JPH04183710A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂組成物Info
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- JPH04183710A JPH04183710A JP30888090A JP30888090A JPH04183710A JP H04183710 A JPH04183710 A JP H04183710A JP 30888090 A JP30888090 A JP 30888090A JP 30888090 A JP30888090 A JP 30888090A JP H04183710 A JPH04183710 A JP H04183710A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、半導体封止材料として用いられるエポキシ樹
脂組成物に関するものである。
脂組成物に関するものである。
[従来の技術1
多官能エポキシ化合物、フェノールノボラック系硬化剤
、硬化促進剤、無機質充填剤を主成分としたエポキシ樹
脂組成物は、優れた性能を有することが認められており
、近年伸長の著しい半導体の封止材料として広く用いら
れている。
、硬化促進剤、無機質充填剤を主成分としたエポキシ樹
脂組成物は、優れた性能を有することが認められており
、近年伸長の著しい半導体の封止材料として広く用いら
れている。
しかしながら、半導体の高集積化・大型化および半導体
の基板への実装方法の変化にともない低応力性、耐半田
クラック性等の性能が強く求められているが、従来の樹
脂組成物では対応が困難となり、半導体やそれらを用い
た装置に半田クラック、熱衝撃にともなうクラックの発
生等という欠陥を生じる原因の一つとなっている。
の基板への実装方法の変化にともない低応力性、耐半田
クラック性等の性能が強く求められているが、従来の樹
脂組成物では対応が困難となり、半導体やそれらを用い
た装置に半田クラック、熱衝撃にともなうクラックの発
生等という欠陥を生じる原因の一つとなっている。
今までこの問題を解決する方法としてアルケニル基含有
芳香族重合体とオルガノポリシロキサンとからなるブロ
ック共重合体を硬化性エポキシ樹脂中に添加することが
提案さねていた(特開昭58−21417号公報)が、
このブロック共重合体においてはエポキシ硬化物中にポ
リシロキサンがミクロ分散するという海島構造における
ドメインサイズの制御が困難なため、ヒートサイクルテ
ストにおける耐熱衝撃性、耐半田クラック性が不十分て
あり、また、パリの増加、捺印性の不良等に代表される
成形性の改良が強く望まれていた。
芳香族重合体とオルガノポリシロキサンとからなるブロ
ック共重合体を硬化性エポキシ樹脂中に添加することが
提案さねていた(特開昭58−21417号公報)が、
このブロック共重合体においてはエポキシ硬化物中にポ
リシロキサンがミクロ分散するという海島構造における
ドメインサイズの制御が困難なため、ヒートサイクルテ
ストにおける耐熱衝撃性、耐半田クラック性が不十分て
あり、また、パリの増加、捺印性の不良等に代表される
成形性の改良が強く望まれていた。
これらの問題を解決するために、オルガノポリシロキサ
ンと、芳香族炭化水素とオルガノポリシロキサンとの共
重合体の組合せ(特開昭61−271319号公報)が
提案されているが、このものでは硬化後のオルガノポリ
シロキサンのしみだしによる成形性の不良、高温保管時
の不良等が生しる。
ンと、芳香族炭化水素とオルガノポリシロキサンとの共
重合体の組合せ(特開昭61−271319号公報)が
提案されているが、このものでは硬化後のオルガノポリ
シロキサンのしみだしによる成形性の不良、高温保管時
の不良等が生しる。
また、短鎖長オルガノポリシロキサンと長鎖長オルガノ
ポリシロキサンとの組合せとアルケニル基含有エポキシ
樹脂との共重合体(特開昭63−238123号公報)
を配合することが提案さとているが、このものても、短
鎖長オルガノポリシロキサンにもとづく低分子量成分の
しみだしによる成形性の不良が生しることがわかった。
ポリシロキサンとの組合せとアルケニル基含有エポキシ
樹脂との共重合体(特開昭63−238123号公報)
を配合することが提案さとているが、このものても、短
鎖長オルガノポリシロキサンにもとづく低分子量成分の
しみだしによる成形性の不良が生しることがわかった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は上記の欠点を解決し、耐熱衝撃性、耐半田クラ
ック性に優れ、機械特性を低下させることなく、しかも
成形性、高温保管性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂
組成物を提供することにある。
ック性に優れ、機械特性を低下させることなく、しかも
成形性、高温保管性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂
組成物を提供することにある。
[課題を解決するための手段1
本発明は、
(1)(A)下記式(I)で示されるSi−H基含有オ
ルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂 (但し、式中Rは多官能エポキシ樹脂、R2は炭素数1
〜3のアルキル基あるいはフェニル基で、■、mおよび
nは(1+m+n)が15から200でありmがO〜2
0、nが2〜50を満たすものである)のSi−H基の
少なくとも一つに下記式(■)で示されるビニル基含有
オルガノポリシロキサン (但し、式中R3は、炭素数1〜3のアルキル基あるい
はフェニル基で、p、qは(p+q)がO〜50であり
qが0〜5を満たすものである)を付加反応せしめたオ
ルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂 (B)多官能エポキシ化合物 (C)フェノールノボラック系硬化剤 (D)硬化促進剤 (E)無機質充填剤 とからなることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂
組成物である。
ルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂 (但し、式中Rは多官能エポキシ樹脂、R2は炭素数1
〜3のアルキル基あるいはフェニル基で、■、mおよび
nは(1+m+n)が15から200でありmがO〜2
0、nが2〜50を満たすものである)のSi−H基の
少なくとも一つに下記式(■)で示されるビニル基含有
オルガノポリシロキサン (但し、式中R3は、炭素数1〜3のアルキル基あるい
はフェニル基で、p、qは(p+q)がO〜50であり
qが0〜5を満たすものである)を付加反応せしめたオ
ルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂 (B)多官能エポキシ化合物 (C)フェノールノボラック系硬化剤 (D)硬化促進剤 (E)無機質充填剤 とからなることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂
組成物である。
本発明を構成する式(I)で示されるSi−H基含有オ
ルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂において
、R1の多官能エポキシ樹脂とじては、例えば、クレゾ
ールノボラック系エポキシ樹脂、フェノールノボラック
系エポキシ樹脂、脂環族系エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルAノボラック系エポキシ樹脂、臭化ビスフェノールA
ノボラック系エポキシ樹脂、等種々のタイプの多官能エ
ポキシ樹脂があげられるが、必ずしも一種類の構造のみ
に限定されるものではな(、二種もしくはそれ以上の混
合物として構成してもよい。これらの多官能エポキシ樹
脂の中でもエポキシ当量150〜250、軟化点60〜
130℃でNa”、CI−等のイオン性不純物をできる
だけ取り除いたものが好ましい。Rンはメチル基、エチ
ル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、フェニル
基等があげられ、一種の構造に限定されるものではない
が低応力化のためにはメチル基が好ましい。1、m、n
は、 (1+m+n)が15〜200、好ましくは30
〜100であり、mが0〜20、好ましくは0〜10、
nが2〜50、好ましくは4〜30であることが必要で
ある。これらの範囲をこえる場合には、エポキシ硬化物
中にポリシロキサンがミクロ分散するという海鳥構造の
微細化にともなうガラス転移点の低下やパリの増大、あ
るいは形成されたドメインとマトリックスとの界面の結
合の弱化に伴う相分離による曲げ強度の低下、バーコー
ル硬度の低下や、捺印性の低下、合成上の問題等の諸問
題が生じ、本発明の目的を達成することが出来ない。さ
らにこのSi−H基を有するオルガノポリシロキサン変
性多官能エポキシ樹脂に付加せしめる式(n)で示され
るビニル基含有オルガノポリシロキサンにおいて、Rは
メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピ
ル基、フェニル基等があげられ、一種の構造に限定され
るものではないが低応力化のためにはメチル基が好まし
い。pおよびqは(p+q)がO〜50、好ましくは0
〜lOであり、pが0〜5であることが必要である。こ
れらの範囲を越える場合は、成形時のシリコーン成分の
しみだしゃ高温保管時の不良の原因となる。このビニル
基含有オルガノポリシロキサンは、公知の白金系触媒に
よるハイドロシリル化反応により上記のSi−H基含有
オルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂に導入
することが出来る。
ルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂において
、R1の多官能エポキシ樹脂とじては、例えば、クレゾ
ールノボラック系エポキシ樹脂、フェノールノボラック
系エポキシ樹脂、脂環族系エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルAノボラック系エポキシ樹脂、臭化ビスフェノールA
ノボラック系エポキシ樹脂、等種々のタイプの多官能エ
ポキシ樹脂があげられるが、必ずしも一種類の構造のみ
に限定されるものではな(、二種もしくはそれ以上の混
合物として構成してもよい。これらの多官能エポキシ樹
脂の中でもエポキシ当量150〜250、軟化点60〜
130℃でNa”、CI−等のイオン性不純物をできる
だけ取り除いたものが好ましい。Rンはメチル基、エチ
ル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、フェニル
基等があげられ、一種の構造に限定されるものではない
が低応力化のためにはメチル基が好ましい。1、m、n
は、 (1+m+n)が15〜200、好ましくは30
〜100であり、mが0〜20、好ましくは0〜10、
nが2〜50、好ましくは4〜30であることが必要で
ある。これらの範囲をこえる場合には、エポキシ硬化物
中にポリシロキサンがミクロ分散するという海鳥構造の
微細化にともなうガラス転移点の低下やパリの増大、あ
るいは形成されたドメインとマトリックスとの界面の結
合の弱化に伴う相分離による曲げ強度の低下、バーコー
ル硬度の低下や、捺印性の低下、合成上の問題等の諸問
題が生じ、本発明の目的を達成することが出来ない。さ
らにこのSi−H基を有するオルガノポリシロキサン変
性多官能エポキシ樹脂に付加せしめる式(n)で示され
るビニル基含有オルガノポリシロキサンにおいて、Rは
メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピ
ル基、フェニル基等があげられ、一種の構造に限定され
るものではないが低応力化のためにはメチル基が好まし
い。pおよびqは(p+q)がO〜50、好ましくは0
〜lOであり、pが0〜5であることが必要である。こ
れらの範囲を越える場合は、成形時のシリコーン成分の
しみだしゃ高温保管時の不良の原因となる。このビニル
基含有オルガノポリシロキサンは、公知の白金系触媒に
よるハイドロシリル化反応により上記のSi−H基含有
オルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂に導入
することが出来る。
次に本発明を構成する多官能エポキシ樹脂(B)として
は、例えば、クレゾールノボラック系エポキシ樹脂、含
有フェノール、ノボラック系エポキシ樹脂、指環族系エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック系エポキシ樹
脂、臭化ビスフェノールAノボラック系エポキシ樹脂、
等種々のタイプの多官能エポキシ樹脂があげられるが、
その使用にあたっては、必ずしも一種類のみの使用に限
定されるものではなく、二種もしくはそれ以上を混合し
て使用してもよい。これらの多官能エポキシ樹脂の中で
もエポキシ当量150〜250、軟化点60〜130℃
でNa−1C1−等のイオン性不純物をできるだけ取り
除いたものが好ましい。 次に本発明を構成するフェ
ノールノボラック系硬化剤(C)としては、例えば、フ
ェノールノボラック、クレゾールノボラック、キシレノ
ールノボラック、ビスフェノールAノボラック、レゾル
シンノボラック樹脂等があげられるが、その使用にあた
っでは、必ずしも一種類のみの使用に限定されるもので
はなく、二種もしくはそれ以上を混合して使用してもよ
い。これらのフェノールノボラック系硬化剤の中でもO
H当量80〜150、軟化点60〜120℃でNa−1
CI−等のイオン性不純物をできるだけ取り除いたもの
が好ましい。
は、例えば、クレゾールノボラック系エポキシ樹脂、含
有フェノール、ノボラック系エポキシ樹脂、指環族系エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック系エポキシ樹
脂、臭化ビスフェノールAノボラック系エポキシ樹脂、
等種々のタイプの多官能エポキシ樹脂があげられるが、
その使用にあたっては、必ずしも一種類のみの使用に限
定されるものではなく、二種もしくはそれ以上を混合し
て使用してもよい。これらの多官能エポキシ樹脂の中で
もエポキシ当量150〜250、軟化点60〜130℃
でNa−1C1−等のイオン性不純物をできるだけ取り
除いたものが好ましい。 次に本発明を構成するフェ
ノールノボラック系硬化剤(C)としては、例えば、フ
ェノールノボラック、クレゾールノボラック、キシレノ
ールノボラック、ビスフェノールAノボラック、レゾル
シンノボラック樹脂等があげられるが、その使用にあた
っでは、必ずしも一種類のみの使用に限定されるもので
はなく、二種もしくはそれ以上を混合して使用してもよ
い。これらのフェノールノボラック系硬化剤の中でもO
H当量80〜150、軟化点60〜120℃でNa−1
CI−等のイオン性不純物をできるだけ取り除いたもの
が好ましい。
さらに上記の多官能エポキシ樹脂とフェノールノボラッ
ク系樹脂との反応を促進する目的で硬化促進剤(D)と
して、イミダゾールあるいはその誘導体、三級アミン系
誘導体、ホスフィン系誘導体、シクロアミジン系誘導体
等が使用される。
ク系樹脂との反応を促進する目的で硬化促進剤(D)と
して、イミダゾールあるいはその誘導体、三級アミン系
誘導体、ホスフィン系誘導体、シクロアミジン系誘導体
等が使用される。
無機質充填剤(E)としては、結晶シリカ、溶融シリカ
、アルミナ、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、ガラス
繊維等が挙げられ、これらは単独または2種以上混合し
て使用される。
、アルミナ、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、ガラス
繊維等が挙げられ、これらは単独または2種以上混合し
て使用される。
さらに、上記の組成物の組成比率としては、オルガノポ
リシロキサン変性多官能エポキシ樹脂(A)中に含まれ
るオルガノポリシロキサン成分が5〜50重量%、好ま
しくは10〜35重量%であって、かつ全組成物中0.
3〜5.5重量%含有されることが必要であり、 1.
0〜3.5重量%含有されることが好ましい。オルガノ
ポリシロキサン変性エポキシ樹脂(A)、多官能エポキ
シ化合物(B)の総エポキシ基のモル数とフェノールノ
ボラック系硬化剤(C)のフェノール性水酸基ののモル
数の比が0.6〜1.4であることが必須であり、0.
9〜10であることが好ましい。硬化促進剤(D)の組
成物中の含有量は、0.08〜0.35重量%、好まし
くは0. 1〜領 3重量%である。そして、無機質充
填剤(E)の組成物中の含有量は、65〜90重量%、
好ましくは72〜85重量%である。
リシロキサン変性多官能エポキシ樹脂(A)中に含まれ
るオルガノポリシロキサン成分が5〜50重量%、好ま
しくは10〜35重量%であって、かつ全組成物中0.
3〜5.5重量%含有されることが必要であり、 1.
0〜3.5重量%含有されることが好ましい。オルガノ
ポリシロキサン変性エポキシ樹脂(A)、多官能エポキ
シ化合物(B)の総エポキシ基のモル数とフェノールノ
ボラック系硬化剤(C)のフェノール性水酸基ののモル
数の比が0.6〜1.4であることが必須であり、0.
9〜10であることが好ましい。硬化促進剤(D)の組
成物中の含有量は、0.08〜0.35重量%、好まし
くは0. 1〜領 3重量%である。そして、無機質充
填剤(E)の組成物中の含有量は、65〜90重量%、
好ましくは72〜85重量%である。
本発明の組成物には、この他必要に応じて各種の添加剤
、例えば天然ワックス類、合成ワックス類等の離型剤、
ヘキサブロモベンゼン、デカブロムビフェニルエーテル
、三酸化アンチモン等の難燃剤、カーボンブラック、ベ
ンガラ等の着色剤、シランカップリング剤その他の合成
ゴム、シリコーン化合物、熱可塑性樹脂等を適宜配合す
ることは差し支^ない、上記の配合物をミキサー等によ
り十分に混合した後、さらにニーダ−やロール等で加熱
溶融混合し、次いて冷却固化後粉砕処理をして本発明の
半導体材土用エポキシ樹脂組成物を得る。
、例えば天然ワックス類、合成ワックス類等の離型剤、
ヘキサブロモベンゼン、デカブロムビフェニルエーテル
、三酸化アンチモン等の難燃剤、カーボンブラック、ベ
ンガラ等の着色剤、シランカップリング剤その他の合成
ゴム、シリコーン化合物、熱可塑性樹脂等を適宜配合す
ることは差し支^ない、上記の配合物をミキサー等によ
り十分に混合した後、さらにニーダ−やロール等で加熱
溶融混合し、次いて冷却固化後粉砕処理をして本発明の
半導体材土用エポキシ樹脂組成物を得る。
〔作用]
本発明においては、Si−H基含有オルガノポリシロキ
サン変性エポキシ樹脂にビニル基含有オルガノポリシロ
キサンを付加せしめることにより直鎖状シロキサン構造
中に導入された分岐点が分散性を改良し、さらに硬化過
程において凝集したシリコーンドメイン中で上記の導入
されたシロキサン構造中の分岐点てドメイン内部に半架
橋構造をもたせることによりシリコーン成分の成形物表
面へのしみだしゃ、高温保管時の不良を防ぐ等といった
効果が発現される。
サン変性エポキシ樹脂にビニル基含有オルガノポリシロ
キサンを付加せしめることにより直鎖状シロキサン構造
中に導入された分岐点が分散性を改良し、さらに硬化過
程において凝集したシリコーンドメイン中で上記の導入
されたシロキサン構造中の分岐点てドメイン内部に半架
橋構造をもたせることによりシリコーン成分の成形物表
面へのしみだしゃ、高温保管時の不良を防ぐ等といった
効果が発現される。
[実施例]
(参考例 (1))
まず本発明を構成するオルガノポリシロキサン変性多官
能エポキシ樹脂の製造例を示す。
能エポキシ樹脂の製造例を示す。
1リツトルの四つロフラスコに下記式(A)て示される
オルガノシロキサン成分含有率が16゜7重量%のSi
−H基を含有するオルガノポリシロキサン変性エポキシ
樹脂(Si−Epと略す)120gとトルエン440g
を入れ、リフラックスコンデンサーと滴下ロートを取り
付け1時間の共沸脱水を行った後、系内の温度を90℃
にする。それから塩化白金酸の1%イソプロパツール溶
液0゜5gを加え、第1表に示される量の下記式(a)
で示されるビニル基含有オルガノポリシロキサン(DV
Sと略す)を滴下し3時間反応させる。次いで溶剤を減
圧下にて留去することによりオルガノポリシロキサン変
性多官能エポキシ樹脂を得た。
オルガノシロキサン成分含有率が16゜7重量%のSi
−H基を含有するオルガノポリシロキサン変性エポキシ
樹脂(Si−Epと略す)120gとトルエン440g
を入れ、リフラックスコンデンサーと滴下ロートを取り
付け1時間の共沸脱水を行った後、系内の温度を90℃
にする。それから塩化白金酸の1%イソプロパツール溶
液0゜5gを加え、第1表に示される量の下記式(a)
で示されるビニル基含有オルガノポリシロキサン(DV
Sと略す)を滴下し3時間反応させる。次いで溶剤を減
圧下にて留去することによりオルガノポリシロキサン変
性多官能エポキシ樹脂を得た。
(参考例 (2)〜(6))
Si−Epを下記式(B)〜(D)にかえ、ビニル基含
有オルガノポリシロキサンを第1表に示される量の下記
式(b)〜(c)に変更し、参考例(1)と同様の操作
により、それぞれオルガノポリシロキサン変性多官能エ
ポキシ樹脂を得た。
有オルガノポリシロキサンを第1表に示される量の下記
式(b)〜(c)に変更し、参考例(1)と同様の操作
により、それぞれオルガノポリシロキサン変性多官能エ
ポキシ樹脂を得た。
(注)式中Rはオルソクレゾールノボラック系エポキシ
樹脂(エポキシ当量200、軟化点62°C)である。
樹脂(エポキシ当量200、軟化点62°C)である。
CH3[’:H3
CHz=CH−SiO−Si−0!=C)lz
(a)CH3[TH3 CH3・〔:旧lCH3 ] 11 1 1 CHz=CH−S iO−\i0−’□S i−[TH
=(TH2(b)九3 ’、 CH−+ l OCft
3(:H′3. rJH・□ 〔:旧 、 CH
3CH3’、CH3’、4 □ co=口H2;
CH3CH3:’ CH31” CH3’lCH3
第1表 実施例 [1〜41 参考例(1)〜(4)に基づき合成されたオルガノポリ
シロキサン変性多官能エポキシ樹脂70重量部と多官能
エポキシ化合物としてクレゾールノボラックエポキシ樹
脂(エポキシ当量200、軟化点62℃)30重量部、
フェノールノボラック系硬化剤としてフェノールノボラ
ック樹脂(OH当量105、軟化点100℃)40重量
部、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン4重量部
、無機質充填剤として溶融シリカ530重量部、難燃化
剤として臭素化フェノールノボラックエポキシ樹脂(臭
素含有率30重量%、エポキシ当量280、軟化点71
’C)10重量部、三酸化アンチモン20重量部、そし
てシランカップリング剤3重量部、カルナバワックス5
重量部、カーボンブラック5重量部を常温で十分混合し
、さらに95〜lOO℃で混練し、冷却後粉砕してタブ
レット化して本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物
4種を製造した。
(a)CH3[TH3 CH3・〔:旧lCH3 ] 11 1 1 CHz=CH−S iO−\i0−’□S i−[TH
=(TH2(b)九3 ’、 CH−+ l OCft
3(:H′3. rJH・□ 〔:旧 、 CH
3CH3’、CH3’、4 □ co=口H2;
CH3CH3:’ CH31” CH3’lCH3
第1表 実施例 [1〜41 参考例(1)〜(4)に基づき合成されたオルガノポリ
シロキサン変性多官能エポキシ樹脂70重量部と多官能
エポキシ化合物としてクレゾールノボラックエポキシ樹
脂(エポキシ当量200、軟化点62℃)30重量部、
フェノールノボラック系硬化剤としてフェノールノボラ
ック樹脂(OH当量105、軟化点100℃)40重量
部、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン4重量部
、無機質充填剤として溶融シリカ530重量部、難燃化
剤として臭素化フェノールノボラックエポキシ樹脂(臭
素含有率30重量%、エポキシ当量280、軟化点71
’C)10重量部、三酸化アンチモン20重量部、そし
てシランカップリング剤3重量部、カルナバワックス5
重量部、カーボンブラック5重量部を常温で十分混合し
、さらに95〜lOO℃で混練し、冷却後粉砕してタブ
レット化して本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物
4種を製造した。
比較例 〔1〜21
参考例(5)、 (6)に基づき合成されたオルガノポ
リシロキサン変性エポキシ樹脂を用いて実施例と同様の
配合により二種のエポキシ樹脂組成物を製造した。
リシロキサン変性エポキシ樹脂を用いて実施例と同様の
配合により二種のエポキシ樹脂組成物を製造した。
これらの実施例および比較例として製造したエポキシ樹
脂組成物の型汚れ性、樹脂パリ等をトランスファー成形
Il(成形条件二金型温度175°C1硬化時間2分)
を用いて判定すると共に、得られた成形品を175℃、
4時間後硬化し、パッケージの捺印性、耐熱衝撃性、耐
半田性、機械的強度等を、 (ア)〜(コ)の諸試験に
より評価した。
脂組成物の型汚れ性、樹脂パリ等をトランスファー成形
Il(成形条件二金型温度175°C1硬化時間2分)
を用いて判定すると共に、得られた成形品を175℃、
4時間後硬化し、パッケージの捺印性、耐熱衝撃性、耐
半田性、機械的強度等を、 (ア)〜(コ)の諸試験に
より評価した。
その評価結果を第2表に示す。
(ア)スパイラルフロー値
EMMI規格に準じた金型を使用し、成形温度175℃
、成形圧カフ 0 Kg/cmlて測定した。
、成形圧カフ 0 Kg/cmlて測定した。
(イ)パリ
成形後、ベント部の樹脂パリの長さを測定した。
(つ)パーコール硬度
成形温度175℃、成形圧カフ 0 Kg/cm、成形
時間2分て成形しパーコール硬度935にて成形時に硬
度を測定した。
時間2分て成形しパーコール硬度935にて成形時に硬
度を測定した。
(1)成形性
金型量が発生するまでの成形ショツト数が、2000以
上のものを ○ 、 tooo以下のものを x
、tooo〜2000のものを △ として評価した。
上のものを ○ 、 tooo以下のものを x
、tooo〜2000のものを △ として評価した。
(オ)捺印性
10シヨツト目の成形品を使用し、捺印後セロテープに
より捺印がはがれるかどうかを評価した。
より捺印がはがれるかどうかを評価した。
はがれないものを ○ 、はがれるものを × 、その
中間を △ として表した。
中間を △ として表した。
(力)機械的強度(曲げ弾性率、曲げ強度)J I S
−に6911に準じて成形温度175℃、成形圧カフ
0 Kg/cmン、成形時間2分で成形し175℃、4
時間の後硬化をしたものについて測定した。
−に6911に準じて成形温度175℃、成形圧カフ
0 Kg/cmン、成形時間2分で成形し175℃、4
時間の後硬化をしたものについて測定した。
(キ)ガラス転移点
デイラドメーターにより毎分5℃の速さで昇温した時の
値を測定した。
値を測定した。
(り)耐熱衝撃性
成形温度175℃、成形圧カフ 0 Kg/cmン、成
形時間2分で成形し175℃、8時間の後硬化した後、
−65℃X15分、 150℃X15分の熱サイクルを
繰り返して行い、1000サイクル後の樹脂クラック発
生率をfill定した。
形時間2分で成形し175℃、8時間の後硬化した後、
−65℃X15分、 150℃X15分の熱サイクルを
繰り返して行い、1000サイクル後の樹脂クラック発
生率をfill定した。
(ケ)耐半田性
成形温度175℃、成形圧カフ 0 Kg/cm−成形
時間2分で成形し175℃、8時間の後硬化した後、8
5℃、85%の蒸気下で144時間の処理後、260℃
の半田浴に10秒間浸漬し、樹脂クラック発生率を測定
した。
時間2分で成形し175℃、8時間の後硬化した後、8
5℃、85%の蒸気下で144時間の処理後、260℃
の半田浴に10秒間浸漬し、樹脂クラック発生率を測定
した。
(コ)高温保管特性
100mmXIOmmX4mmの試験片の200℃、1
000時間保管したときの重量減少率(%)を測定した
。
000時間保管したときの重量減少率(%)を測定した
。
本発明は、Si−H基を有するオルガノポリシロキサン
変性多官能エポキシ樹脂にアルケニル基含有エポキシ化
合物とアルケニル基含有フェノール化合物を付加させた
オルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂を多官
能エポキシ化合物、フェノールノボラック系硬化剤、硬
化促進剤、無機質充填剤に配合することにより耐熱衝撃
性、耐半田クラック性に関する効果を有し、しかも成形
性、高温保管性に優れる半導体封止用エポキシ樹脂組成
物が得られた。
変性多官能エポキシ樹脂にアルケニル基含有エポキシ化
合物とアルケニル基含有フェノール化合物を付加させた
オルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂を多官
能エポキシ化合物、フェノールノボラック系硬化剤、硬
化促進剤、無機質充填剤に配合することにより耐熱衝撃
性、耐半田クラック性に関する効果を有し、しかも成形
性、高温保管性に優れる半導体封止用エポキシ樹脂組成
物が得られた。
Claims (1)
- (1)(A)下記式( I )で示されるSi−H基含有
オルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (但し、式中R_1は多官能エポキシ樹脂、R_2は炭
素数1〜3のアルキル基あるいはフェニル基で、l、m
およびnは(l+m+n)が15から200でありmが
0〜20、nが2〜50を満たすものである)のSi−
H基の少なくとも一つに下記式(II)で示されるビニル
基含有オルガノポリシロキサン ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) (但し、式中R_3は、炭素数1〜3のアルキル基ある
いはフェニル基で、p、qは(p+q)が0〜50であ
りqが0〜5を満たすものである)を付加反応せしめた
オルガノポリシロキサン変性多官能エポキシ樹脂 (B)多官能エポキシ化合物 (C)フェノールノボラック系硬化剤 (D)硬化促進剤 (E)無機質充填剤 とからなることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30888090A JP2947921B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30888090A JP2947921B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04183710A true JPH04183710A (ja) | 1992-06-30 |
JP2947921B2 JP2947921B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=17986375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30888090A Expired - Fee Related JP2947921B2 (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2947921B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100407209B1 (ko) * | 2000-12-06 | 2003-11-28 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 |
KR100497065B1 (ko) * | 1999-08-09 | 2005-06-23 | 제일모직주식회사 | 반도체 봉지제용 에폭시 수지 조성물 |
-
1990
- 1990-11-16 JP JP30888090A patent/JP2947921B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100497065B1 (ko) * | 1999-08-09 | 2005-06-23 | 제일모직주식회사 | 반도체 봉지제용 에폭시 수지 조성물 |
KR100407209B1 (ko) * | 2000-12-06 | 2003-11-28 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2947921B2 (ja) | 1999-09-13 |
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---|---|---|---|
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