JPH04182329A - 熱線遮蔽ガラス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、透明なガラス板上に化学的耐久性が強くかつ
耐摩耗強度が大きく、さらに表面の平滑性が良好な保護
膜が最外層に被覆された熱線遮蔽ガラスに関する。

「従来技術」 窓ガラスを通して建物や車両の室内に流入する太陽エネ
ルギーを遮蔽して室内の温度上昇を抑えるために、ガラ
ス板表面に可視光線の一部を透過し、太陽エネルギーの
一部を遮蔽する熱線遮蔽膜を被覆した熱線遮蔽ガラスが
窓ガラスに用いられている。このようなガラスとしては
、特開平１−３１４１８３号公報に開示されているよう
に、硼化ジルコニウム（ＺｒＢ２）ターゲットを減圧し
た酸素雰囲気中で反応性スパッタリングして被覆したジ
ルコニウムと硼素の酸化膜を保護膜とする熱線遮蔽ガラ
スや、硼化ジルコニウムと炭化珪素（ＳｉＣ）の混合物
のターゲットを減圧した酸素雰囲気中で反応性スパッタ
リングして被覆した保護膜を有する熱線遮蔽ガラスがあ
る。

また、上記の硼化ジルコニウムを酸化して得られるジル
コニウムと硼素の酸化膜は、非晶質化して膜表面の平滑
性を良くすることにより膜表面の摩擦抵抗が減少し、そ
れにより膜の耐摩耗性が大きくなることが、特開平２−
９０１号公報に開示されている。

「発明が解決しようとする課題」 建築物や車両用の窓ガラスの如き、ガラス板上に被覆さ
れた被膜が直接大気に触れる状態で用いられる場合、被
膜は実用上耐え得る機械的強度および化学的耐久性を必
要とするが、とりわけ耐摩耗性が大きいことが要求され
る。そして、基体の上に被覆された被膜の耐摩耗性を太
き（するには、被膜が複数の層から構成されているとき
は、最外層の膜の耐摩耗強度を向上させることが重要な
課題となる。そのために、最外層の保護膜については膜
物質およびその膜の被覆方法の研究が盛んにおこなわれ
ている。

しかしながら、上記の従来技術では、保護膜のジルコニ
ウムと硼素の酸化膜は、導電性が小さい硼化ジルコニウ
ムターゲットをアルゴンと酸素の混合ガスで反応性スパ
ッタリングするため、ターゲト表面に酸化物の不良導体
が被膜形成中に生成し、これにより保ＷＩＭを被覆する
ときのグロー放電にアーキング（アーク放電）が発生し
易く、保護膜にターゲット物質が粒の状態で付着する粒
子付着の欠点が生じやすいという問題点があった。

この粒子付着は被膜自体が平滑であっても被膜表面より
突起しているため、布などで膜表面をクリーニングする
に際しては剥離脱落などが生じ被膜が劣化し易いという
問題点があった。また、この粒子付着の発生を被膜製造
時に抑制するには、被膜の被覆速度を遅くしなければな
らないという問題点があった。

本発明の目的は、」１記の問題点を解決するためになさ
れたものであって、粒子付着がない平滑な表面ををし、
優れた耐摩耗性と化学的耐久性を有する保護膜が最上層
に設けられた熱線遮蔽ガラスを提供するにある。

「課題を解決するための手段」 本発明は、透明なガラス板上に熱線遮蔽膜が被覆され、
前記熱線遮蔽膜の上にチタニウム、スズおよびクロムの
いずれかの金属の酸化物と硼化ジルコニウムの酸化物と
の混合物、あるいはチタニウム、スズおよびクロムのい
ずれかの金属の酸窒化物と硼化ジルコニウムの酸窒化物
との混合物からなる保護膜が被覆された熱線遮蔽ガラス
である。

本発明の熱線遮蔽ガラスの空気と接する最外層に設けら
れる保護膜には、ジルコニウムと硼素の酸化物が主成分
として含まれ、チタニウム、スズおよびクロムのいずれ
かの金属の酸化物が少量成分として含まれるか、ジルコ
ニウムと硼素の酸窒化物が主成分として含まれ、チタニ
ウム、スズおよびクロムのいずれかの金属の酸窒化物が
少量成分として含まれる。前記金属の酸化物または酸窒
化物を２以上含ませることもできる。

本発明の保護膜の厚みは、熱線遮蔽膜を保護するに必要
な厚みに被覆される。実用上必要な耐摩耗性および化学
的安定性を確保するためには、保護膜の厚みは１０ｎｍ
以上が好ましく、１５ｎｍ以上がより好ましく、さらに
は２０ｎｍ以上とするのが最も好ましい。また、保護膜
の厚みの上限としては、膜の耐久性を確保する上ではと
くに限定されるものでないが、被覆に長時間を必要とし
ないという観点から１１００ｎを越えないことが好まし
い。

本発明の前記ガラス板と前記保護膜の間に介在するよう
に設けられる熱線遮蔽膜としては、可視光線の一部を透
過し、近赤外線の一部を反射することにより太陽光線の
一部が透過しないようにした被膜であれば特に限定され
るものでない。たとえば、ガラス板の上に、より小さい
屈折率を存する透明誘電体膜と前記透明誘電体膜より大
きい屈折率を有する透明誘電体膜とを積層した熱線遮蔽
膜が用いられる。上記のより小さい屈折率の透明誘電体
膜とより大きい屈折率の透明誘電体膜の組み合わせとし
ては、酸化第２錫膜と酸化第２チタン膜、酸化ジルコニ
ウム膜と酸化第２チタン膜、酸化第２珪素膜と酸化第２
チタン膜、酸化アルミニウム膜と酸化第２チタン膜、五
酸化タンタル膜と酸化第２チタン膜が例示できる。また
チタニウム、ジルコニウム、ハフニウムなどの金属窒化
物膜やこれらの金属窒化物膜を酸化第２錫膜、酸化第２
チタン膜などの透明誘電体膜で挟んだ熱線遮蔽膜が例示
できる。

また、本発明の熱線遮蔽ガラスに用いられるガフ− ラス板としては、たとえばフロート法で製造された着色
剤を含まない透明ガラス板や着色剤を含む熱線吸収ガラ
ス板、さらにプラスチック板を用いることができる。

そして、被覆する上記の膜の厚みを選ぶことにより可視
光線透過率が７０％以上、可視光線反射率が１５％以下
、さらに用いるガラス板との色差が透過光、反射光とも
肉眼で見て大きく感じられない値である色度座標（Ｘ％
ｙ）で表したＸの絶対値及びｙの絶対値が共に０．０２
以下で、用いたガラスよりも日射透過率が５％以上小さ
いガラスとすることができる。

本発明の熱線遮蔽膜の保護膜は、チタニウム、スズおよ
びクロムのいずれかの金属を１〜１０重量％含む導電性
の硼化ジルコニウムをターゲットとし、減圧した酸素ま
たは酸素と窒素とを含む雰囲気ガス中で、前記ターゲッ
トを直流グロー放電によりスパッタリングすることによ
り被覆されたことが好ましい。上記により表面が平滑な
ジルコニウムと硼素の酸化物（化学式でＺｒＢｘＯｖで
表される）または酸窒化物（化学式でＺ　ｒ　ＢｘＯｙ
Ｎ２で表される）を主成分とする保護膜を粒子付着を保
護膜中に生じさせることな（被膜することができる。

本発明に用いられるターゲットは、チタニウム、スズお
よびクロムのいずれかの金属を１〜１０重量％含む導電
性の硼化ジルコニウム（ＺｒＢ２）であることが好まし
い。硼化ジルコニウムの粉末を焼結して得られる硼化ジ
ルコニウムターゲットは導電性が小さく、直流スパッタ
リングではグロー放電が安定して得られないが、前記金
属を硼化ジルコニウム中に含ませることによりターゲッ
トの導電性を大きくすることができる。

上記金属の含有量が１重量％より少ないと、大きい被覆
速度で保護膜を被覆する、たとえばターゲットに印加す
る電力をターゲットの面積当たりで表して２ｗ／ｃｍ’
の大電流を印加するとき、ターゲット表面に電荷がチャ
ージアップして、ターゲット表面でアーキングが発生し
易くなり、それによりターゲット材料が局部的に粒状に
スパッタリングされ、保護膜に粒子付着が生ず易くなる
。

一方、前記金属の含有量が１０重量％を越えると、得ら
れる被膜の化学的耐久性が低下するので、前記金属の量
は１０重量％を越えないことが好ましい。スパッタリン
グするときの放電の安定性と得られる膜の耐久性から、
前記金属のターゲット中の含を量は２〜５重量％が好ま
しい。

スパッタリングするとき、反応性ガスとして外部より酸
素を導入することより酸化物の膜とすることができ、反
応性ガスとして外部より酸素と窒素とを導入することに
より酸窒化物の膜とすることができる。そして、外部よ
り導入する酸素および窒素の量は、得られる被膜が可視
光線の領域でほぼ透明になるように定められる。

また、本発明においては、グロー放電を生起させる放電
は、直流スパッタリングによりおこなうことが好ましい
。これにより大きな面積のガラス板に均一に被膜を被覆
することができる。

本発明の第２は、透明なガラス板の上に熱線遮蔽膜が被
覆され、前記熱線遮蔽膜の上にチタニウＩＯ− ム、スズおよびクロムのいずれかの金属の窒化物と炭化
珪素の窒化物との混合物、あるいはチタニウム、スズお
よびクロムのいずれかの金属の酸窒化物と炭化珪素の酸
窒化物との混合物からなる保護膜が被覆された熱線遮蔽
ガラスである。

本発明の第２の熱線遮蔽ガラスの空気と接する最外層に
設けられる保護膜には、炭化珪素の窒化物が主成分とし
て含まれ、チタニウム、スズおよびクロムのいずれかの
金属の窒化物が少量成分として含まれているか、あるい
は炭化珪素の酸窒化物が主成分として含まれ、チタニウ
ム、スズおよびクロムのいずれかの金属の酸窒化物が少
量成分として含まれている。

本発明の第２の熱線遮蔽ガラスの保護膜の厚みは、熱線
遮蔽膜を保護するに必要な厚みに被覆される。実用上必
要な耐摩耗性および化学的安定性を確保するためには、
前記保護膜の厚みはＩｏｎｍ以上が好ましく、１５ｎｍ
以上がより好ましく、さらに２０ｎｍ以上とするのが最
も好ましい。また保護膜の厚みの上限としては、膜の耐
久性を確保する上ではとくに限定されるものでないが、
保護膜の被覆に長時間を必要としないという観点から１
１００ｎを越えないことが好ましい。

本発明の前記ガラス板と前記保護膜との間に介在するよ
うに設けられる熱線遮蔽膜としては、可視光線の一部を
透過し、近赤外線の一部を反射することにより太陽光線
の一部を透過しないようにした被膜であれば特に限定さ
れるものでない。たとえば、ガラス板の上に、より小さ
い屈折率を有する透明誘電体膜と前記透明誘電体膜より
大きい屈折率を有する透明誘電体膜とを積層した熱線遮
蔽膜が用いられる。上記のより小さい屈折率の透明誘電
体膜とより大きい屈折率の透明誘電体膜の組み合わせと
しては、酸化第２錫膜と酸化第２チタン膜、酸化ジルコ
ニウム膜と酸化第２チタン膜、酸化第２珪素膜と酸化第
２チタン膜、酸化アルミニウム膜と酸化第２チタン膜、
五酸化タンタル膜と酸化第２チタン膜が例示できる。ま
たチタニウム、ジルコニウム、ハフニウムなどの金属窒
化物膜やこれらの金属窒化物膜を酸化第２錫膜、酸化第
２チタン膜などの透明誘電体膜で挾んだ熱線遮蔽膜が例
示できる。

また、本発明の熱線遮蔽ガラスに用いられるガラス板と
しては、たとえばフロート法で製造された着色剤を含ま
ない透明ガラス板や着色剤を含む熱線吸収ガラス板、さ
らにプラスチック板を用いることができる。

そして、被覆する上記の膜の厚みを選ぶことにより可視
光線透過率が７０％以上、可視光線反射率が１５％以下
、さらに用いるガラス板との色差が透過光、反射光とも
肉眼で見て大きく感じられない値である色度座標（Ｘ％
ｙ）で表したＸの絶対値及びｙの絶対値が共に０．０２
以下で、用いたガラスよりも日射透過率が５％以上小さ
いガラスとすることができる。

本発明の第２の熱線遮蔽膜の保護膜は、チタニウム、ス
ズおよびクロムのいずれかの金属を１〜１０重量％含む
導電性の炭化珪素（Ｓ　ｉ　Ｃ）をターゲットとし、減
圧した窒素または窒素と酸素とを含む雰囲気ガス中で、
前記ターゲットを直流グロー放電によりスパッタリング
することにより被覆されたことが好ましい。上記により
表面が平滑な炭化珪素の窒化物（化学式でＳ　ｉ　ＣＸ
ＮＹで表される）または酸窒化物（化学式でＳ　ｉ　Ｃ
ｘ０ｙＮｚで表される）を主成分とする保護膜を粒子付
着を保護膜に生じさせることなく被膜することができる
。

本発明に用いられるターゲットは、チタニウム、スズお
よびクロムのいずれかの金属を１〜１０重量％含む導電
性の硼化ジルコニウム（ＺｒＢ２）であることが好まし
い。硼化ジルコニウムの粉末を焼結して得られる硼化ジ
ルコニウムターゲットは導電性が小さ（、直流スパッタ
リングではグロー放電が安定して得られないが、前記金
属を硼化ジルコニウム中に含ませることによりターゲッ
トの導電性を大きくすることができる。

上記金属の含有量が１重皿％より少ないと、大きい被覆
速度で保護膜を被覆する、たとえばターゲットに印加す
る電力をターゲットの面積当たりで表して２ｗ／ｃｍ２
の大電流を印加するとき、ターゲット表面に電荷がチャ
ージアップして、夕一ゲット表面でアーキングが発生し
易くなり、それによりターゲラｌ−Ｕ料が局部的に粒状
にスバノタリソグされ、保護膜に粒子（＝１若が生ず易
くなる。

一方、前記金属の含有量が１０重Ｈ１％を越えると、得
られる被膜の化学的耐久性が低下するので、前記金属の
量は１０重量％を越えないことが好ましい。スパッタリ
ングするときの放電の安定性と得られる膜の耐久性から
、前記金属のターゲット中の含有量は２〜５重量％が好
ましい。

スパッタリングするとき、反応性ガスとして外部より窒
素を導入することより窒物の膜とすることができ、反応
性ガスとして外部より窒素と酸素とを導入することによ
り酸窒化物の膜とすることができる。そして、外部より
導入する窒素および酸素の量は、得られる被膜が可視光
線の領域でほぼ透明になるように定められる。

また、本発明においては、グロー放電を生起させる放電
は、直流スパッタリングによりおこなうことが好ましい
。これにより大きな面積のガラス板に均一に被膜を被覆
することができる。

「作用」 チタニウム、スズおよびクロムのいずれかの金属の酸化
物と硼化ジルコニウムの酸化物との混合物、あるいはチ
タニウム、スズおよびクロムのいずれかの金属の酸窒化
物と硼化ジルコニウムの酸窒化物との混合物からなる本
発明にかかる保護膜は、ガラス板上に被覆された熱線遮
蔽膜を摩耗および化学的侵食から保護する。また、チタ
ニウム、スズおよびクロムのいずれかの金属の窒化物と
炭化珪素の窒化物との混合物、あるいはチタニウム、ス
ズおよびクロムのいずれかの金属の酸窒化物と炭化珪素
の酸窒化物との混合物からなる本発明にかかる保護膜は
、ガラス板上に被覆された熱線遮蔽膜を摩耗および化学
的侵食から保護する。

また、ターゲットに含まれるチタニウム、スズ、及びク
ロムの金属は、ターゲットの導電性を向上させ、ターゲ
ットを直流スパッタリングして被膜を被覆するときにア
ーク放電が発生するのを抑制する。これにより粒子付着
が生じることなく大きい被覆速度で保護膜を被覆するこ
とができる。

「実施例」 以下に本発明を実施例に基づいて説明する。

第１図は、本発明を実施するのに用いたスパッタリング
装置の概略断面図である。第２図は本発明の熱線遮蔽ガ
ラスの一部断面図で、熱線遮蔽がラス２１は、透明な基
体２４の」二に熱線遮蔽膜２３が被覆され、熱線遮蔽膜
２３の」二に保護膜２２が被覆されている。

実施例１ 第１図に示すように２０インチ×５インチサイズのマグ
ネトロンカソード３が１台づつ設置されたスパッタリン
グ室８が開閉可能なゲートパルプ２により接続されてい
るインライン式スパッタリング装置を用いた。それぞれ
のマグネトロンカソード３は、真空槽１とは電気的に絶
縁されて専用の直流電源４に接続され、各マグネトロン
カソードには独立して電力を印加できるようになってい
る。また、ガス導入管５が各スパッタリング室８に設置
られコントロールバルブ６により、３種のガスを任意の
割合で各スパッタリング室８内に導入できるようになっ
ている。基体７への被膜の被覆は、第１図のスパッタリ
ング装置の左端から右端へコンベア（図示されない）に
より基体を搬送しながら、カソード上面に取り付けたタ
ーゲットに直流電源４から電力をカソード３に印加して
おこなった。錫のターゲットとチタニウムのターゲット
とチタニウムを３重量％含有する硼化ジルコニウムのタ
ーゲットをこの順序で左端から３つのカソードまでに　
設置した。表面を洗浄した３００ｍｍＸ３００ｍｍの大
きさで厚みが３．　５ｍｍの着色ガラス（日本板硝子■
製画品名ブロンズベーン）をスパッタリング装置の真空
槽内の基板ホルダ（図示されない）にセットし、タライ
オボンプ（図示されない）で真空槽内を７Ｘ１０−４Ｐ
ａ（パスカル）まで排気した。アルボッ６０体積％、酸
素４０体積％の混合ガスを左端のスパッタリング室内に
導入し、圧力を０．３３　Ｐ　ａに調節した。

錫のターゲットに直流電源からターゲットの電力密度で
３Ｗ／ｃｍ２を印加し、前記のガラス板を搬送させなが
らスパッタリングをおこないガラス板上に６！５ｎｍの
酸化第２錫膜を被覆した。ゲートパルプの開閉操作によ
りガラス板を左から２番目のスパッタリング室に移動さ
せ、このスパッタリング室内の雰囲気をアルボッ５０体
積％、酸素５０体体積の混合ガスで圧力を０．４Ｐａに
調整し、チタニウムターゲットに直流電源からターゲッ
トの電力密度で５Ｗ／ｃｍ２を印加し、ガラス板を搬送
させながら酸化第２錫膜の上に４５ｎｍの酸化第２チタ
ン膜を被覆した。つぎに左より３番目のスパッタリング
室内の雰囲気をアルボ２６０体積％、酸素４０体積％の
混合ガスで圧力を０．４０Ｐａに調整し、チタニウムを
３重Ｍ％含有する硼化ジルコニウムを主成分とするター
ゲットに直流電源からターゲット電力密度で６　Ｗ　／
　ｃ　ｍ　２を印加し、ガラス板を搬送させながら酸化
第２チタン膜の」二に６０ｎｍのＺ　ｒＢｘＯｙと酸化
第２チタンの混合物からなる保護膜を被覆した。

得られたサンプル１の膜構成を第１表に、被膜の耐久性
能と保護膜を被覆したときに発生した１０分間に発生し
たアーキング回数を第２表に、光−：２−／− −ン入− 学特性を第３表に示した。

実施例２ 実施例１で用いた装置のカソードの左端から錫、チタニ
ウム、チタニウム、３重量％のクロムを含有する炭化珪
素のターゲットをこの順番で取り付けた。基板ホルダに
、３００ｍｍＸ３００ｍｍのサイズで厚さ３．５ｍｍの
着色ガラス（日本板硝子■製画品名ブロンズベーン）を
セットシ、酸化第２錫膜と酸化第２チタン膜については
、実施例１と同様の方法で被覆した。窒化チタニウムの
膜の被覆は、導入ガスをアルゴン５０体積％窒素５０体
積％の混合ガスにより、炭化珪素の窒化物と窒化クロム
の混合物からなる保護膜の被覆は、導入ガスをアルゴン
１０体積％窒素９０体積％の混合ガとし、それぞれ圧力
を０．３３Ｐａに調整して、第１表に示す膜構成のサン
プル２を得た。

得られたサンプル２の膜構成を第１表に、耐久性能と前
記保護膜を被覆するときに１０分間に発生したアーキン
グ回数を第２表に、光学特性を第３表に示した。

実施例３ 実施例１で用いた装置のカソードの左端から錫、チタニ
ウム、チタニウム、錫、３重量％のチタニウムを含有す
る炭化珪素のターゲットをこの順番で取り付けた。基板
ホルダに、３００ｍｍＸ３００ｍｍのサイズで厚さ３．
５ｍｍの着色ガラス（白木板硝子■製商品名ブロンズベ
ーン）をセットシ、酸化第２錫膜、酸化第２チタン膜お
よび硼化ジルコニウムの酸化物と酸化チタンの混合物か
らなる保護膜については、実施例１と同様の方法で被覆
し、窒化チタニウム膜の被覆は、導入ガスをアルゴン５
０体積％窒素５０体積％の混合ガスとし、圧力を０．３
３Ｐａに調整して、第１表に示す膜構成のサンプル３を
得た。

得られたサンプル３の耐久性能とその保護膜を被覆した
ときの１０分間のアーキング回数を第２表に、光学特性
を第３表に示した。

実施例４ 実施例１で用いた装置のカソードの左端から、ジルコニ
ウムと５重量％の錫を含有する硼化ジルコニウムのター
ゲットをこの順番で取り付けた。

基板ホルダに、３００ｍｍＸ３００ｍｍのサイズで厚さ
３．５ｍｍの着色ガラス（日本板硝子■製画品名ブロン
ズベーン）をセットし、窒化ジルコニウム膜は実施例２
の窒化チタン膜の被覆とは同じガス条件で被覆し、硼化
ジルコニウムの酸化物と酸化第２錫の混合物からなる保
護膜の被覆は、錫を３重量％含有する硼化ジルコニウム
のターゲットに直流電源からターゲット電力密度で８Ｗ
／ｃｍ２を印加し、導入ガスはアルゴン５０体積％酸素
５０体積％として被覆し、第１表に示す膜構成のサンプ
ル４を得た。

得られたサンプル４の耐久性能とその保護膜を被覆した
ときの１０分間のアーキング回数を第２表に、光学特性
を第３表に示した。

実施例５ 実施例１で用いた装置のカソードの左端がら、チタニウ
ム、ジルコニウム、チタニウム１．３重量％のチタニウ
ムを含有する硼化ジルコニウムターゲットをこの順番で
取り付けた。基板ホルダに、３００ｍｍＸ３００ｍｍの
サイズで厚さ３．５ｍｍの着色ガラス（日本板硝子■製
画品名ブロンズベーン）をセットし、酸化チタン膜およ
び硼化ジルコニウムの酸化物を酸化チタンとの混合物か
らなる保護膜の被覆は、実施例１と同様の方法でおこな
い、窒化ジルコニウムの膜の被覆は、導入ガスをアルゴ
ン５０体積％窒素５０体積％の混合ガスとし、圧力を０
．３３Ｐａに調整して、第１表に示す膜構成のサンプル
５を得た。

得られたサンプル５の耐久性能とその保護膜を被覆した
ときの１０分間のアーキング回数を第２表に、光学特性
を第３表に示した。

実施例６ 実施例１で用いた装置のカソードの左端から、　　　′
錫、チタニウム、チタニウム、チタニウム、錫、３重量
％のチタニウムが添加された硼化ジルコニウムターゲッ
トをこの順番で取り付けた。基板ホルダに、３００ｍｍ
Ｘ３００ｍｍのサイズで厚さ３．５ｍｍの着色ガラス（
日本板硝子■製画品名ブロンズベーン）をセットし、酸
化第２錫膜、酸化チタン膜、窒化チタン膜については実
施例２と同様の方法で被覆し、硼化ジルコニウムの酸窒
化物とチタンの酸窒化物の混合物からなる保護膜は、導
入ガスをアルボッ４０体積％酸素４０体積％窒素２０体
積％の混合ガスとし、圧力を０．３３Ｐａに調整し、第
１表に示す膜構成のサンプル６を得た。

得られたサンプル６の耐久性能とその保護膜を被覆した
ときの１０分間のアーキング回数を第２表に、光学特性
を第３表に示した。

実施例７ 実施例１で用いた装置のカソードの左端から、錫、チタ
ニウム、ジルコニウム、チタニウム、３重量％のクロム
を含有する硼化ジルコニウムターゲットをこの順番で取
り付けた。基板ホルダに、３００ｍｍＸ３００ｍｍのサ
イズで厚さ３．５ｍｍの着色ガラス（日本板硝子■製部
品名ブロンズベーン）をセットし、酸化第２錫膜、酸化
第２チタン膜、窒化ジルコニウム膜については実施例５
と同様の方法で被覆し、硼化ジルコニウムの酸化物と酸
化クロムの混合物からなる保護膜は、導入ガスをアルボ
ッ４０体積％酸素６０体積％の混合ガスとし、圧力を０
．３３Ｐａに調整して、第１表に示す膜構成のサンプル
７を得た。

得られたサンプル７の耐久性能とその保護膜を被覆した
ときの１０分間のアーキング回数を第２表に、光学特性
を第３表に示した。

実施例８ 実施例１で用いた装置のカソードの左端から、チタニウ
ム、シリコン、チタニウム、／リコン、３重量％のチタ
ニウムを被覆した硼化ジルコニウムターゲットをこの順
番で取りイ＝１けた。基板ホルダに、３００ｍｍＸ３０
０ｍｍのサイズで厚さ３゜５ｍｍの着色ガラス（日本板
硝子■製部品名ブロンズベーン）をセットシ、酸化第２
チタン膜および硼化ジルコニウムの酸化物と酸化第２チ
タンとの混合物からなる保護膜の被覆は、実施例Ｉと同
様の方法で被覆し、酸化第２珪素の被覆は、導入ガスを
アルボッ５０体積％酸素５０体積％の混合ガスとし、圧
力を０．３３Ｐａに調整して第１表に示す膜構成のサン
プル８を得た。

得られたサンプル８の耐久性能とその保護膜を１０回繰
り返し被覆したときのアーキング回数を第２表に、光学
特性を第３表に示した。

実施例１〜８で得られたサンプル１〜８はいずれも、第
２表から保護膜を被覆するときに発生したアーキングは
１０分間当り５〜１５回であった。

そして、得られた膜の表面にはサンプル１〜８の各１０
枚についてすべて粒子付着は肉眼検査で認められず、表
面は平滑であった。

また、サンプル１〜８の硫酸とカセイソーダによる耐久
テスト（得られたサンプルをそれぞれ１規定の濃度の室
温の液に漬け、漬ける前後の可視光線透過率、反射率の
変化で表す）では、１％以内の小さな値であった。また
、テーバ摩耗試験では３％以下の可視光線透過率の増加
が認められたにすぎなかった。また、これらサンプル１
〜８の初期光学特性を第３表に示す。第３表からこれら
のサンプルは、可視光線透過率が７０％以上の熱線遮蔽
性を有するガラスであることがわかる。また得られた熱
線遮蔽ガラスの性能を有するサンプルとそのサンプルを
つくるのに用いたガラス板との色差△Ｘ、△ｙは、いず
れも０．０３以下の小さい値であり、両者の色調がほぼ
同じであることが分かる。

比較例１〜４ 実施例１で用いた装置により、第１表に示す硼化ジルコ
ニウムの酸化物からなる保護膜ををする比較サンプル１
〜４を製作した。硼化ジルコニウムの酸化物からなる保
護膜の被覆は、硼化ジルコニウムのターゲットに直流電
源からターゲット電力密度で６Ｗ／Ｃｍ２を印加し、ガ
ラスを搬送させながら、アルボ２３０体積％、酸素７０
体積％の混合ガスで圧力を０．３３Ｐａに調整して被覆
した。

また、第１表の比較サンプル１〜４の熱線遮蔽膜の酸化
第２錫膜および酸化第２チタン膜は、実施例１と同じ方
法で、窒化ジルコニウム膜は実施例４と同じ方法で、酸
化第２珪素膜は実施例８と同じ方法で被覆した。

得られた比較サンプル１〜４の膜構成を第１表に、耐久
性能とそれぞれの保護膜を被覆したときに認められた１
０分間当りのアーキング回数を第２表に、光学特性を第
３表に示した。

保護膜を設けない比較サンプル１は、第２表から耐久試
験前後の光学特性の変化が大きく、化学的耐久性が良く
ないことが分かる。一方、硼化ジルコニウムの酸化物を
保護膜とする比較サンプル２〜４はいずれも、保護膜を
被覆するときに発生したアーキング回数は、第２表に示
すように６０〜７０回（１０分間当り）と多かった。そ
して、比較サンプル２〜４の各１０枚についてすべて膜
表面に約１個の〜０．５ｍｍ直径の粒子付着が認められ
た。この付着物は膜表面から突起しており、乾布で膜表
面を拭いたときに引っかかり、その部分で膜から脱離し
ピンホールとなった。

［発明の効果］ 本発明によれば、耐摩耗性と化学的耐久性を並ね備えた
保護膜を存する熱線遮蔽膜を、高い被覆速度で、かつ、
保護膜表面に粒子付着を生じることなく被覆することが
できる。

また、得られた熱線遮蔽ガラスは、耐摩耗性と化学的耐
久性が大きいので、合わせガラスや複層ガラスにするこ
となく単板で窓ガラスに使用することができる。さらに
本発明の熱線遮蔽膜の上に被覆されている保護膜は、突
起異物がなく平滑であるため被膜を拭いて清掃するとき
には膜の損傷が生じにくい。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の熱線遮蔽ガラスを製造するのに用い
た装置の概略断面図、第２図は本発明の熱線遮蔽ガラス
の一部断面図である。 １壷・・真空槽、２・・−ゲートバルブ、３・・−カソ
ード、４・・φ直流電源、５命命・ガス導入管、６・・
・コントロールバルブ、７・・・甚体、スパッタリング
室８．２１＠・Φ熱線遮蔽ガラス、２２・・・保護膜、
２３＠・・熱線遮蔽膜、２４１１・・透明な基体

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）透明なガラス板の上に熱線遮蔽膜が被覆され、前記
   熱線遮蔽膜の上にチタニウム、スズおよびクロムのいず
   れかの金属の酸化物と硼化ジルコニウムの酸化物との混
   合物、あるいはチタニウム、スズおよびクロムのいずれ
   かの金属の酸窒化物と硼化ジルコニウムの酸窒化物との
   混合物からなる保護膜が被覆された熱線遮蔽ガラス。 ２）前記保護膜が、チタニウム、スズおよびクロムのい
   ずれかの金属を１〜１０重量％含む導電性の硼化ジルコ
   ニウムをターゲットとし、減圧した酸素または酸素と窒
   素とを含む雰囲気ガス中で、前記ターゲットを直流グロ
   ー放電によりスパッタリングすることにより、被覆され
   たことを特徴とする特許請求の範囲の第１項に記載の熱
   線遮蔽ガラス。 ３）透明なガラス板の上に熱線遮蔽膜が被覆され、前記
   熱線遮蔽膜の上にチタニウム、スズおよびクロムのいず
   れかの金属の窒化物と炭化珪素の窒化物との混合物、あ
   るいはチタニウム、スズおよびクロムのいずれかの金属
   の酸窒化物と炭化珪素の酸窒化物との混合物からなる保
   護膜が被覆された熱線遮蔽ガラス。 ４）前記保護が、チタニウム、スズおよびクロムのいず
   れかの金属を１〜１０重量％含む導電性の炭化珪素をタ
   ーゲットとし、減圧した窒素または酸素と窒素とを含む
   雰囲気ガス中で、前記ターゲットを直流グロー放電によ
   りスパッタリングすることにより、被覆されたことを特
   徴とする特許請求の範囲の第３項に記載の熱線遮蔽ガラ
   ス。