JPH0418617B2 - - Google Patents
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- JPH0418617B2 JPH0418617B2 JP8739984A JP8739984A JPH0418617B2 JP H0418617 B2 JPH0418617 B2 JP H0418617B2 JP 8739984 A JP8739984 A JP 8739984A JP 8739984 A JP8739984 A JP 8739984A JP H0418617 B2 JPH0418617 B2 JP H0418617B2
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- shaft
- air
- sensor
- air chamber
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/26—Devices for withdrawing samples in the gaseous state with provision for intake from several spaces
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、クリーンルーム内より取り出した
多数のサンプリングエア(空気・ガス)の中から
任意の一つを選択して計測部に供給する多点モニ
タリングサンプラーに関するものである。
多数のサンプリングエア(空気・ガス)の中から
任意の一つを選択して計測部に供給する多点モニ
タリングサンプラーに関するものである。
従来より、半導体、エレクトロニクス、精密機
器、薬品等の工場では、塵埃等の微小粒子の影響
を排除するため、高度の清浄空間すなわちクリー
ンルームが設けられている。クリーンルーム内の
清浄度は、製品の品質、歩留り及び生産性を左右
するので、その測定及び管理は非常に重要なもの
である。
器、薬品等の工場では、塵埃等の微小粒子の影響
を排除するため、高度の清浄空間すなわちクリー
ンルームが設けられている。クリーンルーム内の
清浄度は、製品の品質、歩留り及び生産性を左右
するので、その測定及び管理は非常に重要なもの
である。
そこで、クリーンルーム内の清浄度を総合的か
つ集中的に測定・管理するため、クリーンルーム
内の各サンプリング位置における清浄度に関する
情報を1ケ所に集中させて測定・監視する多点モ
ニタリングシステムが採用されている。このよう
な多点モニタリングシステムは、一般的にシステ
ム全体がマイクロコンピユータで制御され、各サ
ンプリング位置に通じている多数のサンプル流路
を多点モニタリングサンプラーによつて切換える
ことにより、1台のセンサで多点における清浄度
を測定・監視するようになつている。
つ集中的に測定・管理するため、クリーンルーム
内の各サンプリング位置における清浄度に関する
情報を1ケ所に集中させて測定・監視する多点モ
ニタリングシステムが採用されている。このよう
な多点モニタリングシステムは、一般的にシステ
ム全体がマイクロコンピユータで制御され、各サ
ンプリング位置に通じている多数のサンプル流路
を多点モニタリングサンプラーによつて切換える
ことにより、1台のセンサで多点における清浄度
を測定・監視するようになつている。
従来の多点モニタリングサンプラーは、センサ
に通じている流路と各サンプル位置に通じている
サンプル流路とをロータリーバルブを介して切換
可能に接続していた。しかし、この従来例は、ロ
ータリーバルブの回転シヤフトの摺動部にグリー
スやテフロン等のプラスチツクを使用しているた
め、前者ではグリースが発塵することがあり、ま
た後者ではプラスチツクが摩擦により発塵すると
ともに帯電するため、これによつて沈着した粒子
が再発塵することがあつた。このため、これらの
粒子が流路内に混入して測定誤差を生ずることが
多かつた。
に通じている流路と各サンプル位置に通じている
サンプル流路とをロータリーバルブを介して切換
可能に接続していた。しかし、この従来例は、ロ
ータリーバルブの回転シヤフトの摺動部にグリー
スやテフロン等のプラスチツクを使用しているた
め、前者ではグリースが発塵することがあり、ま
た後者ではプラスチツクが摩擦により発塵すると
ともに帯電するため、これによつて沈着した粒子
が再発塵することがあつた。このため、これらの
粒子が流路内に混入して測定誤差を生ずることが
多かつた。
この発明は、回転するシヤフト内部の通気孔と
サンプラー本体のセンサ接続口とを摺動すること
なく、またシヤフト外部のエアが混入することが
ないように接続することを目的とする。
サンプラー本体のセンサ接続口とを摺動すること
なく、またシヤフト外部のエアが混入することが
ないように接続することを目的とする。
この発明が上記問題点を解決するために講じた
技術的手段は、次の通りである。
技術的手段は、次の通りである。
すなわち、シヤフトの開口端とサンプラー本体
のセンサ接続口とを微小な隙間をおいて近接さ
せ、開口端におけるシヤフト周囲の圧力を通気孔
内部の圧力よりも低くなるようにしたことであ
る。
のセンサ接続口とを微小な隙間をおいて近接さ
せ、開口端におけるシヤフト周囲の圧力を通気孔
内部の圧力よりも低くなるようにしたことであ
る。
計測部に設けた吸引ポンプを作動させると、通
気孔内のエアは吸引されてセンサ接続口より計測
部のセンサに送られる。シヤフトの開口端とセン
サ接続口との間には微小な隙間があるが、シヤフ
トの開口端におけるシヤフト周囲の圧力は通気孔
内部の圧力よりも低いため、シヤフト外部のエア
が通気孔内部のエアに混入することはなく、サン
プルエア中の粒子測定、即ち清浄度測定が正確に
行われる。
気孔内のエアは吸引されてセンサ接続口より計測
部のセンサに送られる。シヤフトの開口端とセン
サ接続口との間には微小な隙間があるが、シヤフ
トの開口端におけるシヤフト周囲の圧力は通気孔
内部の圧力よりも低いため、シヤフト外部のエア
が通気孔内部のエアに混入することはなく、サン
プルエア中の粒子測定、即ち清浄度測定が正確に
行われる。
以下、図面に従つてこの発明の実施例を説明す
る。
る。
第1図において、図に向かつて左方を前方とい
うことにすれば、サンプラー本体1は、前部本体
1aと後部本体1bを結合して構成されている。
後部本体1bには、複数のサンプルエア供給口2
が形成され、これらのサンプルエア供給口2に
は、クリーンルーム内の各サンプリング位置に通
ずる配管を接続するための継手3が装着されてい
る。
うことにすれば、サンプラー本体1は、前部本体
1aと後部本体1bを結合して構成されている。
後部本体1bには、複数のサンプルエア供給口2
が形成され、これらのサンプルエア供給口2に
は、クリーンルーム内の各サンプリング位置に通
ずる配管を接続するための継手3が装着されてい
る。
前部本体1aの前端部には、ポンプ接続部4が
突設されるとともにセンサ接続ソケツト5が装着
されている。ポンプ接続部4の先端にはポンプ接
続口6が形成され、またセンサ接続ソケツト5の
前端にはセンサ接続口7が形成されている。
突設されるとともにセンサ接続ソケツト5が装着
されている。ポンプ接続部4の先端にはポンプ接
続口6が形成され、またセンサ接続ソケツト5の
前端にはセンサ接続口7が形成されている。
前部本体1aの内部空間は、区画壁8によつて
二つの空間に区画され、その後方の空間は後部本
体1bの内部空間とともに主空気室9を形成して
いる。また、その前方の空間は副空気室10を形
成している。
二つの空間に区画され、その後方の空間は後部本
体1bの内部空間とともに主空気室9を形成して
いる。また、その前方の空間は副空気室10を形
成している。
区画壁8には、多数のオリフイス11が形成さ
れ、このオリフイス11により両空気室9,10
は連通している。
れ、このオリフイス11により両空気室9,10
は連通している。
サンプラー本体1内部には、ボールベアリング
12及びニードルベアリング13によりシヤフト
14が回転自在に設けられている。このシヤフト
14には、サンプリングパイプ15がその先端を
斜後方に向けて装着され、その内部の通路16は
シヤフト14内部に形成された通気孔17と連通
している。
12及びニードルベアリング13によりシヤフト
14が回転自在に設けられている。このシヤフト
14には、サンプリングパイプ15がその先端を
斜後方に向けて装着され、その内部の通路16は
シヤフト14内部に形成された通気孔17と連通
している。
サンプリングパイプ15は、その先端部がテー
パー状に径が小さくなつており、先端18の肉厚
は非常に小さく形成されているる。これは、サン
プリングパイプ15がサンプルエア供給口2に直
結されていないため、サンプルエア供給口2より
導入されたエアがサンプリングパイプ15内に入
りやすいようにするためである。
パー状に径が小さくなつており、先端18の肉厚
は非常に小さく形成されているる。これは、サン
プリングパイプ15がサンプルエア供給口2に直
結されていないため、サンプルエア供給口2より
導入されたエアがサンプリングパイプ15内に入
りやすいようにするためである。
各サンプルエア供給口2は、シヤフト14に垂
直な平面内に適宜間隔をおいて配設され、シヤフ
ト14の回動によりサンプリングパイプ15の先
端18が各サンプルエア供給口2に相対するよう
になつている。この場合、サンプリングパイプ1
5の先端18は、後部本体1bの内壁とは常に隙
間を有しているので、この部分にシール部材が不
要となり、シヤフト14の回動によつて発塵した
り、粒子が混入したりする虞れがない。
直な平面内に適宜間隔をおいて配設され、シヤフ
ト14の回動によりサンプリングパイプ15の先
端18が各サンプルエア供給口2に相対するよう
になつている。この場合、サンプリングパイプ1
5の先端18は、後部本体1bの内壁とは常に隙
間を有しているので、この部分にシール部材が不
要となり、シヤフト14の回動によつて発塵した
り、粒子が混入したりする虞れがない。
シヤフト14の開口端19は副空気室10内に
あり、そこにはシール用ソケツト20が固着され
ている。センサ接続ソケツト5の後端部はシール
用ソケツト20内部に挿入されており、センサ接
続ソケツト5の外側面とシール用ソケツト20の
内側面との間には、微小な隙間が設けられてい
る。また、シヤフト14の開口端19とセンサ接
続ソケツト5の後端との間にも、微小な隙間が設
けられている。
あり、そこにはシール用ソケツト20が固着され
ている。センサ接続ソケツト5の後端部はシール
用ソケツト20内部に挿入されており、センサ接
続ソケツト5の外側面とシール用ソケツト20の
内側面との間には、微小な隙間が設けられてい
る。また、シヤフト14の開口端19とセンサ接
続ソケツト5の後端との間にも、微小な隙間が設
けられている。
後部本体1bの後端部には、シヤフト14の回
転角度を検出する検出部21とステツピングモー
タ等よりなる駆動部22が設けられている。検出
部21は、フオトマイクロセンサ23をセンサ架
台24を介して後部本体1bの後端面に装着し、
シヤフト14の後端部に固着したセンサ感応板2
5の先端をフオトマイクロセンサ23によつて検
知するようにしている。これによつて、シヤフト
14の回転角度を検出し、サンプリングパイプ1
5の先端18を任意のサンプルエア供給口2に相
対させることができる。シヤフト14の後端は、
駆動部22の駆動シヤフト26に接続されてい
る。
転角度を検出する検出部21とステツピングモー
タ等よりなる駆動部22が設けられている。検出
部21は、フオトマイクロセンサ23をセンサ架
台24を介して後部本体1bの後端面に装着し、
シヤフト14の後端部に固着したセンサ感応板2
5の先端をフオトマイクロセンサ23によつて検
知するようにしている。これによつて、シヤフト
14の回転角度を検出し、サンプリングパイプ1
5の先端18を任意のサンプルエア供給口2に相
対させることができる。シヤフト14の後端は、
駆動部22の駆動シヤフト26に接続されてい
る。
次に、この発明に係る多点モニタリングサンプ
ラーの使用状態について説明する。
ラーの使用状態について説明する。
ポンプ接続口6に接続した吸引ポンプ(図示せ
ず)を作動させると、各サンプリング位置から取
り出したサンプルエアは、各サンプルエア供給口
2からサンプラー本体1内に導入される。そし
て、サンプリングパイプ15の先端18の相対し
ているサンプルエア供給口2より導入されたエア
のみが、サンプリングパイプ15内に入ることに
なる。
ず)を作動させると、各サンプリング位置から取
り出したサンプルエアは、各サンプルエア供給口
2からサンプラー本体1内に導入される。そし
て、サンプリングパイプ15の先端18の相対し
ているサンプルエア供給口2より導入されたエア
のみが、サンプリングパイプ15内に入ることに
なる。
計測部に設けた吸引ポンプをセンサ接続口7に
接続して作動させると、サンプリングパイプ15
内に入つたエアは、シヤフト14内部の通気孔1
7及びセンサ接続ソケツト5内部に形成した通路
27を介してセンサに送られる。
接続して作動させると、サンプリングパイプ15
内に入つたエアは、シヤフト14内部の通気孔1
7及びセンサ接続ソケツト5内部に形成した通路
27を介してセンサに送られる。
一方、他のサンプルエア供給口2より主空気室
9内に導入されたエアは、オリフイス11を介し
て副空気室10に入り、ポンプ接続口6より排出
される。
9内に導入されたエアは、オリフイス11を介し
て副空気室10に入り、ポンプ接続口6より排出
される。
シヤフト14の開口端19とセンサ接続ソケツ
ト5の後端部とは直結されていないので、この部
分から発塵することはないが、この隙間からシヤ
フト14外部のエアが通路27内に混入する虞れ
がある。そこで、これを防ぐため、次のようにし
てシヤフト14周囲の圧力が通気孔17及び通路
27内の圧力よりも常に低くなるようにしてい
る。
ト5の後端部とは直結されていないので、この部
分から発塵することはないが、この隙間からシヤ
フト14外部のエアが通路27内に混入する虞れ
がある。そこで、これを防ぐため、次のようにし
てシヤフト14周囲の圧力が通気孔17及び通路
27内の圧力よりも常に低くなるようにしてい
る。
すなわち、主空気室9はオリフイス11を介し
て副空気室10と連通しているため、オリフイス
11の大きさを調節すれば、吸引ポンプが接続さ
れている副空気室10内のエアの圧力を主空気室
9内の圧力よりも常に低くすることができる。従
つて、通気孔17内のエアの一部は副空気室10
内に漏出するが、逆に副空気室10内のエアが通
路27内に混入することはない。
て副空気室10と連通しているため、オリフイス
11の大きさを調節すれば、吸引ポンプが接続さ
れている副空気室10内のエアの圧力を主空気室
9内の圧力よりも常に低くすることができる。従
つて、通気孔17内のエアの一部は副空気室10
内に漏出するが、逆に副空気室10内のエアが通
路27内に混入することはない。
シヤフト14の前端にはシール用ソケツト20
が固着され、またセンサ接続ソケツト5の後端は
シール用ソケツト20内に挿入されるとともに両
ソケツト5,20の間に微小な隙間を設けている
ので、通気孔17内のエアはさらに漏出し難くな
つているとともに副空気室10のエアも混入し難
くなつている。
が固着され、またセンサ接続ソケツト5の後端は
シール用ソケツト20内に挿入されるとともに両
ソケツト5,20の間に微小な隙間を設けている
ので、通気孔17内のエアはさらに漏出し難くな
つているとともに副空気室10のエアも混入し難
くなつている。
28,29は差圧取出用ソケツトであり、この
両ソケツトはそれぞれ主空気室9と副空気室10
に接続されている。これは、両差圧取出用ソケツ
ト28,29間にマノメータを取り付けて、主空
気室9と副空気室10との差圧を測定するための
ものである。吸引ポンプによつて吸引されるエア
の量やサンプラー本体1内に導入されるエアの量
に応じて、主空気室9と副空気室10の差圧を最
適値に設定する必要があるため、区画壁8に形成
した多数のオリフイス11の一部をメクラプラグ
でふさぐことにより、差圧を調節することができ
るようにしている。
両ソケツトはそれぞれ主空気室9と副空気室10
に接続されている。これは、両差圧取出用ソケツ
ト28,29間にマノメータを取り付けて、主空
気室9と副空気室10との差圧を測定するための
ものである。吸引ポンプによつて吸引されるエア
の量やサンプラー本体1内に導入されるエアの量
に応じて、主空気室9と副空気室10の差圧を最
適値に設定する必要があるため、区画壁8に形成
した多数のオリフイス11の一部をメクラプラグ
でふさぐことにより、差圧を調節することができ
るようにしている。
両空気室9,10間の差圧は、ポンプ及びマノ
メーターの性能に関係するが、特に10〜300mm
WG好ましくは50〜200mmWG程度とすることが
望ましい。また、センサ接続ソケツト5の外側面
とシール用ソケツト20の内側面との隙間は、で
きるだけ小さい方が好ましいが、機械加工精度の
関係で50〜150μmとすることが適当である。
メーターの性能に関係するが、特に10〜300mm
WG好ましくは50〜200mmWG程度とすることが
望ましい。また、センサ接続ソケツト5の外側面
とシール用ソケツト20の内側面との隙間は、で
きるだけ小さい方が好ましいが、機械加工精度の
関係で50〜150μmとすることが適当である。
尚、測定中にサンプリングパイプ15の先端か
ら主空気室9内のエアが混入しないようにするた
め、サンプリングパイプ15の通路16内の圧力
が、常に主空気室9内の圧力よりも少し高くなる
ように、両吸引ポンプの吸引力を調節している。
ら主空気室9内のエアが混入しないようにするた
め、サンプリングパイプ15の通路16内の圧力
が、常に主空気室9内の圧力よりも少し高くなる
ように、両吸引ポンプの吸引力を調節している。
この発明は、高純度ガスたとえば窒素、アルゴ
ン、酸素、塩素、ふつ化水素などをクリーンルー
ム内に送る配管中の粒子の測定にも使用できるこ
とはもちろんである。
ン、酸素、塩素、ふつ化水素などをクリーンルー
ム内に送る配管中の粒子の測定にも使用できるこ
とはもちろんである。
この発明は、次のような特有の効果を奏する。
(a) シヤフト14とセンサ接続ソケツト5は摺動
しないので、この部分から発塵することがな
く、従つて測定誤差が生じない。
しないので、この部分から発塵することがな
く、従つて測定誤差が生じない。
(b) 開口端19におけるシヤフト14周囲の圧力
は、通気孔17内部の圧力よりも常に低くされ
るので、シヤフト14外部のエアが混入するこ
とがない。
は、通気孔17内部の圧力よりも常に低くされ
るので、シヤフト14外部のエアが混入するこ
とがない。
第1図は、この発明に係る多点モニタリングサ
ンプラーの実施例を示す半断面正面図。第2図
は、同平面図。第3図は、シヤフトの開口端とセ
ンサ接続ソケツトの後端部との近接状態を示す部
分拡大断面図。 1……サンプラー本体、7……センサ接続口、
14……シヤフト、17……通気孔、19……開
口端。
ンプラーの実施例を示す半断面正面図。第2図
は、同平面図。第3図は、シヤフトの開口端とセ
ンサ接続ソケツトの後端部との近接状態を示す部
分拡大断面図。 1……サンプラー本体、7……センサ接続口、
14……シヤフト、17……通気孔、19……開
口端。
Claims (1)
- 1 サンプラー本体内にシヤフトを回転自在に設
け、シヤフト内部の通気孔に各サンプリング位置
からのサンプルエアが切換可能に導入されるよう
にした多点モニタリングサンプラーにおいて、シ
ヤフトの開口端とサンプラー本体のセンサ接続口
とを微小な隙間をおいて近接させ、開口端におけ
るシヤフト周囲の圧力を通気孔内部の圧力よりも
低くなるようにし、無摺動方式としたことを特徴
とする多点モニタリングサンプラー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8739984A JPS60230033A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 多点モニタリングサンプラ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8739984A JPS60230033A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 多点モニタリングサンプラ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60230033A JPS60230033A (ja) | 1985-11-15 |
JPH0418617B2 true JPH0418617B2 (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=13913790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8739984A Granted JPS60230033A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 多点モニタリングサンプラ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60230033A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62129733A (ja) * | 1985-12-02 | 1987-06-12 | Fujita Corp | 気体の多点サンプリング装置 |
US6167107A (en) * | 1999-07-16 | 2000-12-26 | Particle Measuring Systems, Inc. | Air pump for particle sensing using regenerative fan, and associated methods |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP8739984A patent/JPS60230033A/ja active Granted
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60230033A (ja) | 1985-11-15 |
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