JPH04186739A - 半田付け装置 - Google Patents
半田付け装置Info
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- JPH04186739A JPH04186739A JP31966790A JP31966790A JPH04186739A JP H04186739 A JPH04186739 A JP H04186739A JP 31966790 A JP31966790 A JP 31966790A JP 31966790 A JP31966790 A JP 31966790A JP H04186739 A JPH04186739 A JP H04186739A
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract 2
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
乙の発明は、半導体チップ等の電子部品を基板上に高品
質に半田付けができるようにした半田付は装置に関する
ものである。
質に半田付けができるようにした半田付は装置に関する
ものである。
従来の技術を半導体装置の例で説明する。
第２図（ａ）〜（ｄ）は半導体装置の組立て手順を示す
斜視図である。第２図において、１は半導体チップ、２
はこの半導体チップ１を支持するリードフし−ム、２ａ
、２ｂは二のり一ドフし一ム２を構成するグイパッド部
およびインナリードである。３はこのインナリード２ｂ
と半導体チップ１を接続する金線、４は前記半導体チッ
プ１をグイパッド部２ａに接着する半田を示す。５は前
記半導体チップ１をつかんで（真空吸着）移送する移送
手段であるコレラ１−１６はこのコレット５を保持し駆
動するスピンドル、１５は前記半導体チップ１を収納す
るパレットである。
斜視図である。第２図において、１は半導体チップ、２
はこの半導体チップ１を支持するリードフし−ム、２ａ
、２ｂは二のり一ドフし一ム２を構成するグイパッド部
およびインナリードである。３はこのインナリード２ｂ
と半導体チップ１を接続する金線、４は前記半導体チッ
プ１をグイパッド部２ａに接着する半田を示す。５は前
記半導体チップ１をつかんで（真空吸着）移送する移送
手段であるコレラ１−１６はこのコレット５を保持し駆
動するスピンドル、１５は前記半導体チップ１を収納す
るパレットである。
第３図は半導体デツプ１をリードフレーム２に接着する
除用いる半田付は装置の概略を示す構成図である。この
図において、第２図と同一構成部分には同一符号を付し
その説明は省略する。７は半田付は部の雰囲気カバー、
７ａはその開口部、８は雰囲気用ガス供給源、９はガス
供給用バルブを示し、１２は前記スピンドル６を介して
コレット５を駆動するための真空供給源を示す。
除用いる半田付は装置の概略を示す構成図である。この
図において、第２図と同一構成部分には同一符号を付し
その説明は省略する。７は半田付は部の雰囲気カバー、
７ａはその開口部、８は雰囲気用ガス供給源、９はガス
供給用バルブを示し、１２は前記スピンドル６を介して
コレット５を駆動するための真空供給源を示す。
次に、動作について説明する。
第２図（ａ）に示すように、リード７し−ム２が所定位
置に供給されると、第２図（ｂ）に示すように、リード
フレーム２のグイパッド部２ａに接着用の半田４が予備
半田付けされろ。一方、第３図に示すように、真空供給
源１２からの真空力によりコレラｌ−５はパし・ツ）・
１５内の半導体チップ１を真空吸着し、予備半田付けさ
れたダイバ・ソド部２ａ上に第２図（ｃ）に示すように
移送され、その後、スピンドル６が下降し、半導体チッ
プ１はグイパッド部２ａ上に接着される。この時、リー
ドフレーム２は七−夕１３により加熱昇温されてお秒、
半田４が溶融し接着が行われる。さらに、この後、第２
図（ｄ）に示すように、金線３にて半導体チップ１．イ
ンナリード２ｂを電気的に接続する。
置に供給されると、第２図（ｂ）に示すように、リード
フレーム２のグイパッド部２ａに接着用の半田４が予備
半田付けされろ。一方、第３図に示すように、真空供給
源１２からの真空力によりコレラｌ−５はパし・ツ）・
１５内の半導体チップ１を真空吸着し、予備半田付けさ
れたダイバ・ソド部２ａ上に第２図（ｃ）に示すように
移送され、その後、スピンドル６が下降し、半導体チッ
プ１はグイパッド部２ａ上に接着される。この時、リー
ドフレーム２は七−夕１３により加熱昇温されてお秒、
半田４が溶融し接着が行われる。さらに、この後、第２
図（ｄ）に示すように、金線３にて半導体チップ１．イ
ンナリード２ｂを電気的に接続する。
従来の半田付は装置は、以上のように構成されているの
で、スピンドル６に支持されたコレット５が、雰囲気カ
バー７の開口部７ａよりリードフレーム２上へ半導体チ
ップ１を供給しなければならず、コレット５上部の雰囲
気カバー７が開放された構造となっている。このため、
ガス供給源８から供給された半田酸化防止用雰囲気ガス
が開口部７ａより流出し、安定した酸化防止雰囲気が維
持できないという問題点があった、。
で、スピンドル６に支持されたコレット５が、雰囲気カ
バー７の開口部７ａよりリードフレーム２上へ半導体チ
ップ１を供給しなければならず、コレット５上部の雰囲
気カバー７が開放された構造となっている。このため、
ガス供給源８から供給された半田酸化防止用雰囲気ガス
が開口部７ａより流出し、安定した酸化防止雰囲気が維
持できないという問題点があった、。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたものて、半田酸化防止ガスの流出を防ぐことができ
、安定した酸化防止雰囲気が維持できるとともに、半田
付は品質の高い半田付は装置を得ることを目的とする。
れたものて、半田酸化防止ガスの流出を防ぐことができ
、安定した酸化防止雰囲気が維持できるとともに、半田
付は品質の高い半田付は装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半田付は装置は、雰囲気カバーに形成さ
れた開口部を閉止する蓋部を設けたものである。
れた開口部を閉止する蓋部を設けたものである。
この発明においては、半田付は時に蓋部により半田付部
雰囲気を密封することから、雰囲気ガスの流出が防止さ
れ、その結果、半田の酸化が防止される。
雰囲気を密封することから、雰囲気ガスの流出が防止さ
れ、その結果、半田の酸化が防止される。
以下、この発明の一実施例を図面について説明する。
第１図（ａ）、（ｂ）はこの発明の一実施例による半田
付は装置の構成と動作を説明するための概略図である。
付は装置の構成と動作を説明するための概略図である。
第１図において、第２図、第３図と同一構成部分は同一
符号を付し、その説明は省略する。１０は前記雰囲気カ
バー７の開口部７ａを閉止する蓋部、１１はこの蓋部１
ｏを押え付けるスプリング、１４は前記スピンドル６と
蓋部１０との間に設けられたベアリングである。
符号を付し、その説明は省略する。１０は前記雰囲気カ
バー７の開口部７ａを閉止する蓋部、１１はこの蓋部１
ｏを押え付けるスプリング、１４は前記スピンドル６と
蓋部１０との間に設けられたベアリングである。
次に、動作について説明する。
まず、従来例で説明したのと同様にして、第１図に示す
ように、リードフレーム２に半田４が供給接着され、次
いで、半導体チップ１が収容されたパレット１５上の半
導体チップ１をスピンドル６に支持されたコレット５で
真空吸着し、半田４の付いたリードフＬ・−ム２のグイ
パッド部２ａ上へ移送する。さらに、スピンドル６が下
降して、リードフレーム２上に半導体チップ１が半田４
を介して接着される。このとき、リードフレーム２およ
び半田４は、ヒータ１３によって半田４の融点まで加熱
昇温されていて、半導体子、−）ブ１とリードフレーム
２は半田４を介して接着される。
ように、リードフレーム２に半田４が供給接着され、次
いで、半導体チップ１が収容されたパレット１５上の半
導体チップ１をスピンドル６に支持されたコレット５で
真空吸着し、半田４の付いたリードフＬ・−ム２のグイ
パッド部２ａ上へ移送する。さらに、スピンドル６が下
降して、リードフレーム２上に半導体チップ１が半田４
を介して接着される。このとき、リードフレーム２およ
び半田４は、ヒータ１３によって半田４の融点まで加熱
昇温されていて、半導体子、−）ブ１とリードフレーム
２は半田４を介して接着される。
この際、第１図に示すように、雰囲気カバー７は、ガス
供給源８よりガス供給用バルブ９を介して供給される窒
素、水素等の半田酸化防止ガスを半田付けの接着処理部
分に吹き出し、半田付は部を酸化防止雰囲気に維持する
。また、スピンドル６がコレット５を介して半導体チッ
プ１を真空吸着シた状態で下降する過程で、スピンドル
６にベアリング１４およびスプリング１１を介して支持
された蓋部１０も同時に下降する。このとき、蓋部１０
は、雰囲気カバー７に当たって止まり、ベアリング１４
を介してスピンドル６と摺動しスプリング１１が圧縮さ
れスプリング１１の力によって雰囲気カバー７へ押し付
けられる。
供給源８よりガス供給用バルブ９を介して供給される窒
素、水素等の半田酸化防止ガスを半田付けの接着処理部
分に吹き出し、半田付は部を酸化防止雰囲気に維持する
。また、スピンドル６がコレット５を介して半導体チッ
プ１を真空吸着シた状態で下降する過程で、スピンドル
６にベアリング１４およびスプリング１１を介して支持
された蓋部１０も同時に下降する。このとき、蓋部１０
は、雰囲気カバー７に当たって止まり、ベアリング１４
を介してスピンドル６と摺動しスプリング１１が圧縮さ
れスプリング１１の力によって雰囲気カバー７へ押し付
けられる。
これによって、雰囲気カバー７の開口部７ａが蓋部１０
によって密封される。この状態でガス供給源８からガス
供給用バルブ９を介して密封された接着処理部分に所定
のガスを供給すれば、その部分は安定した酸化防止ガス
雰囲気となり、高性能な半田付けが可能となる。
によって密封される。この状態でガス供給源８からガス
供給用バルブ９を介して密封された接着処理部分に所定
のガスを供給すれば、その部分は安定した酸化防止ガス
雰囲気となり、高性能な半田付けが可能となる。
なお、上記実施例では、半導体チップ１を供給するスピ
ンドル６の開口部分に蓋部１ｏを設けたが、蓋部１ｏと
しては雰囲気カバー７上にエアシリノダ駆動による開閉
するシャッタを設ける構成としてもよい。
ンドル６の開口部分に蓋部１ｏを設けたが、蓋部１ｏと
しては雰囲気カバー７上にエアシリノダ駆動による開閉
するシャッタを設ける構成としてもよい。
以上説明したように、この発明は、雰囲気カバーに形成
された開口部を閉止する蓋部を備えたので、接着処理部
分の雰囲気が安定し、高品質の半田付けができ、品質の
良い電子部品が得られる効果がある。
された開口部を閉止する蓋部を備えたので、接着処理部
分の雰囲気が安定し、高品質の半田付けができ、品質の
良い電子部品が得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を示す半田付は装置の構成
と動作を説明するための概略図、第２図は従来の半田付
は工程を説明するための斜視図、第３図は従来の半田付
は装置の構成図である。 図において、１は半導体チップ、２はリードフレーム、
４は半田、５はコレラ１〜．６はスピンドル、７は雰囲
気カバー、７ａは開口部、８はガス供給源、９はガス供
給用バルブ、１０は蓋部、１１はスプリング、１２は真
空供給源、１３ばヒータ、１４はベアリングである□ なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第 １図（そ
の１） （ａ） １４ べ了リング 第 １ 図（その２） （ｂ） 第２図 第３図 手続補正書（自発） 平成 ３年 １０月 ３日 ３、補正をする者 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 明細書の第６頁２０行の［ガスを供給すれζｆ、」を、
「ガスが供給されているので、」と補正する。 以 上
と動作を説明するための概略図、第２図は従来の半田付
は工程を説明するための斜視図、第３図は従来の半田付
は装置の構成図である。 図において、１は半導体チップ、２はリードフレーム、
４は半田、５はコレラ１〜．６はスピンドル、７は雰囲
気カバー、７ａは開口部、８はガス供給源、９はガス供
給用バルブ、１０は蓋部、１１はスプリング、１２は真
空供給源、１３ばヒータ、１４はベアリングである□ なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 （外２名）第 １図（そ
の１） （ａ） １４ べ了リング 第 １ 図（その２） （ｂ） 第２図 第３図 手続補正書（自発） 平成 ３年 １０月 ３日 ３、補正をする者 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 明細書の第６頁２０行の［ガスを供給すれζｆ、」を、
「ガスが供給されているので、」と補正する。 以 上
Claims (1)
- 基板上に半田付けされる電子部品を載置するため、この
電子部品を通過させる開口部を有し、かつ前記電子部品
の接着処理部分を覆う雰囲気カバーと、前記接着処理部
分に雰囲気ガスを供給するガス供給源とを備えた半田付
け装置において、前記雰囲気カバーを半田付け時に密閉
して酸化防止雰囲気を形成する蓋部を設けたことを特徴
とする半田付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31966790A JPH04186739A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 半田付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31966790A JPH04186739A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 半田付け装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04186739A true JPH04186739A (ja) | 1992-07-03 |
Family
ID=18112852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31966790A Pending JPH04186739A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 半田付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04186739A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10308405A (ja) * | 1997-05-08 | 1998-11-17 | Mitsubishi Electric Corp | ボンディング装置及びボンディング方法並びに半導体装置の製造方法 |
-
1990
- 1990-11-20 JP JP31966790A patent/JPH04186739A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10308405A (ja) * | 1997-05-08 | 1998-11-17 | Mitsubishi Electric Corp | ボンディング装置及びボンディング方法並びに半導体装置の製造方法 |
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