成膜チャンバ１２．１３
内に配設され、上記ハース４０からのＩＴｏブロックＭ
の蒸発粒子Ｍａを蒸着処理ステージＳ　、、　Ｓ　、側
へ導く蒸発経路規制シールド板であり、ハース４０の両
側から蒸着処理ステージ５１８２側へ向かって拡開配置
されている。尚、プラズマガン４０側に配設される蒸発
経路規制シールド板９０には、プラズマガン４０からの
プラズマ流Ｐが通過するための開口９０ａが開設されて
いる。

次に、この実施例に係る蒸着装置の作動を説明する。

図示外のスタートスイッチをオン動作させると、カラス
基板Ｇか両側に保持された搬送キャリア２０が搬送用チ
ャンバ１１内を所定の速度で移動し始める一方、各成膜
チャンバ１２．１３のプラズマガン４０が一斉に動作し
、各プラズマガン４０からアーク放電による高密度のプ
ラズマ流Ｐが生成される。

この後、上記シートプラズマ形成装置７０にて上記プラ
ズマ流Ｐが縦方向に沿ったシートプラズマＰｓに押し潰
された後、シートプラズマ案内装置８０の誘導コイル８
２にてシートプラズマＰ５がハース３０の手前まで誘導
される。

このように誘導されたシートプラズマＰｓは、シートプ
ラズマ案内装置８０の永久磁石８３にてハース４０内の
ＩＴＯブロックＭに向かって高密度の状態で集束する。

すると、ハース３０内のＩＴｏブロックＭは縦方向に延
びるシートプラズマ案内手段の広がりをもって効率的に
蒸発し、蒸発粒子Ｍａがハース３０表面から周囲に向か
って拡散する。

このとき、上記蒸発粒子Ｍａの一部は、矢印Ａて示すよ
うに、蒸着処理ステージＳ、、Ｓ２に進入してくるガラ
ス基板Ｇに直接的に向かい、他のものは、矢印Ｂで示す
ように、蒸発経路規制シールド板９０．９１で反射又は
付着後回蒸発して蒸着処理ステージＳ　、、　Ｓ　２へ
と向かう。

このため、蒸着処理ステージＳ１では、搬送キャリア２
０の片側に位置するガラス基板Ｇに対して蒸発粒子Ｍａ
による被膜が形成され、蒸着処理ステージＳ２では、搬
送キャリア２０の反対側に位置するガラス基板Ｇに対し
て蒸発粒子Ｍａによる被膜が形成される。

〔発明の効果〕

以上説明してきたように、請求項１若しくは２記載の蒸
着方法及びその装置によれば、プラズマガンからのアー
ク放電によるプラズマ流を縦方向に沿ってシート状に変
形させ、このシートプラズマを縦方向に延びる昇華性蒸
発原料に集束させることにより、昇華性蒸発材料を効率
的に蒸発させ、基体上での蒸発粒子の反応性を高めた状
態で、縦置きの基体へ蒸発粒子による被膜を形成するよ
うにしたので、基体を加熱することなく、基体の高さ方
向全域に亘って膜厚の均一な高品質の蒸着被膜を高速且
つ効率的に形成することができるほか、基体を横置き配
置するタイプに比べて、基体が大型化したとしても、装
置の設置スペースを拡大する必要がないため、装置の設
置スペースの低減化という要請に沿った連続生産システ
ムを容易に提供することができる。

また、請求項３記載の蒸着装置によれば、搬送キャリア
の両側面を成膜領域として設定するようにしたので、基
体に対する被膜生産効率をより向上させることができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）はこの発明に係る蒸着方法の概略を示す説
明図、第１図（ｂ）はこの発明に係る蒸着装置の概略を
示す説明図、第２図はこの発明に係る蒸着装置の一実施
例を示す斜視図、第３図は第２図中■方向から見た矢視
図、第４図は第２図中■−ＩＶ線断面図、第５図は実施
例で用いられるハースの具体例を示す斜視図、第６図は
その変形例を示す斜視図である。 〔符号の説明〕 Ｓ・・・蒸着処理ステージ ト・・蒸着処理路 ２・・・基体 ３・・・搬送キャリア ４・・・プラズマガン ５・・・昇華性蒸発原料 ６・・・ハース ７・・・シートプラズマ形成手段 ８・・・シートプラズマ案内手段 特許出願人　　旭硝子　株式会社 代　理　人　　弁理士　小寒　雅裕 （外２名） 第１　図（ａ） ２（基体）　　　’＜５ａ（蒸発粒子）第１図（ｂ） ｊ（Ｍ平ヤリり　（ ら 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）蒸着処理炉（１）内の蒸着処理ステージ（Ｓ）の近
   傍に縦方向に延びる昇華性蒸発原料（５）を予め設置し
   ておき、 プラズマガン（４）からのアーク放電プラズマ流（Ｐ）
   を縦方向にてシート状に変形させた状態で上記昇華性蒸
   発原料（５）へ導き、昇華性蒸発原料（５）を蒸発させ
   、 上記蒸着処理ステージ（Ｓ）に縦置き配置された被膜形
   成対象となる基体（２）面に蒸発粒子（５ａ）による被
   膜を形成するようにしたことを特徴とする蒸着方法。 ２）蒸着処理炉（１）と、 被膜形成対象となる基体（２）が略垂直状態で保持され
   、上記蒸着処理炉（１）内の蒸着処理ステージ（Ｓ）に
   基体（２）を順次搬送する搬送キャリア（３）と、 蒸着処理ステージ（Ｓ）内に向かうアーク放電プラズマ
   流（Ｐ）が生成される１若しくは複数のプラズマガン（
   ４）と、 蒸着処理ステージ（Ｓ）の近傍にて縦方向に延びる昇華
   性蒸発材料（５）が収容され、アーク放電のアノードと
   なるハース（６）と、 上記プラズマガン（４）から生成されるプラズマ流（Ｐ
   ）を縦方向においてシート状に変形させるシートプラズ
   マ形成手段（７）と、 このシートプラズマ形成手段（７）にて形成されたシー
   トプラズマ（Ｐ＿ｓ）をハース（６）側へ導くシートプ
   ラズマ案内手段（８）とを備え、 ハース（６）内の昇華性蒸発材料（５）を蒸発させて蒸
   着処理ステージ（Ｓ）に位置する基体（２）面に蒸発粒
   子（５ａ）による被膜を形成するようにしたことを特徴
   とする蒸着装置。 ３）請求項２記載のものにおいて、 上記搬送キャリア（３）の両側面に基体（２）の保持部
   を設け、 一つの蒸着処理ステージ（Ｓ）の両側あるいは二つの蒸
   着処理ステージ（Ｓ）の異なる片側に夫々ハース（６）
   を設置し、 搬送キャリア（３）の両側面を成膜領域にしたことを特
   徴とする蒸着装置。