JPH04182906A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH04182906A JPH04182906A JP31135890A JP31135890A JPH04182906A JP H04182906 A JPH04182906 A JP H04182906A JP 31135890 A JP31135890 A JP 31135890A JP 31135890 A JP31135890 A JP 31135890A JP H04182906 A JPH04182906 A JP H04182906A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、磁気記録媒体」二に記録または再生するだめ
の少なくともギャップ近傍に磁性金属膜を配して電磁変
換特性の向上を図った複合コア構造の磁気ヘッドに係り
、特に、ビデオテープレコーダ(VTR)やデジタルオ
ーディオチーブレコーダ(DAT)などの高密度記録に
好適な磁気ヘッドに関する。
の少なくともギャップ近傍に磁性金属膜を配して電磁変
換特性の向上を図った複合コア構造の磁気ヘッドに係り
、特に、ビデオテープレコーダ(VTR)やデジタルオ
ーディオチーブレコーダ(DAT)などの高密度記録に
好適な磁気ヘッドに関する。
[従来の技術]
高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力(Hc)を高くすることが有利であることは良く知
られている。そのため、近年VTRなどでは、Heが1
2O0〜1500!ルステッド(Oe)の鉄系合金粉末
テープが実用化されている。このような高Heテープに
信号を記録・再生するには、Fe−5i−Al1 (セ
ンダスト)やCo−Nb−Zrアモルファス合金など高
飽和磁束密度の金属磁性材料を用いた磁気ヘッドが提案
されている。これらに関するものとしては、例えば、特
公昭62−374.46号、特開昭58−155513
号、特開昭60−32107号等の公報が挙げられる。
磁力(Hc)を高くすることが有利であることは良く知
られている。そのため、近年VTRなどでは、Heが1
2O0〜1500!ルステッド(Oe)の鉄系合金粉末
テープが実用化されている。このような高Heテープに
信号を記録・再生するには、Fe−5i−Al1 (セ
ンダスト)やCo−Nb−Zrアモルファス合金など高
飽和磁束密度の金属磁性材料を用いた磁気ヘッドが提案
されている。これらに関するものとしては、例えば、特
公昭62−374.46号、特開昭58−155513
号、特開昭60−32107号等の公報が挙げられる。
特に、磁気記録の高密度化に伴って、磁気記録媒体に記
録される記録トラックの狭小化が進められており、これ
に対応して磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いものが
要求されている。
録される記録トラックの狭小化が進められており、これ
に対応して磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いものが
要求されている。
このような磁気ヘッドとして、例えば、特開昭62−1
38110号、特開平1−260614号公報等が提案
されている。
38110号、特開平1−260614号公報等が提案
されている。
以下、図面を用いて従来例を説明する。
第7図は、従来の複合コアを用いた磁気ヘッドのテープ
摺接面の拡大図、第8図はその平面図、第9図はその正
面図及び第10図はその側面図である。
摺接面の拡大図、第8図はその平面図、第9図はその正
面図及び第10図はその側面図である。
これらの図において、フェライトコア半体110A’、
110B′のギャップ側先端部には金属磁性体112が
それぞれ接合されて複合コアを構成しており、これら金
属磁性体112間にギャップGが形成されている。ここ
で、コア本体を構成するフェライトコア110と金属磁
性体112との磁気テープ摺接面12Oに現れた境界面
121は、前記ギャップGに非平行な一つの滑らかな曲
面(略円弧状、略楕円状でよく砥石先端形状を利用でき
る)で構成され、疑似ギャップが生じないように配慮さ
れている。また、ギャップGのトラック幅Twを適当な
値に規定するために、テープ摺接面12Oには平行直線
状に非磁性材としてのガラス113が配設されている。
110B′のギャップ側先端部には金属磁性体112が
それぞれ接合されて複合コアを構成しており、これら金
属磁性体112間にギャップGが形成されている。ここ
で、コア本体を構成するフェライトコア110と金属磁
性体112との磁気テープ摺接面12Oに現れた境界面
121は、前記ギャップGに非平行な一つの滑らかな曲
面(略円弧状、略楕円状でよく砥石先端形状を利用でき
る)で構成され、疑似ギャップが生じないように配慮さ
れている。また、ギャップGのトラック幅Twを適当な
値に規定するために、テープ摺接面12Oには平行直線
状に非磁性材としてのガラス113が配設されている。
なお、123は巻線用窓、124は巻線用溝、125は
フェライトコア半体110A’、110B’の後部端を
接合するための窓、126は善意に設けられた溶着用ガ
ラス、114は摺接面幅規制溝である。
フェライトコア半体110A’、110B’の後部端を
接合するための窓、126は善意に設けられた溶着用ガ
ラス、114は摺接面幅規制溝である。
上記磁気ヘッドによれば、テープ摺接面12Oに現れる
コア本体と金属磁性体との境界面121をギャップGに
非平行な一つの滑らかな曲面としており、複合コアを構
成する金属磁性体112とコア本体110との境界面1
21での擬似ギャップの影響を防止することができるよ
うに構成されている。さらに、コア半休を突き合わせ接
合した後に、トラック幅Tw規制の加工が実施でき、摺
接面幅規制溝114を形成してトラックずれを防止し、
トラック幅Twの狭い磁気ヘッドを製造することができ
る。
コア本体と金属磁性体との境界面121をギャップGに
非平行な一つの滑らかな曲面としており、複合コアを構
成する金属磁性体112とコア本体110との境界面1
21での擬似ギャップの影響を防止することができるよ
うに構成されている。さらに、コア半休を突き合わせ接
合した後に、トラック幅Tw規制の加工が実施でき、摺
接面幅規制溝114を形成してトラックずれを防止し、
トラック幅Twの狭い磁気ヘッドを製造することができ
る。
〔発明が解決しようとする課題]
しかしながら、前述の第7図に示す磁気ヘッド及び従来
例においては、以下に述べるような問題点があった。
例においては、以下に述べるような問題点があった。
(1)トラック幅Twが25μm程度以下と狭くなった
場合、フェライトで構成されているコア本体の先端部1
10A’、ll0B’の磁気抵抗が高くなり、金属磁性
体112との境界部近傍が飽和し、記録特性が劣化する
。また、同様にして金属磁性体112は、主としてギヤ
ツブ部G近傍に局在して形成されており体積が少ないた
め、たとえ高飽和磁束密度の磁性体を配置して複合コア
としてもその効果が十分に発揮されない。
場合、フェライトで構成されているコア本体の先端部1
10A’、ll0B’の磁気抵抗が高くなり、金属磁性
体112との境界部近傍が飽和し、記録特性が劣化する
。また、同様にして金属磁性体112は、主としてギヤ
ツブ部G近傍に局在して形成されており体積が少ないた
め、たとえ高飽和磁束密度の磁性体を配置して複合コア
としてもその効果が十分に発揮されない。
(2)ギャップ部Gの近傍に比較的軟らかい金属磁性体
と硬いフェライトが相接している複合コア構造において
は、磁気テープと接触走行により摩耗段差を生ずる。こ
の摩耗段差により、ギャップ近傍においては磁気テープ
との間に空隙を生じる。
と硬いフェライトが相接している複合コア構造において
は、磁気テープと接触走行により摩耗段差を生ずる。こ
の摩耗段差により、ギャップ近傍においては磁気テープ
との間に空隙を生じる。
高密度記録の場合には記録再生において、この空隙に基
づくスペーシング損失が記録再生特性の劣化に大きく影
響する。
づくスペーシング損失が記録再生特性の劣化に大きく影
響する。
(3)磁気コア材としてフェライトを用い、それが磁気
テープ摺接面に露出していると、磁気テープとの摺動に
よって摺動雑音が発生する。
テープ摺接面に露出していると、磁気テープとの摺動に
よって摺動雑音が発生する。
(4)磁気ヘッドの接合や補強の目的でガラスを用い、
これが磁気テープの摺接面に露出していると、機械強度
が弱いため欠は落ち等が発生して時としてテープ走行に
悪影響を及ぼしたり、それが原因で記録再生特性を劣化
する。
これが磁気テープの摺接面に露出していると、機械強度
が弱いため欠は落ち等が発生して時としてテープ走行に
悪影響を及ぼしたり、それが原因で記録再生特性を劣化
する。
したがって、本発明の目的はこれら従来の問題点を解消
することにあり、その第1の目的は、複合コアの特徴を
十分に発揮し、トラック幅精度の向上が可能で、そのバ
ラツキや偏摩耗による特性劣化も極めて少ない磁気ヘッ
ドを提供することにあり、そして第2の目的は、製造プ
ロセスの簡略化により歩留り低下を抑え、量産性に富ん
だ磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
することにあり、その第1の目的は、複合コアの特徴を
十分に発揮し、トラック幅精度の向上が可能で、そのバ
ラツキや偏摩耗による特性劣化も極めて少ない磁気ヘッ
ドを提供することにあり、そして第2の目的は、製造プ
ロセスの簡略化により歩留り低下を抑え、量産性に富ん
だ磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
上記本発明の第1の目的は、
(1)、少なくとも一方にコイル巻線用の溝を有する2
個のコア基体の突き合わせ部分にそれぞれ飽和磁束密度
の大なる磁性金属膜を配した複合コアの突き合わせ面に
、ギャップ材を介して接合一体化してなる磁気ヘッドに
おいて、前記磁性金属膜は、前記コア基体の突き合わせ
面に対して所定角度傾斜して設けられた傾斜部にトラッ
ク幅より厚い厚みを有して配設されて成り、前記2個の
複合コアの磁性金属膜面を突き合わせて構成された磁気
コアの磁気テープ対接面には、前記磁性金属膜の長手方
向にトラック幅だけ残された磁性金属膜摺接面と、この
磁性金属膜摺接面を介して互いに対向して平行に、かつ
磁性金属膜摺接面に隣接して、それぞれの幅が前記磁性
金属膜の膜厚よりも広く前記コア基体の領域内にまで食
い込み、深さがギャップ深さよりも深く設けられたトラ
ック幅規制溝と、このトラック幅規制溝内に埋設された
非磁性材層とを有して成る磁気ヘッドにより、達成され
る。
個のコア基体の突き合わせ部分にそれぞれ飽和磁束密度
の大なる磁性金属膜を配した複合コアの突き合わせ面に
、ギャップ材を介して接合一体化してなる磁気ヘッドに
おいて、前記磁性金属膜は、前記コア基体の突き合わせ
面に対して所定角度傾斜して設けられた傾斜部にトラッ
ク幅より厚い厚みを有して配設されて成り、前記2個の
複合コアの磁性金属膜面を突き合わせて構成された磁気
コアの磁気テープ対接面には、前記磁性金属膜の長手方
向にトラック幅だけ残された磁性金属膜摺接面と、この
磁性金属膜摺接面を介して互いに対向して平行に、かつ
磁性金属膜摺接面に隣接して、それぞれの幅が前記磁性
金属膜の膜厚よりも広く前記コア基体の領域内にまで食
い込み、深さがギャップ深さよりも深く設けられたトラ
ック幅規制溝と、このトラック幅規制溝内に埋設された
非磁性材層とを有して成る磁気ヘッドにより、達成され
る。
そして好ましくは、トラック幅規制溝をコア基体と磁性
金属膜とのそれぞれの領域に食い込んだ状態で配設する
と共に、このトラック幅規制溝内に非磁性材を埋設して
、コア基体と磁性金属膜との境界が非磁性材で被覆され
磁気テープ摺接面に露出しない構成とする。なお、上記
トラック幅規制溝の深さをギャップ深さよりも深くする
訳であるが、例えばギャップ深さが2O−であれば、ト
ラック幅規制溝の深さはそれよりも5〜10IJM深い
ことが望ましい。
金属膜とのそれぞれの領域に食い込んだ状態で配設する
と共に、このトラック幅規制溝内に非磁性材を埋設して
、コア基体と磁性金属膜との境界が非磁性材で被覆され
磁気テープ摺接面に露出しない構成とする。なお、上記
トラック幅規制溝の深さをギャップ深さよりも深くする
訳であるが、例えばギャップ深さが2O−であれば、ト
ラック幅規制溝の深さはそれよりも5〜10IJM深い
ことが望ましい。
また、上記磁気コアの磁気テープ摺接面を、磁性金属膜
で構成されたギャップ部と、それに隣接して設けられた
トラック幅規制溝内に埋設された非磁性材料層と、その
外周部を磁気テープ入側と出側とを構成するバルクのコ
ア基体の露出部とで構成し、それぞれの構成材料の耐摩
耗特性を磁性金属膜、非磁性材料層、コア基体の順に順
次高くしておくのが好ましい。
で構成されたギャップ部と、それに隣接して設けられた
トラック幅規制溝内に埋設された非磁性材料層と、その
外周部を磁気テープ入側と出側とを構成するバルクのコ
ア基体の露出部とで構成し、それぞれの構成材料の耐摩
耗特性を磁性金属膜、非磁性材料層、コア基体の順に順
次高くしておくのが好ましい。
また、上記トラック幅規制溝内に埋設される非磁性材料
層としては、アモルファス状もしくは微結晶の非磁性材
料で構成することが望ましく、特に好ましくは、例えば
フォルステライト(2MgO−3in2)もしくはステ
アタイト(MgO−3i O,)系の非磁性セラミック
ス材料である。その他、ZrO2、B4C,5iC1C
a O−T i O2,B a O−T i O2など
のセラミックス等も用いられる。
層としては、アモルファス状もしくは微結晶の非磁性材
料で構成することが望ましく、特に好ましくは、例えば
フォルステライト(2MgO−3in2)もしくはステ
アタイト(MgO−3i O,)系の非磁性セラミック
ス材料である。その他、ZrO2、B4C,5iC1C
a O−T i O2,B a O−T i O2など
のセラミックス等も用いられる。
また、上記複合コアを構成するコア基体としては、フェ
ライトを主体とした酸化物磁性材料の他に耐摩耗性に優
れた例えばセラミックスあるいは金′ii&酸化物から
成る単結晶等の非磁性材料で構成することも可能である
。
ライトを主体とした酸化物磁性材料の他に耐摩耗性に優
れた例えばセラミックスあるいは金′ii&酸化物から
成る単結晶等の非磁性材料で構成することも可能である
。
さらにまた、上記複合コアを構成する飽和磁束密度の大
なる磁性金属膜としては、CoにHf、Zr、Ta−N
b、Tiの少なくとも1種を含む非晶質合金、Fe−A
Q−Si合金、あるいはFe CM系(M=Hf、、
Zr、Ta−Nb−T1、AQ、Siの少なくとも1種
を含む)微結晶合金等が用いられる。そして、上記複合
コアは、例えばAr中あるいはN2,0□を含む雰囲気
中でコア基体を基板とし、これらの磁性金属をターゲッ
トとする周知のスパッタリング成膜法によって形成され
る。
なる磁性金属膜としては、CoにHf、Zr、Ta−N
b、Tiの少なくとも1種を含む非晶質合金、Fe−A
Q−Si合金、あるいはFe CM系(M=Hf、、
Zr、Ta−Nb−T1、AQ、Siの少なくとも1種
を含む)微結晶合金等が用いられる。そして、上記複合
コアは、例えばAr中あるいはN2,0□を含む雰囲気
中でコア基体を基板とし、これらの磁性金属をターゲッ
トとする周知のスパッタリング成膜法によって形成され
る。
上記複合コアを構成する第1の組み合わせとしては、コ
ア基体が例えばM n −Z nフェライトの如きフェ
ライト等の磁性体からなり、磁性金属膜がフェライトよ
り飽和磁束密度の高い、例えばCO系非晶質磁性合金か
らなるものであり、第2の組み合わせとしては、コア基
体がヘマタイトαFe2O,の如き非磁性金属酸化物、
あるいは非磁性セラミックス等からなり、磁性金属膜が
例えばCO系品質合金等の飽和磁束密度の高い磁性体か
らなる組み合わせ等である。
ア基体が例えばM n −Z nフェライトの如きフェ
ライト等の磁性体からなり、磁性金属膜がフェライトよ
り飽和磁束密度の高い、例えばCO系非晶質磁性合金か
らなるものであり、第2の組み合わせとしては、コア基
体がヘマタイトαFe2O,の如き非磁性金属酸化物、
あるいは非磁性セラミックス等からなり、磁性金属膜が
例えばCO系品質合金等の飽和磁束密度の高い磁性体か
らなる組み合わせ等である。
これらの構成は、それぞれの材料との熱膨張係数の整合
、及び磁気テープと接触した時の相性、耐摩耗性などか
ら選択される。
、及び磁気テープと接触した時の相性、耐摩耗性などか
ら選択される。
そして、上記本発明の第2の目的は、
(2)、2個のコア基体の一面にそれぞれ7字状の傾斜
溝を設けると共に、少なくとも一方のコア基体にコイル
巻線用の溝を設ける工程と、この7字状溝の傾斜面に飽
和磁束密度の犬なる磁性金属膜をトラック幅より厚い厚
みに形成して複合コアとする工程と、前記磁性金属膜が
形成されたV字状溝内に非磁性材を充填し面だしする工
程と、前記2個の複合コアの磁性金属膜面同志を突き合
わせ、ギャップ形成材を介して両者を接合一体化して磁
気ヘッドコアを組立る工程と、前記磁気ヘッドコアの磁
気テープ摺接面に前記磁性金属膜の長手方向にトラック
幅だけ磁性金属膜を残して磁性金属膜摺接面とすると共
に、磁性金属膜摺接面を介して互いに対向して平行に、
かつ磁性金属膜摺接面に隣接して、それぞ九の幅が前記
磁性金属膜の膜厚よりも広く前記コア基体の領域内にま
で食い込み、深さがギャップ深さよりも深いトラック幅
規制溝を設ける工程と、前記トラック幅規制溝内に非磁
性材層を埋設する工程とを有して成る磁気ヘットの製造
方法により、達成される。
溝を設けると共に、少なくとも一方のコア基体にコイル
巻線用の溝を設ける工程と、この7字状溝の傾斜面に飽
和磁束密度の犬なる磁性金属膜をトラック幅より厚い厚
みに形成して複合コアとする工程と、前記磁性金属膜が
形成されたV字状溝内に非磁性材を充填し面だしする工
程と、前記2個の複合コアの磁性金属膜面同志を突き合
わせ、ギャップ形成材を介して両者を接合一体化して磁
気ヘッドコアを組立る工程と、前記磁気ヘッドコアの磁
気テープ摺接面に前記磁性金属膜の長手方向にトラック
幅だけ磁性金属膜を残して磁性金属膜摺接面とすると共
に、磁性金属膜摺接面を介して互いに対向して平行に、
かつ磁性金属膜摺接面に隣接して、それぞ九の幅が前記
磁性金属膜の膜厚よりも広く前記コア基体の領域内にま
で食い込み、深さがギャップ深さよりも深いトラック幅
規制溝を設ける工程と、前記トラック幅規制溝内に非磁
性材層を埋設する工程とを有して成る磁気ヘットの製造
方法により、達成される。
そして好ましくは、上記トラック幅規制溝内に非磁性材
層を埋設する工程の後に、上記磁気テープ摺接面にテー
プ摺接面幅規制溝を設ける工程を付加することである。
層を埋設する工程の後に、上記磁気テープ摺接面にテー
プ摺接面幅規制溝を設ける工程を付加することである。
[作用]
本発明において、2個のコア基体の突合せ面に対して傾
斜した溝を形成し、この溝の傾斜面に磁性金属膜を配し
、ギャップ材を介して接合一体化した後に、磁気コアの
磁気テープ対接面前記磁性膜の長手方向にトラック幅加
工を行うことによって、磁気テープ摺接面からギャップ
深さまでの磁性膜の体積を多く残すことができ、記録特
性を劣化させることがない。
斜した溝を形成し、この溝の傾斜面に磁性金属膜を配し
、ギャップ材を介して接合一体化した後に、磁気コアの
磁気テープ対接面前記磁性膜の長手方向にトラック幅加
工を行うことによって、磁気テープ摺接面からギャップ
深さまでの磁性膜の体積を多く残すことができ、記録特
性を劣化させることがない。
磁気テープ摺接面はギャップ近傍部が磁性金属膜で構成
され、その周辺部のトラック幅規制溝に非磁性材が充填
され、さらに磁気テープの入り側。
され、その周辺部のトラック幅規制溝に非磁性材が充填
され、さらに磁気テープの入り側。
出側にコア基体が露出しており、耐摩耗特性が磁性金属
膜、非磁性充填材、コア基体の順に順次高くしであるた
め、段差摩耗の少ない構造となっている。すなわち、磁
気テープ摺接面にはギャップ近傍に比較的軟らかい磁性
金属膜と耐摩耗性の高いコア基体が近接しないように9
両者の中間の摩耗特性を有する非磁性充填材を配設し、
外側にいくにしたがい順次耐摩耗性の高い材料となるよ
うにしである。したがって、スペーシング損失が少なく
高密度記録においても記録再生特性の劣化が極めて少な
い。また、磁気テープの入り側、出側に露出しているコ
ア基体はテープ摺動のプロテクターの役目をしており耐
摩耗性にも優れている。
膜、非磁性充填材、コア基体の順に順次高くしであるた
め、段差摩耗の少ない構造となっている。すなわち、磁
気テープ摺接面にはギャップ近傍に比較的軟らかい磁性
金属膜と耐摩耗性の高いコア基体が近接しないように9
両者の中間の摩耗特性を有する非磁性充填材を配設し、
外側にいくにしたがい順次耐摩耗性の高い材料となるよ
うにしである。したがって、スペーシング損失が少なく
高密度記録においても記録再生特性の劣化が極めて少な
い。また、磁気テープの入り側、出側に露出しているコ
ア基体はテープ摺動のプロテクターの役目をしており耐
摩耗性にも優れている。
本発明はコア基体としてフェライトを用いた場合、磁性
金属膜とフェライトとの境界部が非磁性充填材で被覆さ
れ磁気テープ摺接面に露出しない構造となっているため
、フェライトによる摺動雑音がなく、S/N比の高い磁
気ヘッドを得ることができる。また、W!似ギャップ作
用もない。
金属膜とフェライトとの境界部が非磁性充填材で被覆さ
れ磁気テープ摺接面に露出しない構造となっているため
、フェライトによる摺動雑音がなく、S/N比の高い磁
気ヘッドを得ることができる。また、W!似ギャップ作
用もない。
さらに、前記トラック幅加工を行った後、トラックの両
端の溝に非磁性材料としてセラミックスを充填した場合
には、ガラスなどを充填するよりも気泡の発生やコア形
状に切断する際の欠け、チッピング等が極端に低減し、
好ましい。とりわけセラミックス材の中でもフォルステ
ライト(2MgO−3i O2) 、もしくはステアタ
イト(MgO−5jOz)はコア基体とするMn−Zn
フェライトやαF e Z O3(非磁性コア基体)と
熱膨張係数がほぼ一致し、欠けや剥離を生じない点で優
れている。また、これらのセラミックスは磁気テープと
の摺動においてコア基体よりも若干摩耗しやすい性質を
持っているためチーブタフチが良好で、偏摩耗も少ない
。
端の溝に非磁性材料としてセラミックスを充填した場合
には、ガラスなどを充填するよりも気泡の発生やコア形
状に切断する際の欠け、チッピング等が極端に低減し、
好ましい。とりわけセラミックス材の中でもフォルステ
ライト(2MgO−3i O2) 、もしくはステアタ
イト(MgO−5jOz)はコア基体とするMn−Zn
フェライトやαF e Z O3(非磁性コア基体)と
熱膨張係数がほぼ一致し、欠けや剥離を生じない点で優
れている。また、これらのセラミックスは磁気テープと
の摺動においてコア基体よりも若干摩耗しやすい性質を
持っているためチーブタフチが良好で、偏摩耗も少ない
。
また、磁気ヘッドの磁気テープ摺接面において、磁性金
属膜がトラック幅Twより外側にはみ出しても、磁気テ
ープ摺接面側からトラック幅加工を行う構造となってい
るためにトラック幅加工精度を±2μm以内にすること
が可能である。
属膜がトラック幅Twより外側にはみ出しても、磁気テ
ープ摺接面側からトラック幅加工を行う構造となってい
るためにトラック幅加工精度を±2μm以内にすること
が可能である。
[実施例]
以下、本発明に係る磁気ヘッド実施例を図面に従って説
明する。
明する。
実施例1゜
第1図は、本発明により得られる磁気ヘッドの斜視図で
ある。この磁気ヘッドにおいては、コア基体11.12
が酸化物磁性体、例えばM n −Znフェライトで形
成され、このコア基体11.12の接合面を斜めに切り
欠いた磁性金属膜形成面11a、12aには、磁気ギャ
ップ15となる前部突合せ面から後部突合せ面に至まで
高飽和磁束密度の磁性金属膜13.14がスパッタ法に
より形成され、それぞれフェライトコア基体の突き合わ
せ面に磁性金属膜が形成されて複合磁気コア半体21.
22を構成している。
ある。この磁気ヘッドにおいては、コア基体11.12
が酸化物磁性体、例えばM n −Znフェライトで形
成され、このコア基体11.12の接合面を斜めに切り
欠いた磁性金属膜形成面11a、12aには、磁気ギャ
ップ15となる前部突合せ面から後部突合せ面に至まで
高飽和磁束密度の磁性金属膜13.14がスパッタ法に
より形成され、それぞれフェライトコア基体の突き合わ
せ面に磁性金属膜が形成されて複合磁気コア半体21.
22を構成している。
ここで、各磁気コア半休21.22に形成される磁性金
属膜13.14の膜厚Sは、その磁気コア半体21.2
2の突合せ面である接合面、すなわち磁気ギャップ形成
面に露出し、後にトラック幅規制溝加工により形成され
るトラック幅Twより広く形成する。
属膜13.14の膜厚Sは、その磁気コア半体21.2
2の突合せ面である接合面、すなわち磁気ギャップ形成
面に露出し、後にトラック幅規制溝加工により形成され
るトラック幅Twより広く形成する。
すなわち、磁性金属膜の厚みバラツキや磁性金属膜同志
の多少の突き合せず九が起こってもトラック幅Tw以上
の突き合せ面を確保できるようにするためである。
の多少の突き合せず九が起こってもトラック幅Tw以上
の突き合せ面を確保できるようにするためである。
そして、上述のごとく構成された一対の複合磁気コア半
体21.22をSiO2などのギャップ材を介し、磁性
金属膜同志を突き合せ、磁気ギャップ15となるように
構成される。
体21.22をSiO2などのギャップ材を介し、磁性
金属膜同志を突き合せ、磁気ギャップ15となるように
構成される。
なお、一方の複合磁気コア半体21にはコイル巻線用の
窓19が形成されている。
窓19が形成されている。
また、接合面を斜めに切り欠いた磁性金属膜形成面(突
き合わせ面全体)11a、12aに磁性金属膜13.1
4が形成された残りの部分には一対の複合磁気コア半体
21.22を溶着、接合するためのガラス16が充填さ
れている。
き合わせ面全体)11a、12aに磁性金属膜13.1
4が形成された残りの部分には一対の複合磁気コア半体
21.22を溶着、接合するためのガラス16が充填さ
れている。
本発明では、さらに上述の磁気ギャップ15を形成した
磁気テープ対接面には磁性金属膜の長手方向にトラック
@Twを残して互いに平行にトラック幅規制溝1,7が
形成され、この溝には非磁性材18が残された磁性金属
膜13の磁気テープ摺接面と同一面となる高さまで充填
されており、磁性金属膜13.14の摩耗を防止するよ
うに構成されている。また、磁気テープの入り側、出側
にはバルクのコア基体面]−1b、12bが露出するよ
うにして、磁気テープとの摺動摩耗に耐えるようにしで
ある。なお、このトラック幅規制溝17の深さは、ギャ
ップ深さよりも深く設けることが重要であり、ギャップ
深さが2O77111であれば、それよりも5〜ioa
m深くすることが望ましい。
磁気テープ対接面には磁性金属膜の長手方向にトラック
@Twを残して互いに平行にトラック幅規制溝1,7が
形成され、この溝には非磁性材18が残された磁性金属
膜13の磁気テープ摺接面と同一面となる高さまで充填
されており、磁性金属膜13.14の摩耗を防止するよ
うに構成されている。また、磁気テープの入り側、出側
にはバルクのコア基体面]−1b、12bが露出するよ
うにして、磁気テープとの摺動摩耗に耐えるようにしで
ある。なお、このトラック幅規制溝17の深さは、ギャ
ップ深さよりも深く設けることが重要であり、ギャップ
深さが2O77111であれば、それよりも5〜ioa
m深くすることが望ましい。
次に、磁気テープ摺接面の構造について本発明の他の実
施例である第2図及び第3図を用いてさらに詳しく説明
する。なお、第2図、第3図はそれぞれ磁気テープ摺接
面の拡大平面図である。
施例である第2図及び第3図を用いてさらに詳しく説明
する。なお、第2図、第3図はそれぞれ磁気テープ摺接
面の拡大平面図である。
実施例2゜
第2図において、1コ−112はコア基体、]:3、】
、4は高飽和磁束密度を有する磁性体膜、18は磁性金
属膜の長手方向にトラック幅Twを残して平行にトラッ
ク幅規制溝17が形成され、この溝に充填された非磁性
材である。磁性金属膜13.14が形成される斜面は磁
気ギャップ15に対して、角度θは45度とした。この
時の磁性金属膜の膜厚Sは、接合面においてトラック幅
Twよりも若干厚くなるように形成される。これに対し
て、トラック幅規制溝17の傾斜角度ψは磁気ギャップ
15に対して60度とした。このように、トラック幅規
制溝17の傾斜角度ψをきつくしておくことは、磁性金
属膜13及び]4のエツジ部での再生作用を防止するた
めである。また、磁性金属膜の端部に残るコア基体11
c、12cは面積が少なく、段差はほとんど問題となら
ない。なお。
、4は高飽和磁束密度を有する磁性体膜、18は磁性金
属膜の長手方向にトラック幅Twを残して平行にトラッ
ク幅規制溝17が形成され、この溝に充填された非磁性
材である。磁性金属膜13.14が形成される斜面は磁
気ギャップ15に対して、角度θは45度とした。この
時の磁性金属膜の膜厚Sは、接合面においてトラック幅
Twよりも若干厚くなるように形成される。これに対し
て、トラック幅規制溝17の傾斜角度ψは磁気ギャップ
15に対して60度とした。このように、トラック幅規
制溝17の傾斜角度ψをきつくしておくことは、磁性金
属膜13及び]4のエツジ部での再生作用を防止するた
めである。また、磁性金属膜の端部に残るコア基体11
c、12cは面積が少なく、段差はほとんど問題となら
ない。なお。
トラック幅規制溝17の深さは、実施例1と同様にギャ
ップ深さよりも少し深く設けである。
ップ深さよりも少し深く設けである。
実施例3゜
第3図において、磁性金属膜13.14が形成される斜
面は磁気ギャップ15に対して、角度θは60度とした
。この時の磁性金属膜の膜厚Sは、接合面においてトラ
ック幅Twよりも若干厚くなるように形成される。これ
に対して、トラック幅規制溝17の傾斜角度ψは磁気ギ
ャップ15に対して60度とした。このように、トラッ
ク幅規制溝17の傾斜角度ψと同じ角度に形成すること
によって、磁気テープ摺接面に磁性金属膜とコア基体と
の境界が露出することがない。したがって2コア基体と
してフェライトを用いても境界部における擬似ギャップ
作用がなく、摺動雑音の問題も起こらない。なお、トラ
ック幅規制溝17の深さは、実施例1と同様にギャップ
深さよりも少し深く設けである。
面は磁気ギャップ15に対して、角度θは60度とした
。この時の磁性金属膜の膜厚Sは、接合面においてトラ
ック幅Twよりも若干厚くなるように形成される。これ
に対して、トラック幅規制溝17の傾斜角度ψは磁気ギ
ャップ15に対して60度とした。このように、トラッ
ク幅規制溝17の傾斜角度ψと同じ角度に形成すること
によって、磁気テープ摺接面に磁性金属膜とコア基体と
の境界が露出することがない。したがって2コア基体と
してフェライトを用いても境界部における擬似ギャップ
作用がなく、摺動雑音の問題も起こらない。なお、トラ
ック幅規制溝17の深さは、実施例1と同様にギャップ
深さよりも少し深く設けである。
実施例4゜
次ぎに第11図から第18図によって本発明による磁気
ヘッドの製造方法の一例を工程図に従って説明する。
ヘッドの製造方法の一例を工程図に従って説明する。
1)磁気コア半体ブロック40の斜視図を示す第11図
(a)およびその要部断面図を示す第11図(b)は、
例えばM n −Z nフェライト等の酸化物磁性基板
30の上面30a、すなわち、この酸化物磁性基板30
における磁気コア半休を突き合わせたときの接合面に、
回転砥石により断面略■字状の切り溝31を全幅にわた
って複数平行に形成し、傾斜面31aを形成し、磁気コ
ア半休ブロック40とする工程である。
(a)およびその要部断面図を示す第11図(b)は、
例えばM n −Z nフェライト等の酸化物磁性基板
30の上面30a、すなわち、この酸化物磁性基板30
における磁気コア半休を突き合わせたときの接合面に、
回転砥石により断面略■字状の切り溝31を全幅にわた
って複数平行に形成し、傾斜面31aを形成し、磁気コ
ア半休ブロック40とする工程である。
ji )第12図(a)および第12図(b)は、7字
状の傾斜面31aを含む基板30の上面30a全面にわ
たってFe−Al−5i系合金や非晶質合金をスパッタ
リング等の真空薄膜形成技術を用いて被看し、磁性金属
薄膜32を形成する工程である。上記金属磁性膜32の
材質としては非晶質磁性合金、例えば、Fe、Coおよ
びNiの少なくとも一種の元素に、Zr、Nb、”ra
、Hf、Ti、W、CrおよびMOの少なくとも一種の
元素を含んだメタル−メタル系非晶質磁性合金からなる
。あるいは、Fe−5i−Ai系合金、Fe−C−M
(M = Hf 、 Z r 、 T a 、 T i
およびNbの少なくとも一種)系からなる微細な多結晶
質合金からなる。
状の傾斜面31aを含む基板30の上面30a全面にわ
たってFe−Al−5i系合金や非晶質合金をスパッタ
リング等の真空薄膜形成技術を用いて被看し、磁性金属
薄膜32を形成する工程である。上記金属磁性膜32の
材質としては非晶質磁性合金、例えば、Fe、Coおよ
びNiの少なくとも一種の元素に、Zr、Nb、”ra
、Hf、Ti、W、CrおよびMOの少なくとも一種の
元素を含んだメタル−メタル系非晶質磁性合金からなる
。あるいは、Fe−5i−Ai系合金、Fe−C−M
(M = Hf 、 Z r 、 T a 、 T i
およびNbの少なくとも一種)系からなる微細な多結晶
質合金からなる。
i)第13図(a)及び第13図(b)は、磁性金属薄
膜32被着された7字状溝31内に接合用ガラス33を
溶融した後、上記基板30の上面30aを平面研削およ
び研磨し、平滑度よく面出しを行い、上記基板30の上
面30aに上記7字状の傾斜面31a上に被着される磁
性金属薄膜32の端面32aを露出させる工程である。
膜32被着された7字状溝31内に接合用ガラス33を
溶融した後、上記基板30の上面30aを平面研削およ
び研磨し、平滑度よく面出しを行い、上記基板30の上
面30aに上記7字状の傾斜面31a上に被着される磁
性金属薄膜32の端面32aを露出させる工程である。
〜)第14図は、一方の磁気コア半休ブロック50に前
記7字状溝31に直交する方向にコイル巻線溝35を設
ける工程である。コイル巻線溝35は前記7字状溝31
よりも深く形成される。
記7字状溝31に直交する方向にコイル巻線溝35を設
ける工程である。コイル巻線溝35は前記7字状溝31
よりも深く形成される。
このとき、溝部の金属磁性膜32の一部は削り取られる
。
。
なお、この工程を工程i)の前か、もしくは工程i)の
直後に行えば、コイル巻線溝35の内壁に金属磁性膜を
残すことが可能である。このような工程は、コア基体に
ヘマタイト(αF e、03)等の非磁性材料を用いる
場合に適している。このようにすれば、金属磁性材料の
みで磁気回路を形成することができる。
直後に行えば、コイル巻線溝35の内壁に金属磁性膜を
残すことが可能である。このような工程は、コア基体に
ヘマタイト(αF e、03)等の非磁性材料を用いる
場合に適している。このようにすれば、金属磁性材料の
みで磁気回路を形成することができる。
次ぎに、上記のような工程により作成される一対の磁気
コアブロック40.50のうち、少なくとも一方の磁気
コアブロックの接合面30aに磁気ギャップ形成用の非
磁性薄膜が被着される。例えば、Sin、、A12O1
、ZrO2、TiO2、Cr、Cr2O3等の少なくと
も一種をスパッタ法により形成する(図面省略)。
コアブロック40.50のうち、少なくとも一方の磁気
コアブロックの接合面30aに磁気ギャップ形成用の非
磁性薄膜が被着される。例えば、Sin、、A12O1
、ZrO2、TiO2、Cr、Cr2O3等の少なくと
も一種をスパッタ法により形成する(図面省略)。
■)続いて第15図(、)および第15図(b)に示す
ように、ここれら磁気コアブロック40゜50を上記金
属薄膜32の端面32a同志が突き合わされるように接
合配置する。そして、7字状溝に充填されているガラス
33により、これら磁気コアブロック4o、50を溶解
し、接合ブロック60を得る。
ように、ここれら磁気コアブロック40゜50を上記金
属薄膜32の端面32a同志が突き合わされるように接
合配置する。そして、7字状溝に充填されているガラス
33により、これら磁気コアブロック4o、50を溶解
し、接合ブロック60を得る。
この時、磁気ギャップ36の幅tは最終的なトラック幅
Twよりも広くしておけば、第15図(b)の平面図に
示すように突き合わせずれがあってもよい。
Twよりも広くしておけば、第15図(b)の平面図に
示すように突き合わせずれがあってもよい。
vi)第16図は、前記工程V)で得られた接合ブロッ
クの磁気テープ摺接面を所定のギャップ深さDとなるま
で円弧状に形成する工程である。ここで、円弧の曲率R
は4〜8mmとした。また、ギャップ深さDよりも若干
深く残しておく。例えば、最終ギャップ深さDを15μ
mとする場合には30〜40μmとしておくとよい。
クの磁気テープ摺接面を所定のギャップ深さDとなるま
で円弧状に形成する工程である。ここで、円弧の曲率R
は4〜8mmとした。また、ギャップ深さDよりも若干
深く残しておく。例えば、最終ギャップ深さDを15μ
mとする場合には30〜40μmとしておくとよい。
vii)第17図は、工程vi)で得られた接合ブロッ
クの磁気テープ摺接面において、磁気ギャップ部に所定
のとラック41f T wを残して、磁性膜32に隣接
して平行な溝37を形成する工程である。
クの磁気テープ摺接面において、磁気ギャップ部に所定
のとラック41f T wを残して、磁性膜32に隣接
して平行な溝37を形成する工程である。
この時の溝深さは、ギャップ深さDより若干(数十ミク
ロン)深くしておく。
ロン)深くしておく。
%li)第18図は、前記溝37にセラミックス材38
をスパッタ法により充填する工程を示したものである。
をスパッタ法により充填する工程を示したものである。
なお、セラミックス材38は磁気テープ摺接面の全面に
わたって形成される。
わたって形成される。
次ぎに、破線で示す部分で切断することにより、厚さT
の複数筒の磁気ヘッドコアを得る。
の複数筒の磁気ヘッドコアを得る。
しかる後、ギャップ深さdまで磁気テープ摺接面を研磨
テープでラッピングすることによって。
テープでラッピングすることによって。
不要のセラミックス部を除去しながら所要の形状に成形
し、第1図のような磁気ヘッドを完成する。
し、第1図のような磁気ヘッドを完成する。
なお、この時、磁気コアブロック4oおよび5゜に対す
る切断方向を突合せ面に対して傾斜させることにより、
アジマス記録用の磁気ヘッドを作製することができる。
る切断方向を突合せ面に対して傾斜させることにより、
アジマス記録用の磁気ヘッドを作製することができる。
実施例5゜
次に1本発明の磁気ヘッドと従来の磁気ヘッドとを、そ
れぞれ同一タイプのビデオデツキに装着し、性能比較し
た例について説明する。
れぞれ同一タイプのビデオデツキに装着し、性能比較し
た例について説明する。
先ず、3.75m/sの相対速度で磁気テープを走行し
、500時間後に磁気ヘッドの摺接面を表面粗さ計(タ
リステップ)で測定した結果を第4図(A)、(B)お
よび第5図(A)、(B)に示す。
、500時間後に磁気ヘッドの摺接面を表面粗さ計(タ
リステップ)で測定した結果を第4図(A)、(B)お
よび第5図(A)、(B)に示す。
第4図(A)は本発明の磁気ヘット、第5図(A)は従
来の磁気ヘッドの比較例である9図面のX−]、Y−Y
はそれぞれの測定位置を示す。
来の磁気ヘッドの比較例である9図面のX−]、Y−Y
はそれぞれの測定位置を示す。
そして、これら図中のal、a2、a3、a4、a3、
a6はそれぞれの構成材料の境界部である。
a6はそれぞれの構成材料の境界部である。
第4図(B)において、d2〜d4はそれぞれ境界部で
の段差を示し、alはコア基体(Mn−Znnフェライ
ト)11と非磁性充填材(フォルステライト)18の境
界で、段差d1は2O〜30nm;a2は非磁性充填材
18と磁性金属膜(Co−Nb−Zr非晶質膜)13の
境界で、段差d2は10nm以下;a3は磁性金属膜1
4と非磁性充填材18境界で、段差d3は10nm以下
;a4は非磁性充填材18とコア基体12の境界で、段
差d4は2O〜30nmであった。
の段差を示し、alはコア基体(Mn−Znnフェライ
ト)11と非磁性充填材(フォルステライト)18の境
界で、段差d1は2O〜30nm;a2は非磁性充填材
18と磁性金属膜(Co−Nb−Zr非晶質膜)13の
境界で、段差d2は10nm以下;a3は磁性金属膜1
4と非磁性充填材18境界で、段差d3は10nm以下
;a4は非磁性充填材18とコア基体12の境界で、段
差d4は2O〜30nmであった。
一方、比較例の第5図(B)ではコア基体(Mn−Zn
フェライト)1]、、12と磁性金属膜13.14の境
界a6、aGの段差d3、d5は50〜80nmであっ
た。
フェライト)1]、、12と磁性金属膜13.14の境
界a6、aGの段差d3、d5は50〜80nmであっ
た。
このように本発明の実施例においては、それぞれの境界
部での段差が比較例よりも格段に小さくなっており、そ
九だけ平滑な摺接面を形成していることになる。
部での段差が比較例よりも格段に小さくなっており、そ
九だけ平滑な摺接面を形成していることになる。
第6図は本発明の磁性ヘッドと従来の磁気ヘットとの記
録再生特性の比較例を示す。磁気ヘットはそれぞれ、ギ
ャップ長;0.2O〜0.2;3μm。
録再生特性の比較例を示す。磁気ヘットはそれぞれ、ギ
ャップ長;0.2O〜0.2;3μm。
トラック幅;23〜25μm、ギャップ深さ;14〜1
6μmを用い、励磁コイルは17ターンとした。これを
ビデオデツキに装着し、保磁力]、 5000 eのメ
タルテープを用い、相対速度3.75m/sで測定した
。第6図において2曲線30は本発明の磁気ヘッド、曲
線4oは比較例としての従来の磁気ヘッドである。図か
ら明らかなように、本発明の磁気ヘットの方が7MHz
の輝度信号で約2dB優れている。これはおそらくスペ
ーシングの改善によるものと考えられる。
6μmを用い、励磁コイルは17ターンとした。これを
ビデオデツキに装着し、保磁力]、 5000 eのメ
タルテープを用い、相対速度3.75m/sで測定した
。第6図において2曲線30は本発明の磁気ヘッド、曲
線4oは比較例としての従来の磁気ヘッドである。図か
ら明らかなように、本発明の磁気ヘットの方が7MHz
の輝度信号で約2dB優れている。これはおそらくスペ
ーシングの改善によるものと考えられる。
さらに、本発明は、一対の複合磁気コア半休を接合後に
、磁気テープ対接面からトラック幅加工を行うことによ
って、磁性金属膜の厚みバラツキや磁性金属膜同志の多
少の突き合せずれが起こっても所望のトラック幅を高精
度に規定できる。トラック幅規制溝17に充填される非
磁性充填材としてのセラミックス18はコア基体11.
12や磁性金属膜13.14との熱膨張係数の整合、密
着性および摩耗特性を考慮して選ばれる。
、磁気テープ対接面からトラック幅加工を行うことによ
って、磁性金属膜の厚みバラツキや磁性金属膜同志の多
少の突き合せずれが起こっても所望のトラック幅を高精
度に規定できる。トラック幅規制溝17に充填される非
磁性充填材としてのセラミックス18はコア基体11.
12や磁性金属膜13.14との熱膨張係数の整合、密
着性および摩耗特性を考慮して選ばれる。
本実施例では、コア基体であるM n −Z nフェラ
イトの熱膨張係数が115〜12OX10−’/℃、硬
度が640〜670 k g/mm2のMn −Znフ
ェライト、磁性金属膜として用いたC。
イトの熱膨張係数が115〜12OX10−’/℃、硬
度が640〜670 k g/mm2のMn −Znフ
ェライト、磁性金属膜として用いたC。
−Nb−Zr非晶質合金膜の熱膨張係数が118〜12
OxlO−’/’C1硬度が850〜900kg /
m m”である。これに対してトラック幅規制溝17に
充填されるセラミックス18は熱膨張係数が90〜12
Oxlo−7/℃、硬度が500〜800kg/mm2
が適していた。熱膨張係数については、コア基体材料と
同程度のものが好ましいが、実験の結果低い方は80
X 10−’/’C程度まで適用可能であることがわか
った。一方、硬度は摩耗特性とは直接関連が見られなか
ったが、種々のセラミックス材では500〜800kg
/mm2が適していた。
OxlO−’/’C1硬度が850〜900kg /
m m”である。これに対してトラック幅規制溝17に
充填されるセラミックス18は熱膨張係数が90〜12
Oxlo−7/℃、硬度が500〜800kg/mm2
が適していた。熱膨張係数については、コア基体材料と
同程度のものが好ましいが、実験の結果低い方は80
X 10−’/’C程度まで適用可能であることがわか
った。一方、硬度は摩耗特性とは直接関連が見られなか
ったが、種々のセラミックス材では500〜800kg
/mm2が適していた。
具体的な材料としてはフォルステライト(2MgO−3
in、)をターゲットとしてスパッタした薄膜材料が適
していることを見出した。
in、)をターゲットとしてスパッタした薄膜材料が適
していることを見出した。
形成された膜はステアタイト(MgO−5in7.)が
支配的で非晶質であった。この非磁性保護膜はM n
−Z nフェライトや非晶質磁性合金と密着性もよく、
磁気テープによる摩耗が磁気コア基体より若干速い材料
となっているためテープタッチが良好で、構成材料によ
る偏摩耗も少ながった。また、透明な膜であるため磁気
ヘッドコアの側面がらギャップ深さを容易に測定できる
利点もある。
支配的で非晶質であった。この非磁性保護膜はM n
−Z nフェライトや非晶質磁性合金と密着性もよく、
磁気テープによる摩耗が磁気コア基体より若干速い材料
となっているためテープタッチが良好で、構成材料によ
る偏摩耗も少ながった。また、透明な膜であるため磁気
ヘッドコアの側面がらギャップ深さを容易に測定できる
利点もある。
他に、適用できる材料として、TiO2−CaO系、T
iO2−NiO系、Mn0−Ni0系のスパッタ膜など
がある。
iO2−NiO系、Mn0−Ni0系のスパッタ膜など
がある。
[発明の効果]
以上に説明したごとく、本発明の第1の目的を達成する
ことのできる構成は、2個のコア基体の突き合せ面に対
して傾斜した溝を設け、この溝の傾斜面に磁性金属膜を
形成し、コア基体の磁性金属膜を突き合せ磁気コアとし
て、磁気コアの磁気テープ対接面に前記磁性膜の長手方
向に沿ってトラック幅だけ残して平行にトラック幅規制
溝を形成し、前記溝に非磁性材を配設してなる磁気ヘッ
ドである。上記構造によれば、 (1)ギャップ近傍部に複合コアの基体を構成するフェ
ライトが露出することなく、また露出しても極めて少な
い構造となっているため、フェライト基体による摺動雑
音が少なく、S/N比の高い磁気ヘッドを得ることがで
きる。また、擬似ギャップ作用もほとんどない。
ことのできる構成は、2個のコア基体の突き合せ面に対
して傾斜した溝を設け、この溝の傾斜面に磁性金属膜を
形成し、コア基体の磁性金属膜を突き合せ磁気コアとし
て、磁気コアの磁気テープ対接面に前記磁性膜の長手方
向に沿ってトラック幅だけ残して平行にトラック幅規制
溝を形成し、前記溝に非磁性材を配設してなる磁気ヘッ
ドである。上記構造によれば、 (1)ギャップ近傍部に複合コアの基体を構成するフェ
ライトが露出することなく、また露出しても極めて少な
い構造となっているため、フェライト基体による摺動雑
音が少なく、S/N比の高い磁気ヘッドを得ることがで
きる。また、擬似ギャップ作用もほとんどない。
(2)磁気テープ摺接面からギャップ深さまでの磁性膜
の体積を多く残すことができ、記録特性が劣化しない。
の体積を多く残すことができ、記録特性が劣化しない。
(3)ギャップ近傍に比較的軟らかい磁性金属膜と耐摩
耗の高いコア基体が近接しないように、その間に両者の
中間の摩耗特性を有する非磁性充填材を配設し、ギャッ
プ部から顯次外側にいくに従い耐摩耗性が高くなるよう
にしであるため、ギャップ近傍部の段差摩耗が10nm
以下となる。そのため、スペーシング損失が少なく高密
度記録においても記録再生特性の劣化が極めて少ない。
耗の高いコア基体が近接しないように、その間に両者の
中間の摩耗特性を有する非磁性充填材を配設し、ギャッ
プ部から顯次外側にいくに従い耐摩耗性が高くなるよう
にしであるため、ギャップ近傍部の段差摩耗が10nm
以下となる。そのため、スペーシング損失が少なく高密
度記録においても記録再生特性の劣化が極めて少ない。
(4)本発明はトラック幅加工を行った後、トラックの
両端の溝にセラミックの如き非磁性材料を充填すること
によって、ガラスなどを充填するよりも気泡の発生やコ
ア形状に切断する際の欠け、チッピング等が極端に低減
する。また、トラック蒐精度の高い磁気ヘッドを得るこ
とができる。
両端の溝にセラミックの如き非磁性材料を充填すること
によって、ガラスなどを充填するよりも気泡の発生やコ
ア形状に切断する際の欠け、チッピング等が極端に低減
する。また、トラック蒐精度の高い磁気ヘッドを得るこ
とができる。
第1図は本発明の磁気ヘットの一実施例を示す外観斜視
図、第2図は本発明の磁気ヘッドの摺接面を示す要部拡
大平面図、第3図は本発明の他の磁気ヘッドの摺接面を
示す要部拡大平面図、第4図(A)、(B)は本発明の
磁気ヘッドをビデオデツキに装着して磁気テープを走行
した後の磁気ヘッド摺接面の形状説明図、第5図(A)
、(B)は同じ〈従来例の比較説明図、第6図は本発明
と従来例の磁気ヘッドの記録再生特性の比較図、第7図
は従来例を示す磁気ヘッドのテープ摺接面の拡大平面図
、第8図はその平面図、第9図は同じくその正面図、第
10図は同じくその側面図、そして第11図〜第18図
はそれぞれ本発明の一実施例となる磁気ヘッドの形成工
程図である。 〈符号の説明〉 11.12・・・コア基体、 13.14・・・磁性金属膜。 15、G・・・磁気ギャップ、 16・・・ガラス、 17・・・トラック幅規制溝。 18・・・非磁性充填材、 19・・・コイル巻線溝、 21.22・・・磁気コア半休(複合コア)、Tw・・
・トラック幅。
図、第2図は本発明の磁気ヘッドの摺接面を示す要部拡
大平面図、第3図は本発明の他の磁気ヘッドの摺接面を
示す要部拡大平面図、第4図(A)、(B)は本発明の
磁気ヘッドをビデオデツキに装着して磁気テープを走行
した後の磁気ヘッド摺接面の形状説明図、第5図(A)
、(B)は同じ〈従来例の比較説明図、第6図は本発明
と従来例の磁気ヘッドの記録再生特性の比較図、第7図
は従来例を示す磁気ヘッドのテープ摺接面の拡大平面図
、第8図はその平面図、第9図は同じくその正面図、第
10図は同じくその側面図、そして第11図〜第18図
はそれぞれ本発明の一実施例となる磁気ヘッドの形成工
程図である。 〈符号の説明〉 11.12・・・コア基体、 13.14・・・磁性金属膜。 15、G・・・磁気ギャップ、 16・・・ガラス、 17・・・トラック幅規制溝。 18・・・非磁性充填材、 19・・・コイル巻線溝、 21.22・・・磁気コア半休(複合コア)、Tw・・
・トラック幅。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも一方にコイル巻線用の溝を有する2個の
コア基体の突き合わせ部分にそれぞれ飽和磁束密度の大
なる磁性金属膜を配した複合コアの突き合わせ面に、ギ
ャップ材を介して接合一体化してなる磁気ヘッドにおい
て、前記磁性金属膜は、前記コア基体の突き合わせ面に
対して所定角度傾斜して設けられた傾斜部にトラック幅
より厚い厚みを有して配設されて成り、前記2個の複合
コアの磁性金属膜面を突き合わせて構成された磁気コア
の磁気テープ対接面には、前記磁性金属膜の長手方向に
トラック幅だけ残された磁性金属膜摺接面と、この磁性
金属膜摺接面を介して互いに対向して平行に、かつ磁性
金属膜摺接面に隣接して、それぞれの幅が前記磁性金属
膜の膜厚よりも広く前記コア基体の領域内にまで食い込
み、深さがギャップ深さよりも深く設けられたトラック
幅規制溝と、このトラック幅規制溝内に埋設された非磁
性材層とを有して成る磁気ヘッド。 2、上記トラック幅規制溝をコア基体と磁性金属膜との
それぞれの領域に食い込んだ状態で配設すると共に、こ
のトラック幅規制溝内に非磁性材を埋設して、コア基体
と磁性金属膜との境界が非磁性材で被覆され磁気テープ
摺接面に露出しない構成として成る請求項1記載の磁気
ヘッド。 3、上記磁気コアの磁気テープ摺接面を、磁性金属膜で
構成されたギャップ部と、それに隣接して設けられたト
ラック幅規制溝内に埋設された非磁性材料層と、その外
周部を磁気テープ入側と出側とを構成するバルクのコア
基体の露出部とで構成し、耐摩耗特性を前記磁性金属膜
、非磁性材料層、バルクのコア基体の順に順次高くして
成る請求項1記載の磁気ヘッド。 4、上記非磁性材料層をアモルファス状もしくは微結晶
の非磁性材で構成して成る請求項1乃至3何れか記載の
磁気ヘッド。 5、上記非磁性材料層をガラスもしくはセラミックスで
構成して成る請求項1乃至3何れか記載の磁気ヘッド。 6、上記コア基体を酸化物磁性材料で構成して成る請求
項1乃至3何れか記載の磁気ヘッド。 7、上記コア基体を非磁性材料で構成して成る請求項1
乃至3何れか記載の磁気ヘッド。 8、上記非磁性材料で構成したコア基体をα−Fe_2
O_3酸化鉄として成る請求項6記載の磁気ヘッド。 9、2個のコア基体の一面にそれぞれV字状の傾斜溝を
設けると共に、少なくとも一方のコア基体にコイル巻線
用の溝を設ける工程と、このV字状溝の傾斜面に飽和磁
束密度の大なる磁性金属膜をトラック幅より厚い厚みに
形成して複合コアとする工程と、前記磁性金属膜が形成
されたV字状溝内に非磁性材を充填し面だしする工程と
、前記2個の複合コアの磁性金属膜面同志を突き合わせ
、ギャップ形成材を介して両者を接合一体化して磁気ヘ
ッドコアを組立る工程と、前記磁気ヘッドコアの磁気テ
ープ摺接面に前記磁性金属膜の長手方向にトラック幅だ
け磁性金属膜を残して磁性金属膜摺接面とすると共に、
磁性金属膜摺接面を介して互いに対向して平行に、かつ
磁性金属膜摺接面に隣接して、それぞれの幅が前記磁性
金属膜の膜厚よりも広く前記コア基体の領域内にまで食
い込み、深さがギャップ深さよりも深いトラック幅規制
溝を設ける工程と、前記トラック幅規制溝内に非磁性材
層を埋設する工程とを有して成る磁気ヘッドの製造方法
。 10、上記トラック幅規制溝内に非磁性材層を埋設する
工程の後に、上記磁気テープ摺接面にテープ摺接面幅規
制溝を設ける工程を付加して成る請求項9記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31135890A JPH04182906A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31135890A JPH04182906A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04182906A true JPH04182906A (ja) | 1992-06-30 |
Family
ID=18016203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31135890A Pending JPH04182906A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04182906A (ja) |
-
1990
- 1990-11-19 JP JP31135890A patent/JPH04182906A/ja active Pending
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